JPH05197135A - 光学ペリクルを保持する保持装置及び光学ペリクル使用方法 - Google Patents

光学ペリクルを保持する保持装置及び光学ペリクル使用方法

Info

Publication number
JPH05197135A
JPH05197135A JP22584192A JP22584192A JPH05197135A JP H05197135 A JPH05197135 A JP H05197135A JP 22584192 A JP22584192 A JP 22584192A JP 22584192 A JP22584192 A JP 22584192A JP H05197135 A JPH05197135 A JP H05197135A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellicle
holder
flat member
frame
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP22584192A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2665433B2 (ja
Inventor
Yung-Tsai Yen
ユン−タイ・イェン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Publication of JPH05197135A publication Critical patent/JPH05197135A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2665433B2 publication Critical patent/JP2665433B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67346Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders characterized by being specially adapted for supporting a single substrate or by comprising a stack of such individual supports
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Folding Of Thin Sheet-Like Materials, Special Discharging Devices, And Others (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ペリクル薄膜の汚染又は損傷の可能性を軽減
する光学ペリクルの取り扱い装置を提供すること。 【構成】 ペリクルフレーム14と、ペリクル薄膜16
とから成る光学ペリクルを保持する装置が提供される。
該装置は、光学ペリクルを着脱可能に受け入れる中央に
配置した窓18を有する略剛性な平坦部材10を備えて
いる。該窓18の内側寸法は前記ペリクル12の外側寸
法より極く僅かだけ大きくし、そのため、平坦部材10
とペリクル12とを摩擦嵌めさせ得るようにする。該平
坦部材10は、ペリクル12が着座可能である内方伸長
ショルダ22を備えている。該ショルダ22は、ペリク
ルフレーム14の肉厚以上、内方に伸長しない。該平坦
部材10は又、窓18に向けて内方を向き、ペリクル1
2を適所に弾性的に保持する偏倚部分を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、全体として、光学ペリ
クル、特に、かかる光学ペリクルを保持する保持装置
(ホルダ)に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光学ペリクルは、集積型半導体回路に使
用される半導体ウェハの製造に重要な役割を果たしてい
る。恐らく、シー(Shea)等への米国特許第4,131,363
号に最も良く記載されているように、光学ペリクルは、
剛性なペリクルフレームにわたって延伸させた透明な薄
膜から成っている。このペリクルは、フォトマスク上に
直接配置され、薄膜はフォトマスクから離間した距離に
位置決めされる。このため、ホトリソグラフィ工程中、
ペリクル薄膜上に落下するより小さい微粒子及び塵埃は
焦点外となり、シリコンウェハに再現されない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ペリクルを製造するた
めには、通常、0.50乃至3.0μm程度の極めて薄い薄膜
を最初に基板上に形成する。次に、この薄膜を除去し、
フレームに取り付け、この状態で出荷される。ペリクル
フレームは、該ペリクルが最終的に使用されるホトリソ
グラフィ装置いかんにより多くの形態で形成することが
出来る。製造完了後、総合的な検査工程が行われる。こ
の検査工程中、ペリクルは手操作で取り扱われ、各種型
式の検査機械に取り付けられる。この検査が完了したな
らば、ペリクルは、本出願人による米国特許第4,470,50
8号に記載されたようなパッケージに包装される。この
パッケージは、ペリクルを適所に適正に保持するショル
ダを備えており、又、典型的に、パッケージ内の空間内
を浮遊する可能性のある汚染物質を回収するために露出
