JPH0519502A - 環状塗布装置 - Google Patents
環状塗布装置Info
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- JPH0519502A JPH0519502A JP17240091A JP17240091A JPH0519502A JP H0519502 A JPH0519502 A JP H0519502A JP 17240091 A JP17240091 A JP 17240091A JP 17240091 A JP17240091 A JP 17240091A JP H0519502 A JPH0519502 A JP H0519502A
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- Japan
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- liquid
- annular
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- liquid pool
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】塗布液供給口近傍に生じる圧力分布の不均一を
無くし、被塗布体の全周に渡って均一の膜厚とする。 【構成】外周面円筒形の被塗布体１を連続的にその長手
方向に移動する過程において、その周囲を環状に取り囲
み、前記被塗布体１の外周面に対して塗布液を塗布する
ものであって、さらに環状の液溜まり室１３と、この液
溜まり室１３内の一部に対して外部から塗布液を供給す
る供給口１４と、前記液溜まり室１３の内方に開口する
スリットとを有する環状塗布装置において、前記塗布液
供給口１４を前記環状液溜まり室１３の接線方向に設け
る。
無くし、被塗布体の全周に渡って均一の膜厚とする。 【構成】外周面円筒形の被塗布体１を連続的にその長手
方向に移動する過程において、その周囲を環状に取り囲
み、前記被塗布体１の外周面に対して塗布液を塗布する
ものであって、さらに環状の液溜まり室１３と、この液
溜まり室１３内の一部に対して外部から塗布液を供給す
る供給口１４と、前記液溜まり室１３の内方に開口する
スリットとを有する環状塗布装置において、前記塗布液
供給口１４を前記環状液溜まり室１３の接線方向に設け
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真用などのドラ
ム型またはシームレスベルト型感光体を製造するための
環状塗布装置に関する。
ム型またはシームレスベルト型感光体を製造するための
環状塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子写真用感光体としては、アルミニウ
ム製などの中空ドラムタイプのものと、アルミニウムな
どの金属を蒸着したポリエステルなどのプラスチックシ
ートのシームレスベルトタイプのものがある。一方、中
空ドラムタイプの場合、その外面上に感光液を塗布し電
子写真感光体を製造するための塗布方法としては、スプ
レー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布
法、およびスライドホッパー塗布法などが知られてい
る。しかし、スプレー塗布法では、スプレーガンより噴
出された感光液が被塗布物の外面上に到達する前に溶剤
が蒸発するために、乾燥固化した粒子が表面に付着し、
平滑性のよい塗布表面が得られずかつ膜厚の制御も難し
い。また、ブレード塗布法およびロール塗布法は、塗布
液の粘性により均一な塗膜が得られない欠点がある。さ
らに、浸漬塗布法は、上記の塗布表面の平滑性、塗布膜
の均一性の難点については改良されるが、膜厚の制御が
塗布液の物性と塗布速度に支配されるために、塗布液の
調整が非常に重要になるが、この調整は実際的に著しく
困難であり、また塗布速度も遅く生産性が悪い欠点があ
る。この点、たとえばスライドホッパー型環状塗布装置
を用いると、生産性が高く、かつ膜厚制御が容易となる
などの種々の利点がある。
ム製などの中空ドラムタイプのものと、アルミニウムな
どの金属を蒸着したポリエステルなどのプラスチックシ
ートのシームレスベルトタイプのものがある。一方、中
空ドラムタイプの場合、その外面上に感光液を塗布し電
