JP2001520165A - 高純度表面を有する石英ガラス物品の製造 - Google Patents

高純度表面を有する石英ガラス物品の製造

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Abstract

(57)【要約】 高純度合成ガラス質シリカの層を、この高純度シリカ層とは異なる物理的及び／又は化学的性質を有するガラス基材の表面に形成する方法を提供する。この方法では、バーナーにおいてシリカ先駆物質を燃焼させ、そして得られるシリカを、気孔がないガラス質シリカの密着層が形成される十分に高い温度で、ガラス基材の表面に堆積させ、その後の焼結が必要ではない。また、ガラス基材は多数の微細気泡を有するシリカから構成されていてよいので便利であり、また堆積層はその後研磨をして、微細気泡を全く露出させないで平滑化仕上げができる程度に十分に厚いことが好ましい。更に、本発明の方法において使用するバーナーも開示している。このバーナーは、供給原料（例えばシロキサン）のための中央の流路（20）、この管を実質的に同軸で囲んでいる管（27、28、21、22）であって、この中央の流れ（26）と実質的に連続して水素（22、21）及び酸素（22、25、28）を輸送している管を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、高純度表面を有する石英ガラス物品の製造に関する。ここで純度の
程度は、例えば半導体産業において重要な用途に必要とされるものである。
【０００２】 ガラス物品は様々な方法によって成形することができる。これらの方法の多く
では、ガラス表面の仕上げは最終的な目的又は用途のためには不適切なものであ
る。そのような場合、表面を溶融するような温度までガラス表面を加熱すること
によって、表面仕上げを改良することが一般的に行われている。表面的な割れ目
、擦り傷、及び微細亀裂はそのようにしてなくし、また典型的に、表面は光沢が
でて、滑らかになり、且つ透明になる。そのようにして製品を強化し、また清浄
化し易くし且つその後の汚染がないようにする。
【０００３】 このタイプのプロセス（一般に「フレームポリッシング（flame polishing ）
」と呼ぶ）は、半導体産業のための溶融石英部品の製造、ファイバーの光学プレ
フォームの調製、溶融石英ランプハウジング、及び他の多くの用途において一般
的である。
【０００４】 フレームポリッシングの使用は、例えばシリコンウェハー処理のための石英ガ
ラス反応器における熱邪魔板、台座、及びフランジの製造に使用する不透明ガラ
ス質シリカ物品の表面仕上げで特に有益である。これらの不透明ガラス質シリカ
は一般に、ガラス本体における微細気泡の存在によって不透明になっており、こ
れらの気泡は放射を散乱させて放射エネルギーの透過を阻害する。そのようなガ
ラス本体の表面を加工又は研磨する場合、多数の小さいクレーターによってくぼ
みを付けられたガラスの層が露出される。ここでは微細気孔が露出されている。
衛生学的な観点から、又は密封のための改良された表面仕上げを提供するために
、物品を使用できるようにする前に、露出された表面にフレームポリッシングを
行うことが必要である。光沢仕上げをした表面を研磨すること、及び／又は再び
ポリッシングをして最適な仕上げを達成することが必要であることもある。
【０００５】 一般に、フレームポリッシング処理の間の揮発性不純物の減少はほとんどなく
、従ってフレームポリッシングをした物品の表面化学組成は、バルクガラスの化
学組成と実質的に同様であることが一般的である。しかしながら、特に半導体の
用途においては、最も費用対効果の良好な様式で、全ての露出されるガラス表面
の純度を可能な限り高くするのを確実にすることが望ましい。多くの半導体の用
途においては、例えば合成シリカガラスで達成されるような、超高純度のガラス
が望ましい。蒸着又は合成粉末溶融によって典型的に製造されるそのようなシリ
カは、天然石英結晶を溶融して従来達成されている純度よりも実質的に高い純度
をにすることができるが、比較的費用が高く、従って広くは使用されていない。
合成シリカの純度の不透明製品は一般に利用することができない。
【０００６】 従って、表面の純度が石英結晶の溶融によって達成される純度よりも実質的に
高く且つ高品質で気孔が存在しない表面仕上げをした高純度石英ガラス物品、特
に不透明石英ガラス物品を製造する方法であって、合成シリカからバルクガラス
を製造するときの高いコストを避ける方法が必要とされている。
【０００７】 適切なシリカ先駆物質蒸気の制御された流れを受け入れるように変更したフレ
ームポリッシングバーナーを使用することによって、合成シリカの堆積と同時に
フレームポリッシングを達成できることを我々は発見した。
【０００８】 従って本発明は１つの面においては、高純度合成ガラス質シリカの層を、この
高純度シリカ層とは異なる物理的及び／又は化学的性質を有するガラス基材の表
面に形成する方法を提供し、この方法は、バーナーにおいてシリカ先駆物質を燃
焼させ、そして得られるシリカを、気孔がないガラス質シリカの密着層が形成さ
れる十分に高い温度で、前記ガラス基材の表面に堆積させることによって行い、
その後の焼結が必要ではない。
【０００９】 より特定の面においては本発明は、滑らかな高純度表面を有する微細気泡含有
シリカガラス物品を提供する方法を与え、この方法は、バーナーにおいてシリカ
