JP2002090320A - Ｘ線照射装置 - Google Patents
Ｘ線照射装置Info
- Publication number
- JP2002090320A JP2002090320A JP2000281932A JP2000281932A JP2002090320A JP 2002090320 A JP2002090320 A JP 2002090320A JP 2000281932 A JP2000281932 A JP 2000281932A JP 2000281932 A JP2000281932 A JP 2000281932A JP 2002090320 A JP2002090320 A JP 2002090320A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- rays
- sample
- optical system
- primary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料に照射する一次Ｘ線および単色化したＸ
線の強度を大きくするＸ線照射装置を提供する。 【解決手段】 連続Ｘ線および特性Ｘ線を生成し、該両
Ｘ線を２以上の窓４１，４２，４３から出射するＸ線管
４０と、前記窓４１，４２，４３のうち一つの窓４１か
ら出射された一次Ｘ線１１を試料１００に向って集光さ
せて試料１００に一次Ｘ線１１２を照射する集光光学系
１０と、前記窓４１，４２，４３のうち他の窓４３から
出射された一次Ｘ線３１を単色化すると共に集光させ
て、該単色化したＸ線３４を前記試料１００に照射する
集光分光光学系３０と、前記集光光学系１０の光路に進
入・退避自在に設けた遮光部材１４Ａとを備えている。
線の強度を大きくするＸ線照射装置を提供する。 【解決手段】 連続Ｘ線および特性Ｘ線を生成し、該両
Ｘ線を２以上の窓４１，４２，４３から出射するＸ線管
４０と、前記窓４１，４２，４３のうち一つの窓４１か
ら出射された一次Ｘ線１１を試料１００に向って集光さ
せて試料１００に一次Ｘ線１１２を照射する集光光学系
１０と、前記窓４１，４２，４３のうち他の窓４３から
出射された一次Ｘ線３１を単色化すると共に集光させ
て、該単色化したＸ線３４を前記試料１００に照射する
集光分光光学系３０と、前記集光光学系１０の光路に進
入・退避自在に設けた遮光部材１４Ａとを備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＸ線分析装置に用い
るＸ線照射装置に関するものである。
るＸ線照射装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】可搬型のＸ線分析装置は、小型・軽量で
あることが要求されている。そのため、装置の構造も一
般に簡易になるので、軽元素の分析や微量元素の分析が
難しくなる。蛍光Ｘ線分析はＸ線分析の１つで、Ｘ線源
からの一次Ｘ線を試料に照射し、この試料から発生する
蛍光Ｘ線をＸ線検出器で検出し、当該検出結果に基づい
て試料の元素分析を行う。かかる分析を行う装置とし
て、円筒形の分光素子を用いた分析装置が提案されてい
る（特開平１１−３３７６９６号参照）。この従来技術
では、分光素子で単色化した特性Ｘ線（固有Ｘ線）を照
射するので、特定の微量元素を精度良く分析することが
できる。また、前記従来技術では、連続Ｘ線および特性
Ｘ線（以下、一次Ｘ線という）を試料の広い部分に照射
できるようにしてあるため、平均的な分析を行うことも
できる。
あることが要求されている。そのため、装置の構造も一
般に簡易になるので、軽元素の分析や微量元素の分析が
難しくなる。蛍光Ｘ線分析はＸ線分析の１つで、Ｘ線源
からの一次Ｘ線を試料に照射し、この試料から発生する
蛍光Ｘ線をＸ線検出器で検出し、当該検出結果に基づい
て試料の元素分析を行う。かかる分析を行う装置とし
て、円筒形の分光素子を用いた分析装置が提案されてい
る（特開平１１−３３７６９６号参照）。この従来技術
では、分光素子で単色化した特性Ｘ線（固有Ｘ線）を照
射するので、特定の微量元素を精度良く分析することが
できる。また、前記従来技術では、連続Ｘ線および特性
Ｘ線（以下、一次Ｘ線という）を試料の広い部分に照射
できるようにしてあるため、平均的な分析を行うことも
できる。
【０００３】しかし、前記従来技術では、前記一次Ｘ線