させた接着剤又は両面テープを備えている。ペリクルを
使用する場合、ペリクルは手操作で該パッケージから除
去され、それが使用されるべきフォトマスクに直接取り
付けられる。
【0004】上記本出願人の特許に係るパッケージは、
輸送中のペリクルの汚染を防止するのに有効であるが、
検査中及びフォトマスクへの取り付け中、ペリクルを手
操作で取り扱うため、これら手順中にペリクル薄膜が汚
染しかつ/又は損傷する危険性が極めて大きい。
【0005】故に、本発明の全体的な目的は、従来技術
の提案の欠点及び短所を解決する、ペリクルを取り扱う
新規な装置を提供することである。より具体的には、本
発明の目的は、次の通りである。即ち、(1)ペリクル
薄膜の汚染又は損傷の可能性を軽減する光学ペリクルの
取り扱い装置を提供すること。(2)製造から検査工程
中、ペリクルを取り付けることの出来る光学ペリクル用
ホルダを開発し、ペリクルを直接取り扱う必要性を軽減
すること。(3)製造、検査及び輸送中、光学ペリクル
を保持し、ペリクルのフォトマスクへの取り付けを容易
にするのに利用可能である光学ペリクルホルダを提供す
ること。(4)構造が簡単であり、殆んど経験又は技術
の無い者でも利用可能な簡単な方法でホルダに取り付け
かつホルダから取り外し得るように、着脱可能に保持す
る光学ペリクルホルダを提供すること。(5)一体型の
構造であり、光学ペリクルに使用する前に、容易に洗浄
可能であるペリクル取り扱い装置を開発すること。
(6)簡単な洗浄手順で再使用可能である光学ペリクル
取り付け装置を提供すること。(7)各種の形状及び寸
法のペリクルに容易に適用可能であるようにした光学ペ
リクルの取り扱い装置を提供すること。(8)包装及び
輸送中、ペリクルを保護するペリクル取り扱い装置を提
供すること。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、ペリクルフレ
ーム及びペリクル薄膜から成る光学ペリクルを着脱可能
に保持するホルダを提供することにより、その目的を達
成するものである。該保持装置は、光学ペリクルを着脱
可能に受け入れる中央に形成された窓を画成する略剛性
で平坦な部材を備えている。該窓の内側寸法は、ペリク
ルの外側寸法よりも極く僅かだけ大きくし、平坦部材と
ペリクルとを摩擦嵌め可能であるようにする。該平坦部
材は、ペリクルが着座可能である内方伸長ショルダを更
に備え、該ショルダは、ペリクルフレームの肉厚に相当
する距離以下だけ、内方に伸長する。該平坦部材は又、
窓に向けて内方を向き、ペリクルを適所に着脱可能に保
持する偏倚部分を備えている。
【0007】本発明の別の特徴は、上述のように光学ペ
リクルと、平坦部材とを備えるホルダ及び光学ペリクル
の組み合わせ体である。
【0008】本発明の更に別の特徴は、光学ペリクルを
使用する方法である。該方法は、ホルダの偏倚部分を湾
曲させ、ペリクルの正面側をホルダ内の適所に押し込
み、ペリクルの背面側が依然、露出されたままであるよ
うにしてペリクルをペリクルホルダに取り付ける段階を
含む。次に、ペリクルホルダを保持することによりその
ペリクルを検査することが出来る。次に、該ペリクルは
接着剤でその背面側をフォトマスクに固定して、フォト
マスクに取り付ける。保持ホルダは上方に引っ張ってペ
リクルから取り外す。
【0009】
【実施例】本発明の上記及びその他の特徴並びに利点は
本発明の以下の詳細な説明から一層明らかになるであろ
う。
【0010】先ず、図1乃至図4を参照すると、本発明
により製造された光学ペリクルホルダが全体として符号
10で示してある。該ホルダ10は、符号12で示すよ
うなペリクルを解放可能に保持し得るように設計され
る。該ペリクル12は、周縁フレーム14と、薄膜16
とから成っている(図1参照)。
【0011】本明細書で平坦部材とも称するホルダ10
は、略剛性な構造であり、デルリン(Delrin)(登録商
標)又はABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチ
レン樹脂)のような硬質なプラスチック材料にて通常、
製造される。該ホルダ10は、ペリクルの周縁を囲繞
し、これにより中央に形成した窓18を画成し得るよう
に設計されている。該窓18は、ペリクルフレーム14
の外側寸法よりも極く僅かだけ大きくした内側寸法の内
面20により画成される。その隙間は、典型的に約0.12
7mm(約0.005インチ)程度とする。
【0012】又、ホルダ10は、その上に薄膜を有する
ペリクルの上面が当接状態に配置される面を提供する、
周縁方向に伸長するショルダ22を備えている。該ショ
ルダ22の内面20に対する厚さは、通常、ペリクルフ
レームの厚さ以下であり、このため、ペリクルフレーム
が適所にあるとき、該ペリクルは図4に最も良く示すよ
うに、内面の表面を越えて伸長する。該ショルダ22
は、図2に最も良く図示するように、図示した実施例に
おいて、通常、ペリクルフレーム14の厚さ以下の距離
だけ、内方に伸長する。このようにして、該ショルダ2
2は、ペリクルがその上に着座するのに十分な表面を提
供するが、該ショルダ22は、ペリクルフレームから内
方に伸長する薄膜16の部分に接触する程、内方に伸長
しない。
【0013】該ホルダ10は、又ペリクルフレームに弾
性的に係合し、図3に示すように、必要な場合、該フレ
ームをホルダ10から手操作で取り外し得るようにし、
