WO2022224725A1 - バーナ、ガラス微粒子堆積体の製造装置およびガラス微粒子堆積体の製造方法 - Google Patents

バーナ、ガラス微粒子堆積体の製造装置およびガラス微粒子堆積体の製造方法 Download PDF

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port
burner
combustible gas
material port
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正敏 早川
圭省 森田
修平 豊川
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住友電気工業株式会社
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    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00—Other methods of shaping glass
    • C03B19/10—Forming beads
    • C03B19/1005—Forming solid beads
    • C03B19/106—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23D—BURNERS
    • F23D14/00—Burners for combustion of a gas, e.g. of a gas stored under pressure as a liquid
    • F23D14/20—Non-premix gas burners, i.e. in which gaseous fuel is mixed with combustion air on arrival at the combustion zone
    • F23D14/22—Non-premix gas burners, i.e. in which gaseous fuel is mixed with combustion air on arrival at the combustion zone with separate air and gas feed ducts, e.g. with ducts running parallel or crossing each other

Definitions

  • the present disclosure relates to a burner, a glass particulate deposit manufacturing apparatus, and a glass particulate deposit manufacturing method.
  • Patent Document 1 discloses a burner for producing a glass particle deposit that forms a glass particle deposit using siloxane as a raw material gas.
  • the burner disclosed in the document is made of metal and has a heater for heating the burner.
  • the burner of the present disclosure is A burner comprising a raw material port for ejecting siloxane as a raw material gas and a plurality of combustible gas ports arranged around the central port,
  • the raw material port is a burner projecting in the direction of ejection of the combustible gas from the combustible gas ejection port of the combustible gas port.
  • the manufacturing apparatus of the glass fine particle deposit of the present disclosure includes: An apparatus for producing a glass particle deposit, comprising the above-described burner of the present disclosure, producing glass particles by the burner, and depositing the produced glass particles on a starting rod to produce a glass particle deposit.
  • the manufacturing method of the glass particulate deposit body of the present disclosure includes: A method for producing a glass particle deposit using a burner having a raw material port and a plurality of combustible gas ports arranged around the raw material port, the method comprising: In a state where the temperature of the tip portion of the raw material port is 170° C. or more and 600° C. or less, the combustible gas is jetted from the combustible gas port, and the raw material gas, siloxane, is jetted from the raw material port to form glass particles. It is a method for producing a glass particle deposited body, comprising generating and depositing the generated glass particles on a starting rod.
  • FIG. 1 is a configuration diagram showing an apparatus for manufacturing a glass particle deposit according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a front view showing the burner according to the embodiment.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the burner shown in FIG. 2 taken along the line AA.
  • the present disclosure provides a burner, an apparatus for producing a glass particle deposit, and a method for producing a glass particle deposit, which can suppress adhesion of tar-like substances to a raw material port and can produce a good glass particle deposit.
  • the purpose is to
  • a burner, an apparatus for producing a glass particle deposit, and a method for producing a glass particle deposit are provided, which can suppress adhesion of a tar-like substance to a raw material port and can produce a good glass particle deposit. can provide.
  • the burner according to the embodiment is A burner comprising a raw material port for ejecting siloxane as a raw material gas and a plurality of combustible gas ports arranged around the raw material port, The raw material port protrudes in the direction in which the combustible gas is ejected from the combustible gas outlet of the combustible gas port. It is burner.
  • the siloxane is liquefied and polymerized by being exposed to a high-temperature environment in a liquid state. can be suppressed, and adhesion of tar-like substances to the raw material port can be suppressed.
  • the burner of (1) above is The burner may satisfy a relationship of 0.7D ⁇ L ⁇ 7D, where D is the diameter of the raw material ejection port of the raw material port, and L is the protrusion amount of the raw material port based on the combustible gas ejection port. .
  • the raw material port protrudes such that the diameter D of the raw material ejection port of the raw material port and the protrusion amount L of the raw material port satisfy the relationship of 0.7D ⁇ L ⁇ 7D, thereby liquefying the siloxane and putting the siloxane into a liquid state. It is possible to further suppress polymerization due to exposure to a high-temperature environment at and further suppress adhesion of tar-like substances to the raw material port.
  • the burner of (1) or (2) above is The burner may be such that the center position of the combustible gas port is arranged on a virtual circle having a diameter of 1.2D or more and 3D or less with the raw material port as the center.
  • the combustible gas port By arranging the combustible gas port on a virtual circle having a diameter of 1.2D or more and 3D or less centered on the raw material port, it is possible to suitably suppress adhesion of tar-like substances to the raw material port.
  • the burner may be such that the tip portion of the raw material port is tapered toward the tip.
  • flow turbulence vortex
  • the tip of the raw material port By tapering the tip of the raw material port, flow turbulence (vortex) caused by the difference in gas flow velocity between the raw material port and the combustible gas port can be suppressed.
  • An apparatus for manufacturing a glass particle deposit includes: Manufacture of a glass particle deposit comprising a burner according to any one of the above (1) to (4), producing glass particles with the burner, and depositing the produced glass particles on a starting rod to produce the glass particle deposit. It is a device. According to the manufacturing apparatus, liquefaction of siloxane and polymerization of siloxane due to exposure to a high-temperature environment in a liquid state can be suppressed, and adhesion of a tar-like substance to the raw material port can be suppressed.
  • a method for manufacturing a glass particle deposit includes: A method for producing a glass particle deposit using a burner having a raw material port and a plurality of combustible gas ports arranged around the raw material port, the method comprising: In a state where the temperature of the tip portion of the raw material port is 170° C. or more and 600° C. or less, the combustible gas is jetted from the combustible gas port, and the raw material gas, siloxane, is jetted from the raw material port to form glass particles. It is a method for producing a glass particle deposited body, comprising generating and depositing the generated glass particles on a starting rod. By setting the temperature of the tip of the raw material port to 170° C.
  • the method for producing the glass particle deposit according to (6) above The raw material port of the burner protrudes in the direction of ejection of the combustible gas from the combustible gas ejection port of the combustible gas port, The burner satisfies the relationship of 0.7D ⁇ L ⁇ 7D, where D is the diameter of the raw material ejection port of the raw material port, and L is the projection amount of the raw material port based on the combustible gas ejection port.
  • a method for manufacturing a glass fine particle deposit may also be used.
  • the method for producing a glass particle deposit according to (6) or (7) above The center position of the combustible gas port is arranged on a virtual circle having a diameter of 1.2D or more and 3D or less centered on the raw material port, where D is the diameter of the raw material ejection port of the raw material port.
  • a method for manufacturing a glass fine particle deposit may also be used.
  • the method for producing a glass particle deposit may be such that the shape of the tip of the raw material port is tapered toward the tip.
  • flow turbulence vortex
  • the tip of the raw material port By tapering the tip of the raw material port, flow turbulence (vortex) caused by the difference in gas flow velocity between the raw material port and the combustible gas port can be suppressed.
  • FIG. 1 is a diagram showing an apparatus 1 for manufacturing a glass particulate deposit body according to an embodiment.
  • an OVD (Outside Vapor Deposition) method will be described as an example, but the present disclosure is not limited to the OVD method. It is also possible to apply the present disclosure to a method of depositing glass from a raw material gas like the OVD method, such as the VAD (Vapor Phase Axial Deposition) method and the MMD method.
  • VAD Very Phase Axial Deposition
  • the manufacturing apparatus 1 includes a reaction vessel 2, an elevating/rotating device 3, a gas supply device 21, a burner 22 for generating glass fine particles, and a control section 5 for controlling the operation of each section.
  • the reaction vessel 2 is a vessel in which the glass particle deposit M is formed, and has an exhaust pipe 12 attached to the side surface of the vessel.
  • the elevating and rotating device 3 is a device that elevates and rotates the glass fine particle deposit M via the support rod 10 and the starting rod 11 .
  • the lifting/rotating device 3 controls the operation of the support rod 10 based on control signals transmitted from the controller 5 .
  • the lifting and rotating device 3 lifts and lowers the glass fine particle deposit M while rotating it.
  • the support rod 10 is arranged to pass through a through hole formed in the upper wall of the reaction vessel 2, and a starting rod 11 is provided at one end (lower end in FIG. 1) arranged inside the reaction vessel 2. is installed.
  • the support rod 10 has the other end (upper end in FIG. 1) gripped by the lifting and rotating device 3 .
  • the starting rod 11 is a rod on which glass particles are deposited, and is attached to the support rod 10.
  • the exhaust pipe 12 is a pipe for discharging the glass particles that have not adhered to the starting rod 11 and the glass particle deposit M to the outside of the reaction vessel 2 together with the gas inside the reaction vessel 2 .
  • Siloxane which is the raw material 23 , is vaporized by the gas supply device 21 and supplied to the burner 22 .
  • siloxane octamethylcyclotetrasiloxane (OMCTS) having a melting point of 17.5°C and a boiling point of 175°C, decamethylcyclopentasiloxane (DMCPS) having a melting point of -38°C and a boiling point of 210°C, and a melting point of hexamethylcyclotrisiloxane having a melting point of 64° C. and a boiling point of 134° C., hexamethyldisiloxane having a melting point of ⁇ 68° C. and a boiling point of 100° C., and the like.
  • OMCTS octamethylcyclotetrasiloxane
  • DCPS decamethylcyclopentasiloxane
  • hexamethylcyclotrisiloxane having a melting point of 64
  • the gas supply device 21 includes a raw material container 24 that stores the raw material 23 , an MFC (Mass Flow Controller) 25 as a gas flow controller that controls the supply flow rate of the raw material gas obtained by vaporizing the raw material 23 , and a burner 22 that feeds the raw material gas. and a temperature control booth 27 for keeping the raw material container 24, the MFC 25 and part of the supply pipe 26 at a predetermined temperature.
  • the raw material container 24 , MFC 25 , and supply pipe 26 are adjusted to a predetermined temperature by temperature control by the gas supply device 21 .
  • the MFC 25 is a device that controls the flow rate of raw material gas injected from the burner 22 .
  • the raw material gas heated to a temperature higher than the boiling point (for example, 175° C. which is the normal boiling point of OMCTS) in the raw material container 24 and vaporized is supplied to the burner 22 by the flow rate control of the MFC 25 .
  • the MFC 25 controls the supply amount of the raw material gas supplied to the burner 22 based on the control signal transmitted from the control section 5 .
  • the supply pipe 26 is a pipe that guides the raw material gas to the burner 22 .
  • the outer periphery of the supply pipe 26 is wrapped with a tape heater 28, which is, for example, a heating element.
  • the tape heater 28 is composed of a flexible heater in which an extra-fine stranded wire of a metal heating element or carbon fibrous surface heating element is covered with a protective material.
  • the burner 22 is connected to a supply pipe 26 and is made of a metal material.
  • the metal material it is preferable to use stainless steel (SUS), which is particularly excellent in corrosion resistance, or aluminum or an aluminum alloy, which is easy to process.
  • the burner may be made of ceramic, quartz, or the like.
  • the burner 22 generates glass microparticles 30 by thermally decomposing and oxidizing the vaporized raw material gas in a flame, and sprays the generated glass microparticles 30 onto the starting rod 11 to deposit them.
  • the burner 22 is supplied with a siloxane gas such as OMCTS as a raw material gas, H 2 and O 2 as a flame forming gas, and an inert gas such as N 2 and Ar as a burner seal gas.
  • OMCTS siloxane gas
  • H 2 and O 2 as a flame forming gas
  • an inert gas such as N 2 and Ar
  • the control unit 5 controls each operation of the lifting and rotating device 3, the gas supply device 21, and the like.
  • the control unit 5 transmits a control signal for controlling the lifting speed and rotation speed of the glass fine particle deposit M to the lifting/rotating device 3 .
  • the control unit 5 also sends a control signal to the MFC 25 of the gas supply device 21 to control the flow rate of the raw material gas jetted from the burner 22 to the starting rod 11 (the glass particle deposit M).
  • the burner 22 may have, for example, a focus type multi-nozzle structure or a multi-tube burner structure.
  • a multi-nozzle burner structure will be described as an example.
  • FIG. 2 shows a front view of a burner 22 having a multi-nozzle burner structure according to an embodiment.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the burner 22 of FIG. 2 taken along the line AA.