を照射する光学系と、前記単色化したＸ線を照射する光
学系とが同心円上に設けられている。そのため、Ｘ線管
からのＸ線を十分に大きな強度で試料に照射することが
できない。また、分光素子が円筒形であるため、分光素
子の切換ができず、したがって、単色化して得られる波
長の種類が限られる。
を照射する光学系と、前記単色化したＸ線を照射する光
学系とが同心円上に設けられている。そのため、Ｘ線管
からのＸ線を十分に大きな強度で試料に照射することが
できない。また、分光素子が円筒形であるため、分光素
子の切換ができず、したがって、単色化して得られる波
長の種類が限られる。
【０００４】
【発明の概要】したがって、本発明の目的は、試料に照
射する一次Ｘ線および単色化したＸ線の強度を大きくす
ることである。
射する一次Ｘ線および単色化したＸ線の強度を大きくす
ることである。
【０００５】前記目的を達成するために、本発明は、試
料にＸ線を照射して該試料からのＸ線をＸ線検出器で検
出して、所定の分析を行うＸ線分析に用いるＸ線照射装
置であって、一次Ｘ線を生成し、該一次Ｘ線を２以上の
窓から出射するＸ線管と、前記窓のうち一つの窓から出
射された一次Ｘ線を試料に向って集光させて試料に一次
Ｘ線を照射する集光光学系と、前記窓のうち他の窓から
出射された一次Ｘ線を単色化すると共に集光させて、該
単色化したＸ線を前記試料に照射する集光分光光学系
と、前記集光光学系の光路に進入・退避自在に設けた遮
光部材とを備えている。本発明において、「集光させ
る」とは試料の表層部にＸ線をスポット状に集めてＸ線
の強度を大きくすることをいう。
料にＸ線を照射して該試料からのＸ線をＸ線検出器で検
出して、所定の分析を行うＸ線分析に用いるＸ線照射装
置であって、一次Ｘ線を生成し、該一次Ｘ線を２以上の
窓から出射するＸ線管と、前記窓のうち一つの窓から出
射された一次Ｘ線を試料に向って集光させて試料に一次
Ｘ線を照射する集光光学系と、前記窓のうち他の窓から
出射された一次Ｘ線を単色化すると共に集光させて、該
単色化したＸ線を前記試料に照射する集光分光光学系
と、前記集光光学系の光路に進入・退避自在に設けた遮
光部材とを備えている。本発明において、「集光させ
る」とは試料の表層部にＸ線をスポット状に集めてＸ線
の強度を大きくすることをいう。
【０００６】本発明において、重元素を分析する場合に
は、前記遮光部材を集光光学系の光路に挿入する。これ
により、前記集光分光光学系の分光素子により単色化さ
れたＸ線のみが試料に入射するので、励起Ｘ線自体にノ
イズが含まれていないから、微量の重元素を精度良く分
析することができる。
は、前記遮光部材を集光光学系の光路に挿入する。これ
により、前記集光分光光学系の分光素子により単色化さ
れたＸ線のみが試料に入射するので、励起Ｘ線自体にノ
イズが含まれていないから、微量の重元素を精度良く分
析することができる。
【０００７】一方、軽元素を分析する場合には、前記遮
光部材をＸ線の経路から退避させる。これにより、前記
分光素子で分光したＸ線以外に、集光光学系で集光され
た特性Ｘ線を含む一次Ｘ線が１つの試料の小さい領域に
集光される。したがって、エネルギの低いスペクトルが
一次Ｘ線に含まれているので、軽元素の分析が可能とな
る。
光部材をＸ線の経路から退避させる。これにより、前記
分光素子で分光したＸ線以外に、集光光学系で集光され
た特性Ｘ線を含む一次Ｘ線が１つの試料の小さい領域に
集光される。したがって、エネルギの低いスペクトルが
一次Ｘ線に含まれているので、軽元素の分析が可能とな
る。
【０００８】
【発明の効果】このように、本発明のＸ線照射装置を用
いることで、同じ分析法を用いて軽元素と微量の重元素
の双方の分析を選択的に行うことができる。なお、分析
法としては蛍光Ｘ線分析およびＸ線回折分析が用いられ
る。また、本発明では、前記一次Ｘ線および単色化した
Ｘ線を試料に集光させるから、試料に照射されるＸ線の
強度が大きくなる。特に、本発明ではＸ線を２つの窓か
ら取り出しているので、２種類の光学系を無理なく配置
できるから、前記一次Ｘ線および単色化したＸ線の強度
を十分に大きくすることができる。
いることで、同じ分析法を用いて軽元素と微量の重元素
の双方の分析を選択的に行うことができる。なお、分析
法としては蛍光Ｘ線分析およびＸ線回折分析が用いられ
る。また、本発明では、前記一次Ｘ線および単色化した
Ｘ線を試料に集光させるから、試料に照射されるＸ線の
強度が大きくなる。特に、本発明ではＸ線を２つの窓か
ら取り出しているので、２種類の光学系を無理なく配置
できるから、前記一次Ｘ線および単色化したＸ線の強度
を十分に大きくすることができる。
【０００９】更に、本発明において、正の電圧を印加し
たターゲットを有する縦型のＸ線管を用いれば、ターゲ
ットから散乱電子が飛び散るのを防止できる。したがっ
て、管球の先端に設けられたベリリウムの窓材を薄くで
き、そのため、エネルギの低いスペクトルが窓材を透過
するので、軽元素の蛍光Ｘ線分析や、格子面間隔の大き
い試料のＸ線回折分析を行うことが可能となる。
たターゲットを有する縦型のＸ線管を用いれば、ターゲ
ットから散乱電子が飛び散るのを防止できる。したがっ
て、管球の先端に設けられたベリリウムの窓材を薄くで
き、そのため、エネルギの低いスペクトルが窓材を透過
するので、軽元素の蛍光Ｘ線分析や、格子面間隔の大き
い試料のＸ線回折分析を行うことが可能となる。
【００１０】また、本発明において、窓材の厚さをより
一層薄くするには各窓部を各々個別に分離して形成する
のが好ましい。しかし、本発明においては、各窓部を連
ねて形成してもよい。
一層薄くするには各窓部を各々個別に分離して形成する
のが好ましい。しかし、本発明においては、各窓部を連
ねて形成してもよい。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
したがって説明する。図１は第１実施形態を示す。Ｘ線
分析装置は可搬型で、図１の測定装置１と、図示しない
計測制御器およびパソコン（演算装置）などを備えてい
る。
したがって説明する。図１は第１実施形態を示す。Ｘ線
分析装置は可搬型で、図１の測定装置１と、図示しない
計測制御器およびパソコン（演算装置）などを備えてい
る。
【００１２】前記測定装置１は１つのＸ線管４０と、第
１、第２および第３光学系１０，２０，３０と、第１お
よび第２Ｘ線検出器１Ｄ，２Ｄとを備えている。
１、第２および第３光学系１０，２０，３０と、第１お
よび第２Ｘ線検出器１Ｄ，２Ｄとを備えている。
【００１３】前記第１光学系（集光光学系）１０、第３
光学系（集光分光光学系）３０および第１Ｘ線検出器１
Ｄは、蛍光Ｘ線分析を行うためのものである。一方、前
記第２光学系２０および第２Ｘ線検出器２Ｄは、Ｘ線回
折分析を行うためのものである。なお、Ｘ線検出器１
Ｄ，２Ｄとしては、電子冷却型のシリコンドリフトディ
テクタを用いるのが好ましい。
光学系（集光分光光学系）３０および第１Ｘ線検出器１
Ｄは、蛍光Ｘ線分析を行うためのものである。一方、前
記第２光学系２０および第２Ｘ線検出器２Ｄは、Ｘ線回
折分析を行うためのものである。なお、Ｘ線検出器１
Ｄ，２Ｄとしては、電子冷却型のシリコンドリフトディ
テクタを用いるのが好ましい。
【００１４】前記Ｘ線管４０には、管球の先端にケース
４９が設けられている。前記ケース４９の内面は、ター
ゲット４４と同じ材質により被膜されている。前記ケー
ス４９には、第１、第２および第３の窓部４１，４２，
４３が設けられている。前記第１の窓部４１は、ターゲ
ット４４から発生した一次Ｘ線のうち、ターゲットの表
面の法線方向に向って出射された一次Ｘ線１１が出射さ
れるのを許容する。一方、前記第２の窓部４２は、ター
ゲット４４から発生した一次Ｘ線のうち、ターゲット４
４の表面の接続方向に近い（たとえば、角度Δ＝６°）
方向に向って出射された一次Ｘ線２１が出射されるのを
許容する。
４９が設けられている。前記ケース４９の内面は、ター
ゲット４４と同じ材質により被膜されている。前記ケー
ス４９には、第１、第２および第３の窓部４１，４２，
４３が設けられている。前記第１の窓部４１は、ターゲ
ット４４から発生した一次Ｘ線のうち、ターゲットの表
面の法線方向に向って出射された一次Ｘ線１１が出射さ
れるのを許容する。一方、前記第２の窓部４２は、ター
ゲット４４から発生した一次Ｘ線のうち、ターゲット４
４の表面の接続方向に近い（たとえば、角度Δ＝６°）
方向に向って出射された一次Ｘ線２１が出射されるのを
許容する。
【００１５】前記ターゲット４４は、図１（ａ）に示す
ように、細長い短冊状（３mm×0.5mm)であり、ターゲッ
ト４４の長手方向Ｌに略直交する方向に第２の窓部４２
