JPS6315546B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6315546B2 JPS6315546B2 JP55046191A JP4619180A JPS6315546B2 JP S6315546 B2 JPS6315546 B2 JP S6315546B2 JP 55046191 A JP55046191 A JP 55046191A JP 4619180 A JP4619180 A JP 4619180A JP S6315546 B2 JPS6315546 B2 JP S6315546B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ray
- rays
- detector
- intensity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
Ｘ線の回折現象を利用して物質の化学成分ある
いは化合物の分析等を行い得るが、試料が極めて
小さい場合、または試料の微小領域について分析
を行う場合等は回折Ｘ線の強度が極めて弱くな
る。従つてこのような場合は円環状のＸ線入射面
を有するＸ線検出器を用いてデバイ環を形成した
全回折線を検出するＸ線回折装置が用いられる。
しかし従来の装置は特公昭50−35834号公報に記
されているように試料およびＸ線源を固定して、
回折Ｘ線の検出器を直線的に移動させる構成であ
るため、回折Ｘ線の検出効率が回折角によつて著
しく変化した。従つて各回折角における回折Ｘ線
強度の比較が容易でないと共に検出されたＸ線の
強度を自動記録する場合等も記録中にレンジの切
換を行う必要が生じて操作が煩雑である等の欠点
があつた。本発明はこのような欠点がなく、しか
もデバイ環の全Ｘ線を検出することのできる装置
を提供するものである。
いは化合物の分析等を行い得るが、試料が極めて
小さい場合、または試料の微小領域について分析
を行う場合等は回折Ｘ線の強度が極めて弱くな
る。従つてこのような場合は円環状のＸ線入射面
を有するＸ線検出器を用いてデバイ環を形成した
全回折線を検出するＸ線回折装置が用いられる。
しかし従来の装置は特公昭50−35834号公報に記
されているように試料およびＸ線源を固定して、
回折Ｘ線の検出器を直線的に移動させる構成であ
るため、回折Ｘ線の検出効率が回折角によつて著
しく変化した。従つて各回折角における回折Ｘ線
強度の比較が容易でないと共に検出されたＸ線の
強度を自動記録する場合等も記録中にレンジの切
換を行う必要が生じて操作が煩雑である等の欠点
があつた。本発明はこのような欠点がなく、しか
もデバイ環の全Ｘ線を検出することのできる装置
を提供するものである。
第１図は本発明実施例の側面図で、基台１の端
部に点焦点Ｘ線源を有するＸ線管２を設置して、
上記基台上にＸ線検出器３を固定し、かつ該基台
に形成した直線状の案内レール４に試料台５を摺
動自在に嵌合して、その試料台上に例えば微小の
試料６を取付けてある。第２図は第１図のＡ−Ａ
断面図で、Ｘ線検出器３は例えば半導体検出器で
あつて、前記点Ｘ線源を通り案内レール４に平行
な直線ｐを軸とする円環状に形成され、その内面
をＸ線の入射面としている。また前記試料６は、
試料台５を案内レール４に沿つて移動させると、
上記直線ｐ上を検出器３の前後に亘つて移動する
ように取付けられている。
部に点焦点Ｘ線源を有するＸ線管２を設置して、
上記基台上にＸ線検出器３を固定し、かつ該基台
に形成した直線状の案内レール４に試料台５を摺
動自在に嵌合して、その試料台上に例えば微小の
試料６を取付けてある。第２図は第１図のＡ−Ａ
断面図で、Ｘ線検出器３は例えば半導体検出器で
あつて、前記点Ｘ線源を通り案内レール４に平行
な直線ｐを軸とする円環状に形成され、その内面
をＸ線の入射面としている。また前記試料６は、
試料台５を案内レール４に沿つて移動させると、
上記直線ｐ上を検出器３の前後に亘つて移動する
ように取付けられている。
このような装置において、点焦点Ｘ線管２から
発生するＸ線で点線ｑのように試料６を照射する
と、該試料で点線ｒのように回折したＸ線が検出
器３に入射する。この回折Ｘ線ｒは円錐面状に投
射されてデバイ環を形成するが、検出器３が円環
状をなしているためにそのほぼ全量が該検出器に
入射するもので、試料を照射するＸ線が微弱な場
合でも効率よく検出されて高精度の測定を行うこ
とができる。かつ試料台５を矢印ｓのように移動
させると、検出されるＸ線の回折角２θが変化す
るから、この操作によつて、各回折角における回
折Ｘ線の強度が観測される。また試料６に照射さ
れるＸ線の強度はＸ線源から該試料までの距離ｌ
の２乗に逆比例し、試料６からＸ線検出器３にお
けるＸ線の入射面を見込む角度ｒは該入射面の幅
をａとするとａ・sin2θに比例する。従つて比例
定数をｋ、Ｘ線管２の発生するＸ線強度をI0とす
ると、Ｘ線検出器３に入射する回折Ｘ線の強度Ｉ
は Ｉ＝ｋ（I0／l2）・ａ・sin2θ となる。かつＸ線源から検出器３までの距離を
Ｌ、該検出器の内径をｂとすると、 ｌ＝Ｌ−（ｂ／2tan2θ） であるから、前記強度Ｉは Ｉ＝ｋ・ａ・I0sin2θ／（Ｌ−ｂ／2tanθ）2………(1) で与えられる。他方前記従来の装置のように試料
を固定して回折Ｘ線の検出器を移動させるとき
は、Ｘ線源から試料までの距離を一定値l0とする
とき、検出器に入射する回折Ｘ線の強度Ｉが Ｉ＝ｋ・ａ・I0sin2θ／l0 2 ………(2) で与えられる。第３図は前記距離Ｌを400mm、内