又はペリクルをフォトマスクに取り付ける工程中、取り
外し可能にする装置を備えている。図示した実施例にお
いて、ペリクルを弾性的に保持する装置は、ペリクルホ
ルダの細長い穴26により画成された一対の対向する湾
曲アーム24を有する偏倚部分の形態をしている。これ
らアーム24は反対方向に伸長し、ペリクルフレーム1
4の各側部に沿って位置するように設けることが望まし
い。アーム24の各々は、ペリクルに接触し、該ペリク
ルを適所に保持する隆起した把持部分28を備えてい
る。このため、ペリクルが適所にあるとき、ペリクルフ
レーム14の外面により外方に押される隆起した把持部
分28により、アーム24は湾曲して穴26に入る。
【0014】アーム24の各々には、穴44が形成され
ている。ペリクル12をホルダ10内に挿入し易くする
ため、ピン(図示せず)をこれら穴44の各々に挿入
し、窓18からかつ穴26に向けて、アーム24を引っ
張り得るようにする。これは手操作により又は自動装置
を使用して行うことが出来る。
【0015】又、ホルダ10は内面20に空隙を形成す
る一対の対向した切欠き部分30を備えており、ホルダ
10に保持されたペリクルは、図3に最もよく示すよう
に、操作者が自己の指を使用して手操作で除去すること
が出来る。しかし、ホルダ10の通常の操作及び使用
中、かかる手操作による取り外しは不要であることを理
解すべきである。ペリクルは、一旦係合したならばフォ
トマスクに実際に取り付けられるまで、ホルダ10から
取り外さないと予想される。フォトマスクへの取り付け
は、通常、ペリクルの下方部分をフォトマスク上に直接
載せ、その部分を押すだけで行い得る。ペリクルの機能
及び特徴に精通した者が理解し得るように、フォトマス
クとの適正な接着及び密封を実現し得るようにペリクル
の下面には、通常、接着剤が塗布されている。
【0016】切欠き部の厚さは、通常、図3に最も良く
示したショルダ22の厚さに略等しいが、箇所32に円
形の切欠き部を形成し、手操作による取り外しが容易で
あるようにする。
【0017】又、該ホルダ10には、ペリクルをフォト
マスクに取り付ける間に案内手段として機能し得る対の
対向穴34、36が設けられている。このように、整合
止め具又はその他の同様の案内手段を使用することによ
り、同様に、ペリクル自体を実際に取り扱わずに正確に
取り付けることが可能となる。これら整合穴34、36
は又、組み立て直後のペリクルの検査中に利用すること
も出来る。上記の実施例において、2つの追加の穴38
を使用して更なる整合機能を付与し、又は、ペリクルが
そのホルダ内にある間に適当なブラケットから吊り下げ
られるのを許容する。
【0018】図1乃至図4の実施例の作用 上述のように、ホルダ10は、製造後の検査工程中、ペ
リクルを保持するのに使用することが出来る。ペリクル
をホルダ10内に取り付けるためには、ホルダ10は典
型的にアーム24の穴44を通る一対の傾斜止め具を有
する治具(図示せず)上に配置される。ホルダ10を該
治具に押し付けると、止め具が傾斜しているため、アー
ム24は引っ張られて、窓18から離れ、ペリクル12
に対するスペースを形成する。次に、ペリクルを適所に
落下させて、ホルダ10を治具から取り外すことが出来
る。これによりアーム24を釈放し、ペリクルに係合さ
せる。
【0019】これと選択的に、ペリクルが既に製造さ
れ、製造台上の適所に保持されていると仮定した場合、
ホルダ10は湾曲アーム24を有する側が最初に接触す
るようにペリクルの上に下降させるだけでよい。ペリク
ルフレーム14を使用して把持部分28をそのそれぞれ
の穴26に押し込み、ホルダ10の他の部分をその適所
に押し込みだけでよい。このように、操作者は、ペリク
ル自体を実際に取り扱うことなく、ホルダ10によりペ
リクルを十分に把持することが可能である。
【0020】検査工程中、ホルダがペリクルに係合した
ならば、操作者は、ホルダ10の一側部又はコーナ部の
上を保持するだけでそのペリクルを持ち上げ、取り扱う
ことが出来る。検査装置に取り付けることが必要な場
合、案内穴34、36を利用して、ペリクルを正確に位
置決めすることが出来る。又、ホルダ10の形態いかん
より、自動装置又はロボットを使用してペリクルを取り
扱うことが遥かに容易となる。
【0021】この製品を輸送するためには、全体として
本出願人の米国特許第4,470,508号に従って製造された
改造コンテナを使用することが出来る。ペリクル薄膜1
6の外周縁は最早、パッケージ表面に着座する必要がな
いため、ペリクルが損傷する可能性が軽減される。半導
体チップ製造工場にて、ホルダ10を把持するだけでペ
リクルをパッケージから取り外す。ペリクルを有するホ
ルダは、穴34、36を使用し、従来のリソグラフィ装
置により整合させることが出来、又は手操作で適所に取
り付けることも出来る。何れの場合でも、ペリクルを直
接、取り扱う必要はない。接着剤を塗布したペリクルフ
レーム14の裏面をフォトマスクに取り付けしたなら
ば、ホルダ10を引き出すことが可能となり、ペリクル
フレーム14とフォトマスクとの接着により、ペリクル
をホルダから取り外すことが可能となる。通常、ペリク
ルフレームの各外側部に一対の凹所40が形成されてお
り、ホルダを取り外す間、ペリクルをフォトマスクの上
の適所に保持することを許容する。ショルダ22の厚さ
に対する凹所の位置は、ホルダ10によりペリクルを保
