JPH10316435A - 合成石英ガラス光学部材の製造方法および光学部材 - Google Patents
合成石英ガラス光学部材の製造方法および光学部材Info
- Publication number
- JPH10316435A JPH10316435A JP9124529A JP12452997A JPH10316435A JP H10316435 A JPH10316435 A JP H10316435A JP 9124529 A JP9124529 A JP 9124529A JP 12452997 A JP12452997 A JP 12452997A JP H10316435 A JPH10316435 A JP H10316435A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tube
- pipe
- quartz glass
- hydrogen gas
- optical member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1415—Reactant delivery systems
- C03B19/1423—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/04—Multi-nested ports
- C03B2207/06—Concentric circular ports
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/04—Multi-nested ports
- C03B2207/12—Nozzle or orifice plates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/20—Specific substances in specified ports, e.g. all gas flows specified
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/36—Fuel or oxidant details, e.g. flow rate, flow rate ratio, fuel additives
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 二次処理で水素分子を大口径の石英ガラス光
学部材に均一に導入するには、拡散係数から考えてもか
なりの長時間を有し、中央部の水素分子濃度が周辺部に
比べ小さくなる。 【解決手段】 水素分子の導入を合成時に行うことによ
り水素分子導入のための二次処理が不要になることに着
目し、多重管構造のバーナを用いて水素分子を合成時に
石英ガラスに導入する製造方法を提供する。
学部材に均一に導入するには、拡散係数から考えてもか
なりの長時間を有し、中央部の水素分子濃度が周辺部に
比べ小さくなる。 【解決手段】 水素分子の導入を合成時に行うことによ
り水素分子導入のための二次処理が不要になることに着
目し、多重管構造のバーナを用いて水素分子を合成時に
石英ガラスに導入する製造方法を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は石英ガラスの製造方
法に関するものであり、特に、紫外線レーザ全般に使用
される合成石英ガラス光学部材の製造方法及びそれによ
り製造された紫外用合成石英ガラス光学部材に関するも
のである。
法に関するものであり、特に、紫外線レーザ全般に使用
される合成石英ガラス光学部材の製造方法及びそれによ
り製造された紫外用合成石英ガラス光学部材に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来、シリコン等のウエハ上に集積回路
の微細パターンを露光・転写する光リソグラフィー技術
においては、ステッパと呼ばれる露光装置が用いられて
いる。このステッパの光源は、近年のＬＳＩの高集積化
にともなってｇ線（４３６ｎｍ）からｉ線（３６５ｎ
ｍ）、さらにはＫｒＦ（２４８ｎｍ）やＡｒＦ（１９３
ｎｍ）エキシマレーザへと短波長化が進められている。
の微細パターンを露光・転写する光リソグラフィー技術
においては、ステッパと呼ばれる露光装置が用いられて
いる。このステッパの光源は、近年のＬＳＩの高集積化
にともなってｇ線（４３６ｎｍ）からｉ線（３６５ｎ
ｍ）、さらにはＫｒＦ（２４８ｎｍ）やＡｒＦ（１９３
ｎｍ）エキシマレーザへと短波長化が進められている。
【０００３】一般に、ステッパの照明系あるいは投影レ
ンズとして用いられる光学ガラスは、ｉ線よりも短い波
長領域では光透過率が低下するため、従来の光学ガラス
にかえて、合成石英ガラスやＣａＦ2（螢石）等のフッ
化物単結晶を用いることが提案されている。ステッパに
