JPS6073445A - 螢光ｘ線分析装置 - Google Patents

螢光ｘ線分析装置

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Publication number
JPS6073445A
JPS6073445A JP18413083A JP18413083A JPS6073445A JP S6073445 A JPS6073445 A JP S6073445A JP 18413083 A JP18413083 A JP 18413083A JP 18413083 A JP18413083 A JP 18413083A JP S6073445 A JPS6073445 A JP S6073445A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
sample
excitation
analysis
fluorescent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18413083A
Other languages
English (en)
Inventor
Noriaki Nakanishi
中西　典顕
Hidenobu Ishida
石田　秀信
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Shimazu Seisakusho KK
Original Assignee
Shimadzu Corp
Shimazu Seisakusho KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp, Shimazu Seisakusho KK filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP18413083A priority Critical patent/JPS6073445A/ja
Publication of JPS6073445A publication Critical patent/JPS6073445A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076—X-ray fluorescence

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  • Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ビ）産業上の利用分野 本発明は金属試料等の分析に用いられる螢光Ｘ線分析装
置に関する。
（用従来技術 従来の螢光Ｘ線分析装置は第１図に示すように試料面に
垂直或は略垂直に励起用Ｘ線を照射していた。第１図で
Ｓが試料、Ｘが励起Ｘ線用Ｘ線管球で垂直方向から試料
面ＫＸ線を照射している。
Ｃは分光結晶で試料面から斜め方向に出る螢光Ｘ線が入
射するようになっている。このような構成であると、励
起用の一次Ｘ線の試料への浸入深さは数十μｍであるか
ら、試料表面の数μｍと云つた極く浅い表面層だけの情
報を選択的に得ると云うことができず表面層の分析が困
難であった。
（ハ）　目　的 本発明は螢光Ｘ線分析で試料の数μｍと云った極く浅い
表面層の分析を可能にすることを目的としている。
（ニ）構　成 本発明は試料面に対して低い角度で励起用Ｘ線を照射さ
せるようにした螢光Ｘ線分析装置を提供する。
第２図でＳは試料であり、１は従来の励起用Ｘ線照射方
向、２が本発明による励起Ｘ線照射方向である。この二
つの場合、Ｘ線の試料内部の進達距離ｄは同じであるか
ら、励起Ｘ線の試料面からの浸入深さは従来例がｄであ
るのに対して本発明ではｄｓｉｎαとなシ、照射角αを
小さくすることによシ、浸入深さは任意に浅くすること
ができる。
（ホ）実施例 第３図は本発明の一実施例を示す。Ｘは励起Ｘ線源で線
焦点式のＸ線管を用いてお９、線焦点は図の紙面に垂直
の方向に延びている。３はソーラスリットで図の紙面に
平行なＸ線束を形成するようになっておシ、更にスリッ
ト４によシ試料Ｓ表面のＸ線照射幅を適当に制限してい
る。照射角αは例えば６°位でこの場合Ｘ線の浸入深さ
は５ｉｎ６°−０，１であるから従来の約１／１０とな
シ、数μｍ位の表面層のみの分析ができる。Ｃは分光結
晶、５は１次ソーラスリット、６は２次ソー２スリツト
でＤはＸ線検出器である。
（へ）効果 本発明螢光Ｘ線分析装置は上述したような構成で、試料
面の極く浅い表面層の状態を知ることができるので、例
えばメッキ層の成分を母材の影響なしに分析するような
ことが可能となった。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来例の側面図、第２図は本発明の原理説明図
、第３図は本発明の一実施例の側面図である。 Ｘ・・・Ｘ線管、Ｓ・・・試料、Ｃ・・・分光結晶、Ｄ
・・・Ｘ線検出器、３，５．６・・・ソーラスリット。 代理人　弁理士　耽　浩　介

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 試料面に対し、低い角度で励起Ｘ線を照射させるように
    Ｘ線源を配置したことを特徴とする螢光Ｘ線分析装置。
JP18413083A 1983-09-30 1983-09-30 螢光ｘ線分析装置 Pending JPS6073445A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18413083A JPS6073445A (ja) 1983-09-30 1983-09-30 螢光ｘ線分析装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP18413083A JPS6073445A (ja) 1983-09-30 1983-09-30 螢光ｘ線分析装置

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JPS6073445A true JPS6073445A (ja) 1985-04-25

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ID=16147898

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JP18413083A Pending JPS6073445A (ja) 1983-09-30 1983-09-30 螢光ｘ線分析装置

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JP (1) JPS6073445A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6378056A (ja) * 1986-09-20 1988-04-08 Rigaku Denki Kogyo Kk 全反射蛍光ｘ線分析装置
JPH01244344A (ja) * 1988-03-25 1989-09-28 Hitachi Ltd Ｘ線吸収スペクトル測定装置
JPH01254849A (ja) * 1988-04-05 1989-10-11 Rigaku Corp エネルギー分散方式薄膜ｘ線回折法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6378056A (ja) * 1986-09-20 1988-04-08 Rigaku Denki Kogyo Kk 全反射蛍光ｘ線分析装置
JPH01244344A (ja) * 1988-03-25 1989-09-28 Hitachi Ltd Ｘ線吸収スペクトル測定装置
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