持したとき、凹所が露出されたままであるような位置と
する。
【0022】図5及び図6の実施例 図5及び図6の実施例は、把持部分28に代えて、略円
錐形の突起部分42を備える点を除いて、図1乃至図4
の実施例と同一である。この実施例のその他の全ての部
分は、上述した先の実施例と同一であるため、同一の参
照符号を使用する。この突起形態の実施例は、ペリクル
をより強固に把持しなければならない場合に有用であ
り、多くの適用例において、図1乃至図4の実施例より
も望ましい。ある適用例の場合、かかる突起部分又はそ
の雌型受け入れ体の片面又は両面を被覆し、微粒子を軽
減することが望ましいことがある。その被覆は、シリコ
ンのような柔軟又は弾性的材料の形態とし、又は水溶性
アクリルのような接着剤とすることも出来る。
【0023】図5乃至図6の実施例において、ペリクル
は、通常、一対の穿孔凹所40を備えているが、これら
凹所40は図1に示すよりもより下方の位置に形成する
こともある。具体的には、図6において、これら凹所4
0は、ペリクルの下半分又はホルダ10が係合するペリ
クルの半体部分に形成することが理解出来る。図6は薄
膜16を実線で示して、簡略化している。しかし、ペリ
クルは、実際上、図3乃至図4に示すように、最小厚さ
を有することを理解すべきである。
【0024】図7の実施例 図7の実施例は、円形のペリクルに使用し得るようにし
た点を除いて、図1乃至図4の実施例と同様である。上
述のように、ペリクルは使用されるリソグラフィ装置い
かんにより、多くの異なる寸法及び形状にて使用され
る。図7には、内面120と、周縁方向に伸長するショ
ルダ122と、開口126により画成される等間隔で離
間した3つのアーム124と、把持部分128と、整合
穴134、138とを備えている。図1乃至図4の実施
例の部分30、32に対応する円形領域を有する対向し
た切欠き部分を設けることも可能である。穴144は、
アーム124の各々に形成され、図1乃至図4の実施例
に関して上述したように、治具のような自動装置を使用
して該アーム124を退却させるのを許容する。
【0025】ある適用例の場合、ペリクルをより大きい
保持力で把持する必要がある場合、図5及び図6の実施
例の部材42に対応する円錐形部材(図7に図示せず)
を備えることが望ましいことがある。
【0026】本発明は、必要に応じて、その他の形状及
び寸法のペリクルにも適用可能である。本発明は、かか
る各ペリクルに合ったホルダを製造することが可能であ
る。図示した実施例の上記及びその他の変形例及び応用
例は、本発明の範囲から逸脱せずに採用可能であること
を理解すべきである。これら変形例及び応用例は、特許
請求の範囲に記載した対象に包含することを意図するも
のである。
【図面の簡単な説明】
【図1】ホルダがペリクルを受け入れる方法を示す、本
発明の第1の実施例の一部分解図とした斜視図である。
【図2】ペリクルフレームの内周を仮想線で示す、図1
の実施例の平面図である。
【図3】ペリクルを断面図で示している点を除いて、図
2の線3−3に沿った拡大側面断面図である。この図
は、又、ペリクルをホルダから取り外すときに操作者が
指でペリクルフレームを把持する状態を仮想線で示す。
【図4】ペリクルフレームを断面図で示している点を除
いて、図2の線4−4に沿った拡大側面断面図である。
【図5】ペリクルフレームの内周を仮想線で示す、本発
明の第2の実施例の部分平面図である。
【図6】図5の線6−6に沿った第2の実施例の拡大側
面断面図である。
【図7】ペリクルフレームの内周を仮想線で示す、本発
明の第3の実施例の平面図である。
【符号の説明】
10 ホルダ(平坦部材) 12 ペリク
ル 14 周縁フレーム 16 薄膜 18 窓 20 内面 20 内面 22 ショル
ダ 24 湾曲アーム 26 穴 28 把持部分 30 切欠き
部分 32 切欠き部分 34 整合穴 36 整合穴 40 凹所 44 穴

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ペリクルフレームと、ペリクル薄膜とか
    ら成る光学ペリクルを保持する保持装置にして、 光学ペリクルを着脱可能に受け入れる中央に配置した窓
    を画成する略剛性で平坦な部材を備え、前記窓の内側寸
    法がペリクルの外側寸法より極く僅かだけ大きく、その
    ため、前記平坦部材とペリクルとの摩擦嵌めが実現可能
    であるようにし、 前記平坦部材が、前記ペリクルが着座可能である内方伸
    長ショルダを備え、前記ショルダがペリクルフレームの
    厚さ以上、内方に伸長しないようにし、 前記平坦部材が、前記窓に向けて内方を向き、ペリクル
    を適所に弾性的に保持する偏倚部分を更に備えることを
    特徴とする装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の保持装置にして、前記
    平坦部材が、前記ペリクルフレームをその外側部から露
    出させる一対の対向する切欠き部分を備え、取り外し目
    的のため、前記ペリクルフレームを把持するのを許容す
    ることを特徴とする装置。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の保持装置にして、前記
    窓の外方に配置され、前記保持装置及び該保持装置によ
    り保持されたペリクルを適所に正確に取り付けるのを許