を設けて、Ｘ線回折分析に適したラインフォーカスを形
成できるようにしている。
ように、細長い短冊状（３mm×0.5mm)であり、ターゲッ
ト４４の長手方向Ｌに略直交する方向に第２の窓部４２
を設けて、Ｘ線回折分析に適したラインフォーカスを形
成できるようにしている。
【００１６】図１（ｂ）に示すように、Ｘ線管４０は縦
型（エンドウィンドウ型）で空冷式のＸ線管であり、フ
ィラメント４８が接地電圧で、一方、ターゲット４４に
正の電圧が印加されている。そのため、ターゲット４４
に衝突した電子４５により散乱電子が発生しにくいの
で、各窓部４１，４２，４３の窓材であるベリリウム膜
の熱による劣化が生じにくいから、窓材を75μｍまで薄
くすることができる。なお、Ｘ線管４０の管電圧は適宣
の値に設定できるようになっている。
型（エンドウィンドウ型）で空冷式のＸ線管であり、フ
ィラメント４８が接地電圧で、一方、ターゲット４４に
正の電圧が印加されている。そのため、ターゲット４４
に衝突した電子４５により散乱電子が発生しにくいの
で、各窓部４１，４２，４３の窓材であるベリリウム膜
の熱による劣化が生じにくいから、窓材を75μｍまで薄
くすることができる。なお、Ｘ線管４０の管電圧は適宣
の値に設定できるようになっている。
【００１７】前記第１光学系１０は、第１の窓部４１か
らの一次Ｘ線１１を集光させて第１試料台５０上の試料
１００に照射するもので、楕円面状の反射面を持つ第１
キャピラリ１２Ａと、遮光板１４Ａとを備えている。前
記第１キャピラリ１２Ａは前記第１の窓部４１から出射
された一次Ｘ線１１を前記反射面で試料１００の表面に
集光させて照射する。前記遮光板１４Ａは前記第１光学
系１０の光路に進入・退避自在に設けられている。な
お、遮光板１４ＡはＸ線管４０と第１キャピラリ１２Ａ
との間に設けてもよいし、第１キャピラリ１２Ａと試料
１００との間に設けてもよい。
らの一次Ｘ線１１を集光させて第１試料台５０上の試料
１００に照射するもので、楕円面状の反射面を持つ第１
キャピラリ１２Ａと、遮光板１４Ａとを備えている。前
記第１キャピラリ１２Ａは前記第１の窓部４１から出射
された一次Ｘ線１１を前記反射面で試料１００の表面に
集光させて照射する。前記遮光板１４Ａは前記第１光学
系１０の光路に進入・退避自在に設けられている。な
お、遮光板１４ＡはＸ線管４０と第１キャピラリ１２Ａ
との間に設けてもよいし、第１キャピラリ１２Ａと試料
１００との間に設けてもよい。
【００１８】前記第２光学系２０は、第２の窓部４２か
らの一次Ｘ線２１を分光すると共に単色化し、この単色
化されたビーム２１１を第２試料台２４上の試料２００
に集光させて照射するものである。このように、単色化
されたビーム２１１を試料２００に照射することで、バ
ッググラウンドを除去できるから、回折分析の精度が高
くなる。
らの一次Ｘ線２１を分光すると共に単色化し、この単色
化されたビーム２１１を第２試料台２４上の試料２００
に集光させて照射するものである。このように、単色化
されたビーム２１１を試料２００に照射することで、バ
ッググラウンドを除去できるから、回折分析の精度が高
くなる。
【００１９】前記第２光学系２０は、一対のポリキャピ
ラリ２０ａ，２０ｂと、格子面間隔が互いに異なる分光
結晶２０ｃ，２０ｄとを有している。前記分光結晶２０
ｃ，２０ｄは周知の結晶切換機に取り付けられている。
これにより、前記第２光学系は、波長の長いＸ線または
短いＸ線２１１を選択的に試料２００に入射させること
ができるようになっている。したがって、格子面間隔の
小さい試料２００から大きい試料２００まで、種々の構
造の試料の分析を行うことができる。
ラリ２０ａ，２０ｂと、格子面間隔が互いに異なる分光
結晶２０ｃ，２０ｄとを有している。前記分光結晶２０
ｃ，２０ｄは周知の結晶切換機に取り付けられている。
これにより、前記第２光学系は、波長の長いＸ線または
短いＸ線２１１を選択的に試料２００に入射させること
ができるようになっている。したがって、格子面間隔の
小さい試料２００から大きい試料２００まで、種々の構
造の試料の分析を行うことができる。
【００２０】前記試料２００から出射される回折Ｘ線２
１２は、ソーラスリット２２を通過して第２Ｘ線検出器
２Ｄに入射する。前記試料２００を載せる第２試料台２
４とソーラスリット２２および第２Ｘ線検出器２Ｄは、
