JPS6122240A - 微小部ｘ線分析装置 - Google Patents
微小部ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPS6122240A JPS6122240A JP14245884A JP14245884A JPS6122240A JP S6122240 A JPS6122240 A JP S6122240A JP 14245884 A JP14245884 A JP 14245884A JP 14245884 A JP14245884 A JP 14245884A JP S6122240 A JPS6122240 A JP S6122240A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- minute part
- fluorescent
- analysis
- diffraction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/2206—Combination of two or more measurements, at least one measurement being that of secondary emission, e.g. combination of secondary electron [SE] measurement and back-scattered electron [BSE] measurement
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は試料面の同一微小部分にっ―て螢光Ｉ線分析と
回折Ｘ線分析とを行い得る装置に関する口すなわち従来
は螢光Ｘ線分析装置とＸ線回折装置とが全く別個に構成
さｎてψたかも１螢光と回折の両分析を行うためにＦ１
２台の装置を必要とした〇特に回折装置で未知試料の同
定分析を行う場合に、その物質を構成して−る元素の種
類が判明すると検索精度を非常に高くすることができる
が一従来は別の螢光Ｉ線分析装置あるいけ化学分析装置
等を必要とＬ−かつこのため正確に試料の同一微小部分
につ−て構成元素を検出することが困難であつ゛た・本
発明はこのような場合に回折Ｘ線分析を行う微小部と正
確に同一部分について、まず螢光ｘｆｉ！分析を行−引
続−て同一装置で回折分析な行−得るようにしたもので
ある◎ すなわち本発明の装置は、試料面における分析しようと
する微小部分にまず分光結晶を対設すると共に−その結
晶面に対して上記微小部分に対称な点を中心として円弧
状の入射位置感応型ｘ＆！検出器を配置することにより
螢光Ｘ線分析を行−１つす゛に上記分光結晶な取除くと
共にＸ線検出器をその中心が試料面上における前記微小
部と一致するように僅かに移動させて回折測定を行うよ
うに構成したものである。従って同一の装置を用−て、
ｘ１１螢光分析を回折測定とを行−得ると共に正確に同
一微小部につ−て上記両側室を行うことができるから、
回折測定による物質の同定等に際して検索の速度並びに
精度が向トする０また装置の機構も極めて簡単であり、
かつ位置感応型のＸ線検仏器を用いるから、迅速に分析
を行−得る等の作用効果があるＤ 第１図は螢光Ｘ線分析を行う状態における本発明実施例
の横ｌｉ！＋７面図−第２図は第１図の装置を回折測定
に切換えた状態における同一横断面図である。密閉９ｉ
一体ｌｈ特に長波長の螢光Ｘ線の減衰を防止するため、
内部を必要に応じて真空にするようにしたもので、図示
してな−が排気口を設けである。この懺捧ｌの側部にＸ
線管２を設置して１その発生Ｘ線を細いビームにして試
料面の微小部分に入射させるためのコリメータ３を側壁
に取付けると共にその先端に対設される試料４の取付台
５を〜試料面におけるＸ線ビームの入射点ｐを中心とし
て紙面内で回動し得るように円弧状の軌道６を設け、か
つ取付台５には試料４を互に直交する３方回へ任意に移
動させる機構を設けである０更に前記試料面と対向する
ように光学顕微鏡１を設け、また試料面における前記入
射点ｐと対向するように例えば弗化リチウムあるーけＥ
ｌ）ＤＴのような適宜の板状分光結晶８を紙面と直角に
取付けるための着脱自在な支持台９を設け【ある。更に
結晶８と対向するように円弧状の入射位置感応型Ｘ線検
