JPS6378056A - 全反射蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
全反射蛍光ｘ線分析装置Info
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- JPS6378056A JPS6378056A JP22096086A JP22096086A JPS6378056A JP S6378056 A JPS6378056 A JP S6378056A JP 22096086 A JP22096086 A JP 22096086A JP 22096086 A JP22096086 A JP 22096086A JP S6378056 A JPS6378056 A JP S6378056A
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- JP
- Japan
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- sample
- ray
- fluorescent
- total reflection
- mirrors
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- Pending
Links
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 abstract description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 abstract description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 2
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 102100027340 Slit homolog 2 protein Human genes 0.000 description 1
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- 210000004185 liver Anatomy 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は試料面に、全反射を生ずるような微少の入射角
をもって励起Ｘ線を入射させることにより、蛍光Ｘ線の
発生に寄与することなく反射したＸ線を蛍光Ｘ線と分離
して、高いＳＮ比で蛍光Ｘ線の検出を行い得るようにし
た全反射蛍光Ｘ線分析装置に関する。
をもって励起Ｘ線を入射させることにより、蛍光Ｘ線の
発生に寄与することなく反射したＸ線を蛍光Ｘ線と分離
して、高いＳＮ比で蛍光Ｘ線の検出を行い得るようにし
た全反射蛍光Ｘ線分析装置に関する。
竿＋ Ｆ！／’ｌ ｔ？ ２．’ｆ： ３！’−の仝げ
針常平ｙ泊φ肝佑苦の堪酵を示した図で、Ｘ線管その他
適宜のＸ線源１から発生したＸ線を２つの発散スリブ）
・２および３で細い平行Ｘ線Ｘに絞って、全反射を生ず
るような充分小さい角度で試料４の表面に入射するよう
にしである。このＸ線の一部は試料を励起して蛍光Ｘ線
ｆを発生させるから、これを適宜のＸ線検出器５で検出
して、波長分析を行うことにより試料の成分を知ること
ができる。かつＸ線Ｘが試料面に極めて小さい角度で入
射するから、試料の励起に寄与しない入射Ｘ線が試料表
面で全反射を生じて、このＸ線ｙは検出器５に入射する
ことなく逸散する。従ってこのような全反射蛍光Ｘ線分
析装置は高感度の分析を行うことができる。しかしＸ線
源から発生したＸ線を２つの発散スリットで細く絞るか
らその強度を大きくして、試料から発生する蛍光Ｘ線の
強度を増大することが困ｆｉｔである。
針常平ｙ泊φ肝佑苦の堪酵を示した図で、Ｘ線管その他
適宜のＸ線源１から発生したＸ線を２つの発散スリブ）
・２および３で細い平行Ｘ線Ｘに絞って、全反射を生ず
るような充分小さい角度で試料４の表面に入射するよう
にしである。このＸ線の一部は試料を励起して蛍光Ｘ線
ｆを発生させるから、これを適宜のＸ線検出器５で検出
して、波長分析を行うことにより試料の成分を知ること
ができる。かつＸ線Ｘが試料面に極めて小さい角度で入
射するから、試料の励起に寄与しない入射Ｘ線が試料表
面で全反射を生じて、このＸ線ｙは検出器５に入射する
ことなく逸散する。従ってこのような全反射蛍光Ｘ線分
析装置は高感度の分析を行うことができる。しかしＸ線
源から発生したＸ線を２つの発散スリットで細く絞るか
らその強度を大きくして、試料から発生する蛍光Ｘ線の
強度を増大することが困ｆｉｔである。
従って本発明は試料面におけるＸ線の入射範囲を増大す
ることなく、しかも入射Ｘ線の強度を増大して、上述の
欠点を軽減しようとするものである。
ることなく、しかも入射Ｘ線の強度を増大して、上述の
欠点を軽減しようとするものである。
すなわち本発明はＸ線源と試料面との間におけるＸ線通
路の両側に微少の間隔をもって相対向すると共に上記試
料面に対して充分小さい角度をなすように配置された１
対の全反射ミラーを設けたものである。従って仮にこの
１対の全反射ミラーの間隔を第１図におけるスリット２
および３の開口＋１Ｊと等しく、またその長さをスリッ
ト２．３の間隔に等しくすると、試料面におけるＸ線の