搭載される光学系は多数のレンズの組み合わせにより構
成されており、たとえレンズ一枚当たりの透過率低下量
が小さくとも、それが使用レンズ枚数分だけ積算されて
しまい、照射面での光量低下につながるため、素材に対
して高透過率化が要求されている。また、使用波長が短
くなるほど、屈折率分布のほんの小さなむらによってで
も結像性能が極端に悪くなる。
ンズとして用いられる光学ガラスは、ｉ線よりも短い波
長領域では光透過率が低下するため、従来の光学ガラス
にかえて、合成石英ガラスやＣａＦ2（螢石）等のフッ
化物単結晶を用いることが提案されている。ステッパに
搭載される光学系は多数のレンズの組み合わせにより構
成されており、たとえレンズ一枚当たりの透過率低下量
が小さくとも、それが使用レンズ枚数分だけ積算されて
しまい、照射面での光量低下につながるため、素材に対
して高透過率化が要求されている。また、使用波長が短
くなるほど、屈折率分布のほんの小さなむらによってで
も結像性能が極端に悪くなる。
【０００４】このように、紫外線リソグラフィー用の光
学素子として用いられる石英ガラスには、紫外線の高透
過性と屈折率の高均質性が要求されている。しかし、通
常市販されている合成石英ガラスは、均質性、耐紫外線
性を始めとする品質が不十分であり、前述したような精
密光学機器に使用することができなかった。このため、
これまでに均質化のための二次処理や、加圧水素ガス中
での熱処理による耐紫外線性の向上が試みられている。
学素子として用いられる石英ガラスには、紫外線の高透
過性と屈折率の高均質性が要求されている。しかし、通
常市販されている合成石英ガラスは、均質性、耐紫外線
性を始めとする品質が不十分であり、前述したような精
密光学機器に使用することができなかった。このため、
これまでに均質化のための二次処理や、加圧水素ガス中
での熱処理による耐紫外線性の向上が試みられている。
【０００５】これらの方法は、一旦、石英ガラスを合成
した後、光学的性能を向上させるために二次的な処理を
施す方法である。
した後、光学的性能を向上させるために二次的な処理を
施す方法である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】石英ガラスに紫外領域
の光が作用すると、Ｅ’センターと呼ばれる５．８ｅＶ
の吸収帯が現れ紫外領域の透過率が著しく低下する。こ
こに、水素分子が存在すると、Ｅ’センターを水素分子
がターミネートし、紫外領域での石英ガラスの透過率低
下量を激減させることができる。
の光が作用すると、Ｅ’センターと呼ばれる５．８ｅＶ
の吸収帯が現れ紫外領域の透過率が著しく低下する。こ
こに、水素分子が存在すると、Ｅ’センターを水素分子
がターミネートし、紫外領域での石英ガラスの透過率低
下量を激減させることができる。
【０００７】このように、石英ガラス中における水素分
子は、その紫外線耐久性を著しく向上させる効果があ
る。しかしながら、前述のような従来の技術では、石英
ガラス中に水素分子を導入するために、一旦、石英ガラ
スを合成した後に再び熱処理を加えなければならないと
いう問題がある。すなわち、この方法であると水素分子
の導入まで熱を少なくとも２回加えることになる。それ
故、生産性が低下し最終生成物のコストが上昇する等の
問題がある。また、二次処理で水素分子を導入するため
には水素雰囲気中で処理を行わねばならず、発火・爆発
等の危険性も伴う。さらに、不純物の混入や高温での加
圧熱処理で還元雰囲気に曝すことによる新たな吸収帯や
発光帯の生成という問題もあった。
子は、その紫外線耐久性を著しく向上させる効果があ
る。しかしながら、前述のような従来の技術では、石英
ガラス中に水素分子を導入するために、一旦、石英ガラ
スを合成した後に再び熱処理を加えなければならないと
いう問題がある。すなわち、この方法であると水素分子
の導入まで熱を少なくとも２回加えることになる。それ
故、生産性が低下し最終生成物のコストが上昇する等の
問題がある。また、二次処理で水素分子を導入するため
には水素雰囲気中で処理を行わねばならず、発火・爆発
等の危険性も伴う。さらに、不純物の混入や高温での加
圧熱処理で還元雰囲気に曝すことによる新たな吸収帯や
発光帯の生成という問題もあった。
【０００８】加えて、近年、光リソグラフィー技術に用
いるレンズ径が大きくなるにつれ、二次処理で水素分子
を大口径の石英ガラス光学部材に均一に導入するには、
拡散係数から考えてもかなりの長時間を有する。さら
に、紫外線リソグラフィー用のレンズとして用いること
を考えた場合、最もエネルギー密度が大きくなる中央部
の水素分子濃度が周辺部に比べ小さくなるという問題点
もあった。
いるレンズ径が大きくなるにつれ、二次処理で水素分子
を大口径の石英ガラス光学部材に均一に導入するには、
拡散係数から考えてもかなりの長時間を有する。さら
に、紫外線リソグラフィー用のレンズとして用いること