これらを１：２の角速比で回転させる回転機構２３に取
り付けられている。
１２は、ソーラスリット２２を通過して第２Ｘ線検出器
２Ｄに入射する。前記試料２００を載せる第２試料台２
４とソーラスリット２２および第２Ｘ線検出器２Ｄは、
これらを１：２の角速比で回転させる回転機構２３に取
り付けられている。
【００２１】前記Ｘ線管４０の第３窓部４３は、ターゲ
ット４４の表面に対し、斜め方向に向って出射された一
次Ｘ線３１が出射されるのを許容する。該一次Ｘ線３１
は、以下のように、前記第３光学系３０によって単色化
されると共に前記第１試料台５０上の試料１００の表面
に集光されて照射される。
ット４４の表面に対し、斜め方向に向って出射された一
次Ｘ線３１が出射されるのを許容する。該一次Ｘ線３１
は、以下のように、前記第３光学系３０によって単色化
されると共に前記第１試料台５０上の試料１００の表面
に集光されて照射される。
【００２２】前記第３光学系３０は、前記Ｘ線管４０の
第３窓部４３から出射された一次Ｘ線３１を平行ビーム
３２にする第２キャピラリ３０ａと、前記平行ビーム３
２を単色化する分光結晶３０ｃと、分光結晶３０ｃから
の単色された平行ビーム３３を集光させて励起Ｘ線３４
を前記試料１００に照射する第３キャピラリ３０ｂとを
備えている。前記第２および第３キャピラリ３０ａ，３
０ｂは、それぞれ、ポリキャピラリで形成されている。
ここで、「ポリキャピラリ」とは、多数の中空の細管を
集めて形成したものであって、前記細管が効率的にＸ線
を平行ビームにし、あるいは、発散ビームを集光するよ
うに配列されたものをいう（特許第３，０５７，３７８
号参照）。
第３窓部４３から出射された一次Ｘ線３１を平行ビーム
３２にする第２キャピラリ３０ａと、前記平行ビーム３
２を単色化する分光結晶３０ｃと、分光結晶３０ｃから
の単色された平行ビーム３３を集光させて励起Ｘ線３４
を前記試料１００に照射する第３キャピラリ３０ｂとを
備えている。前記第２および第３キャピラリ３０ａ，３
０ｂは、それぞれ、ポリキャピラリで形成されている。
ここで、「ポリキャピラリ」とは、多数の中空の細管を
集めて形成したものであって、前記細管が効率的にＸ線
を平行ビームにし、あるいは、発散ビームを集光するよ
うに配列されたものをいう（特許第３，０５７，３７８
号参照）。
【００２３】前記分光結晶３０ｃは別の分光結晶３０ｄ
と共に、周知の結晶切換機に取り付けられている。前記
２つの分光結晶３０ｃ，３０ｄは格子面間隔が互いに異
なっており、第３光学系３０によって試料１００に導か
れる励起Ｘ線３４のエネルギ（波長）を選択できるよう
にしてある。
と共に、周知の結晶切換機に取り付けられている。前記
２つの分光結晶３０ｃ，３０ｄは格子面間隔が互いに異
なっており、第３光学系３０によって試料１００に導か
れる励起Ｘ線３４のエネルギ（波長）を選択できるよう
にしてある。
【００２４】つぎに蛍光Ｘ線分析を行う方法について説
明する。まず、試料１００中の重元素を分析する場合に
は、一次Ｘ線１１の経路に遮光板１４Ａを挿入すると共
に、Ｘ線管４０の管電圧を５０kVに設定して、ターゲッ
ト４４からのエネルギの高いＫα線を固有Ｘ線として用
いる。この場合、第１の窓部４１を通過した一次Ｘ線１
１は、遮光板１４Ａにより遮光され、一方、分光結晶３
０ｃで単色化された一次Ｘ線（固有Ｘ線）３１のみが試
料１００に入射し、試料１００からの蛍光Ｘ線１９がＸ
線検出器１Ｄで検出され、当該検出値に基づいて試料の
組成分析がなされる。このように、高いエネルギの単色
光で試料１００を励起するから、重元素を精度良く分析
することができる。
明する。まず、試料１００中の重元素を分析する場合に
は、一次Ｘ線１１の経路に遮光板１４Ａを挿入すると共
に、Ｘ線管４０の管電圧を５０kVに設定して、ターゲッ
ト４４からのエネルギの高いＫα線を固有Ｘ線として用
いる。この場合、第１の窓部４１を通過した一次Ｘ線１
１は、遮光板１４Ａにより遮光され、一方、分光結晶３
０ｃで単色化された一次Ｘ線（固有Ｘ線）３１のみが試
料１００に入射し、試料１００からの蛍光Ｘ線１９がＸ
線検出器１Ｄで検出され、当該検出値に基づいて試料の
組成分析がなされる。このように、高いエネルギの単色
光で試料１００を励起するから、重元素を精度良く分析
することができる。
【００２５】一方、試料１００中の軽元素を分析する場