幅が等しくなる。しかも全反射ミラーで反射したＸ線も
上記幅の範囲内に入射する。このため本発明に・よって
試料面における励起Ｘ線の幅を増大することなくその強
度が増大して、高感度の分析を行うことができる作用効
果がある。
路の両側に微少の間隔をもって相対向すると共に上記試
料面に対して充分小さい角度をなすように配置された１
対の全反射ミラーを設けたものである。従って仮にこの
１対の全反射ミラーの間隔を第１図におけるスリット２
および３の開口＋１Ｊと等しく、またその長さをスリッ
ト２．３の間隔に等しくすると、試料面におけるＸ線の
幅が等しくなる。しかも全反射ミラーで反射したＸ線も
上記幅の範囲内に入射する。このため本発明に・よって
試料面における励起Ｘ線の幅を増大することなくその強
度が増大して、高感度の分析を行うことができる作用効
果がある。
第２図はこのような本発明実施例の構成を示した図で、
Ｘ線管のようなＸ線源１に微少の間隔で相対向する！対
の平行な全反射ミラー６および７の一端を対設し、その
２つのミラーの他端に任意の試料４を配置しである。こ
の試料４の表面がミラー６．７に対して充分小さい角度
ａをなすように、」二足試料を設置すると共にその試料
の表面に適宜のＸ線検出器５を対向させたものである。
Ｘ線管のようなＸ線源１に微少の間隔で相対向する！対
の平行な全反射ミラー６および７の一端を対設し、その
２つのミラーの他端に任意の試料４を配置しである。こ
の試料４の表面がミラー６．７に対して充分小さい角度
ａをなすように、」二足試料を設置すると共にその試料
の表面に適宜のＸ線検出器５を対向させたものである。
従って全反射ミラー６．７の間を通過した幅の狭いＸ線
Ｘが試料４の表面に入射し、その一部は試料を励起して
蛍光Ｘ線ｆを発生させるから、この蛍光Ｘ線が検出器５
で検出されて蛍光Ｘ線分析が行われる。かつ試料４の励
起に寄与しないＸｇＡｘは、試料面で全反射を生ずるか
ら、このＸ線ｙは検出器５に入射することなく逸散する
。
Ｘが試料４の表面に入射し、その一部は試料を励起して
蛍光Ｘ線ｆを発生させるから、この蛍光Ｘ線が検出器５
で検出されて蛍光Ｘ線分析が行われる。かつ試料４の励
起に寄与しないＸｇＡｘは、試料面で全反射を生ずるか
ら、このＸ線ｙは検出器５に入射することなく逸散する
。
第３図（Ａ）は前記第１図に示した従来の装置における
スリット２．３および試料４の表面を示した拡大図、ま
た（Ｂ）は第２図における全反射ミラー６．７と試料４
の表面を示した図で、各図とも試料４の表面を入射Ｘ線
に対して直角に表しであるが、実際はＸ ＠ ｘが全反
射角以下の角度で入射するように傾斜している。このよ
うに従来の装置は幅Ｗの２つの発散スリット２．３を適
当な間隔ｌを６って配置することにより平行Ｘ線Ｘを形
成して試料４に入射させていたから、その入射Ｘ線の強
度分布は図示したように梯形のグラフｐで表される。ま
た（Ｂ）は第２図に示した本発明の装置における同様の
図で、Ｘ線源からミラー６．７の相対向する内面に入射
したＸ線は、その表面で全反射を生ずる。このＸ線は１
回の反射によって直接試料に入射するか、あるいはミラ
ー６．７の間で全反射を繰り返して試料４に入射する。
スリット２．３および試料４の表面を示した拡大図、ま
た（Ｂ）は第２図における全反射ミラー６．７と試料４
の表面を示した図で、各図とも試料４の表面を入射Ｘ線
に対して直角に表しであるが、実際はＸ ＠ ｘが全反
射角以下の角度で入射するように傾斜している。このよ
うに従来の装置は幅Ｗの２つの発散スリット２．３を適
当な間隔ｌを６って配置することにより平行Ｘ線Ｘを形
成して試料４に入射させていたから、その入射Ｘ線の強
度分布は図示したように梯形のグラフｐで表される。ま
た（Ｂ）は第２図に示した本発明の装置における同様の
図で、Ｘ線源からミラー６．７の相対向する内面に入射
したＸ線は、その表面で全反射を生ずる。このＸ線は１
回の反射によって直接試料に入射するか、あるいはミラ
ー６．７の間で全反射を繰り返して試料４に入射する。
しかし何れにしてもミラーの長さを１、間隔をＷとし、
かつその全反射角が充分小さいものとすると、全反射ミ
ラー６または７の反射によって試料に入射するＸ線は前
記グラフｐにおける幅の狭い底辺上に集中する。すなわ
ち本発明の装置における試料面上の入射Ｘ線分布は折線
グラフｑで表したように、その節回が増大することなく
、しかも斜線部分で示したように特に中央部の強度が増
大する。
かつその全反射角が充分小さいものとすると、全反射ミ
ラー６または７の反射によって試料に入射するＸ線は前
記グラフｐにおける幅の狭い底辺上に集中する。すなわ
ち本発明の装置における試料面上の入射Ｘ線分布は折線
グラフｑで表したように、その節回が増大することなく
、しかも斜線部分で示したように特に中央部の強度が増
大する。
このため本発明は試料面上の位置的分解能を低下するこ
となく、検出感度を向上し得る効果がある。
となく、検出感度を向上し得る効果がある。
第１図は従来の装置の構成を示した図、第２図は本発明
実施例の構成を示した図、第３図は本発明の詳細な説明
するための線図である。なお図において、ｌはＸ線源、
２および３は発散スリット、４は試料、５は検出器、６
および７は全反射ミラーである。 特許出願人 理学電機工業株式会社 く−
実施例の構成を示した図、第３図は本発明の詳細な説明
するための線図である。なお図において、ｌはＸ線源、
２および３は発散スリット、４は試料、５は検出器、６