を考えた場合、最もエネルギー密度が大きくなる中央部
の水素分子濃度が周辺部に比べ小さくなるという問題点
もあった。
【０００９】本発明は、これらの問題を解決し、紫外光
照射による透過率低下を抑えるのに必要な量の水素分子
を含有し、光学的に均質で高透過率・紫外線耐久性を有
する石英ガラスの製造方法を提供することを目的とす
る。
照射による透過率低下を抑えるのに必要な量の水素分子
を含有し、光学的に均質で高透過率・紫外線耐久性を有
する石英ガラスの製造方法を提供することを目的とす
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】そこで本発明では、水素
分子の導入を合成時に行うことにより水素分子導入のた
めの二次処理が不要になることに着目し、鋭意研究を進
めた。その結果、最外部のリング状管から噴出させる水
素ガスの流速を規定することにより、石英ガラス部材中
に耐紫外線性を付与することのできる水素分子濃度及び
ＯＨ基濃度を含有させることができるということを見い
だした。
分子の導入を合成時に行うことにより水素分子導入のた
めの二次処理が不要になることに着目し、鋭意研究を進
めた。その結果、最外部のリング状管から噴出させる水
素ガスの流速を規定することにより、石英ガラス部材中
に耐紫外線性を付与することのできる水素分子濃度及び
ＯＨ基濃度を含有させることができるということを見い
だした。
【００１１】そこで、本発明においては、「第六の管か
ら噴出させる水素ガスの流速が４〜７ｍ／ｓ」でかつ
「第六の管から噴出させる水素ガスの流速に比べ第七の
管から噴出させる酸素ガスの流速が大きい」こと、ま
た、「第二の管から噴出される酸素ガスと第三の管から
噴出される水素ガスの比率及び第五の管から噴出される
酸素ガスと第四の管から噴出される水素ガスの比率が理
論燃焼比率よりも水素が多いこと」とした。
ら噴出させる水素ガスの流速が４〜７ｍ／ｓ」でかつ
「第六の管から噴出させる水素ガスの流速に比べ第七の
管から噴出させる酸素ガスの流速が大きい」こと、ま
た、「第二の管から噴出される酸素ガスと第三の管から
噴出される水素ガスの比率及び第五の管から噴出される
酸素ガスと第四の管から噴出される水素ガスの比率が理
論燃焼比率よりも水素が多いこと」とした。
【００１２】
【発明の実施の形態】前述したように、水素分子を導入
する方法として、一般的には熱間等方圧プレス（ＨＩ
Ｐ）や高温高圧雰囲気熱処理炉などによる二次処理を行
うことが多い。この二次処理時に酸素欠乏型欠陥の生成
や、Ｎａ等の不純物の混入により紫外光学材料として用
いる場合問題となる、吸収帯の生成やその処理温度範囲
によっては失透などが起こりうる。
する方法として、一般的には熱間等方圧プレス（ＨＩ
Ｐ）や高温高圧雰囲気熱処理炉などによる二次処理を行
うことが多い。この二次処理時に酸素欠乏型欠陥の生成
や、Ｎａ等の不純物の混入により紫外光学材料として用
いる場合問題となる、吸収帯の生成やその処理温度範囲
によっては失透などが起こりうる。
【００１３】本発明の製造方法であれば、このようなデ
メリットがない。さらに、二次処理では大口径な石英ガ
ラス部材に水素分子を導入することが困難であるのに対
し、本発明の製造方法であれば、合成時に水素分子を導
入するため、石英ガラスの径に依らず高濃度の水素分子
濃度を保たせることができる。合成時における石英ガラ
ス中への水素分子の溶解過程は明らかではないが、キャ
リアガスとともに噴出されたケイ素化合物ガスが加水分
解されて微粒子状になる際に、ある割合の水素分子を巻
き込みながらガラス化されると推測される。それ故、中
心部に近い部分が水素過剰であれば、石英ガラス中に水
素分子が溶け込む確率が高くなり水素分子濃度は高くな
る。また、最外部のリング状管から噴出させる酸素ガス
の流速を水素ガスの流速よりも大きくすることにより、
両者の反応をよりバーナから遠い部分で完結させること
ができるため部材中に溶け込むＯＨ基濃度も耐紫外線性
を付与できるほどまでに上昇させることが可能となるこ
のように、本発明の石英ガラスの製造方法においては、
光学性能に悪影響を及ぼす合成後の二次処理を行う必要
がない。これらの石英ガラスは、紫外線リソグラフィー
用光学素子としての使用に適している。
メリットがない。さらに、二次処理では大口径な石英ガ
ラス部材に水素分子を導入することが困難であるのに対
し、本発明の製造方法であれば、合成時に水素分子を導
入するため、石英ガラスの径に依らず高濃度の水素分子
濃度を保たせることができる。合成時における石英ガラ
ス中への水素分子の溶解過程は明らかではないが、キャ
リアガスとともに噴出されたケイ素化合物ガスが加水分
解されて微粒子状になる際に、ある割合の水素分子を巻
き込みながらガラス化されると推測される。それ故、中
心部に近い部分が水素過剰であれば、石英ガラス中に水
素分子が溶け込む確率が高くなり水素分子濃度は高くな