先駆物質を燃焼させる工程、及び得られるシリカを、気孔がないガラス質シリカ
の密着層を形成する十分に高い温度で、前記シリカガラス物品の表面に堆積させ
る工程を含み、その後の焼結が必要ではない。
【００１０】 最終的な物品に高い程度の表面の平面度が必要とされる場合、堆積させた層が
十分な厚さであり、それによって比較的低純度の下側基材まで貫通する危険性な
しに、更なる研磨及び／又はポリッシング操作を行えることが好ましい。
【００１１】 同時のポリッシング及び堆積方法は、合成シリカのための従来の四塩化ケイ素
先駆物質を使用する標準の石英ガラス作業で達成することは容易ではない。これ
は、この先駆物質が有毒であり且つ扱いにくく、また副生成物ガス（塩素及び塩
酸）が毒性であり且つ金属設備の腐食を促進するためである。従って、供給設備
の設計、より特に反応生成物の収集及び廃棄に必要とされるプラントにおいて、
費用のかかる予防措置を行わないかぎり、そのような揮発性ハロゲン含有先駆物
質からのガラスの堆積は危険である。
【００１２】 しかしながら、塩素を含有しない先駆物質を使用すると、これらの問題は実質
的に避けられることを我々は見出した。好ましい先駆物質はシロキサン類である
。原理的には、任意の様々な種類のシロキサン類を使用することができ、ポリメ
チルシロキサン類が特に好ましい。ポリメチルシロキサン類としては、ヘキサメ
チルジシロキサン（ＨＭＤＳ）及び環状ポリメチルシロキサン類、オクタメチル
シクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）及びデカメチルシクロペンタシロキサン
（ＤＭＣＰＳ）を挙げることができる。塩素を含有しない他の先駆物質としては
、アルコキシシラン類（例えば、メチルトリメトキシシラン）及び他のシラン化
合物類を挙げることができる。炎に蒸気として供給される揮発性の先駆物質を使
用することが好ましいが、霧状にした液滴の形の供給物が、フレームポリッシン
グをする基材に衝突する前に完全に燃焼して堆積層における微細気泡の形成を避
けるならば、そのような液滴の形の供給物を炎に供給することも可能である。
【００１３】 好ましいバーナーは、既存のフレームつや出しバーナーを適当に変更すること
によって、又はそのような既存のバーナーの操作条件を変更することによって与
えることができる。バーナーは、金属（ガス又は水で冷却する）又は石英ガラス
で作ることができる。石英ガラスバーナーは飛び出す金属粒子による汚染の危険
性がないので、多くの用途で好ましい。本発明の方法にふさわしいバーナーは、
酸素及び先駆物質蒸気のための追加の供給パイプを組み合わせることによって、
石英ガラスでできた従来の酸素−水素バーナーを適合させて作ることができる。
そのようなバーナーを使用して、透明又は不透明石英ガラスの石英ガラス物品表
面をフレームポリッシングし、同時に先駆物質の酸化でもたらされる合成ガラス
質シリカの層を堆積させることができる。堆積は典型的に1,500 〜2,000 ℃の表
面温度で行い、この温度では気孔がないガラスの付着層が得られる（すなわち、
すすの中間堆積物が存在せず、従って例えば米国特許第4,363,647 号明細書で提
案されているようなその後の焼結が必要ではない）。この方法は、バルクガラス
が変形を起こすほど高温ではない温度の条件において行い且つ迅速である。従っ
てシリカ堆積を伴うフレームポリッシングは、下側の石英ガラス物品をゆがませ
ずに、複雑な形状に行うことができる。
【００１４】 本発明は添付の図を参照して、例示のためのみに以下でより詳細に説明する。
【００１５】 フレームポリッシングに使用することができる溶融石英バーナーの単純な設計
を図１に示す。バーナーの本体は、２つの同軸管11、12を有しており、これは内
側区画13及び外側環状区画14を包んでいる。この内側区画13には、水素ガス又は
他の可燃性ガスの流れを供給することができ、この外側環状区画14には、典型的
に酸素を供給する。中央の区画は、平衡又は収束する一連の石英ガラスジェット
管15、16、17を有しており、これは典型的に同軸環状に配置されており、酸素を
輸送する。これらの様々な構成要素の大きさ、数、及び形状を変更して、その用
途に適当にすることができる。
【００１６】 図１に示されるタイプのバーナーは従来、透明又は不透明溶融石英から製造さ
れる物品のフレームポリッシングのために使用されている。本発明の方法におい
てフレームポリッシングと合成シリカ堆積とを同時に行うためには、従来の様式
で内側区画13に水素を供給し且つ外側区画に酸素を供給するが、中央のジェット
管15には、適当なキャリアーガス流れ中のシロキサン蒸気（又は他のシリカ先駆
物質）を供給しつつ（酸素の代わりに）、残りのジェット管16、17には酸素を供
給することができる。
【００１７】 キャリアーガスとしては窒素、アルゴン、又は他の不活性ガスを使用すること
ができる。或いは、これらのガスのいくらか又は全てを酸素で置き換え、それに
よってシロキサンの燃焼が起こる距離を変更することができる。
【００１８】 目的によっては、改めて設計された図２で示されるタイプのバーナーを使用す
ることが好ましい。このバーナーの本体も、２つの同軸管21、22を有しており、
これらは内側区画23及び外側環状区画24を囲んでいる。ここで、この内側区画23
には水素又は他の可燃性ガスを供給し、またこの外側環境区画24には典型的に酸
素を供給する。また、中央の区画は、１又は複数の環状に配置された一連の並行
又は収束石英ガラスジェット管25を有する。但しここではバーナーの中央領域は
、２又はそれ以上の一連の同軸の管を有している。図２は、３つのそのような同
軸管26、27、28の配置を示している。これらの３つの管には、以下のようにして
ガスを供給することができる。中央の管26には、随意に酸素と混合した窒素、ア
ルゴン、又は他の不活性ガスでよい適当なキャリアーガス中のシロキサン蒸気を
供給することができる。この管26は管27に包まれており、この管27には水素又は
他の可燃性ガスを供給することができ、更なる管28には酸素を供給することがで
きる。
【００１９】 この配置は、フレームポリッシングの炎を発生させることを可能にする。ここ
では、中央において強力なシロキサンの火炎が発生しており、シリカ溶融体を発
生させて、これを本発明の方法によって堆積させる。
【００２０】 これらの設計は限定をするものではないことが理解され、また当業者には他の
設計が明らかである。
【００２１】 以下の例は、本発明の方法を使用して行った試験に関連している。
【００２２】 ［例１］ 区画13に水素を供給し、ジェット管16及び17並びに外側環状区画14に酸素を供
給し、且つ0.5m3/h の予熱した窒素をジェット管15に供給して、図１において示
すようなバーナーを操作した。このバーナーを使用して、直径150mm 、厚さ約４
mm、及び開始重量160.1gの透明溶融石英のディスクの上側表面を、光高温計での
測定値が1700℃程度の温度になるように加熱した。この石英ディスクの不純物含
有量は以下の表１において示す。
【表１】
【００２３】 管15へのガス流れを調節して、窒素0.5m3/h 、酸素0.1m3/h 、及びオクタメチ
ルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）蒸気0.1kg/h を適当な気化器から加熱
供給管路を経由させて供給した。
【００２４】 バーナーは５分間にわたって、加熱したディスク上の様々な場所に走査させ、
その後でシロキサン流れを停止した。火炎による加熱を更に数分間行って、その
後でバーナーへのガス流れを段階的に減少させて、火炎中においてディスクに焼
きなまし処理を行った。
【００２５】 冷却の後ではディスクの重量は164.3g、堆積物の平均厚さは107 μｍであり、
堆積効率は約62％であった。コーティングはかなり光沢がある透明で、気泡が存
在していなかった。
【００２６】 ［例２］ この試験においては基材は、不透明溶融石英物品であった。この物品の不純物
解析値は以下の表２において示す。
【表２】
【００２７】 この材料の不透明性は、典型的に20〜100 μｍ範囲の大きさの多くの微細気泡
が組み入れられていることによる。この材料のいずれの加工、研磨、又は機械的
ポリッシングも、微細気泡の破壊によってくぼみを付けられた表面をもたらし、
また従来のフレームポリッシングは起伏のある表面をもたらす。
【００２８】 水素を区画23に供給し、酸素をジェット管25及び外側同軸環状区画24に供給し
て、図２において示されるようなバーナーを操作した。ここでは、少量の窒素流
れを中央の管26に供給しつつ、1.5m3/h の水素を同軸環状管21に供給し、且つ3m 3 /h の酸素を管28に供給した。
【００２９】 不透明シリカＴＳＬグレードＯＳＣ２のディスクは、直径150mm 、厚さ約4.5m
m 、及び開始重量159.8gであった。このディスクを1730℃程度の温度に加熱した
。
【００３０】 中央の管26へのガス流れを調節して、窒素0.5m3/h 、酸素0.15m3/h、及びＯＭ
ＣＴＳ0.14kg/hを、加熱供給管路を経由させて蒸気として供給した。
【００３１】 バーナーは６分間にわたって、加熱したディスク上の様々な場所に走査させ、
その後でシロキサン流れを停止した。火炎による加熱を更に数分間行って、その
後でバーナーへのガス流れを段階的に減少させて、火炎中においてディスクに焼
きなまし処理を行った。
【００３２】 冷却の後ではディスクの重量は166.6g、合成ガラス堆積物の平均厚さは174 μ
ｍであり、堆積効率は約60％であった。
【００３３】 表面仕上げの外観は良好であり、微細気孔の露出によってもたらされた実質的
に全てのくぼみは充填されていた。更にその後、試料の表面を研磨して、ミクロ
ン単位以下（submicron ）の仕上げを行うことが可能であった。軽酸（light ac
id）でのエッチング及びその後のフレームポリッシングの後で、試料には、下側
の多孔質微細構造の影響がなかった。
【００３４】 堆積したガラスの化学成分は、これらの例においては薄層で正確に測定するこ
とができない。しかしながら、清浄な条件においてＯＭＣＴＳ先駆物質を使用す
る火炎から直接に堆積させたバルクガラスの解析は、表に挙げた全ての元素につ
いて10ppb 未満の純度を達成できることを示す。
【００３５】 上述の例においてはＯＭＣＴＳを使用したが、他の揮発性シロキサン類、例え
ばメチルトリメトキシシラン又は他のアルコキシシラン類を使用することができ
る。適当な変更を行って、四塩化ケイ素又は他のハロゲン化ケイ素類を使用する
ことも可能であるが、これらには上述のように取り扱い及び排出に関する問題が
あるので、あまり魅力的な先駆物質ではない。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、従来の石英ガラスバーナーのノズル端の平面図である
【図２】 図２は、本発明の改造バーナーのノズル端の平面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウェルス，ピーター ジョン イギリス国，タイン アンド ウェアー エヌイー９ ７ビーエル，ゲイトシェア ド，リンデン ウェイ ２ Ｆターム(参考） 4G014 AH12 AH15 AH16 AH21

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 高純度合成ガラス質シリカの層を、この高純度層とは異なる
    物理的及び／又は化学的性質を有するガラス基材の表面に形成する方法であって
    、 バーナーにおいてシリカ先駆物質を燃焼させ、そして得られるシリカを、気孔
    がないガラス質シリカの密着層が形成される十分に高い温度で、前記ガラス基材
    の表面に堆積させ、その後の焼結が必要ではない、高純度合成ガラス質シリカ層
    の形成方法。
  2. 【請求項２】 前記ガラス基材が、多数の微細気泡を有するシリカで構成さ
    れている請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】 堆積した前記層が、前記微細気泡を全く露出させないで、そ
    の後の研磨を行って平滑化仕上げをするのに十分な厚さである請求項２に記載の
    方法。
  4. 【請求項４】 滑らかな高純度表面を有し且つ微細気泡を保持するシリカガ
    ラス物品の提供方法であって、 バーナーにおいてシリカ先駆物質を燃焼させ、そして得られるシリカを、気孔
    がないガラス質シリカの密着層が形成される十分に高い温度で、前記シリカガラ
    ス物品の表面に堆積させる工程を含み、その後の焼結が必要ではない、シリカガ
    ラス物品の提供方法。
  5. 【請求項５】 堆積した高純度の前記ガラス質シリカの層を研磨して平滑化
    仕上げをする工程を更に含む請求項４に記載の方法。
  6. 【請求項６】 前記シリカ先駆物質が塩素を含有していない請求項１〜５の
    いずれかに記載の方法。
  7. 【請求項７】 前記シリカ先駆物質がシロキサン又はアルコキシシランであ
    る請求項６に記載の方法。
  8. 【請求項８】 ガラス質シリカ物品であって、その表面の少なくとも１つが
    、この物品の本体よりも純度が高い合成ガラス質シリカガラスの層で覆われてお
    り、そのような層が請求項１〜７のいずれかに記載の方法によって適用されてい
    るガラス質シリカ物品。
  9. 【請求項９】 微孔質本体を有するガラス質シリカ物品であって、その表面
    の少なくとも１つが、請求項１〜７のいずれかに記載の方法によって適用された
    気孔がない合成ガラス質シリカ層で覆われているガラス質シリカ物品。
  10. 【請求項１０】 請求項１〜７のいずれかに記載の方法で高純度合成ガラス
    質シリカの層を堆積させるのに使用するバーナー。
  11. 【請求項１１】 シロキサン供給物の中央流れを提供し、この中央流れが、
    この中央流れと連続している水素及び酸素の流れによって、実質的に同軸状に取
    り囲まれている請求項１０に記載のバーナー。
JP2000516920A 1997-10-17 1998-10-16 高純度表面を有する石英ガラス物品の製造 Pending JP2001520165A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015113259A (ja) * 2013-12-12 2015-06-22 住友電気工業株式会社 ガラス微粒子堆積体の製造方法およびガラス母材の製造方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10019926A1 (de) * 2000-04-20 2001-10-31 Isimat Gmbh Siebdruckmaschinen Verfahren zum Modifizieren einer Oberfläche eines kompakten Substrates
US6735981B2 (en) 2001-09-27 2004-05-18 Corning Incorporated High heat capacity burners for producing fused silica boules
DE102004051846B4 (de) * 2004-08-23 2009-11-05 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Bauteil mit einer Reflektorschicht sowie Verfahren für seine Herstellung
DE102004052312A1 (de) 2004-08-23 2006-03-02 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Beschichtetes Bauteil aus Quarzglas sowie Verfahren zur Herstellung des Bauteils