径ｂを100mm、幅ａを10mmとし、また回折角2θが
20度のときｌ＝l0となるような状態に設定して、
上記第(1)式から求めた回折角2θと比強度Ｉの関係
曲線Ｙおよび第(2)式によつて得られる同様の曲線
Ｚを示すものである。この曲線Ｙ，Ｚによつて明
らかなように、従来の装置は回折角2θの変化に伴
つて検出される回折Ｘ線の比強度が著しく変化す
るに対して、本発明の装置はこれをほぼ一定に保
持することができる。
発生するＸ線で点線ｑのように試料６を照射する
と、該試料で点線ｒのように回折したＸ線が検出
器３に入射する。この回折Ｘ線ｒは円錐面状に投
射されてデバイ環を形成するが、検出器３が円環
状をなしているためにそのほぼ全量が該検出器に
入射するもので、試料を照射するＸ線が微弱な場
合でも効率よく検出されて高精度の測定を行うこ
とができる。かつ試料台５を矢印ｓのように移動
させると、検出されるＸ線の回折角２θが変化す
るから、この操作によつて、各回折角における回
折Ｘ線の強度が観測される。また試料６に照射さ
れるＸ線の強度はＸ線源から該試料までの距離ｌ
の２乗に逆比例し、試料６からＸ線検出器３にお
けるＸ線の入射面を見込む角度ｒは該入射面の幅
をａとするとａ・sin2θに比例する。従つて比例
定数をｋ、Ｘ線管２の発生するＸ線強度をI0とす
ると、Ｘ線検出器３に入射する回折Ｘ線の強度Ｉ
は Ｉ＝ｋ（I0／l2）・ａ・sin2θ となる。かつＸ線源から検出器３までの距離を
Ｌ、該検出器の内径をｂとすると、 ｌ＝Ｌ−（ｂ／2tan2θ） であるから、前記強度Ｉは Ｉ＝ｋ・ａ・I0sin2θ／（Ｌ−ｂ／2tanθ）2………(1) で与えられる。他方前記従来の装置のように試料
を固定して回折Ｘ線の検出器を移動させるとき
は、Ｘ線源から試料までの距離を一定値l0とする
とき、検出器に入射する回折Ｘ線の強度Ｉが Ｉ＝ｋ・ａ・I0sin2θ／l0 2 ………(2) で与えられる。第３図は前記距離Ｌを400mm、内
径ｂを100mm、幅ａを10mmとし、また回折角2θが
20度のときｌ＝l0となるような状態に設定して、
上記第(1)式から求めた回折角2θと比強度Ｉの関係
曲線Ｙおよび第(2)式によつて得られる同様の曲線
Ｚを示すものである。この曲線Ｙ，Ｚによつて明
らかなように、従来の装置は回折角2θの変化に伴
つて検出される回折Ｘ線の比強度が著しく変化す
るに対して、本発明の装置はこれをほぼ一定に保
持することができる。
上述のように本発明は、Ｘ線源とＸ線検出器と
を固定して試料を移動させるものである。従つて
試料をＸ線源から離隔させて検出器に近附ける
と、該試料に入射するＸ線の強度が試料とＸ線源
との間の距離の２乗に逆比例して低下する。同時
に検出器に入射するＸ線の回折角2θが増大するか
ら、該検出器に入射する回折Ｘ線の強度はsin2θ
に比例して増大する。すなわち試料に入射するＸ
線強度の減少が検出器に入射する回折Ｘ線強度の
増大で相殺されて、試料のＸ線回折効率を一定と
すれば、回折角の変化に関係なくほぼ一定の強度
の回折Ｘ線を検出し得るものである。このため各
回折角における回折Ｘ線強度の比較が容易である
と共に自動記録等に際しても、記録の途中でレン
ジの切換を行う等の煩雑な操作を必要としないか
ら、測定の操作も容易である。
を固定して試料を移動させるものである。従つて
試料をＸ線源から離隔させて検出器に近附ける
と、該試料に入射するＸ線の強度が試料とＸ線源
との間の距離の２乗に逆比例して低下する。同時
に検出器に入射するＸ線の回折角2θが増大するか
ら、該検出器に入射する回折Ｘ線の強度はsin2θ
に比例して増大する。すなわち試料に入射するＸ
線強度の減少が検出器に入射する回折Ｘ線強度の
増大で相殺されて、試料のＸ線回折効率を一定と
すれば、回折角の変化に関係なくほぼ一定の強度
の回折Ｘ線を検出し得るものである。このため各
回折角における回折Ｘ線強度の比較が容易である
と共に自動記録等に際しても、記録の途中でレン
ジの切換を行う等の煩雑な操作を必要としないか
ら、測定の操作も容易である。
第１図は本発明実施例の側面図、第２図は第１
図のＡ−Ａ断面図、第３図は本発明の作用を説明
する曲線である。なお図において、１は基台、２
はＸ線管、３は回折Ｘ線検出器、４は案内レー
ル、５は試料台、６は試料である。
図のＡ−Ａ断面図、第３図は本発明の作用を説明
する曲線である。なお図において、１は基台、２
はＸ線管、３は回折Ｘ線検出器、４は案内レー
ル、５は試料台、６は試料である。
Claims (1)
- １ 試料にＸ線を照射する点Ｘ線源並びに上記Ｘ
線源を通る直線を軸とした円環状のＸ線入射面を
有して前記試料で回折したＸ線を検出するＸ線検
出器を固定し、上記試料を前記直線上で移動し得
るように保持したことを特徴とするＸ線回折装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4619180A JPS56143949A (en) | 1980-04-10 | 1980-04-10 | X-ray diffraction apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4619180A JPS56143949A (en) | 1980-04-10 | 1980-04-10 | X-ray diffraction apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56143949A JPS56143949A (en) | 1981-11-10 |