る。また、最外部のリング状管から噴出させる酸素ガス
の流速を水素ガスの流速よりも大きくすることにより、
両者の反応をよりバーナから遠い部分で完結させること
ができるため部材中に溶け込むＯＨ基濃度も耐紫外線性
を付与できるほどまでに上昇させることが可能となるこ
のように、本発明の石英ガラスの製造方法においては、
光学性能に悪影響を及ぼす合成後の二次処理を行う必要
がない。これらの石英ガラスは、紫外線リソグラフィー
用光学素子としての使用に適している。
【００１４】もっとも、均質性調整や歪除去のために熱
処理を行う必要のある場合がある。このとき、熱処理時
の拡散現象により石英ガラス部材中に含有している水素
分子が放出されてしまい、濃度が低下してしまうため、
多少の耐紫外線性の低下がおこる。しかしながら、本発
明の製造方法により充分な水素分子を導入して合成した
石英ガラスであれば、熱処理により水素分子濃度が若干
低下してもなお、充分な耐紫外線性を有する光学部材が
得られる。このとき、熱処理後の水素分子濃度は２×１
０18〜４×１０18個／ｃｍ3とすることが望ましい。
処理を行う必要のある場合がある。このとき、熱処理時
の拡散現象により石英ガラス部材中に含有している水素
分子が放出されてしまい、濃度が低下してしまうため、
多少の耐紫外線性の低下がおこる。しかしながら、本発
明の製造方法により充分な水素分子を導入して合成した
石英ガラスであれば、熱処理により水素分子濃度が若干
低下してもなお、充分な耐紫外線性を有する光学部材が
得られる。このとき、熱処理後の水素分子濃度は２×１
０18〜４×１０18個／ｃｍ3とすることが望ましい。
【００１５】
【実施例】本発明における実施例を以下に示す。この中
で、ＯＨ基濃度は２．７μｍにおける赤外吸収により、
水素分子濃度はＫｈｏｔｉｍｃｈｅｍｋｏらの文献に従
い、ラマン分光光度計により測定した。 〔実施例，比較例〕高純度石英ガラスインゴットは、原
料として高純度の四塩化ケイ素を用い、図１に示すよう
な石英ガラス製多重管バーナにて酸素ガス及び水素ガス
を表１に示すような流量で燃焼させ、中心部から原料ガ
スをキャリアガスで希釈して噴出させる、いわゆる酸水
素火炎加水分解法と呼ばれる方法により合成を行った
（図２）。合成の際、ガラスを積層させる不透明石英ガ
ラス板からなるターゲットを一定周期で回転（Ｒ）及び
揺動（Ｘ，Ｙ）させ、さらに降下（Ｚ）を同時に行うこ
とによりインゴットの上部の位置を常時バーナから一定
に保った。
で、ＯＨ基濃度は２．７μｍにおける赤外吸収により、
水素分子濃度はＫｈｏｔｉｍｃｈｅｍｋｏらの文献に従
い、ラマン分光光度計により測定した。 〔実施例，比較例〕高純度石英ガラスインゴットは、原
料として高純度の四塩化ケイ素を用い、図１に示すよう
な石英ガラス製多重管バーナにて酸素ガス及び水素ガス
を表１に示すような流量で燃焼させ、中心部から原料ガ
スをキャリアガスで希釈して噴出させる、いわゆる酸水
素火炎加水分解法と呼ばれる方法により合成を行った
（図２）。合成の際、ガラスを積層させる不透明石英ガ
ラス板からなるターゲットを一定周期で回転（Ｒ）及び
揺動（Ｘ，Ｙ）させ、さらに降下（Ｚ）を同時に行うこ
とによりインゴットの上部の位置を常時バーナから一定
に保った。
【００１６】
【表１】
【００１７】このようにして複数個のインゴットを合成
した。このインゴットから、テストピースを切り出し、
研磨をすることにより測定サンプルとした。表２にこの
測定の結果の一例を示す。
した。このインゴットから、テストピースを切り出し、
研磨をすることにより測定サンプルとした。表２にこの
測定の結果の一例を示す。
【００１８】
【表２】
【００１９】
【発明の効果】以上のように、「第六の管から噴出させ
る水素ガスの流速が４〜７ｍ／ｓ」でかつ「第六の管か
ら噴出させる水素ガスの流速に比べ第七の管から噴出さ
せる酸素ガスの流速が大きい」こと、また、「第二のか
ら噴出される酸素ガスと第三の管から噴出される水素ガ
スの比率及び第五の管から噴出される酸素ガスと第四の
管から噴出される水素ガスの比率が理論燃焼比率よりも
水素が多いこと」とすることにより、汚染やコストアッ
プ要因となる二次処理をすることなしに高い紫外線透過
性及び紫外線耐性を持つ合成石英ガラスを得ることがで
き、それにより大口径石英ガラス光学部材を得ることが
できる。
る水素ガスの流速が４〜７ｍ／ｓ」でかつ「第六の管か
ら噴出させる水素ガスの流速に比べ第七の管から噴出さ
せる酸素ガスの流速が大きい」こと、また、「第二のか
ら噴出される酸素ガスと第三の管から噴出される水素ガ
スの比率及び第五の管から噴出される酸素ガスと第四の
管から噴出される水素ガスの比率が理論燃焼比率よりも
水素が多いこと」とすることにより、汚染やコストアッ
プ要因となる二次処理をすることなしに高い紫外線透過
性及び紫外線耐性を持つ合成石英ガラスを得ることがで