および７は全反射ミラーである。 特許出願人 理学電機工業株式会社 く−
Claims (1)
- 試料面で全反射を生ずるような低角度をもって上記試料
面にＸ線を入射させるＸ線源と、上記試料面から発生す
る蛍光Ｘ線の検出器と、前記Ｘ線源と試料面との間にお
けるＸ線通路の両側に微少の間隔で相対向すると共に試
料面に対して前記低角度をなすように配置された１対の
全反射ミラーと、よりなることを特徴とする全反射蛍光
Ｘ線分析装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22096086A JPS6378056A (ja) | 1986-09-20 | 1986-09-20 | 全反射蛍光ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22096086A JPS6378056A (ja) | 1986-09-20 | 1986-09-20 | 全反射蛍光ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6378056A true JPS6378056A (ja) | 1988-04-08 |
Family
ID=16759252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22096086A Pending JPS6378056A (ja) | 1986-09-20 | 1986-09-20 | 全反射蛍光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6378056A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02124537U (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-15 | ||
| JPH0518912A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-01-26 | Rigaku Denki Kogyo Kk | Ｘ線分析における試料の方位の判定方法および装置 |
| WO2010026750A1 (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-11 | 国立大学法人京都大学 | 全反射蛍光ｘ線分析装置及び全反射蛍光ｘ線分析方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5111955A (en) * | 1974-07-17 | 1976-01-30 | Toyo Boseki | Bosekishino fumenhatsuseidohyokahoho |
| JPS6073445A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-25 | Shimadzu Corp | 螢光ｘ線分析装置 |
| JPS6188128A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-06 | Kawasaki Steel Corp | 合金被膜の膜厚及び組成測定方法 |
-
1986
- 1986-09-20 JP JP22096086A patent/JPS6378056A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5111955A (en) * | 1974-07-17 | 1976-01-30 | Toyo Boseki | Bosekishino fumenhatsuseidohyokahoho |
| JPS6073445A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-25 | Shimadzu Corp | 螢光ｘ線分析装置 |
| JPS6188128A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-06 | Kawasaki Steel Corp | 合金被膜の膜厚及び組成測定方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02124537U (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-15 | ||
| JPH0518912A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-01-26 | Rigaku Denki Kogyo Kk | Ｘ線分析における試料の方位の判定方法および装置 |
| WO2010026750A1 (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-11 | 国立大学法人京都大学 | 全反射蛍光ｘ線分析装置及び全反射蛍光ｘ線分析方法 |
| JP5846469B2 (ja) * | 2008-09-02 | 2016-01-20 | 国立大学法人京都大学 | 全反射蛍光ｘ線分析装置及び全反射蛍光ｘ線分析方法 |
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