出器１０を配置しであるが、この検出器１０＃ｉ摺動台
１１に取付けられたもので〜その中心が試料面における
Ｘ線の入射点Ｐまたは分光結晶８の表面に対して点ｐと
対称な点グとそれぞれ一致するように移動させることが
できる。なお支持台９には必要に応じて検出器１０の不
要部分を覆うためのＸ線遮蔽板１２を着脱自在に取付け
るようにしである◎第１図＃ｉ螢光Ｉ線分析を行う状態
であるが、まず分光結晶８を取除くと共に微小孔を有す
る治具を試料取付台δに取付けて、コリメータ３を通っ
たＸ線ビームがその孔に入射するように取付台δを調整
し、更に上記微小孔に光学顕微鏡フのビンシを合せると
共に十字線の交点を孔の中心と一致させる。次に治具を
試料４に取替えて取付台５を調整することにより・試料
面における所望の分析点が上記交点と一致して、かつピ
ントか合うようにするＯこの状態で分光結晶８を取付け
ると共に円弧状検出器］０の円弧の中心が、前記点りと
一致するように摺動台１１を設定する口また必要に応じ
ては、鎖線て示したように所要部分に螢光Ｘｓ遮蔽板１
３を設けて強いスペクトル線を遮断し４全計数値を低く
することによって弱−螢光Ｘ線の検出精度を向上する◎ 装置を上述のように設定してコリメータ！ＩｉＰら試料
１にＸ線ビーム１を投射すると−このビーふけ試料面に
おける所望の微小分析点ｐに入射して−その点から第３
図に拡大図を示したように波長１１゜４・・・・、の螢
光Ｘ線が発生し分光結晶８に入射する。
回折Ｘ線分析とを行い得る装置に関する口すなわち従来
は螢光Ｘ線分析装置とＸ線回折装置とが全く別個に構成
さｎてψたかも１螢光と回折の両分析を行うためにＦ１
２台の装置を必要とした〇特に回折装置で未知試料の同
定分析を行う場合に、その物質を構成して−る元素の種
類が判明すると検索精度を非常に高くすることができる
が一従来は別の螢光Ｉ線分析装置あるいけ化学分析装置
等を必要とＬ−かつこのため正確に試料の同一微小部分
につ−て構成元素を検出することが困難であつ゛た・本
発明はこのような場合に回折Ｘ線分析を行う微小部と正
確に同一部分について、まず螢光ｘｆｉ！分析を行−引
続−て同一装置で回折分析な行−得るようにしたもので
ある◎ すなわち本発明の装置は、試料面における分析しようと
する微小部分にまず分光結晶を対設すると共に−その結
晶面に対して上記微小部分に対称な点を中心として円弧
状の入射位置感応型ｘ＆！検出器を配置することにより
螢光Ｘ線分析を行−１つす゛に上記分光結晶な取除くと
共にＸ線検出器をその中心が試料面上における前記微小
部と一致するように僅かに移動させて回折測定を行うよ
うに構成したものである。従って同一の装置を用−て、
ｘ１１螢光分析を回折測定とを行−得ると共に正確に同
一微小部につ−て上記両側室を行うことができるから、
回折測定による物質の同定等に際して検索の速度並びに
精度が向トする０また装置の機構も極めて簡単であり、
かつ位置感応型のＸ線検仏器を用いるから、迅速に分析
を行−得る等の作用効果があるＤ 第１図は螢光Ｘ線分析を行う状態における本発明実施例
の横ｌｉ！＋７面図−第２図は第１図の装置を回折測定
に切換えた状態における同一横断面図である。密閉９ｉ
一体ｌｈ特に長波長の螢光Ｘ線の減衰を防止するため、
内部を必要に応じて真空にするようにしたもので、図示
してな−が排気口を設けである。この懺捧ｌの側部にＸ
線管２を設置して１その発生Ｘ線を細いビームにして試
料面の微小部分に入射させるためのコリメータ３を側壁
に取付けると共にその先端に対設される試料４の取付台
５を〜試料面におけるＸ線ビームの入射点ｐを中心とし
て紙面内で回動し得るように円弧状の軌道６を設け、か
つ取付台５には試料４を互に直交する３方回へ任意に移
動させる機構を設けである０更に前記試料面と対向する
ように光学顕微鏡１を設け、また試料面における前記入
射点ｐと対向するように例えば弗化リチウムあるーけＥ
ｌ）ＤＴのような適宜の板状分光結晶８を紙面と直角に
取付けるための着脱自在な支持台９を設け【ある。更に
結晶８と対向するように円弧状の入射位置感応型Ｘ線検
出器１０を配置しであるが、この検出器１０＃ｉ摺動台
１１に取付けられたもので〜その中心が試料面における
Ｘ線の入射点Ｐまたは分光結晶８の表面に対して点ｐと
対称な点グとそれぞれ一致するように移動させることが
