JP3120647B2

JP3120647B2 - 石英ガラスの製造方法及びそれにより製造された石英ガラス

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Publication number: JP3120647B2
Application number: JP05330740A
Authority: JP
Inventors: 誠志藤原; 典男小峯; 宏樹神保; 弘之平岩
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1993-12-27
Filing date: 1993-12-27
Publication date: 2000-12-25
Anticipated expiration: 2015-12-25
Also published as: JPH07187684A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は石英ガラスの製造方法に
関するものであり、特に、紫外線レーザ全般に使用され
る光学部材用の合成石英ガラスの製造方法及びそれによ
り製造された石英ガラスに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、シリコン等のウエハ上に集積回路
の微細パターンを露光・転写する光リソグラフィー技術
においては、ステッパと呼ばれる露光装置が用いられて
いる。このステッパの光源は、近年の LSIの高集積化に
ともなって g線( 436nm)から i線( 365nm)、さらには K
rF( 248nm)や ArF( 193nm)エキシマレーザへと短波長化
が進められている。

【０００３】一般に、ステッパの照明系あるいは投影レ
ンズとして用いられる光学ガラスは、ｉ線よりも短い波
長領域では光透過率が低下するため、従来の光学ガラス
にかえて合成石英ガラスやCaF₂（蛍石）等のフッ化物単
結晶を用いることが提案されている。ステッパに搭載さ
れる光学系は多数のレンズの組み合わせにより構成され
ており、たとえレンズ一枚当たりの透過率低下量が小さ
くとも、それが使用レンズ枚数分だけ積算されてしま
い、照射面での光量の低下につながるため、素材に対し
て高透過率化が要求されている。また、使用波長が短く
なるほど、屈折率分布のほんの小さなムラによってでも
結像性能が極端に悪くなる。

【０００４】このように、紫外線リソグラフィー用の光
学素子として用いられる石英ガラスには、紫外線の高透
過性と屈折率の高均質性が要求されている。しかし、通
常市販されている合成石英ガラスは、均質性、耐紫外線
性を始めとする品質が不十分であり、前述したような精
密光学機器に使用することはできなかった。このため、
これまでに均質化のための二次処理（特公平03-17775，
特開昭64-28240）や、加圧水素ガス中での熱処理による
耐レーザ性の向上（特開平03-109233 ）が提案されてい
る。

【０００５】これらの方法は、一旦、石英ガラスを合成
した後、光学的性能を向上させるために二次的な処理を
施す方法である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】石英ガラスに紫外領域
の光が作用すると、E'センターと呼ばれる 5.8eVの吸収
帯が現れ紫外領域の透過率が著しく低下する。ここに水
素分子が存在すると、E'センターを水素分子がターミネ
ートし、紫外領域での石英ガラスの透過率低下量を激減
させることができるという報告がある（米国特許第５０
８６３５２号）。

【０００７】この様に石英ガラス中における水素分子
は、その紫外線耐久性を著しく向上させる効果がある。
しかしながら、前述のような従来の技術では、石英ガラ
ス中に水素分子を導入するために、一旦、石英ガラスを
合成した後に再び熱処理（水素処理等）を加えなければ
ならないという問題がある。すなわち、この方法である
と水素分子の導入まで熱を少なくとも２回加えることに
なる。それ故、生産性が低下し、最終生産物がコストア
ップする等の問題がある。また、二次処理で水素分子を
導入するためには水素雰囲気中で処理を行わねばなら
ず、発火・爆発等の危険性も伴う。さらに、不純物の混
入、高温での加圧熱処理で還元雰囲気に曝すことによ
る、新たな吸収帯や発光帯の発生という問題もあった。

【０００８】加えて、近年、光リソグラフィー技術に用
いるレンズ径が大きくなるにつれ、二次処理で水素分子
を大口径の石英ガラス光学部材に均一に導入するには、
拡散係数から考えてもかなりの長時間を有する。さら
に、紫外線リソグラフィー用のレンズとして用いること
を考えた場合、最もエネルギー密度が高くなるため、よ
り高い水素濃度が必要となる中央部の水素濃度が周辺部
に比較して低くなるという問題があった。

【０００９】本発明は、これらの問題を解決し、紫外光
照射による透過率低下を抑えるのに必要な量の水素分子
を含有し、泡・異物・脈理・歪等含まず、光学的に均質
で高透過率・紫外線耐久性を有する石英ガラスの製造方
法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決する為の手段】そこで本発明は、水素分子
の導入を合成時に行うことにより二次処理が不要になる
ことに着目し、鋭意研究を進めた。その結果、バーナの
中心部に配置されSi化合物ガスを噴出する原料用円状管
の周りの燃焼ガスの割合を水素過剰にすることにより合
成時に高濃度の水素分子が導入され、二次処理が不要に
なることがわかった。そして、さらに、最外部の燃焼用
リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる燃
焼ガスの割合については、水素過剰雰囲気が強すぎる
と、合成される石英ガラスの透過率が低くなることがわ
かった。

【００１１】よって、本発明においては、「最外部を除
く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよ
び水素ガスの割合」を、理論当量比および「最外部の燃
焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させ
る酸素ガスおよび水素ガスの割合」と比較して水素過剰
とするものとした。あるいは、本発明においては、「最
外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素
ガスおよび水素ガスの割合」を理論当量比と比較して水
素過剰とし、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の
燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの
割合」を理論当量比と比較して同等または酸素過剰とす
るものとした。

【００１２】

【作用】前述したように、水素分子を導入する方法とし
て、一般的には熱間等方圧プレス( HIP)や高温高圧雰囲
気熱処理炉などによる二次処理を行うことが多い。この
二次処理時に酸素欠乏型欠陥の生成や、Na等不純物の混
入により紫外光学材料として用いる場合に問題となる、
新たなる吸収帯の生成やその処理温度範囲によっては失
透などが起こり得る。

【００１３】本発明の製造方法であれば、このようなデ
メリットがない。さらに、２次処理では大口径な石英ガ
ラス部材に水素を導入することが困難であるのに対し、
本発明の製造方法であれば、合成時に水素分子を導入す
るため、石英ガラスの径によらず高濃度の水素分子濃度
を保たせることができる。この様にして得られた石英ガ
ラスインゴット中の水素分子濃度は、径方向では中心部
において比較的なだらかな分布を持ち、周縁部に近くな
るほど減少する、すなわち凸型の分布になる。凸型の水
素分子濃度の分布をもつ石英ガラスであれば、紫外線リ
ソグラフィー用の光学素子として用いた場合、最もエネ
ルギー密度が高い中心部においても紫外線耐久性が保た
れる。

【００１４】以下に合成により水素が導入される機構を
説明する。合成時における石英ガラス中への水素分子の
溶解過程はよく解ってはいないが、キャリアガスと共に
噴射されたSi化合物（原料）ガスが加水分解されて微粒
子（石英ガラス粉）状になる際に、ある割合の水素分子
を巻き込みながらガラス化されると推測される。それ
故、中心部により近い部分が水素過剰であれば、石英ガ
ラス中に水素分子が溶け込む確率が高くなり水素分子濃
度は高くなるはずである。この様な方法により高濃度の
水素分子を含有させることで、汚染や危険性を考慮せず
とも紫外線耐久性を向上させることが可能になる。しか
しながらこの方法において、最外部の燃焼ガス（支燃性
ガスと助燃性ガス）の割合を水素過剰にすることだけは
得策ではない。この部位は、他の部位に比べガス流量が
非常に多いため水素過剰・酸素欠乏雰囲気になり易く、
この様な条件で合成することによりSi−Si等の酸素欠乏
型欠陥が生成してしまい、逆に225nm以下の透過率低下
を招いてしまうからである。

【００１５】本発明の石英ガラスの製造方法により製造
される石英ガラスであれば、屈折率分布に関して光リソ
グラフィー用光学素子として直接光学性能に影響する光
学的な物性を満足する。石英ガラスの屈折率分布を細か
く見ると、パワー成分、アス成分、回転対称成分、傾斜
成分、ランダム成分等に分離でき、それぞれが重なりあ
って全体の屈折率分布を形成している。そして、これら
の各成分が光学性能に及ぼす影響はそれぞれ異なってい
る。

【００１６】波面収差のＲＭＳ値（パワー成分補正後）
は、光学性能に直接影響を与える成分のみを表してい
る。パワー成分補正後としたのは、パワー成分は曲率半
径からの誤差と同一であり、例えばレンズとして用いる
場合であればレンズの曲率により補正が可能であり、レ
ンズの空気間隔によっても容易に補正が可能であるた
め、光学系に使用した場合に像質に直接影響を及ぼさな
いからである。

【００１７】本発明の製造方法によれば、具体的には、
波面収差のＲＭＳ（二乗平均平方根）値がパワー成分補
正後に0.02λ以下、光軸方向の屈折率の均質性がパワー
成分補正なしでΔｎ≦2×10^-6、入射光軸を含む断面の
屈折率分布が極値がひとつで中央対称、複屈折≦2nm/cm
であるような石英ガラスが、それぞれ得られる。また、
石英ガラス中のどの部位においても 365nm， 248nm， 1
93nmにおいて10mm内部透過率が 99.9%を超える石英ガラ
スが得られる。この様な石英ガラスは未だ知られていな
かった。

【００１８】また、KrFエキシマレーザを 400mJ/cm²・pu
lseで10⁶pulse照射した後、 248nmにおける10mm内部透
過率が 99.9%を超える石英ガラス、あるいは、ArFエキ
シマレーザを 100mJ/cm2・pulseで10⁶pulse照射した後、
193nmにおける10mm内部透過率が 99.9%を超える石英ガ
ラスが得られる。これは、本発明によって得られる石英
ガラスの水素濃度がいずれの場所においても5×10¹⁷個/
cm³以上であり、中央部の方が周辺部より高い水素濃度
を持つからである。このような石英ガラスは、紫外線照
射により生成する欠陥が生じにくく、紫外線リソグラフ
ィー用光学素子としての耐久性を満足する。

【００１９】なぜならば、本発明の石英ガラスの製造方
法においては、これらの光学性能に悪影響を及ぼす合成
後の２次処理を必要としないためである。これらの石英
ガラスは、紫外線リソグラフィー用光学素子としての使
用に適している。

【００２０】

【実施例】本発明における実施例を以下に記す。表１及
び表２に、実施例および比較例の石英ガラスの製造条件
および物性を示す。また、表３は、表１、表２中の符号
（○、△、×）を説明するものである。

【００２１】

【表１】

【００２２】

【表２】

【００２３】

【表３】

【００２４】〔実施例１〕高純度石英ガラスインゴット
は、原料として高純度の珪素の塩素化合物ガスを用い、
図２及び図３に示すような石英ガラス製多重管バーナに
て酸素ガス及び水素ガスを表１に示すような配置・流量
にして燃焼させ、中心部から原料ガスをキャリアガスで
希釈して噴出させる、いわゆる酸水素炎加水分解法ある
いはダイレクト法と呼ばれる方法により合成した。合成
の際、ガラスを積層させる不透明石英ガラス板からなる
ターゲットを一定周期で回転及び揺動させ、更に降下を
同時に行うことによりインゴット上部の位置を常時バー
ナから同距離に保った（特願平05-22293、特願平05-222
94参照）。このようにして複数個のインゴットを合成し
た。これらのインゴット（φ160〜500mm，Ｌ800〜1200
mm）から、インゴットの回転中心と一致させる様に、円
板状のテストピース（φ150〜450mm，ｔ50mm）を50〜 1
00mm毎に水平に切り出した。それぞれのサンプルについ
て、高圧水銀灯下において脈理の測定、複屈折測定装置
による歪の測定、及びHe−Neレーザ干渉計を用いオイル
オンプレート法により光軸方向及び光軸垂直方向におけ
る屈折率分布の測定を行った。さらに、屈折率の傾斜成
分を測定するため、その円板をはさむ外側からプリズム
形状のテストピースを取り、最小偏角法で屈折率の絶対
値を測定した。これら切り出したバルク体の上層部を
Ｈ30×Ｌ150×ｔ10mmの寸法に切断し、側面四面研磨を
施し水素分子濃度測定用試料片とした。また、残りをφ
60×ｔ10mm（ 5mmのオリエンテーションフラット付き）
の寸法に切断し、両面及び側面の三面研磨を施し水素分
子濃度測定，透過率測定及びエキシマレーザ照射用試料
片とした（図６参照）。

【００２５】水素分子濃度の測定は、レーザラマン分光
光度計により行った。定量は、サンプルを試料台にセッ
トした後、 Ar⁺レーザ（出力 800mW）を照射した時に発
生するサンプルと直角方向のラマン散乱光のうち、 800
cm^-1と4135cm^-1の強度を測定し、その強度比をとること
により行った(V.S.Khotimchenko et al., J.Appl.Spect
rosc., 46, 632-635(1987))。

【００２６】透過率は、サンプルの10mm厚における内部
透過率を測定した。その測定は、近赤−可視−紫外用ダ
ブルビーム分光光度計を用い、リファレンス側に厚さ 2
mmのサンプルを、測定側に厚さ12mmのサンプル（両者共
に同じロットからサンプリングしたもの）をセットする
ことにより行った。このようにすることにより、サンプ
ル内での多重反射成分及び表面反射成分が取り除かれ、
10mm厚における内部透過率が測定できる。この際、分光
光度計の精度を高めるために、厚さを変えた石英ガラス
標準サンプル( 1mm〜28mm)で、測定波長で厚みによる透
過率変化が起こらないように調整した（特願平5-21121
7)。

【００２７】また、エキシマレーザ照射は、照射用試料
片に対して KrFエキシマレーザ( 248nm)及び ArFエキシ
マレーザ( 193nm)を用い、前者についてはエネルギー密
度 400mJ/cm²・pulseで1×10⁶pulseまで、後者について
はエネルギー密度 100mJ/cm²・pulseで1×10⁶pulseまで
照射を行った。ここで諸物性を測定するために用意され
たサンプルは、表１に記載したサンプル１，２である。

【００２８】その結果、サンプル１では4.1×10¹⁸個/cm
³もの非常に多量の水素分子が石英ガラス塊内に溶存し
ていた。原料を四塩化珪素ではなく、トリクロロシラン
を用いて合成（サンプル２）しても、若干少なくはなる
が3.1×10¹⁸個/cm³の水素分子が溶存していた。これら
いずれのサンプルにおいても屈折率分布について中央対
称であった。また、屈折率分布においても光軸方向・光
軸垂直方向いずれにおいても良好な結果が得られた。さ
らに、248nm，193nmにおける透過率も 99.9%以上であ
り、エキシマレーザ照射試験後の透過率も、サンプル
１，２共に 99.9%以上であった。

【００２９】〔比較例１〕ここで用意したサンプルは表
１のサンプル３〜６である。サンプル３は水素キャリア
で最外部の燃焼ガスにおける酸水素比を同心円状多重管
の酸水素比より水素過剰にし、サンプル４は酸素キャリ
ア，サンプル５はヘリウムキャリア，サンプル６はアル
ゴンキャリアにし、同心円状のガス放出管から噴出させ
るガスを酸水素比：0.44にすることにより合成したもの
である。サンプル３では実施例１のものよりさらに約
1.7倍も多い水素分子を溶存させることができたが、真
空紫外側に吸収帯も存在し 193nmの初期透過率が悪かっ
た。エキシマレーザ照射試験では、初期に透過率低下が
認められるためエキシマレーザ照射後の透過率、特に A
rF波長における照射後の透過率が悪かった。サンプル４
については、初期に吸収帯も存在せず透過率も良好であ
ったが、水素分子濃度は3.5×10¹⁷個/cm³と少なかっ
た。また、Δｎ，ＲＭＳに若干の悪化が認められたもの
の、比較的良い値が得られた。エキシマレーザ照射試験
において、照射後の透過率は KrF， ArF波長共にわずか
ながら透過率の低下が見られた。サンプル５，６では初
期に吸収帯も存在せず初期透過率も良好であったが、水
素分子濃度は非常に少なく1×10¹⁷個/cm³以下であった
ため、エキシマレーザ照射試験では、両サンプル共に照
射後の透過率が KrF， ArF共に非常に悪くなっていた。
Δｎ，ＲＭＳについては、若干の悪化が認められたもの
の、比較的良い値が得られた。