    容する少なくとも一対の対向した整合穴を更に画成する
    ことを特徴とする装置。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載の装置にして、前記偏倚
    部分が、接触すべきペリクルフレームに対し略平行な方
    向に伸長するが、僅かに内方に偏倚し、前記保持装置内
    でペリクルを保持する一対の弾性的アームを備えること
    を特徴とする装置。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の保持装置にして、前記
    弾性的アームが前記平坦部材と一体の部分を備えること
    を特徴とする装置。
  6. 【請求項6】 ホルダに取り付けられた光学ペリクルで
    あって、 薄膜と、周縁フレームとを有する光学ペリクルと、 略剛性で平坦な部材の形態であり、前記ペリクルを着脱
    可能に受け入れる中央に配置した窓を画成する整合ホル
    ダを備え、前記窓の内側寸法がペリクルフレームの外側
    寸法より極く僅かだけ大きいようにし、そのため、前記
    平坦部材とペリクルフレームとが摩擦嵌めするように
    し、前記平坦部材が、前記ペリクルが着座可能である内
    方伸長ショルダを備え、前記ショルダが、ペリクルフレ
    ームの肉厚以上、内方に伸長せず、そのため、前記平坦
    部材が前記ペリクルフレームから内方に伸長する薄膜ま
    で伸長せず、前記平坦部材が、ペリクルフレームの外側
    部分に対面しかつ該外側部分に接触し、前記ペリクルを
    適所に弾性的に保持する弾性的部分を更に備えることを
    特徴とする光学ペリクル。
  7. 【請求項7】 請求項6に記載の装置にして、前記偏倚
    部分が、接触するペリクルフレームに対し略平行な方向
    に伸長するが、僅かに内方に偏倚し、前記ホルダ内でペ
    リクルを保持する一対の弾性的アームを備え、前記弾性
    的アームが前記平坦部材と一体の部分を備えることを特
    徴とする装置。
  8. 【請求項8】 光学ペリクルを使用する方法にして、 ペリクルホルダ内で偏倚部分を湾曲させ、ペリクルの正
    面側を押し、前記ペリクルの背面側が前記ホルダ内の適
    所に露出されるようにすることにより、前記ペリクルを
    ペリクルホルダに着脱可能に取り付ける段階と、 前記ペリクルホルダを保持することにより、ペリクルを
    検査する段階と、 接着剤で前記ペリクルの背面側をフォトマスクに固定す
    ることにより、前記ペリクルを前記フォトマスクに取り
    付ける段階と、 前記ホルダを前記ペリクルから引っ張ることにより、前
    記ホルダを取り外す段階とを備えることを特徴とする方
    法。
JP22584192A 1991-08-26 1992-08-25 光学ペリクル保持装置及びその使用方法 Expired - Fee Related JP2665433B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/749,940 US5168993A (en) 1991-08-26 1991-08-26 Optical pellicle holder
US749940 1991-08-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05197135A true JPH05197135A (ja) 1993-08-06
JP2665433B2 JP2665433B2 (ja) 1997-10-22

Family

ID=25015860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22584192A Expired - Fee Related JP2665433B2 (ja) 1991-08-26 1992-08-25 光学ペリクル保持装置及びその使用方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5168993A (ja)
EP (1) EP0529826B1 (ja)
JP (1) JP2665433B2 (ja)
KR (1) KR960014053B1 (ja)
AT (1) ATE133918T1 (ja)
CA (1) CA2070257C (ja)
DE (1) DE69208183T2 (ja)
TW (1) TW215512B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009151197A (ja) * 2007-12-21 2009-07-09 Nec Corp フォトマスク受納器並びにこれを用いるレジスト検査方法及びその装置

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3089590B2 (ja) * 1991-07-12 2000-09-18 キヤノン株式会社 板状物収納容器およびその蓋開口装置
JPH0750762B2 (ja) * 1992-12-18 1995-05-31 山一電機株式会社 Icキャリア
JPH0763082B2 (ja) * 1993-02-15 1995-07-05 山一電機株式会社 Icキャリア