できる。なお支持台９には必要に応じて検出器１０の不
要部分を覆うためのＸ線遮蔽板１２を着脱自在に取付け
るようにしである◎第１図＃ｉ螢光Ｉ線分析を行う状態
であるが、まず分光結晶８を取除くと共に微小孔を有す
る治具を試料取付台δに取付けて、コリメータ３を通っ
たＸ線ビームがその孔に入射するように取付台δを調整
し、更に上記微小孔に光学顕微鏡フのビンシを合せると
共に十字線の交点を孔の中心と一致させる。次に治具を
試料４に取替えて取付台５を調整することにより・試料
面における所望の分析点が上記交点と一致して、かつピ
ントか合うようにするＯこの状態で分光結晶８を取付け
ると共に円弧状検出器］０の円弧の中心が、前記点りと
一致するように摺動台１１を設定する口また必要に応じ
ては、鎖線て示したように所要部分に螢光Ｘｓ遮蔽板１
３を設けて強いスペクトル線を遮断し４全計数値を低く
することによって弱−螢光Ｘ線の検出精度を向上する◎ 装置を上述のように設定してコリメータ！ＩｉＰら試料
１にＸ線ビーム１を投射すると−このビーふけ試料面に
おける所望の微小分析点ｐに入射して−その点から第３
図に拡大図を示したように波長１１゜４・・・・、の螢
光Ｘ線が発生し分光結晶８に入射する。
このような各波長の螢光ｘｌは何れも分光結晶８の全面
に入射するが、その波長によっ【定まる一定の入射角を
もって入射したものだけに回折を生じ【検出器１０で検
出される口かっその回折”１１Ａ’ｓ＊−・・・・・を
逆方向へ延長すると１検出器１０の中心を一致させた点
りを通るから１？：、の検出器１０によって試料の分析
点から発生する螢光Ｘ線の波長と強度、すなわち物質成
分とその量とを知ることがてきる。
に入射するが、その波長によっ【定まる一定の入射角を
もって入射したものだけに回折を生じ【検出器１０で検
出される口かっその回折”１１Ａ’ｓ＊−・・・・・を
逆方向へ延長すると１検出器１０の中心を一致させた点
りを通るから１？：、の検出器１０によって試料の分析
点から発生する螢光Ｘ線の波長と強度、すなわち物質成
分とその量とを知ることがてきる。
つＩｒ１／ｃ第１／ｃように分光結晶８および遮蔽板１
２を取り外すと共に摺動台１１を移動させて円弧状検出
器１０の中心点を試料面のＸ線ビーム入射点ｐに一致さ
せる。かつ軌道６に沿って取付台５を移動さｉると試料
４が上記点ｐを中心として回転するから試料＋１１ｉｒ
Ｋ対するＸ線ビームの入射角を自由に設定することがで
きる。すなわちこの操作により必要な回折Ｘ線が試料自
体で遮蔽されないように入射角を例えば２０〜３０度に
する◎装置を上述のように設定し直して１コリメータｓ
ｈら試−ｉ＆ Ｋ ！ １Ｍビームを投射すると、その
ビームは微小点ｐに入射して、第４図に拡大図を示した
ように２へ、２−・０．・・・の回折角をもって回折す
る。この回折角は試料の結晶構造によって定まるが、検
出器ｌＯの中心は前述のようにその回折ｘｉの発生点ｐ
１ｃあるから、この検出器でＸ線の入射位置と強度とを
検出することによって・上記回折角とその強度とを知る
ことができる。従って前述の螢光Ｘ線分析によって得ら
れた物質成分を参考６一 にして検索を行うことにより試料の結晶構造を迅速で力
・つ正確に確定することができる◎このように本発明は
同一の装置を用１て１試料面にむける同一微小部分の螢
光Ｘｔｋ１分析と回折Ｘ線分析とを行うことができる。
２を取り外すと共に摺動台１１を移動させて円弧状検出
器１０の中心点を試料面のＸ線ビーム入射点ｐに一致さ
せる。かつ軌道６に沿って取付台５を移動さｉると試料
４が上記点ｐを中心として回転するから試料＋１１ｉｒ
Ｋ対するＸ線ビームの入射角を自由に設定することがで
きる。すなわちこの操作により必要な回折Ｘ線が試料自
体で遮蔽されないように入射角を例えば２０〜３０度に
する◎装置を上述のように設定し直して１コリメータｓ
ｈら試−ｉ＆ Ｋ ！ １Ｍビームを投射すると、その
ビームは微小点ｐに入射して、第４図に拡大図を示した
ように２へ、２−・０．・・・の回折角をもって回折す
る。この回折角は試料の結晶構造によって定まるが、検
出器ｌＯの中心は前述のようにその回折ｘｉの発生点ｐ
１ｃあるから、この検出器でＸ線の入射位置と強度とを
検出することによって・上記回折角とその強度とを知る
ことができる。従って前述の螢光Ｘ線分析によって得ら