【００３０】〔実施例２〕図４及び図５のバーナに変
え、合成実験を行った（サンプル７，８）。合成方法は
表２に示した通りである。サンプルは、二，三重管目か
ら流出する酸水素のガス比を 0.293にしたもの（サンプ
ル７），四，五重管目から流出する酸水素のガス比を
0.293にしたもの（サンプル８）である。実施例１と同
様の条件で各種物性測定を行った。両サンプル共、サン
プル１に比べ若干少ない水素分子濃度ではあったもの
の、10¹⁸個/cm³以上溶存していた。サンプル７，サンプ
ル８双方共に屈折率分布についても中央対称であった。
また、両サンプル共Δｎ，ＲＭＳも良好であり、初期透
過率及びエキシマレーザ照射試験後における透過率もKr
F，ArF共に 99.9%以上を保っていた。

【００３１】〔比較例２〕図４及び図５のバーナを用い
て酸素キャリアで合成実験を行った（サンプル９，１
０）。これらのサンプルについての諸物性は、以下の通
りであった。屈折率分布については中央対称であったも
のの、ΔｎやＲＭＳについてはサンプル７，８に比べ若
干悪化していた。また、水素分子濃度もサンプル９で4.
3×10¹⁷個/cm ³，サンプル１０で検出下限以下（＜10¹⁶
個/cm³）とサンプル７やサンプル８に比べ格段に小さく
なっていた。初期透過率はいずれも 99.9%以上であった
がエキシマレーザ照射試験後の測定値では、KrF，ArF共
に低下が見られた。また、水素キャリアで最外部の燃焼
ガスにおける酸水素比を同心円状多重管の酸水素比より
水素過剰にして合成したサンプル（サンプル１１）につ
いても測定を行った。これについては実施例２のサンプ
ル７，８よりさらに約 1.6，2.7倍も多い水素分子を溶
存させることができたが、真空紫外側に吸収帯も存在し
193nmの初期透過率が悪かった。エキシマレーザ照射試
験では、初期に透過率低下が認められるためエキシマレ
ーザ照射後の透過率、特に ArF波長における照射後の透
過率が悪かった。またΔｎ，ＲＭＳについては悪化する
傾向にあった。

【００３２】〔実施例３〕実施例１のサンプル１の石英
ガラスから、インゴット外形から幾何学的中央部を維持
しながら加工して得られた石英ガラス光学部材を使用し
て、ArFエキシマレーザを光源とした投影レンズを製作
したところ、所望の設計性能を満足することが確認でき
た。これにより０．３μm以下の解像力を有し、実用上
十分な平坦性を持つ集積回路パターンを得ることができ
た。さらに、長時間光学性能が劣化せず維持されること
が確認された。

【００３３】

【発明の効果】以上のように、「最外部を除く複数の燃
焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガス
の割合」を、理論当量比および「最外部の燃焼用リング
状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガス
および水素ガスの割合」と比較して水素過剰とするこ
と、あるいは「最外部を除く複数の燃焼用リング状管か
ら噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を理論当
量比と比較して水素過剰とし、「最外部の燃焼用リング
状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガス
および水素ガスの割合」を理論当量比と比較して同等ま
たは酸素過剰とすることにより、さらに好ましくはキャ
リアガスを水素ガスにすることにより、汚染やコストア
ップ要因となる二次処理をすること無しに高均質かつ高
い紫外線透過性および紫外線耐性を持つ合成石英ガラス
を得ることができ、それにより大口径石英ガラス光学部
材を得ることができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例で述べた透過率測定結果の一例であ
る。

【図２】石英ガラス合成時に使用したバーナの外観図
である。

【図３】図２の矢印方向からの矢視図であり、図中の
番号は表１の配管内ガス種類及び流量の番号に対応す
る。

【図４】石英ガラス合成時に使用したバーナの外観図
である。

【図５】図４の矢印方向からの矢視図であり、図中の
番号は表２の配管内ガス種類及び流量の番号に対応す
る。

【図６】石英インゴットからサンプルを切り出す時の
フローチャートである。

【符号の説明】

１…水素ガス或いは酸素ガス噴出口２…酸素ガス或いは水素ガス噴出口５…酸素ガス噴出口６…水素ガス噴出口７…キャリアガス＋原料ガス噴出口１１…水素ガス或いは酸素ガス噴出口１２…酸素ガス或いは水素ガス噴出口１３…水素ガス或いは酸素ガス噴出口１４…酸素ガス或いは水素ガス噴出口１５…酸素ガス噴出口１６…水素ガス噴出口１７…キャリアガス＋原料ガス噴出口