US5305878A (en) * 1993-04-01 1994-04-26 Yen Yung Tsai Packaged optical pellicle
JPH0831544B2 (ja) * 1993-06-29 1996-03-27 山一電機株式会社 Icキャリア
US5453816A (en) * 1994-09-22 1995-09-26 Micro Lithography, Inc. Protective mask for pellicle
JP3143337B2 (ja) * 1994-10-12 2001-03-07 信越ポリマー株式会社 ペリクル収納容器
JP3049537B2 (ja) * 1995-02-03 2000-06-05 悌二 竹崎 生検試料の定着支持方法とその定着支持剤及び包埋カセット
JP2709283B2 (ja) * 1995-04-07 1998-02-04 山一電機株式会社 Icキャリア
US5576125A (en) * 1995-07-27 1996-11-19 Micro Lithography, Inc. Method for making an optical pellicle
US5769984A (en) * 1997-02-10 1998-06-23 Micro Lithography, Inc. Optical pellicle adhesion system
US5772817A (en) * 1997-02-10 1998-06-30 Micro Lithography, Inc. Optical pellicle mounting system
JP3467191B2 (ja) * 1998-08-19 2003-11-17 信越化学工業株式会社 ペリクル製造用治具およびこれを用いたペリクルの製造方法
US6736386B1 (en) * 2001-04-10 2004-05-18 Dupont Photomasks, Inc. Covered photomask holder and method of using the same
US20030213716A1 (en) * 2002-05-17 2003-11-20 Brian Cleaver Wafer shipping and storage container
US6841317B2 (en) 2002-08-27 2005-01-11 Micro Lithography, Inc. Vent for an optical pellicle system
US7473301B2 (en) * 2002-09-17 2009-01-06 Euv Llc Adhesive particle shielding
US20070037067A1 (en) * 2005-08-15 2007-02-15 Ching-Bore Wang Optical pellicle with a filter and a vent
KR100596025B1 (ko) 2005-12-07 2006-07-03 권선용 펠리클 프레임용 지그어셈블리
DE102007063383B4 (de) * 2007-12-18 2020-07-02 HAP Handhabungs-, Automatisierungs- und Präzisionstechnik GmbH Vorrichtung und Verfahren zur Entfernung von Pelliclen von Masken
TWI473202B (zh) * 2011-12-19 2015-02-11 Ind Tech Res Inst 承載裝置及應用其之基材卸載方法
JP6274079B2 (ja) * 2014-11-04 2018-02-07 日本軽金属株式会社 ペリクル用支持枠および製造方法
US11137693B2 (en) 2018-11-30 2021-10-05 Iucf-Hyu (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University) Pellicle holder, pellicle inspection apparatus, and pellicle inspection method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02104353U (ja) * 1989-02-06 1990-08-20
JPH03229254A (ja) * 1989-09-27 1991-10-11 E I Du Pont De Nemours & Co 薄膜の包装及び取扱いシステム

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3489265A (en) * 1967-05-22 1970-01-13 Product Packaging Corp Fragile plate carrier
US3532213A (en) * 1969-03-26 1970-10-06 Varian Associates Holder for inspection,shipping and storage of glass optical elements
US3615006A (en) * 1969-06-26 1971-10-26 Ibm Storage container
US3695424A (en) * 1970-10-28 1972-10-03 Eastman Kodak Co Package for fragile articles