合には、一次Ｘ線１１の経路から遮光板１４Ａを退避さ
せると共に、Ｘ線管４０の管電圧を２０kV以下に設定し
て、ターゲット４４からのエネルギの低いＬ系列のＸ線
を励起源として用いる。この場合、分光結晶３０ｃで分
光された固有Ｘ線３４と、第１キャピラリ１２Ａで集光
された一次Ｘ線１１２とが試料１００に入射し、試料１
００からの蛍光Ｘ線１９がＸ線検出器１Ｄで検出され、
分析がなされる。この場合、エネルギの低いＬ線成分の
みがＸ線管４０から放射され、Ｌ線成分の強度に比べ連
続Ｘ線の強度が相対的に小さくなる。このため、低エネ
ルギ成分のＬ線のみで試料１００を励起するから、軽元
素の分析が可能となる。
合には、一次Ｘ線１１の経路から遮光板１４Ａを退避さ
せると共に、Ｘ線管４０の管電圧を２０kV以下に設定し
て、ターゲット４４からのエネルギの低いＬ系列のＸ線
を励起源として用いる。この場合、分光結晶３０ｃで分
光された固有Ｘ線３４と、第１キャピラリ１２Ａで集光
された一次Ｘ線１１２とが試料１００に入射し、試料１
００からの蛍光Ｘ線１９がＸ線検出器１Ｄで検出され、
分析がなされる。この場合、エネルギの低いＬ線成分の
みがＸ線管４０から放射され、Ｌ線成分の強度に比べ連
続Ｘ線の強度が相対的に小さくなる。このため、低エネ
ルギ成分のＬ線のみで試料１００を励起するから、軽元
素の分析が可能となる。
【００２６】つぎに、試料の構造をＸ線回折法により分
析する場合について説明する。Ｘ線回折法により試料２
００を分析する場合は、Ｘ線管４０から一次Ｘ線２１を
出射し単色化した平行ビーム２１１を試料２００に集光
させて照射しながら、回転機構２３により、試料台２４
と第２Ｘ線検出器２Ｄとを回転させて、第２Ｘ線検出器
２ＤによりＸ線の強度を測定する。第２Ｘ線検出器２Ｄ
に入射する回折Ｘ線２１２の強度と、下記(1) 式（ブラ
ッグの式）により、角度θから試料２００の構造を知る
ことができる。 ２ｄsin θ＝ｎλ …(1) 但し、 ｄ：結晶の面間隔 θ：入射角，回折角 λ：Ｘ線の波長 ｎ：反射の次数
析する場合について説明する。Ｘ線回折法により試料２
００を分析する場合は、Ｘ線管４０から一次Ｘ線２１を
出射し単色化した平行ビーム２１１を試料２００に集光
させて照射しながら、回転機構２３により、試料台２４
と第２Ｘ線検出器２Ｄとを回転させて、第２Ｘ線検出器
２ＤによりＸ線の強度を測定する。第２Ｘ線検出器２Ｄ
に入射する回折Ｘ線２１２の強度と、下記(1) 式（ブラ
ッグの式）により、角度θから試料２００の構造を知る
ことができる。 ２ｄsin θ＝ｎλ …(1) 但し、 ｄ：結晶の面間隔 θ：入射角，回折角 λ：Ｘ線の波長 ｎ：反射の次数
【００２７】なお、前記実施形態において、第２光学系
２０の要素としては、たとえば、放物面を有しＸ線管４
０から遠ざかるに従い格子面間隔の周期が反射面に沿っ
て大きくなる人工多層膜格子を用いることができる（た
とえば、特開平６−８２４００号）。また、前記実施形
態では、図１の第２光学系２０を設けたが、本発明では
図２の第２実施形態のように第２光学系２０を設けない
で、第１および第３光学系１０，３０のみを設けてもよ
い。さらに、２つの光学系でＸ線回折のみを行うもので
あってもよい。また、前記各実施形態では縦型のＸ線管
を用いたが、本発明では横型（サイドウィンドウ型）の
Ｘ線管を用いてもよい。また、第１キャピラリ１２Ａを
ポリキャピラリで形成してもよい。
２０の要素としては、たとえば、放物面を有しＸ線管４
０から遠ざかるに従い格子面間隔の周期が反射面に沿っ
て大きくなる人工多層膜格子を用いることができる（た
とえば、特開平６−８２４００号）。また、前記実施形
態では、図１の第２光学系２０を設けたが、本発明では
図２の第２実施形態のように第２光学系２０を設けない
で、第１および第３光学系１０，３０のみを設けてもよ
い。さらに、２つの光学系でＸ線回折のみを行うもので
あってもよい。また、前記各実施形態では縦型のＸ線管
を用いたが、本発明では横型（サイドウィンドウ型）の
Ｘ線管を用いてもよい。また、第１キャピラリ１２Ａを
ポリキャピラリで形成してもよい。
【図１】本発明の第１実施形態にかかるＸ線分析装置を
示す概略構成図である。
示す概略構成図である。
【図２】第２実施形態を示す概略構成図である。
