JPS6231885Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6231885Y2 JPS6231885Y2 JP4221679U JP4221679U JPS6231885Y2 JP S6231885 Y2 JPS6231885 Y2 JP S6231885Y2 JP 4221679 U JP4221679 U JP 4221679U JP 4221679 U JP4221679 U JP 4221679U JP S6231885 Y2 JPS6231885 Y2 JP S6231885Y2
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- Japan
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- concave
- ray
- slit
- spectroscopy
- crystals
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- Expired
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 13
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 claims description 5
- 102100025490 Slit homolog 1 protein Human genes 0.000 description 11
- 101710123186 Slit homolog 1 protein Proteins 0.000 description 11
- 101700004678 SLIT3 Proteins 0.000 description 10
- 102100027339 Slit homolog 3 protein Human genes 0.000 description 10
- 238000000441 X-ray spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は多重型X線分光器に関する。X線分光
器は一般に第1図aに示すように、入射スリツト
1と分光結晶2と射出スリツト3とX線検出器4
とよりなつている。このような構成でX線強度が
弱い場合、第1図bのように同じ波長のX線が射
出スリツト3,3′に出て来るよう構成された2
組の分光器を試料Sの周囲に配置し、2つのX線
検出器4,4′の出力の和を採ればX線強度が2
倍になつたのと同じ結果が得られる。X線分光に
おいてX線波長が長い場合は分光結晶の代りにX
線反射鏡を用い第1図bの構成に対応して第1図
cのような構成が考えられる。この構成でM,
M′は反射鏡、Slはソーラースリツト、Sは試料
で4,4′はX線検出器である。第1図cの構成
は長波長X線を対象としているから全体が真空室
の中に配置されている。
器は一般に第1図aに示すように、入射スリツト
1と分光結晶2と射出スリツト3とX線検出器4
とよりなつている。このような構成でX線強度が
弱い場合、第1図bのように同じ波長のX線が射
出スリツト3,3′に出て来るよう構成された2
組の分光器を試料Sの周囲に配置し、2つのX線
検出器4,4′の出力の和を採ればX線強度が2
倍になつたのと同じ結果が得られる。X線分光に
おいてX線波長が長い場合は分光結晶の代りにX
線反射鏡を用い第1図bの構成に対応して第1図
cのような構成が考えられる。この構成でM,
M′は反射鏡、Slはソーラースリツト、Sは試料
で4,4′はX線検出器である。第1図cの構成
は長波長X線を対象としているから全体が真空室
の中に配置されている。
上述した従来構成にあつては、X線強度が弱く
分光器を複数組並列的に用いたい場合、分光器の
構成要素が全て複数組必要となり、装置が高価に
なるだけでなく、X線分光装置全体として大型と
なる。
分光器を複数組並列的に用いたい場合、分光器の
構成要素が全て複数組必要となり、装置が高価に
なるだけでなく、X線分光装置全体として大型と
なる。
本考案は上述した二重型X線分光器の改良に関
するもので、複数組の分光器の射出スリツト及び
X線検出器を共通にすると共に分光結晶の配置の
特徴によつて複数組の分光器の組合せをきわめて
コンパクトにした二重型X線分光器を提供しよう
とするものである。以下実施例によつて本考案を
説明する。
するもので、複数組の分光器の射出スリツト及び
X線検出器を共通にすると共に分光結晶の配置の
特徴によつて複数組の分光器の組合せをきわめて
コンパクトにした二重型X線分光器を提供しよう
とするものである。以下実施例によつて本考案を
説明する。
第2図は本考案の一実施例を示す。図でLはX
線管球、Sは試料でX線管球Lから放射されるX
線に照射されて螢光X線xを発する。1,1′は
分光器の入射スリツトで互に平行に配置されてい
る。M,M′はX線反射鏡で凹面鏡になつてお
り、凹面が向き合つた配置になつている。3は分
光器の射出スリツトでこれは一個だけになつてい
る。反射鏡Mは入射スリツト1、射出スリツト3
を通る円弧の2倍の半径を有しその中央部が同円
弧に沿つており、入射スリツト1を通つて反射鏡
Mの各点に入射するX線は全て反射鏡Mに対し同
じ入射角、反射角で反射され射出スリツト3上に
焦点を結ぶ。同様に反射鏡M′は反射鏡Mと同じ
形で入射スリツト1′と射出スリツト3とを通る
円弧に沿うように配置され、入射スリツト1′を
通つて反射鏡M′に入射するX線は全て同じ入射
角、反射角で反射されて射出スリツト3に焦点を
結ぶ。X線の全反射を利用するX線分光ではX線
の入射角によつて分光がなされるが、上述構成で
は反射鏡M,M′の各点に入射するX線は全て同
じ入射角になるから射出スリツト3の所には分光
されたX線が集中する。従つてこの射出スリツト
3の後に一個のX線検出器4を配置すれば、この
検出器には試料Sから発し、2つの分光系1,
M,3及び1′M′,3によつて分光された強度が
単一分光系の場合の2倍に強められたX線が入射
することになる。
線管球、Sは試料でX線管球Lから放射されるX
線に照射されて螢光X線xを発する。1,1′は
分光器の入射スリツトで互に平行に配置されてい
る。M,M′はX線反射鏡で凹面鏡になつてお
り、凹面が向き合つた配置になつている。3は分
光器の射出スリツトでこれは一個だけになつてい
る。反射鏡Mは入射スリツト1、射出スリツト3
を通る円弧の2倍の半径を有しその中央部が同円
弧に沿つており、入射スリツト1を通つて反射鏡
Mの各点に入射するX線は全て反射鏡Mに対し同
じ入射角、反射角で反射され射出スリツト3上に
焦点を結ぶ。同様に反射鏡M′は反射鏡Mと同じ
形で入射スリツト1′と射出スリツト3とを通る
円弧に沿うように配置され、入射スリツト1′を
通つて反射鏡M′に入射するX線は全て同じ入射
角、反射角で反射されて射出スリツト3に焦点を
結ぶ。X線の全反射を利用するX線分光ではX線
の入射角によつて分光がなされるが、上述構成で
は反射鏡M,M′の各点に入射するX線は全て同
じ入射角になるから射出スリツト3の所には分光
されたX線が集中する。従つてこの射出スリツト
3の後に一個のX線検出器4を配置すれば、この
検出器には試料Sから発し、2つの分光系1,
M,3及び1′M′,3によつて分光された強度が
単一分光系の場合の2倍に強められたX線が入射
することになる。
第3図は本考案の他の実施例を示す。この実施
例は2つの分光系について入射スリツト1を共通
にしたもので、その他の構成は第2図の実施例と
同じである。即ち互に向き合つた同形の凹面反射
鏡M,M′は夫々入射スリツト1及び射出スリツ
ト3を通る円弧に沿わせてあり、射出スリツト3
の後にX線検出器4が配置される。この実施例で
は反射鏡M,M′が入射スリツト1を通して試料
Sをにらむ位置がa,bと異なつている。従つて
この実施例は各反射鏡がにらむ試料上の位置が異
なつていても支障ない場合に適用される。
例は2つの分光系について入射スリツト1を共通
にしたもので、その他の構成は第2図の実施例と
同じである。即ち互に向き合つた同形の凹面反射
鏡M,M′は夫々入射スリツト1及び射出スリツ
ト3を通る円弧に沿わせてあり、射出スリツト3
の後にX線検出器4が配置される。この実施例で
は反射鏡M,M′が入射スリツト1を通して試料
Sをにらむ位置がa,bと異なつている。従つて
この実施例は各反射鏡がにらむ試料上の位置が異
なつていても支障ない場合に適用される。
もし試料面の分析すべき部分が小径のスポツト
であつたり入射スリツト1に相当する程度に細長
い場合は第3図の例で入射スリツト1をなくし、
入射スリツト1の位置に試料の分析すべき個所が
位置するよう試料をセツトすればよい。
であつたり入射スリツト1に相当する程度に細長
い場合は第3図の例で入射スリツト1をなくし、
入射スリツト1の位置に試料の分析すべき個所が
位置するよう試料をセツトすればよい。
上述各実施例は反射鏡を用いた分光装置に関す
るものであるが、反射鏡M,M′を凹面分光結晶
とし、入射スリツト1,1′各分光結晶の中心点
及び射出スリツトの3点を通る円弧をローランド
円として2組のX線分光器を対向させたような型
の分光結晶を用いた二重型X線分光器を構成する
こともできる。
るものであるが、反射鏡M,M′を凹面分光結晶
とし、入射スリツト1,1′各分光結晶の中心点
及び射出スリツトの3点を通る円弧をローランド
円として2組のX線分光器を対向させたような型
の分光結晶を用いた二重型X線分光器を構成する
こともできる。
また第2図の実施例図の紙面と平行に反射鏡