US4549843A (en) * 1983-03-15 1985-10-29 Micronix Partners Mask loading apparatus, method and cassette
US4470508A (en) * 1983-08-19 1984-09-11 Micro Lithography, Inc. Dustfree packaging container and method
US4511038A (en) * 1984-01-30 1985-04-16 Ekc Technology, Inc. Container for masks and pellicles
US4776462A (en) * 1985-09-27 1988-10-11 Canon Kabushiki Kaisha Container for a sheet-like article
US4697701A (en) * 1986-05-30 1987-10-06 Inko Industrial Corporation Dust free storage container for a membrane assembly such as a pellicle and its method of use

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02104353U (ja) * 1989-02-06 1990-08-20
JPH03229254A (ja) * 1989-09-27 1991-10-11 E I Du Pont De Nemours & Co 薄膜の包装及び取扱いシステム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009151197A (ja) * 2007-12-21 2009-07-09 Nec Corp フォトマスク受納器並びにこれを用いるレジスト検査方法及びその装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2665433B2 (ja) 1997-10-22
CA2070257C (en) 1996-01-30
CA2070257A1 (en) 1993-02-27
KR960014053B1 (ko) 1996-10-11
DE69208183D1 (de) 1996-03-21
TW215512B (ja) 1993-11-01
ATE133918T1 (de) 1996-02-15
EP0529826B1 (en) 1996-02-07
EP0529826A1 (en) 1993-03-03
DE69208183T2 (de) 1996-12-12
US5168993A (en) 1992-12-08
KR930005113A (ko) 1993-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2665433B2 (ja) 光学ペリクル保持装置及びその使用方法
US5305878A (en) Packaged optical pellicle
JP5268142B2 (ja) マスクブランク収納ケース及びマスクブランクの収納方法、並びにマスクブランク収納体
JP2011186032A (ja) ペリクルハンドリング治具
KR101268361B1 (ko) 페리클 수납용기
US20140226136A1 (en) Method and apparatus for cleaning photomask handling surfaces
JPH07297272A (ja) 基板収容容器
JP4202554B2 (ja) 半導体リソグラフィ用ペリクル
US5379506A (en) Device for removing/inserting an ozone filter from and into an electrophotographic apparatus
JPH07201948A (ja) 基板搬送治具
JP2005326634A (ja) ペリクルの収納方法
JPS61245163A (ja) マスク保護装置
JP2606934B2 (ja) 板状体の把持装置
JP4298989B2 (ja) チップイントレイ検査用プレート
JPH0666250B2 (ja) プロキシミテイ露光用マスク装置
JP2002107914A (ja) ペリクルおよびペリクルの装着方法
JP2006319012A (ja) 固定キャリア及びその製造方法
JP2005010765A (ja) 大型ペリクルの支持装置および装着方法
JP2607193B2 (ja) 露光用マスクの製造方法
JPH09106066A (ja) ペリクルライナーの剥離方法
JPH03177215A (ja) 板状体の把持装置
JPH1048811A (ja) マスク保護装置とペリクル枠
JP3100970B2 (ja) ペリクル貼付装置及びペリクルの接着面保護シート剥離装置
JPH10114389A (ja) ペリクル容器
JPH0621048U (ja) 着脱可能なペリクル

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090620

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees