JPH0519839Y2 - - Google Patents

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JPH0519839Y2
JPH0519839Y2 JP8663286U JP8663286U JPH0519839Y2 JP H0519839 Y2 JPH0519839 Y2 JP H0519839Y2 JP 8663286 U JP8663286 U JP 8663286U JP 8663286 U JP8663286 U JP 8663286U JP H0519839 Y2 JPH0519839 Y2 JP H0519839Y2
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JP
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shielding plate
ray
rays
ray shielding
detector
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は蛍光X線分析装置あるいはX線回折装
置等において試料面に配置するスリツトの構造に
関する。
このようなX線分析装置において、試料面の一
部だけを分析する必要のある場合あるいは試料が
小さい場合等は試料面に遮蔽板を配置して、X線
の入射範囲を制限する。しかしその遮蔽板から発
生する蛍光X線または散乱X線等が試料の蛍光X
線または回折X線等と共に検出器に入射すること
によるSN比の低下を免れることができなかつた。
本考案はこのように試料面に配置した遮蔽板によ
る雑音成分を除去しようとするものである。
本考案の視野制限スリツトは試料面上にこれと
平行に配置して分析範囲を制限するためのX線通
過孔を有する第1のX線遮蔽板と、上記通過孔と
対向する部分に凹欠部を形成した第2のX線遮蔽
板とによつて視野制限スリツトを構成し、第2の
遮蔽板の両側にX線源とX線検出器とを配置した
ものである。すなわち第1遮蔽板の孔におけるX
線源側の縁から発生する雑音部分を第2遮蔽板で
遮蔽すると同時にこの第2遮蔽板によつて反対側
の縁に入射するX線を遮断することができる。従
つてX線分析のSN比が向上して精密な分析を行
い得る効果がある。
第1図は本考案実施例の縦断正面図、第2図は
第1図の装置の一部を縦断して側面図、第3図は
第1図のA−A断面図である。試料1は表面にめ
つき層2を設けたもので、円形のX線通過孔3を
有する第1のX線遮蔽板4をその表面に密着させ
て、孔3を所望の位置に配置してある。すなわち
X線管のようなX線源5から孔3の部分にX線を
照射して、めつき層2から発生する蛍光X線をX
線検出器6で検出することにより、その強度から
めつき層2の厚みを観測しようとするものであ
る。このような装置において、X線源5と検出器
6との間に上記第1の遮蔽板4と直角な第2のX
線遮蔽板7を設けて、その一方の縁を第1の遮蔽
板4におけるX線通過孔3の部分に密着させると
共にこの第2の遮蔽板7における上記縁にほぼ半
円形の凹欠部8を孔3と対向するように形成して
ある。
従つてX線源5から放射される一次X線が第1
図に破線aで示したように孔3を通つて試料1の
めつき層2に入射し、その蛍光X線bが検出器6
で検出される。従つてこの検出器6の出力によつ
て孔3の部分におけるめつき層2の厚みを測定す
ることができる。かつX線源5から放射されるX
線の一部cは、遮蔽板4における孔3の周縁のう
ち遮蔽板7に対してX線源5と同一側にある部分
にも入射して散乱X線あるいは蛍光X線を発生さ
せる。しかしこのような雑音成分dは図のように
遮蔽板7で遮蔽されてX線検出器6には入射しな
い。また上記孔3の周縁のうち、遮蔽板7に対し
て検出器6と同一側の部分、例えば点pの方向へ
向うX線d等は上記遮蔽板で遮蔽されるから、こ
の部分にはX線が入射しない。更に上記X線dに
よつて発生する遮蔽板の蛍光X線等がその裏側の
検出器6に入射するおそれはない。このように試
料のめつき層2で発生した蛍光X線は検出器6に
入射するが、遮蔽板4の縁等から発生したX線が
この検出器に入射することは、これを第2の遮蔽
板によつて有効に防止することができる。第4図
はめつき層2の厚さTと検出される蛍光X線の強
度Sの関係を示した曲線で、従来はバツクグラウ
ンド成分xの極めて大きい曲線Vが観測されたが
本考案によつてこの成分がyのように極めて小さ
い曲線Wを得ることができる。従つて膜厚その他
のX線分析を正確に行い得る効果がある。なお上
記実施例は遮蔽板4の孔3を円形としたが、この
孔を例えば矩形状とし、これに伴つて凹欠部8を
も矩形状に形成すること等もできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案実施例の縦断正面図、第2図は
その側面図、第3図は第1図のA−A断面図、第
4図は第1,2,3図の装置並びに従来の装置に
よる測定曲線の一例である。なお図において、1
は試料、2はめつき層、3はX線通過孔、4は遮
蔽板、5はX線源、6は検出器、7は遮蔽板、8
は凹欠部である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 試料の表面にX線を投射するX線源と、上記試
    料の表面から発生する蛍光X線または回折X線等
    を検出するX線検出器とよりなるX線分析装置に
    おいて、上記試料の表面にほぼ密着するようにこ
    の表面と平行に配置された第1のX線遮蔽板と、
    一方の縁が上記第1のX線遮蔽板に密着するよう
    に前記X線源とX線検出器との中間に配置された
    第2のX線遮蔽板とよりなり、第1のX線遮蔽板
    は第2の遮蔽板の縁と対向する部分にX線の通過
    孔を有し、第2のX線遮蔽板は第1のX線遮蔽板
    と接触する縁における上記通過孔と対向する部分
    にX線の通過する凹欠部を有する視野制限スリツ
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JPS62199666U JPS62199666U (ja) 1987-12-19
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JP4406559B2 (ja) * 2001-06-29 2010-01-27 パナリティカル ビー ヴィ 特に分析装置における電磁放射のための制限装置
DE10259696B4 (de) * 2002-12-18 2018-07-05 Immobiliengesellschaft Helmut Fischer Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zum Messen der Dicke dünner Schichten
JP6096419B2 (ja) * 2012-04-12 2017-03-15 株式会社堀場製作所 X線検出装置

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JPS62199666U (ja) 1987-12-19

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