  • the burner 22 has a raw material port 31 in the center for ejecting siloxane, which is a raw material gas.
  • the burner 22 also has a plurality of combustible gas ports 32 that are arranged around the raw material port 31 and eject combustible gas.
  • the central position of the combustible gas port 32 is provided along a virtual circle having a specific diameter (P.C.D. (Pitch Circle Diameter)) centered on the raw material port 31 .
  • the combustible gas is hydrogen ( H2) or the like.
  • the burner 22 further includes a plurality of combustion-enhancing gas ports arranged outside the combustible gas port 32 along an imaginary circle centered on the raw material port 31 .
  • the combustion support gas is oxygen (O 2 ).
  • siloxane is ejected into an oxyhydrogen flame generated by the combustion supporting gas and the combustible gas, and silicon oxide (SiO 2 ) particles are synthesized by thermal decomposition and oxidation reaction.
  • the raw material port 31 protrudes in the combustible gas ejection direction from the combustible gas ejection port of the combustible gas port 32 .
  • D be the diameter of the raw material ejection port of the raw material port 31 .
  • L be the protrusion amount (distance to the tip) of the raw material port 31 with reference to the position of the combustible gas ejection port.
  • the raw material port 31 protrudes in the ejection direction of the combustible gas so as to satisfy the relationship of 0.7D ⁇ L ⁇ 7D.
  • the combustible gas port 32 is centered on the raw material port 31 and has a P.I. C. D. are arranged on a virtual circle with The raw material port 31 is configured such that the shape of the tip portion 33 thereof is tapered toward the tip.
  • Glass particles are deposited by an OVD method (external deposition method) to manufacture a glass particle deposit M.
  • OVD method external deposition method
  • FIG. 1 a supporting rod 10 is attached to the lifting/rotating device 3, and a starting rod 11 is attached to the lower end of the supporting rod 10. A part of the starting rod 11 and the supporting rod 10 is placed in the reaction container. Pay within 2.
  • the MFC 25 supplies the raw material gas to the burner 22 through the supply pipe 26 while controlling the supply amount of the raw material gas based on the control signal transmitted from the control unit 5 .
  • the supply pipe 26 is heated by a tape heater 28 wrapped around its outer circumference.
  • O 2 and H 2 are supplied to the burner 22 by a gas supply device (not shown).
  • the siloxane supplied to the burner 22 is thermally decomposed and oxidized in an oxyhydrogen flame to generate glass microparticles.
  • the burner 22 continuously deposits the glass particles generated in the flame on the starting rod 11 that rotates and ascends and descends.
  • the temperature of the tip portion 33 of the raw material port 31 of the burner 22 is set to 170° C. or more and 600° C. or less.
  • the temperature of the tip 33 can be adjusted by changing the intensity of the oxyhydrogen flame generated by the burner. Specifically, by adjusting the projection amount of the raw material port 31, the center position (P.C.D.) of the combustible gas port 32, and by controlling the supply amount of raw material and combustible gas, do.
  • the lifting and rotating device 3 lifts and lowers the starting rod 11 and the glass fine particle deposits M deposited on the starting rod 11 in the axial direction based on a control signal from the control unit 5 .
  • siloxane such as OMCTS has a higher boiling point than silicon tetrachloride (SiCl 4 ) and is easily liquefied. Therefore, it is liquefied at the timing when it is injected from the raw material port of the burner, and the liquefied siloxane tends to adhere to the tip of the raw material port. Liquid siloxane adhering to the tip of the source port may turn into a tar-like substance as it is exposed to a high-temperature environment at the tip, which has a low oxygen concentration. If the tar-like substance adheres excessively to the raw material port, it may impede the straight advance of the raw material flame and affect the molding of the glass fine particle deposit.
  • SiCl 4 silicon tetrachloride
  • the temperature of the tip portion 33 of the raw material port 31 by setting the temperature of the tip portion 33 of the raw material port 31 to a state of 170° C. or more and 600° C. or less, siloxane is liquefied and polymerized by being exposed to a high-temperature environment in a liquid state. , and adhesion of tar-like substances to the raw material port 31 can be suppressed. If the temperature is lower than 170°C, the siloxane may liquefy, and if it is higher than 600°C, the raw material port 31 may be greatly deformed. Also, the temperature of the tip portion 33 of the raw material port 31 is preferably 300° C. or higher, and more preferably 500° C. or lower.
  • the raw material port 31 is protruded so that the diameter D of the raw material ejection port of the raw material port 31 and the protrusion amount L of the raw material port 31 satisfy the relationship of 0.7D ⁇ L ⁇ 7D.
  • siloxane which is the raw material gas
  • the projection amount L of the raw material port 31 is preferably 2D or more, and more preferably 4D or less.
  • the center position of the combustible gas port 32 by arranging the center position of the combustible gas port 32 on a virtual circle having a diameter of 1.2D or more and 3D or less with the raw material port 31 as the center, the tar-like substance flows into the raw material port 31. Adhesion can be suitably suppressed. Specifically, by arranging the center position of the combustible gas port 32 on a virtual circle with a diameter of 1.2D or more, the flame of the combustible gas and the raw material gas can be favorably interfered. Further, by arranging the center position of the combustible gas port 32 on a virtual circle with a diameter of 3D or less, the tip temperature of the raw material port 31 can be further increased. Also, it is better to arrange the center position of the combustible gas port 32 on a virtual circle having a diameter of 2.2D or less.
  • Example 1 Glass particles were generated by changing the protrusion amount of the raw material port 31 of the burner 22 described in the above embodiment, and the temperature of the tip portion 33 of the raw material port 31 was measured. The temperature of the tip 33 was measured with a non-contact spot radiation thermometer. At the same time, the adhesion of tar to the raw material port 31 and the deformation of the raw material port 31 were observed.
  • the combustible gas port 32 is arranged along a virtual circle having a diameter of 2.0D at its center, and the supporting gas port is arranged on a virtual circle having a diameter of 5.0D at its center.
  • the burner was supplied with OMCTS gas as source gas and H 2 and O 2 as flame forming gas.