１０：第１光学系（集光光学系） ２０：第２光学系 ３０：第３光学系（集光分光光学系） １４Ａ：遮光板（遮光部材） １２Ａ：第１キャピラリ ３０ａ：第２キャピラリ ３０ｂ：第３キャピラリ ３０ｃ，３０ｄ：分光結晶（分光素子） ４０：Ｘ線管 ４１：第１の窓部 ４２：第２の窓部 ４３：第３窓部 ４４：ターゲット ４８：フィラメント １００：試料 ２００：試料 １Ｄ：第１Ｘ線検出器 ２Ｄ：第２Ｘ線検出器
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｊ 35/18 Ｈ０１Ｊ 35/18
Claims (6)
- 【請求項１】 試料にＸ線を照射して該試料からのＸ線
をＸ線検出器で検出して、所定の分析を行うＸ線分析に
用いるＸ線照射装置であって、 連続Ｘ線および特性Ｘ線を生成し、該両Ｘ線を２以上の
窓から出射するＸ線管と、 前記窓のうち一つの窓から出射された両Ｘ線を試料に向
って集光させて試料に両Ｘ線を照射する集光光学系と、 前記窓のうち他の窓から出射された両Ｘ線を単色化する
と共に集光させて、該単色化したＸ線を前記試料に照射
する集光分光光学系と、 前記集光光学系の光路に進入・退避自在に設けた遮光部
材とを備えたＸ線照射装置。 - 【請求項２】 請求項１において、 前記集光光学系は楕円面状の反射面を持つ第１キャピラ
リを有し、該第１キャピラリは前記Ｘ線管から前記楕円
面に入射したＸ線を反射して前記試料に両Ｘ線を照射す
るＸ線照射装置。 - 【請求項３】 請求項１もしくは２において、 前記集光分光光学系は、前記Ｘ線管から出射されたＸ線
を平行ビームにする第２キャピラリと、前記平行ビーム
を単色化する分光素子と、前記分光素子からの単色化さ
れた平行ビームを集光させて前記試料に照射する第３キ
ャピラリとを備えたＸ線照射装置。 - 【請求項４】 請求項３において、 前記第２および第３キャピラリは、それぞれ、多数の中
空の細管を集めて形成されたポリキャピラリで形成され
ているＸ線照射装置。 - 【請求項５】 請求項３もしくは４において、 前記分光素子とは別の分光素子を設けると共に、２つの
分光素子が選択して光路に挿入できるように設けられて
いるＸ線照射装置。 - 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれか１項におい
て、 前記Ｘ線管は接地したフィラメントから正の電圧を印加
したターゲットに電子を衝突させ該ターゲットから前記
両Ｘ線を生成すると共に、管球の先端に前記両Ｘ線が出
射されるのを許容するベリリウム製の窓を各々別々に２
つ以上設けた縦型のＸ線管であるＸ線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000281932A JP2002090320A (ja) | 2000-09-18 | 2000-09-18 | Ｘ線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000281932A JP2002090320A (ja) | 2000-09-18 | 2000-09-18 | Ｘ線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002090320A true JP2002090320A (ja) | 2002-03-27 |
Family
ID=18766519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000281932A Pending JP2002090320A (ja) | 2000-09-18 | 2000-09-18 | Ｘ線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002090320A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017169247A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置および蛍光ｘ線分析方法 |
-
2000
