JPS61202147A - 透過ｅｘａｆｓ測定装置 - Google Patents
透過ｅｘａｆｓ測定装置Info
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- JPS61202147A JPS61202147A JP60043077A JP4307785A JPS61202147A JP S61202147 A JPS61202147 A JP S61202147A JP 60043077 A JP60043077 A JP 60043077A JP 4307785 A JP4307785 A JP 4307785A JP S61202147 A JPS61202147 A JP S61202147A
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- JP
- Japan
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- sample
- rays
- incident
- exafs
- fluorescent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/06—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
- G01N23/083—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption the radiation being X-rays
- G01N23/085—X-ray absorption fine structure [XAFS], e.g. extended XAFS [EXAFS]
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、１つの検出器によって、試料に入射するＸ線
強度をモニターしながら拡張Ｘ線吸収微細構造（Ｅｘｔ
＠ｎｔｅｄ Ｘ−ｒａｙ Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ Ｆｉ
ｎｅＳｔｒｕｃｔｕｒ・。以下ＥＸＡＦＳと略称する）
測定を同時に行なう透過ＥＸＡＦＳ測定装置に関する。
強度をモニターしながら拡張Ｘ線吸収微細構造（Ｅｘｔ
＠ｎｔｅｄ Ｘ−ｒａｙ Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ Ｆｉ
ｎｅＳｔｒｕｃｔｕｒ・。以下ＥＸＡＦＳと略称する）
測定を同時に行なう透過ＥＸＡＦＳ測定装置に関する。
ＥＸＡＦＳ測定は、試料を構成している元素の吸収端エ
ネルギー近傍での吸収係数の微細構造を測定するもので
ある。
ネルギー近傍での吸収係数の微細構造を測定するもので
ある。
この吸収係数の微細構造を測定する際、通常のＸ線吸収
による吸収係数が大きなパックグランドとなシ、そのた
め試料に入射するＸ線強度の揺ぎが大きなノイズとなる
。そこで従来は第２図に示すように、試料２３の前に検
出器２２を設置し、試料に入射するＸ線２１の強度をモ
ニターしながら試料２３を透過してくるＸ線２４の強度
を検出器２５で計測して透過ＥＸＡＦＳ測定を行なって
いた。（フィジカル−レビュー・レターズ（Ｐｈｙｇ、
Ｒｅｖ、Ｌａｔｔ、）２７（１９７１）１２０４）。通
常、検出器には、ガスとして窒素やアルゴンを用いたイ
オンチャンバーが用いられている。
による吸収係数が大きなパックグランドとなシ、そのた
め試料に入射するＸ線強度の揺ぎが大きなノイズとなる
。そこで従来は第２図に示すように、試料２３の前に検
出器２２を設置し、試料に入射するＸ線２１の強度をモ
ニターしながら試料２３を透過してくるＸ線２４の強度
を検出器２５で計測して透過ＥＸＡＦＳ測定を行なって
いた。（フィジカル−レビュー・レターズ（Ｐｈｙｇ、
Ｒｅｖ、Ｌａｔｔ、）２７（１９７１）１２０４）。通
常、検出器には、ガスとして窒素やアルゴンを用いたイ
オンチャンバーが用いられている。
しかし、従来の光学系で測定されたスペクトルは試料の
μｔ（吸収係数と厚さの積）そのものではなく、検出器
２２であるイオンチャンバー内のガスの吸収の影暢を受
けるという欠点があった。
μｔ（吸収係数と厚さの積）そのものではなく、検出器
２２であるイオンチャンバー内のガスの吸収の影暢を受
けるという欠点があった。
本発明は、このような従来の欠点を除去せしめて、１つ
の検出器によって、試料に入射するＸ線強度をモニター
しながら同時にＥＸＡＦＳ測定を行なう透過ＥＸＡＦＳ
測定装置を提供することにある。
の検出器によって、試料に入射するＸ線強度をモニター
しながら同時にＥＸＡＦＳ測定を行なう透過ＥＸＡＦＳ
測定装置を提供することにある。
本発明は、測定試料より原子番号の小さな元素で構成さ
れた試料台と、試料台に固定された試料を透過してくる
Ｘ線強度及び試料台からの螢光Ｘ線強度を同時に計測す
る半導体検出器とを備えた透過ＥＸＡＦＳ測定装置であ
る。
れた試料台と、試料台に固定された試料を透過してくる
Ｘ線強度及び試料台からの螢光Ｘ線強度を同時に計測す
る半導体検出器とを備えた透過ＥＸＡＦＳ測定装置であ
る。
以下、本発明の実施例について、図面を参照して、詳細
に説明する。第１図（ａ）は、本発明における光学系を
第１図（ｂ）は、マルチ・チャンネル・アナライザー（
Ｍｕｌｔｉ Ｃｈａｎｎｅｌ Ａｎｉｌｙｓｅｒ （以
下ＭＣＡと略す））で得られたスペクトルを示す。第１
図（ａ）において、入射Ｘ線１１は、対象となる試料１
２よりも原子番号の小さな元素で構成されている試料台
１３に固定された試料１２に入射する。試料１２と試料
１３とを透過してきたＸ線１４は、半導体検出器１６に
よって計数される。半導体検出器１６は、ＭＣＡ１７に
接続されておシ、透過Ｘ線１４によるＸ線スペクトルは
、ＭＣＡ １７上ではビ〜り１９として記録される。こ
の時、試料台１３は、試料１２より、原子番号の小さな
元素で構成されているため、試料１２０ＥＸＡＦＳエネ