  • the tar adhesion was evaluated as A for "no adhesion", B for “adhesion to the extent that the raw material flame is not affected", and C for "adhesion to the extent that the raw material flame is changed”.
  • the deformation of the raw material port 31 was evaluated as A for “no deformation”, B for “slightly deformed at the tip”, and C for "deformed to the parallel portion of the central raw material port". Those with no C evaluation in both tar adhesion and deformation of the raw material port 31 were regarded as acceptable. Table 1 shows the results.
  • Example 2 The projection amount of the raw material port 31 of the burner 22 described in the above embodiment is fixed at 2D, and P.D. C. D. was changed to generate glass particles, and the temperature of the tip portion 33 of the raw material port 31 was measured. At the same time, the adhesion of tar to the raw material port 31 and the interference with the flame of the raw material port 31 were observed.
  • the supporting gas port was arranged so that its center position was along a virtual circle having a diameter of 5.0D. Evaluation of tar adhesion was carried out according to the same criteria as in Example 1. Interference with the flame of the raw material port 31 was evaluated as "interference" when the flame of the burner 22 touched the raw material port 31, and "no interference" when the flame of the burner 22 did not touch the raw material port 31. Table 2 shows the results.
  • the burner 22 with a multi-nozzle burner structure has been described, but in the case of a burner with a multi-tube structure, the combustible gas ports 32 are arranged along an imaginary circle centered on the central raw material port. . P. of the imaginary circle in which the combustible gas port 32 is located. C. D. and the diameter D of the raw material ejection port of the raw material port 31 are in the same relationship as in the above-described embodiment, the burner of the present disclosure can be obtained.
  • the burner 22 has a multi-nozzle burner structure in which the centers of the combustible gas port 32 and the combustion support gas port are respectively provided on one virtual circle.
  • the gas ports may be arranged alternately in the radial direction.
  • the burner of the present disclosure can be obtained by adopting the configuration of the above embodiment for the raw material port and the combustible gas port closest thereto.

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Abstract

シロキサンを原料ガスとして噴出する原料ポートと、前記原料ポートの周囲に配置された複数の可燃性ガスポートと、を備えるバーナであって、前記原料ポートは前記可燃性ガスポートの可燃性ガス噴出口よりも前記可燃性ガスの噴出方向に突き出ている、バーナ。

Description

バーナ、ガラス微粒子堆積体の製造装置およびガラス微粒子堆積体の製造方法
　本開示は、バーナ、ガラス微粒子堆積体の製造装置およびガラス微粒子堆積体の製造方法に関する。
　本出願は、２０２１年４月２１日出願の日本出願第２０２１－７１９０７号に基づく優先権を主張し、前記日本出願に記載された全ての記載内容を援用するものである。
　特許文献１は、シロキサンを原料ガスとして用いてガラス微粒子堆積体を形成するガラス微粒子堆積体製造用バーナを開示している。同文献が開示するバーナは、金属から構成されているとともに、バーナを加熱するヒータを備えている。