| JPS6315546B2 true JPS6315546B2 (ja) | 1988-04-05 |
Family
ID=12740152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4619180A Granted JPS56143949A (en) | 1980-04-10 | 1980-04-10 | X-ray diffraction apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56143949A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4950031A (en) * | 1987-07-04 | 1990-08-21 | Mazda Motor Corporation | Automobile rear underbody structure |
| JP2002098657A (ja) * | 2000-09-22 | 2002-04-05 | Kawasaki Steel Corp | めっき層に含まれる金属相の付着量の測定方法および装置 |
| EP1233265A4 (en) | 2000-09-22 | 2005-04-20 | Jfe Steel Corp | METHOD AND DEVICE FOR QUANTITATIVE MEASUREMENT OF METALLIC PHASES USING X-RAY DISPERSION, AND METHOD FOR PRODUCING COATED STEEL USING THIS METHOD AND THIS DEVICE |
| JP2002098656A (ja) * | 2000-09-27 | 2002-04-05 | Kawasaki Steel Corp | めっき層に含まれる金属相の付着量のオンライン測定方法および装置 |
-
1980
- 1980-04-10 JP JP4619180A patent/JPS56143949A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56143949A (en) | 1981-11-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6038280A (en) | Method and apparatus for measuring the thicknesses of thin layers by means of x-ray fluorescence | |
| US3936638A (en) | Radiology | |
| US5497407A (en) | Contaminating-element analyzing method | |
| US7436934B2 (en) | Collimator with adjustable focal length | |
| JP5403728B2 (ja) | 中性子回折装置 | |
| JPS6315546B2 (ja) | ||
| JPS57197454A (en) | X-ray analysing apparatus | |
| US4125771A (en) | Apparatus for determining stress in nickel and titanium alloyed materials | |
| GB2013335A (en) | Diamond detection | |
| TW202215000A (zh) | Ｘ射線分析裝置 | |
| JP2002529699A (ja) | Ｘ線光学基準チャネルを有するｘ線回折装置 | |
| JP2921910B2 (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析装置 | |
| JPH0519839Y2 (ja) | ||
| JP2001133420A (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析方法および装置 | |
| SU868503A1 (ru) | Рентгеновский спектрометр | |
| JPH0735706A (ja) | Ｘ線導管光学系による薄膜ｘ線回折装置 | |
| JPS6122240A (ja) | 微小部ｘ線分析装置 | |
| SU881592A2 (ru) | Рентгеновский спектрометр | |
| JPH044208Y2 (ja) | ||
| JPH05296944A (ja) | 一次元ｘ線回折パターン動的露光装置 | |
| ES2062733T3 (es) | Procedimiento y dispositivo de medida de perfil transversal de espesor de una banda metalica, en especial de acero. | |
| JP3377109B2 (ja) | Ｘ線ビーム幅測定方法 | |
| JPH0124619Y2 (ja) | ||
| JPH01244344A (ja) | Ｘ線吸収スペクトル測定装置 | |
| JPH04370750A (ja) | 蛍光ｘ線分析装置の視野制限装置 |