ルギー領域には、試料台１３による微細構造が生ぜず、
試料１２のＥＸＡＦＳ測定には、影響を及ぼさない。
に説明する。第１図（ａ）は、本発明における光学系を
第１図（ｂ）は、マルチ・チャンネル・アナライザー（
Ｍｕｌｔｉ Ｃｈａｎｎｅｌ Ａｎｉｌｙｓｅｒ （以
下ＭＣＡと略す））で得られたスペクトルを示す。第１
図（ａ）において、入射Ｘ線１１は、対象となる試料１
２よりも原子番号の小さな元素で構成されている試料台
１３に固定された試料１２に入射する。試料１２と試料
１３とを透過してきたＸ線１４は、半導体検出器１６に
よって計数される。半導体検出器１６は、ＭＣＡ１７に
接続されておシ、透過Ｘ線１４によるＸ線スペクトルは
、ＭＣＡ １７上ではビ〜り１９として記録される。こ
の時、試料台１３は、試料１２より、原子番号の小さな
元素で構成されているため、試料１２０ＥＸＡＦＳエネ
ルギー領域には、試料台１３による微細構造が生ぜず、
試料１２のＥＸＡＦＳ測定には、影響を及ぼさない。
一方、入射Ｘ線１１が測定試料１２より原子番号の小さ
な元素で構成されている試料台１３に入射すると、螢光
ｘｉ１５が発生し、半導体検出器１６によって計数され
る。この時ＭＣＡ１７上ではピーク１８として記録され
る。
な元素で構成されている試料台１３に入射すると、螢光
ｘｉ１５が発生し、半導体検出器１６によって計数され
る。この時ＭＣＡ１７上ではピーク１８として記録され
る。
螢光Ｘ線１５の強度は、入射Ｘ線１１の強度に比例する
ため、螢光Ｘ１１５の強度を計数することは、入射Ｘ線
１１０強度をモニターしていることに他ならない。
ため、螢光Ｘ１１５の強度を計数することは、入射Ｘ線
１１０強度をモニターしていることに他ならない。
半導体検出器１６は、エネルギー分解能が、通常の硬Ｘ
線波長領域で、約２００ ｅＶと良いため、透過Ｘ線１
４と螢光Ｘ線１５とのエネルギーを分解するのに十分で
あり、ＭＣＡ１７上で、螢光Ｘ線１５によるピーク】８
と、透過Ｘ線１４によるピーク１９とに分離された各々
のビーク強度を計数することが可能となる。
線波長領域で、約２００ ｅＶと良いため、透過Ｘ線１
４と螢光Ｘ線１５とのエネルギーを分解するのに十分で
あり、ＭＣＡ１７上で、螢光Ｘ線１５によるピーク】８
と、透過Ｘ線１４によるピーク１９とに分離された各々
のビーク強度を計数することが可能となる。
以上の発明によれば、１つの検出器によって、試料に入
射するＸ線強度をモニターしながら、透過ＥＸＡＦＳ測
定が可能となシ、入射Ｘ線の検出器による吸収の影響を
取シ除くことができる効果を有するものである。
射するＸ線強度をモニターしながら、透過ＥＸＡＦＳ測
定が可能となシ、入射Ｘ線の検出器による吸収の影響を
取シ除くことができる効果を有するものである。
第１図（、）は、本発明における透過ＥＸＡＦＳ測定装
置を示すブロック図、（ｂ）は、（ａ）によってＭＣＡ
上で得られたスペクトルを示す図、第２図は、従来の透
過ＥＸＡＦＳ測定装置を示すブロック図である。 １１・・・入射Ｘ線、１２・・・試料、１３・・・試料
台、１４・・・透過Ｘ線、１５・・・螢光Ｘ線、１６・
・・半導体検出器、１７・・・ＭＣＡ、１８・・・螢光
Ｘ線によるピーク、１９・・・透過Ｘ線によるピーク
置を示すブロック図、（ｂ）は、（ａ）によってＭＣＡ
上で得られたスペクトルを示す図、第２図は、従来の透
過ＥＸＡＦＳ測定装置を示すブロック図である。 １１・・・入射Ｘ線、１２・・・試料、１３・・・試料
台、１４・・・透過Ｘ線、１５・・・螢光Ｘ線、１６・
・・半導体検出器、１７・・・ＭＣＡ、１８・・・螢光
Ｘ線によるピーク、１９・・・透過Ｘ線によるピーク
Claims (1)
- （１）測定試料より原子番号の小さな元素で構成された
試料台と、試料台に固定された試料を透過してくるＸ線
強度及び試料台からの螢光Ｘ線強度を同時に計測する半
導体検出器とを備えたことを特徴とする透過ＥＸＡＦＳ
測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60043077A JPS61202147A (ja) | 1985-03-05 | 1985-03-05 | 透過ｅｘａｆｓ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60043077A JPS61202147A (ja) | 1985-03-05 | 1985-03-05 | 透過ｅｘａｆｓ測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61202147A true JPS61202147A (ja) | 1986-09-06 |
Family
ID=12653781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60043077A Pending JPS61202147A (ja) | 1985-03-05 | 1985-03-05 | 透過ｅｘａｆｓ測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61202147A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104122279A (zh) * | 2014-07-18 | 2014-10-29 | 中国科学院高能物理研究所 | 具有空间分辨能力的x射线微区吸收谱测量方法 |
-
1985
- 1985-03-05 JP JP60043077A patent/JPS61202147A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104122279A (zh) * | 2014-07-18 | 2014-10-29 | 中国科学院高能物理研究所 | 具有空间分辨能力的x射线微区吸收谱测量方法 |
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