日本国特開２０１４－２２４００７号公報
　本開示のバーナは、
　シロキサンを原料ガスとして噴出する原料ポートと、前記中心ポートの周囲に配置された複数の可燃性ガスポートと、を備えるバーナであって、
　前記原料ポートは前記可燃性ガスポートの可燃性ガス噴出口よりも前記可燃性ガスの噴出方向に突き出ている、バーナである。
　本開示のガラス微粒子堆積体の製造装置は、
　上記の本開示のバーナを備え、前記バーナによりガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を出発ロッドに堆積させてガラス微粒子堆積体を製造する、ガラス微粒子堆積体の製造装置である。
　本開示のガラス微粒子堆積体の製造方法は、
　原料ポートと、前記原料ポートの周囲に配置された複数の可燃性ガスポートと、を備えるバーナを用いてガラス微粒子堆積体を製造する、ガラス微粒子堆積体の製造方法であって、
　前記原料ポートの先端部の温度が１７０℃以上６００℃以下である状態で、前記可燃性ガスポートから可燃性ガスを噴出させるとともに、前記原料ポートから原料ガスであるシロキサンを噴出してガラス微粒子を生成させ、生成した前記ガラス微粒子を出発ロッドに堆積させる、ガラス微粒子堆積体の製造方法である。
図１は実施形態に係るガラス微粒子堆積体の製造装置を示す構成図である。 図２は実施形態に係るバーナを示す正面図である。 図３は図２に示すバーナのＡ－Ａ断面図である。
［本開示が解決しようとする課題］
　光ファイバの母材となるガラス微粒子堆積体を製造する際に、原料としてシロキサンを用いると、バーナの先端にタール状物質が付着することがある。このタール状物質が過剰に付着すると原料火炎の直進を妨げ、ガラス微粒子堆積体の成形に影響を及ぼすおそれがある。
　本開示は、タール状物質の原料ポートへの付着を抑制し、良好なガラス微粒子堆積体を製造することができる、バーナ、ガラス微粒子堆積体の製造装置およびガラス微粒子堆積体の製造方法を提供することを目的とする。
［本開示の効果］
　本開示によれば、タール状物質の原料ポートへの付着を抑制し、良好なガラス微粒子堆積体を製造することができる、バーナ、ガラス微粒子堆積体の製造装置およびガラス微粒子堆積体の製造方法を提供できる。
［本開示の実施形態の説明］
　最初に本開示の実施形態を列記して説明する。
（１）実施形態に係るバーナは、
　シロキサンを原料ガスとして噴出する原料ポートと、前記原料ポートの周囲に配置された複数の可燃性ガスポートと、を備えるバーナであって、
　前記原料ポートは前記可燃性ガスポートの可燃性ガス噴出口よりも前記可燃性ガスの噴出方向に突き出ている、
バーナである。
　原料ポートが可燃性ガスポートの可燃性ガス噴出口よりも可燃性ガスの噴出方向に突き出ていることで、シロキサンの液化と、シロキサンが液体状態で高温な環境に曝されることにより重合することと、を抑制でき、タール状物質が原料ポートに付着することを抑制できる。
（２）上記（１）のバーナは、
　前記原料ポートの原料噴出口の直径をＤとし、前記可燃性ガス噴出口を基準とする前記原料ポートの突き出し量をＬとした時に、０．７Ｄ≦Ｌ≦７Ｄの関係を満たす、バーナでもよい。
　原料ポートの原料噴出口の直径Ｄと、原料ポートの突き出し量Ｌと、が０．７Ｄ≦Ｌ≦７Ｄの関係を満たすように、原料ポートが突き出すことで、シロキサンの液化と、シロキサンが液体状態で高温な環境に曝されることにより重合することと、をさらに抑制でき、タール状物質が原料ポートに付着することをさらに抑制できる。
（３）上記（１）または（２）のバーナは、
　前記可燃性ガスポートの中心位置が、前記原料ポートを中心として１．２Ｄ以上３Ｄ以下の直径を有する仮想円上に配置されている、バーナでもよい。
　原料ポートを中心として１．２Ｄ以上３Ｄ以下の直径を有する仮想円上に可燃性ガスポートを配置することで、タール状物質が原料ポートに付着することを好適に抑制できる。
（４）上記（１）から（３）のいずれかのバーナは、
　前記原料ポートの先端部の形状が、先端に向かって細くなるテーパ状である、バーナでもよい。
　原料ポートの先端部をテーパ状とすることで、原料ポートと可燃性ガスポートとのガスの流速差で生じる流れの乱れ（渦）を抑制できる。これにより、当該流れの乱れ（渦）に起因するバーナ付近に滞留しているガラス微粒子のバーナへの付着を好適に抑制でき、ガス噴出口の閉塞を抑制できる。
（５）実施形態に係るガラス微粒子堆積体の製造装置は、
　上記（１）から（４）のいずれかのバーナを備え、前記バーナによりガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を出発ロッドに堆積させてガラス微粒子堆積体を製造する、ガラス微粒子堆積体の製造装置である。
　当該製造装置によれば、シロキサンの液化と、シロキサンが液体状態で高温な環境に曝されることにより重合することと、を抑制でき、タール状物質が原料ポートに付着することを抑制できる。
（６）実施形態に係るガラス微粒子堆積体の製造方法は、
　原料ポートと、前記原料ポートの周囲に配置された複数の可燃性ガスポートと、を備えるバーナを用いてガラス微粒子堆積体を製造する、ガラス微粒子堆積体の製造方法であって、
　前記原料ポートの先端部の温度が１７０℃以上６００℃以下である状態で、前記可燃性ガスポートから可燃性ガスを噴出させるとともに、前記原料ポートから原料ガスであるシロキサンを噴出してガラス微粒子を生成させ、生成した前記ガラス微粒子を出発ロッドに堆積させる、ガラス微粒子堆積体の製造方法である。
　原料ポートの先端部の温度を１７０℃以上６００℃以下の状態とすることで、シロキサンの液化と、シロキサンが液体状態で高温な環境に曝されることにより重合することと、を抑制でき、タール状物質が原料ポートに付着することを抑制できる。
（７）上記（６）のガラス微粒子堆積体の製造方法は、
　前記バーナの原料ポートは前記可燃性ガスポートの可燃性ガス噴出口よりも前記可燃性ガスの噴出方向に突き出ており、
　前記バーナは前記原料ポートの原料噴出口の直径をＤとし、前記可燃性ガス噴出口を基準とする前記原料ポートの突き出し量をＬとした時に、０．７Ｄ≦Ｌ≦７Ｄの関係を満たす、ガラス微粒子堆積体の製造方法でもよい。
　原料ポートの原料噴出口の直径Ｄと、原料ポートの突き出し量Ｌと、が０．７Ｄ≦Ｌ≦７Ｄの関係を満たすように、原料ポートを突き出させることで、原料ガスであるシロキサンに由来するタール状物質が原料ポートに付着することをさらに抑制できる。
（８）上記（６）または（７）のガラス微粒子堆積体の製造方法は、