き、それにより大口径石英ガラス光学部材を得ることが
できる。
【図１】本発明で用いたバーナの断面図である。
【図２】本発明で用いた合成石英ガラス製造装置であ
る。
る。
【図３】本発明により第六の管の流速を変化させたとき
に得られる、第六の管の流速とＯＨ基濃度の相関であ
る。
に得られる、第六の管の流速とＯＨ基濃度の相関であ
る。
【図４】本発明により得られた合成石英ガラスのＯＨ基
濃度と水素分子濃度の相関である。
濃度と水素分子濃度の相関である。
１ 第１の管 ２ 第２の管 ３ 第３の管 ４ 第４の管 ５ 第５の管 ６ 第６の管 ７ 第７の管 ２１ バーナ ２２ ターゲット ２３ Ｘ軸サーボモータ ２４ Ｙ軸サーボモータ ２５ 観察用窓 ２６ 排気系 ２７ 石英ガラスインゴット ２８ ＸＹステージ ２９ ＩＲカメラ ３０ 制御系（コンピュータ）
Claims (5)
- 【請求項１】中心部に配置されかつ原料を噴出するため
の第一の管と、該第一の管の周囲に同心円状に配置され
かつ酸素ガスを噴出するための第二の管と、該第二の管
の周囲に同心円状に配置されかつ水素ガスを噴出するた
めの第三の管と、該第三の管の周囲に同心円状に配置さ
れかつ水素ガスを噴出するための第四の管と、該第三の
管の外周と該第四の管の内周との間に配置されかつ酸素
ガスを噴出するための複数の第五の管と、該第四の管の
周囲に同心円状に配置されかつ水素ガスを噴出するため
の第六の管と、該第四の管の外周と該第六の管の内周と
の間に配置されかつ酸素ガスを噴出するための複数の第
七の管と、を備えたバーナを用い、第六の管から噴出さ
せる水素ガスの流速を４ｍ／ｓ以上７ｍ／ｓ以下とし、
かつ第六の管から噴出させる水素ガスの流速に比べ第七
の管から噴出させる酸素ガスの流速を大きくして製造す
ることを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方
法。 - 【請求項２】請求項１の方法により得られた合成石英ガ
ラス光学部材において、前記部材内部の水素分子濃度が
１×１０18〜５×１０18個／ｃｍ3でかつＯＨ基濃度が
９００〜１１００ｐｐｍであることを特徴とする紫外光
用合成石英ガラス光学部材。 - 【請求項３】請求項１の方法により得られた合成石英ガ
ラス光学部材において、大気中で１０時間熱処理を行っ
た後の前記部材中の水素分子濃度が２×１０18〜４×１
０18個／ｃｍ3であることを特徴とする紫外光用合成石
英ガラス光学部材。 - 【請求項４】請求項３に記載の合成石英ガラス光学部材
において、前記大気中での熱処理温度が８００〜１１０
０℃であることを特徴とする紫外光用合成石英ガラス光
学部材。 - 【請求項５】請求項１に記載の石英ガラスの製造方法に
おいて、第二の管から噴出される酸素ガスと第三の管か
ら噴出される水素ガスの比率及び第五の管から噴出され
る酸素ガスと第四の管から噴出される水素ガスの比率が
理論燃焼比率よりも水素が多いことを特徴とする、合成
石英ガラス光学部材の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9124529A JPH10316435A (ja) | 1997-05-14 | 1997-05-14 | 合成石英ガラス光学部材の製造方法および光学部材 |
| TW087106419A TW440548B (en) | 1997-05-14 | 1998-04-27 | Synthetic silica glass optical member and method of manufacturing the same |
| EP98108732A EP0878451A1 (en) | 1997-05-14 | 1998-05-13 | Synthetic silica glass optical member and method of manufacturing the same |
| KR1019980017245A KR19980087016A (ko) | 1997-05-14 | 1998-05-13 | 합성석영글래스 광학부재의 제조방법 및 광학부재 |
| US10/107,792 US20020144517A1 (en) | 1997-05-14 | 2002-03-28 | Synthetic silica glass optical member and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9124529A JPH10316435A (ja) | 1997-05-14 | 1997-05-14 | 合成石英ガラス光学部材の製造方法および光学部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10316435A true JPH10316435A (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=14887740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9124529A Pending JPH10316435A (ja) | 1997-05-14 | 1997-05-14 | 合成石英ガラス光学部材の製造方法および光学部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10316435A (ja) |