れた物質成分を参考６一 にして検索を行うことにより試料の結晶構造を迅速で力
・つ正確に確定することができる◎このように本発明は
同一の装置を用１て１試料面にむける同一微小部分の螢
光Ｘｔｋ１分析と回折Ｘ線分析とを行うことができる。
従って正確迅速に分析の操作を行い得ると共に装置の設
定操作等も容易であり、かつ同一の装置で２種の分析を
行い得るから極めて経済的である０
定操作等も容易であり、かつ同一の装置で２種の分析を
行い得るから極めて経済的である０
Claims (1)
- 試料面の微小部分に細いＸ線ビームを入射させるコリメ
ータと、上記試料面から発生する螢光Ｘ線が入射するよ
うに設置される着脱自在な分光結晶と、上記分光結晶の
表面に対して前記微小部分に対称な点並びに該微小部分
をそれぞれ中心とするように移動可能に設置された円弧
状の入射位置感応型Ｘ線検出器とよりなることを特徴と
する微小部Ｘ線分析装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14245884A JPS6122240A (ja) | 1984-07-11 | 1984-07-11 | 微小部ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14245884A JPS6122240A (ja) | 1984-07-11 | 1984-07-11 | 微小部ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6122240A true JPS6122240A (ja) | 1986-01-30 |
Family
ID=15315782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14245884A Pending JPS6122240A (ja) | 1984-07-11 | 1984-07-11 | 微小部ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6122240A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61178650A (ja) * | 1985-02-05 | 1986-08-11 | Rigaku Denki Kk | 微小部ｘ線回折装置 |
| JPH01180439A (ja) * | 1988-01-12 | 1989-07-18 | Shimadzu Corp | Ｘ線分光装置 |
| JP2007307567A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Osg Corp | 転造工具及び転造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5265490A (en) * | 1975-11-25 | 1977-05-30 | Philips Nv | Fluorescence xxray spectrometer |
-
1984
- 1984-07-11 JP JP14245884A patent/JPS6122240A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5265490A (en) * | 1975-11-25 | 1977-05-30 | Philips Nv | Fluorescence xxray spectrometer |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61178650A (ja) * | 1985-02-05 | 1986-08-11 | Rigaku Denki Kk | 微小部ｘ線回折装置 |
| JPH01180439A (ja) * | 1988-01-12 | 1989-07-18 | Shimadzu Corp | Ｘ線分光装置 |
| JP2007307567A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Osg Corp | 転造工具及び転造方法 |
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