　前記可燃性ガスポートの中心位置が、前記原料ポートの原料噴出口の直径をＤとした時に、前記原料ポートを中心として１．２Ｄ以上３Ｄ以下の直径を有する仮想円上に配置されている、ガラス微粒子堆積体の製造方法でもよい。
　原料ポートを中心として１．２Ｄ以上３Ｄ以下の直径を有する仮想円上に可燃性ガスポートを配置することで、タール状物質が原料ポートに付着することを好適に抑制できる。
（９）上記（６）から（８）のいずれかのガラス微粒子堆積体の製造方法は、
　前記原料ポートの先端部の形状が、先端に向かって細くなるテーパ状である、ガラス微粒子堆積体の製造方法でもよい。
　原料ポートの先端部をテーパ状とすることで、原料ポートと可燃性ガスポートとのガスの流速差で生じる流れの乱れ（渦）を抑制できる。これにより、当該流れの乱れ（渦）に起因するバーナ付近に滞留しているガラス微粒子のバーナへの付着を好適に抑制でき、ガス噴出口の閉塞を抑制できる。
［本開示の実施形態の詳細］
　以下、本開示のガラス微粒子堆積体の製造方法、バーナおよびガラス微粒子堆積体の製造装置の実施形態の詳細を、図面を参照しつつ説明する。
　図１は、実施形態に係るガラス微粒子堆積体の製造装置１を示す図である。なお、以下に示す製造方法としては、ＯＶＤ（Ｏｕｔｓｉｄｅ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法を例に説明するが、本開示はＯＶＤ法に限定されるものではない。ＯＶＤ法と同様に原料ガスからガラスを堆積させる方法、例えば、ＶＡＤ（Ｖａｐｏｒ　Ｐｈａｓｅ　Ａｘｉａｌ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法やＭＭＤ法等に本開示を適用することも可能である。
　製造装置１は、反応容器２と、昇降回転装置３と、ガス供給装置２１と、ガラス微粒子生成用のバーナ２２と、各部の動作を制御する制御部５とを備えている。
　反応容器２は、ガラス微粒子堆積体Ｍが形成される容器であり、容器の側面に取り付けられた排気管１２を備えている。
　昇降回転装置３は、支持棒１０および出発ロッド１１を介してガラス微粒子堆積体Ｍを昇降動作、および回転動作させる装置である。昇降回転装置３は、制御部５から送信されてくる制御信号に基づいて支持棒１０の動作を制御している。昇降回転装置３は、ガラス微粒子堆積体Ｍを回転させながら昇降させる。
　支持棒１０は、反応容器２の上壁に形成された貫通穴を挿通して配置されており、反応容器２内に配置される一方の端部（図１において下端部）には出発ロッド１１が取り付けられている。支持棒１０は、他方の端部（図１において上端部）を昇降回転装置３により把持されている。
　出発ロッド１１は、ガラス微粒子が堆積されるロッドであり、支持棒１０に取り付けられている。
　排気管１２は、出発ロッド１１およびガラス微粒子堆積体Ｍに付着しなかったガラス微粒子などを反応容器２内のガスとともに反応容器２の外部に排出する管である。
　バーナ２２には、原料２３であるシロキサンがガス供給装置２１により気化され、供給される。シロキサンとしては、融点が１７．５℃であり沸点が１７５℃であるオクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）、融点が－３８℃であり沸点が２１０℃であるデカメチルシクロペンタシロキサン（ＤＭＣＰＳ）、融点が６４℃であり沸点が１３４℃であるヘキサメチルシクロトリシロキサン、融点が－６８℃であり沸点が１００℃であるヘキサメチルジシロキサンなどが用いられる。本例においては、シロキサンとしてＯＭＣＴＳを用いる例を説明する。なお、図１において、バーナ２２に火炎形成用ガスを供給するガス供給装置は省略されている。
　ガス供給装置２１は、原料２３を貯留する原料容器２４と、原料２３を気化させた原料ガスの供給流量を制御するガス流量制御装置としてのＭＦＣ（Ｍａｓｓ　Ｆｌｏｗ　Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）２５と、原料ガスをバーナ２２へ導く供給配管２６と、原料容器２４とＭＦＣ２５と供給配管２６の一部を所定温度に保つ温調ブース２７と、を有している。原料容器２４、ＭＦＣ２５、および供給配管２６は、ガス供給装置２１による温度制御によって所定の温度に調整される。
　ＭＦＣ２５は、バーナ２２から噴射する原料ガスの流量を制御する装置である。原料容器２４内で沸点（例えば、ＯＭＣＴＳの標準沸点である１７５℃）以上の温度となるように加熱されて気化された原料ガスは、ＭＦＣ２５の流量制御によってバーナ２２へ供給される。ＭＦＣ２５は、制御部５から送信されてくる制御信号に基づいてバーナ２２へ供給する原料ガスの供給量の制御を行なっている。
　供給配管２６は、原料ガスをバーナ２２へ導く配管である。供給配管２６の温度を高温に保持するために、供給配管２６の外周には、例えば発熱体であるテープヒータ２８が巻き付けられている。テープヒータ２８は、金属発熱体やカーボン製繊維状面発熱体の極細撚線を保護材で覆ったフレキシブルなヒータによって構成される。
　バーナ２２は、供給配管２６と連結されており、その材質は、金属材料から構成されている。金属材料としては、特に耐腐食性に優れたステンレス（ＳＵＳ）、若しくは加工のしやすいアルミニウムやアルミニウム合金を用いることが好ましい。ただし、バーナをセラミックや石英等で形成してもよい。このバーナ２２は、気化された原料ガスを火炎中において熱分解酸化反応させることでガラス微粒子３０を生成し、生成されたガラス微粒子３０を出発ロッド１１に噴きつけて堆積させる。具体的には、バーナ２２には、原料ガスとしてＯＭＣＴＳ等のシロキサンガス、火炎形成ガスとしてＨ２やＯ２等、バーナシールガスとしてＮ２やＡｒ等の不活性ガスが供給される。このバーナ２２の酸水素火炎内で、熱分解酸化反応によってガラス微粒子３０が生成され、生成されたガラス微粒子３０が出発ロッド１１に堆積されて、所定外径のガラス微粒子堆積体Ｍが作製される。
　制御部５は、昇降回転装置３、ガス供給装置２１等の各動作を制御している。制御部５は、昇降回転装置３に対して、ガラス微粒子堆積体Ｍの昇降速度および回転速度を制御する制御信号を送信している。また、制御部５は、ガス供給装置２１のＭＦＣ２５に対して、バーナ２２から出発ロッド１１（ガラス微粒子堆積体Ｍ）に噴き出す原料ガスの流量を制御する制御信号を送信している。
　原料ガスや火炎形成ガスを噴出するために、バーナ２２として、例えば、焦点型のマルチノズル構造のもの、あるいは多重管バーナ構造のものが用いられる。本例においては、マルチノズルバーナ構造を例に説明する。