-
1997
- 1997-05-14 JP JP9124529A patent/JPH10316435A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW440548B (en) | Synthetic silica glass optical member and method of manufacturing the same | |
| JP4304409B2 (ja) | 石英ガラス部材の製造方法 | |
| JP3064857B2 (ja) | 光リソグラフィー用光学部材および合成石英ガラスの製造方法 | |
| US6473226B1 (en) | Silica glass member | |
| JP3120647B2 (ja) | 石英ガラスの製造方法及びそれにより製造された石英ガラス | |
| JP2002060227A (ja) | 合成石英ガラスの製造方法および合成石英ガラス並びに合成石英ガラス基板 | |
| JP3520541B2 (ja) | 石英ガラス製バーナー、これを用いて製造される石英ガラス、石英ガラスバーナーを用いた石英ガラスの製造方法 | |
| US6587181B2 (en) | Optical system with improved durability for projection exposure apparatus and method for manufacturing optical system for projection exposure apparatus | |
| JP2821074B2 (ja) | 耐紫外線レーザー用光学部材の製造方法 | |
| KR100516338B1 (ko) | 자외광용 합성 석영유리제 광학부재 및 그것을 사용한축소 투영 노광장치 | |
| JPH1129331A (ja) | 合成石英ガラス光学部材の製造方法および光学部材 | |
| US6701752B2 (en) | Synthesized silica glass optical member and method for manufacturing the same | |
| JPH11209128A (ja) | 合成石英ガラス製造装置およびこの合成石英ガラス製造装置によって製造された合成石英ガラス | |
| JPH1053432A (ja) | 石英ガラス光学部材、その製造方法、及び投影露光装置 | |
| JPH10279322A (ja) | 石英ガラスの熱処理方法および熱処理装置 | |
| JP2000290026A (ja) | エキシマレーザー用光学石英ガラス部材 | |
| US6835683B2 (en) | Quartz glass member and projection aligner | |
| JPH10316435A (ja) | 合成石英ガラス光学部材の製造方法および光学部材 | |
| JP3259460B2 (ja) | 耐紫外線性を有する石英ガラスの製造方法および石英ガラス光学部材 | |
| JPH11292551A (ja) | 合成石英ガラスの製造方法及びこの方法により得られた合成石英ガラス | |
| JP2566151B2 (ja) | レーザー光学系母材の製造方法 | |
| JP4320829B2 (ja) | 紫外用合成石英ガラスの製造方法とそれにより得られた部材 | |
| JPH10279321A (ja) | リソグラフィー用石英ガラスレンズの製造方法 | |
| JPH07277755A (ja) | 合成石英ガラス光学体の改質方法 および合成石英ガラス光学体 | |
| JP2006083023A (ja) | 合成石英ガラスの製造装置及び製造方法、合成石英ガラス、並びに露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040513 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060413 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060418 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060822 |