DE102005058819B4 (de) * 2005-10-13 2009-04-30 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Beschichtung eines Bauteils aus hochkieselsäurehaltigem Glas, mit einer SiO2-haltigen, glasigen Schicht versehenes Bauteil, sowie Verwendung des Bauteils
DE102007030698B4 (de) 2007-06-30 2009-06-10 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung eines Verbundkörpers aus einem Basiskörper aus opakem Quarzglas und einer dichten Versiegelungsschicht sowie Verwendung des Verbundkörpers
US8414970B2 (en) 2008-02-15 2013-04-09 Guardian Industries Corp. Organosiloxane inclusive precursors having ring and/or cage-like structures for use in combustion deposition
DE102010021696A1 (de) * 2010-05-27 2011-12-01 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren für die Herstellung eines Quarzglastiegels mit transparenter Innenschicht aus synthetisch erzeugten Quarzglas
CN107902875A (zh) * 2017-11-22 2018-04-13 中国建筑材料科学研究总院有限公司 石英玻璃及其制备方法
JP7171639B2 (ja) * 2020-03-13 2022-11-15 信越化学工業株式会社 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法
EP4015467A1 (de) * 2020-12-16 2022-06-22 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren zur herstellung von synthetischem quarzglas

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4363647A (en) * 1981-05-14 1982-12-14 Corning Glass Works Method of making fused silica-containing material
US4935046A (en) * 1987-12-03 1990-06-19 Shin-Etsu Handotai Company, Limited Manufacture of a quartz glass vessel for the growth of single crystal semiconductor
DE3831148C1 (ja) * 1988-09-13 1990-03-29 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart, De
GB8905966D0 (en) * 1989-03-15 1989-04-26 Tsl Group Plc Improved vitreous silica products
JP2588447B2 (ja) * 1991-06-29 1997-03-05 信越石英株式会社 エキシマレーザー用石英ガラス部材の製造方法
US5699183A (en) * 1993-02-10 1997-12-16 Nikon Corporation Silica glass member for UV-lithography, method for silica glass production, and method for silica glass member production
JP3120647B2 (ja) * 1993-12-27 2000-12-25 株式会社ニコン 石英ガラスの製造方法及びそれにより製造された石英ガラス
JP3007510B2 (ja) * 1993-04-27 2000-02-07 信越化学工業株式会社 合成石英ガラス部材の製造方法
GB9603128D0 (en) * 1996-02-15 1996-04-17 Tsl Group Plc Improved vitreous silica product and method of manufacture

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015113259A (ja) * 2013-12-12 2015-06-22 住友電気工業株式会社 ガラス微粒子堆積体の製造方法およびガラス母材の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE69806628T2 (de) 2003-02-06
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