　図２は、実施形態に係るマルチノズルバーナ構造を有するバーナ２２の正面図を示している。図３は、図２のバーナ２２のＡ－Ａ断面図である。バーナ２２は、中央に原料ガスであるシロキサンを噴出する原料ポート３１を有している。また、バーナ２２は、原料ポート３１の周囲に配置された可燃性ガスを噴出する複数の可燃性ガスポート３２を有している。可燃性ガスポート３２の中心位置は原料ポート３１を中心とする特定の直径（Ｐ．Ｃ．Ｄ．（Ｐｉｔｃｈ　Ｃｉｒｃｌｅ　Ｄｉａｍｅｔｅｒ））を有する仮想円に沿って設けられている。可燃性ガスは水素（Ｈ２）等である。図示を省略するが、バーナ２２は、可燃性ガスポート３２の外側で原料ポート３１を中心とする仮想円に沿って中心位置が設けられた複数の助燃性ガスポートをさらに備える。助燃性ガスは酸素（Ｏ２）である。バーナ２２では、助燃性ガスおよび可燃性ガスによって発生した酸水素火炎中にシロキサンが噴出され、熱分解酸化反応によって酸化珪素（ＳｉＯ２）粒子が合成される。
　図３に示すように、原料ポート３１は可燃性ガスポート３２の可燃性ガス噴出口よりも可燃性ガスの噴出方向に突き出ている。ここで、原料ポート３１の原料噴出口の直径をＤとする。また、可燃性ガス噴出口の位置を基準とする原料ポート３１の突き出し量（先端までの距離）をＬとする。原料ポート３１は、０．７Ｄ≦Ｌ≦７Ｄの関係を満たすように可燃性ガスの噴出方向に突き出ている。可燃性ガスポート３２は、その中心位置が原料ポート３１を中心として１．２Ｄ以上３Ｄ以下のＰ．Ｃ．Ｄ．を有する仮想円上に配置されている。原料ポート３１は、その先端部３３の形状が先端に向かって細くなるテーパ状となるように構成されている。
　次に、ガラス微粒子堆積体の製造方法について説明する。ＯＶＤ法（外付け法）によってガラス微粒子の堆積を行い、ガラス微粒子堆積体Ｍを製造する。まず、図１に示すように、昇降回転装置３に支持棒１０を取り付け、さらに支持棒１０の下端部に出発ロッド１１を取り付けた状態で、出発ロッド１１および支持棒１０の一部を反応容器２内に納める。
　続いて、ＭＦＣ２５は、制御部５から送信されてくる制御信号に基づき、原料ガスの供給量を制御しながら、供給配管２６を介してバーナ２２に原料ガスを供給する。このとき、供給配管２６は、その外周部分に巻き付けられたテープヒータ２８により、加熱される。また、不図示のガス供給装置により、バーナ２２にＯ２およびＨ２を供給する。
　続いて、バーナ２２に供給されたシロキサンを酸水素火炎内で熱分解酸化反応させることでガラス微粒子を生成する。そして、バーナ２２は、火炎内で生成したガラス微粒子を回転および昇降する出発ロッド１１に継続的に堆積させていく。この時、バーナ２２の原料ポート３１の先端部３３の温度を１７０℃以上６００℃以下とする。先端部３３の温度は、バーナが生成する酸水素火炎の強さなどを変えることにより、調整することができる。具体的には、原料ポート３１の突き出し量や、可燃性ガスポート３２の中心位置（Ｐ．Ｃ．Ｄ．）を調整すること、また原料や可燃性ガスの供給量を制御することで、調整する。
　昇降回転装置３は、制御部５からの制御信号に基づいて、出発ロッド１１および出発ロッド１１に堆積されたガラス微粒子堆積体Ｍを軸方向に昇降させる。
　次に、得られるガラス微粒子堆積体Ｍを不活性ガスと塩素ガスの混合雰囲気中で加熱した後、Ｈｅ雰囲気中でさらに加熱して透明ガラス母材を得る。
　ところで、ＯＭＣＴＳなどのシロキサンは四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ４）と比べて沸点が高く、液化しやすい。そのため、バーナの原料ポートから噴射されるタイミングで液化してしまい、液化したシロキサンが、原料ポートの先端部に付着しやすい。原料ポートの先端部に付着した液体のシロキサンは、低酸素濃度の当該先端部で高温の環境に曝されるため、タール状物質となるおそれがある。タール状物質が原料ポートに過剰に付着すると、原料火炎の直進を妨げガラス微粒子堆積体の成形に影響を及ぼすおそれがある。
　上記の実施形態では、原料ポート３１の先端部３３の温度を１７０℃以上６００℃以下の状態とすることで、シロキサンの液化と、シロキサンが液体状態で高温な環境に曝されることにより重合することと、を抑制でき、タール状物質が原料ポート３１に付着することを抑制できる。１７０℃未満だと、シロキサンが液化するおそれがあり、６００℃より高いと原料ポート３１が大きく変形するおそれがあるため、１７０℃以上６００℃以下とするのが好ましい。また、原料ポート３１の先端部３３の温度を３００℃以上とするとよりよく、５００℃以下とするとよりよい。
　また、上記の実施形態では、原料ポート３１の原料噴出口の直径Ｄと、原料ポート３１の突き出し量Ｌと、が０．７Ｄ≦Ｌ≦７Ｄの関係を満たすように、原料ポート３１を突き出させることで、原料ガスであるシロキサンに由来するタール状物質が原料ポート３１に付着することを抑制できる。詳細には０．７Ｄ以上の量で原料ポート３１を突き出させることで、原料ポート３１の先端部３３の温度をより高めて、シロキサンの液化と、シロキサンが液体状態で高温な環境に曝されることにより重合することと、をより抑制できる。また、７Ｄ以下の量で原料ポート３１を突き出させることで、原料ポート３１が著しい高温状態になって変形することを抑制できる。原料ポート３１の突き出し量Ｌは２Ｄ以上であるとよりよく、４Ｄ以下であるとよりよい。
　また、上記の実施形態では、原料ポート３１を中心として１．２Ｄ以上３Ｄ以下の直径を有する仮想円上に可燃性ガスポート３２の中心位置を配置することで、タール状物質が原料ポート３１に付着することを好適に抑制できる。詳細には、１．２Ｄ以上の直径の仮想円上に可燃性ガスポート３２の中心位置を配置することで、可燃性ガスによる火炎と原料ガスとを好適に干渉させることができる。また、３Ｄ以下の直径の仮想円上に可燃性ガスポート３２の中心位置を配置することで、原料ポート３１の先端温度をより高められる。また、２．２Ｄ以下の直径の仮想円上に可燃性ガスポート３２の中心位置を配置するとよりよい。
　また、上記の実施形態では、原料ポート３１の先端部３３をテーパ状とすることで、原料ポート３１と可燃性ガスポート３２とのガスの流速差で生じる流れの乱れ（渦）を抑制できる。これにより、当該流れの乱れ（渦）に起因するバーナ２２付近に滞留しているガラス微粒子のバーナ２２への付着を好適に抑制でき、ガス噴出口の閉塞を抑制できる。
　以下、本開示に係る具体的な実施例を説明する。なお、本開示はこれらの実施例に限定されるものではない。
（例１）