- 2000-09-18 JP JP2000281932A patent/JP2002090320A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017169247A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置および蛍光ｘ線分析方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5497008A (en) | Use of a Kumakhov lens in analytic instruments | |
| US6934359B2 (en) | Wavelength dispersive XRF system using focusing optic for excitation and a focusing monochromator for collection | |
| KR100690457B1 (ko) | Ｘ선 측정 및 검사용 복합체 | |
| JP6851107B2 (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| FI125488B (en) | Wavelength dispersion spectrometer, X-ray fluorescence apparatus and method | |
| JP7182749B2 (ja) | コンピュータ断層撮影蛍光ｘ線撮像のためのシステムおよび方法 | |
| KR20060088272A (ko) | Ｘ-선 광전자 분광분석장치 | |
| JP4715345B2 (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JP2002189004A (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| Yiming et al. | An investigation of X-ray fluorescence analysis with an X-ray focusing system (X-ray lens) | |
| JPH11258186A (ja) | Ｘ線による応力測定方法及び装置 | |
| JP2002195963A (ja) | Ｘ線分光装置およびｘ線分析装置 | |
| JP2002090320A (ja) | Ｘ線照射装置 | |
| JP4051427B2 (ja) | 光電子分光装置及び表面分析法 | |
| JP2000146872A (ja) | Ｘ線回折装置 | |
| JP2002093594A (ja) | Ｘ線管およびｘ線分析装置 | |
| JP3673849B2 (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析装置 | |
| Tsuji et al. | Characterization of x‐rays emerging from between reflector and sample carrier in reflector‐assisted TXRF analysis | |
| Korotkikh | Total reflection x‐ray fluorescence spectrometer with parallel primary beam | |
| JP2001194325A (ja) | Ｘ線分析装置および方法 | |
| CN116868048B (zh) | 全反射荧光x射线分析装置 | |
| US6650728B2 (en) | Apparatus and method for the analysis of atomic and molecular elements by wavelength dispersive X-ray spectrometric devices | |
| JPH1151883A (ja) | 蛍光ｘ線分析装置および方法 | |
| TWI827060B (zh) | 全反射螢光x射線分析裝置 | |
| JP6862710B2 (ja) | Ｘ線回折装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050624 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050624 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050624 |