M,M′の向う側及びこちら側にM,M′と同形の
凹面反射鏡を対向させ、4枚の反射鏡が角筒状を
呈するよう配置し、入射スリツトをロの字形に配
置し、射出スリツトを十字形にすれば4組の分光
器を高密度に集積した型となる。同様の構成は第
3図の実施例でも可能である。この場合入射スリ
ツト1も射出スリツト3も共に十字形となる。更
に試料上の分析個所がスポツト状であるときは、
上述した角筒状の構成は特に有効である。この場
合射出スリツトはピンホールとなる。
M,M′の向う側及びこちら側にM,M′と同形の
凹面反射鏡を対向させ、4枚の反射鏡が角筒状を
呈するよう配置し、入射スリツトをロの字形に配
置し、射出スリツトを十字形にすれば4組の分光
器を高密度に集積した型となる。同様の構成は第
3図の実施例でも可能である。この場合入射スリ
ツト1も射出スリツト3も共に十字形となる。更
に試料上の分析個所がスポツト状であるときは、
上述した角筒状の構成は特に有効である。この場
合射出スリツトはピンホールとなる。
本考案多重型X線分光器は上述したような構成
で複数の分光系が向き合つた形になつているので
分光系の各要素の集積度が大となり、従つて多重
型でありながら分光装置全体としてコンパクトに
構成でき、複数個の分光器に対してX線検出器が
一つでよいからX線検出器に後続する信号処理回
路が一組でよく、構造的にコンパクトなことと相
俟つてX線検出感度が高められているにもかゝわ
らず安価にX線分光器を供給し得ることになる。
で複数の分光系が向き合つた形になつているので
分光系の各要素の集積度が大となり、従つて多重
型でありながら分光装置全体としてコンパクトに
構成でき、複数個の分光器に対してX線検出器が
一つでよいからX線検出器に後続する信号処理回
路が一組でよく、構造的にコンパクトなことと相
俟つてX線検出感度が高められているにもかゝわ
らず安価にX線分光器を供給し得ることになる。
なお本考案は前述したように分光結晶を用いる
X線分光器にも適用できるが、本考案は低反射
角、低回折角のX線分光器に適用した場合特に有
効である。
X線分光器にも適用できるが、本考案は低反射
角、低回折角のX線分光器に適用した場合特に有
効である。
第1図は二重型X線分光器の従来構成を示す平
面図、第2図、第3図は夫々異なる本考案の実施
例X線分光器の平面図である。 1,1′……入射スリツト、M,M′……凹面反
射鏡、3……射出スリツト、4……X線検出器。
面図、第2図、第3図は夫々異なる本考案の実施
例X線分光器の平面図である。 1,1′……入射スリツト、M,M′……凹面反
射鏡、3……射出スリツト、4……X線検出器。
Claims (1)
- 複数の同形の凹面鏡或は凹面分光結晶を凹面を
向き合せて対向させ、かつこれら各凹面鏡或は凹
面分光結晶を、各凹面鏡或は凹面分光結晶毎にそ
の中心と入射スリツト或は分光すべきX線の微小
範囲の線源と上記各凹面鏡或は凹面結晶に共通な
一点の三つの点を結ぶ同形の円弧に沿わせて配置
し、上記共通な一点の位置に各凹面鏡或は凹面分
光結晶に共通な一個の射出スリツトを配置し、そ
の後に一個のX線検出器を配置した多重型X線分
光器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4221679U JPS6231885Y2 (ja) | 1979-03-31 | 1979-03-31 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4221679U JPS6231885Y2 (ja) | 1979-03-31 | 1979-03-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55143556U JPS55143556U (ja) | 1980-10-15 |
JPS6231885Y2 true JPS6231885Y2 (ja) | 1987-08-15 |
Family
ID=28914294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4221679U Expired JPS6231885Y2 (ja) | 1979-03-31 | 1979-03-31 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6231885Y2 (ja) |
-
1979
- 1979-03-31 JP JP4221679U patent/JPS6231885Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55143556U (ja) | 1980-10-15 |
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