　上記実施形態で説明したバーナ２２の原料ポート３１の突き出し量を変化させてガラス微粒子を生成し、原料ポート３１の先端部３３の温度を測定した。なお、先端部３３の温度は非接触スポット放射温度計で測定した。また同時に、原料ポート３１へのタールの付着と、原料ポート３１の変形と、を観察した。なお、可燃性ガスポート３２は、その中心位置が２．０Ｄの直径を有する仮想円上に沿うように配置し、助燃性ガスポートは、その中心位置が５．０Ｄの直径を有する仮想円上に沿うように配置した。バーナには原料ガスとしてＯＭＣＴＳガスを、火炎形成ガスとしてＨ２およびＯ２を供給した。タールの付着は、「付着なし」をＡ、「原料火炎に影響の無い程度の付着」をＢ、「原料火炎が変化するほどの付着」をＣとして評価した。原料ポート３１の変形は、「変形が無いもの」をＡ、「先端部に軽微な変形があるもの」をＢ、「中心原料ポートの平行部まで変形したもの」をＣとして評価した。タールの付着および原料ポート３１の変形の双方においてＣ評価がないものを合格とした。結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　例１－２から例１－６のバーナを用いた場合には、タールの付着および原料ポート３１の変形の双方においてＣ評価がなく、合格だった。例１－４および例１－５のバーナを用いた場合には、タールの付着および原料ポート３１の変形の双方においてＡ評価であった。
（例２）
　上記実施形態で説明したバーナ２２の原料ポート３１の突き出し量を２Ｄで固定し、可燃性ガスポート３２の中心位置が配置される仮想円のＰ．Ｃ．Ｄ．を変化させてガラス微粒子を生成し、原料ポート３１の先端部３３の温度を測定した。また同時に、原料ポート３１へのタールの付着と、原料ポート３１の火炎との干渉と、を観察した。助燃性ガスポートは、その中心位置が５．０Ｄの直径を有する仮想円上に沿うように配置した。タールの付着の評価は例１と同様の基準でおこなった。原料ポート３１の火炎との干渉については、バーナ２２の火炎が原料ポート３１に触れる場合に「干渉あり」とし、バーナ２２の火炎が原料ポート３１に触れない場合に「干渉なし」とした。結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　例２－１から例２－９のバーナを用いた場合には、タールの付着においてＣ評価がなく、合格だった。また、例２－２から例２－９のバーナを用いた場合には、バーナ２２の火炎が原料ポート３１に干渉していなかった。
　以上、特定の実施形態に基づいて本開示を説明したが、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
　上述の実施形態において、マルチノズルバーナ構造のバーナ２２を説明したが、多重管構造のバーナの場合には、中心原料ポートを中心とする仮想円に沿うように可燃性ガスポート３２が配置される。可燃性ガスポート３２が配置される仮想円のＰ．Ｃ．Ｄ．と原料ポート３１の原料噴出口の直径Ｄとを、上述の実施形態と同様の関係とすることで本開示のバーナが得られる。
　また、上記の実施形態では可燃性ガスポート３２および助燃性ガスポートの中心位置がそれぞれ１つの仮想円上に設けられたマルチノズルバーナ構造のバーナ２２を説明したが、可燃性ガスポート３２および助燃性ガスポートが径方向に交互に並んで設けられていてもよい。可燃性ガスポートが径方向に複数列で設けられている場合には、原料ポートとそれに最も近い可燃性ガスポートにおいて上記の実施形態の構成を採用することで、本開示のバーナが得られる。
　１：製造装置、２：反応容器、３：昇降回転装置、５：制御部、１０：支持棒、１１：出発ロッド、１２：排気管、２１：ガス供給装置、２２：バーナ、２３：原料、２４：原料容器、２５：ＭＦＣ、２６：供給配管、２７：温調ブース、２８：テープヒータ、３０：ガラス微粒子、３１：原料ポート、３２：可燃性ガスポート、３３：先端部

Claims (9)

  1. 　シロキサンを原料ガスとして噴出する原料ポートと、前記原料ポートの周囲に配置された複数の可燃性ガスポートと、を備えるバーナであって、
    　前記原料ポートは前記可燃性ガスポートの可燃性ガス噴出口よりも前記可燃性ガスの噴出方向に突き出ている、
    バーナ。
  2. 　前記原料ポートの原料噴出口の直径をＤとし、前記可燃性ガス噴出口を基準とする前記原料ポートの突き出し量をＬとした時に、０．７Ｄ≦Ｌ≦７Ｄの関係を満たす、
    請求項１に記載のバーナ。
  3. 　前記可燃性ガスポートの中心位置が、前記原料ポートを中心として１．２Ｄ以上３Ｄ以下の直径を有する仮想円上に配置されている、請求項１または請求項２に記載のバーナ。
  4. 　前記原料ポートの先端部の形状が、先端に向かって細くなるテーパ状である、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のバーナ。
  5. 　請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のバーナを備え、前記バーナによりガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を出発ロッドに堆積させてガラス微粒子堆積体を製造する、ガラス微粒子堆積体の製造装置。
  6. 　原料ポートと、前記原料ポートの周囲に配置された複数の可燃性ガスポートと、を備えるバーナを用いてガラス微粒子堆積体を製造する、ガラス微粒子堆積体の製造方法であって、
    　前記原料ポートの先端部の温度が１７０℃以上６００℃以下である状態で、前記可燃性ガスポートから可燃性ガスを噴出させるとともに、前記原料ポートから原料ガスであるシロキサンを噴出してガラス微粒子を生成させ、生成した前記ガラス微粒子を出発ロッドに堆積させる、ガラス微粒子堆積体の製造方法。
  7. 　前記バーナの原料ポートは前記可燃性ガスポートの可燃性ガス噴出口よりも前記可燃性ガスの噴出方向に突き出ており、
    　前記バーナは前記原料ポートの原料噴出口の直径をＤとし、前記可燃性ガス噴出口を基準とする前記原料ポートの突き出し量をＬとした時に、０．７Ｄ≦Ｌ≦７Ｄの関係を満たす、
    請求項６に記載のガラス微粒子堆積体の製造方法。
  8. 　前記可燃性ガスポートの中心位置が、前記原料ポートの原料噴出口の直径をＤとした時に、前記原料ポートを中心として１．２Ｄ以上３Ｄ以下の直径を有する仮想円上に配置されている、
    請求項６または請求項７に記載のガラス微粒子堆積体の製造方法。
  9. 　前記原料ポートの先端部の形状が、先端に向かって細くなるテーパ状である、
    請求項６から請求項８のいずれか一項に記載のガラス微粒子堆積体の製造方法。
     
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