フロントページの続き (56)参考文献特開平６−234531（ＪＰ，Ａ) 特開平４−21540（ＪＰ，Ａ) 特開昭60−215515（ＪＰ，Ａ) 特開平５−9035（ＪＰ，Ａ) 特開平５−97452（ＪＰ，Ａ) 特開平５−58667（ＪＰ，Ａ) 特開平３−5338（ＪＰ，Ａ) 特開平４−164833（ＪＰ，Ａ) 実開昭57−13647（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C03B 8/04 C03B 20/00 H01S 3/17

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】中心部に配置されSi化合物ガスを噴出する
原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素
ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管
と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を
噴出する複数の燃焼用円状管とを有するバーナにより、
Si化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲ
ット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴッ
トを形成する石英ガラスの製造方法において、「最外部
を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガス
および水素ガスの割合」を、理論当量比および「最外部
の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出
させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」と比較して水素
過剰とすることを特徴とする石英ガラスの製造方法。
【請求項２】中心部に配置されSi化合物ガスを噴出する
原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素
ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管
と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を
噴出する複数の燃焼用円状管とを有するバーナにより、
Si化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲ
ット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴッ
トを形成する石英ガラスの製造方法において、「最外部
を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガス
および水素ガスの割合」を理論当量比と比較して水素過
剰とし、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼
用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割
合」を理論当量比と比較して同等または酸素過剰とする
ことを特徴とする石英ガラスの製造方法。
【請求項３】請求項１または請求項２に記載の石英ガラ
スの製造方法において、原料用円状管からSi化合物ガス
を噴出させるときにキャリアガスとして水素ガスを用い
ることを特徴とする石英ガラスの製造方法。
【請求項４】請求項１または請求項２に記載の石英ガラ
スの製造方法により製造した石英ガラスにおいて、波面
収差のＲＭＳ値がパワー成分補正後に0.02λ以下である
ことを特徴とする石英ガラス。
【請求項５】請求項１または請求項２に記載の石英ガラ
スの製造方法により製造した石英ガラスにおいて、一方
向の屈折率の均質性がパワー成分補正なしでΔｎ≦2×1
0^-6であることを特徴とする石英ガラス。
【請求項６】請求項５に記載の石英ガラスを用いた石英
ガラス部材において、前記一方向を光軸方向とすること
を特徴とする石英ガラス光学部材。
【請求項７】請求項１または請求項２に記載の石英ガラ
スの製造方法により製造した石英ガラスにおいて、一方
向の断面の屈折率分布の極値がひとつで中央対称である
ことを特徴とする石英ガラス。
【請求項８】請求項７に記載の石英ガラスを用いた石英
ガラス部材において、前記一方向の断面が入射光軸を含
む断面であることを特徴とする石英ガラス光学部材。
【請求項９】請求項１または請求項２に記載の石英ガラ
スの製造方法により製造した石英ガラスにおいて、365n
m， 248nm， 193nmにおいて10mm内部透過率が 99.9%を
超えることを特徴とする石英ガラス。
【請求項１０】請求項１または請求項２に記載の石英ガ
ラスの製造方法により製造した石英ガラスにおいて、Kr
Fエキシマレーザを 400mJ/cm²・pulseで10⁶pulse照射し
た後、 248nmにおける10mm内部透過率が 99.9%を超える
ことを特徴とする石英ガラス。
【請求項１１】請求項１または請求項２に記載の石英ガ
ラスの製造方法により製造した石英ガラスにおいて、Ar
Fエキシマレーザを 100mJ/cm2・pulseで10⁶pulse照射し
た後、 193nmにおける10mm内部透過率が 99.9%を超える
ことを特徴とする石英ガラス。
【請求項１２】請求項１または請求項２に記載の石英ガ
ラスの製造方法により製造した石英ガラスにおいて、水
素濃度5×10¹⁷個/cm³以上であり、中央部の方が周辺部
より高い水素濃度を持つことを特徴とする石英ガラス。