子写真感光体を製造するための塗布方法としては、スプ
レー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布
法、およびスライドホッパー塗布法などが知られてい
る。しかし、スプレー塗布法では、スプレーガンより噴
出された感光液が被塗布物の外面上に到達する前に溶剤
が蒸発するために、乾燥固化した粒子が表面に付着し、
平滑性のよい塗布表面が得られずかつ膜厚の制御も難し
い。また、ブレード塗布法およびロール塗布法は、塗布
液の粘性により均一な塗膜が得られない欠点がある。さ
らに、浸漬塗布法は、上記の塗布表面の平滑性、塗布膜
の均一性の難点については改良されるが、膜厚の制御が
塗布液の物性と塗布速度に支配されるために、塗布液の
調整が非常に重要になるが、この調整は実際的に著しく
困難であり、また塗布速度も遅く生産性が悪い欠点があ
る。この点、たとえばスライドホッパー型環状塗布装置
を用いると、生産性が高く、かつ膜厚制御が容易となる
などの種々の利点がある。
【０００３】このスライドホッパー型塗布装置は、外周
面円筒形の被塗布体を連続的にその長手方向に移動する
過程において、その周囲を環状に取り囲み、前記被塗布
体の外周面に対して塗布液を塗布するものであって、さ
らにこの塗布装置は、環状の液溜まり室と、この液溜ま
り室内の一部に対して外部から塗布液を供給する供給口
と、前記液溜まり室の内方に開口するスリットとを有
し、このスリットから流出した塗布液を斜め下方に傾斜
する液スライド面を流下させ、液スライド面の下端の唇
状部のスライドエッジと被塗布体外面との僅かな間隙部
分において、ビードを形成し、被塗布体の移動に伴って
その外周面に転写するものである。
面円筒形の被塗布体を連続的にその長手方向に移動する
過程において、その周囲を環状に取り囲み、前記被塗布
体の外周面に対して塗布液を塗布するものであって、さ
らにこの塗布装置は、環状の液溜まり室と、この液溜ま
り室内の一部に対して外部から塗布液を供給する供給口
と、前記液溜まり室の内方に開口するスリットとを有
し、このスリットから流出した塗布液を斜め下方に傾斜
する液スライド面を流下させ、液スライド面の下端の唇
状部のスライドエッジと被塗布体外面との僅かな間隙部
分において、ビードを形成し、被塗布体の移動に伴って
その外周面に転写するものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記環
状塗布装置においては、塗布液は前記塗布液供給口から
環状液溜り室内に所定の圧力をもって供給されるため、
その圧力分布は前記塗布液供給口付近の圧力が高くな
り、左右周方向に分配されるに従って圧力は低くなる傾
向にある。そのため、前記塗布液供給口近傍のスリット
から流出する塗布液量が必然的に多くなるとともに、こ
の圧力分布の乱れにより塗布液の流出にも乱れが生じ、
被塗布体に形成される塗布膜が不均一となるなどの問題
があった。
状塗布装置においては、塗布液は前記塗布液供給口から
環状液溜り室内に所定の圧力をもって供給されるため、
その圧力分布は前記塗布液供給口付近の圧力が高くな
り、左右周方向に分配されるに従って圧力は低くなる傾
向にある。そのため、前記塗布液供給口近傍のスリット
から流出する塗布液量が必然的に多くなるとともに、こ
の圧力分布の乱れにより塗布液の流出にも乱れが生じ、
被塗布体に形成される塗布膜が不均一となるなどの問題
があった。
【０００５】そこで、本発明の主たる課題は、塗布液供
給口近傍に生じる圧力分布の不均一を無くし、被塗布体
の全周に渡って均一の膜厚とし得る環状塗布装置を提供
するものである。
給口近傍に生じる圧力分布の不均一を無くし、被塗布体
の全周に渡って均一の膜厚とし得る環状塗布装置を提供
するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題は、外周面円筒
形の被塗布体を連続的にその長手方向に移動する過程に
おいて、その周囲を環状に取り囲み、かつその内部に環
状の液溜まり室と、この液溜まり室内の一部に対して外
部から塗布液を供給する供給口と、前記液溜まり室の内
方に開口するスリットとを有する環状塗布装置におい
て、前記塗布液供給口を前記環状液溜まり室の接線方向
としたことで解決できる。
形の被塗布体を連続的にその長手方向に移動する過程に
おいて、その周囲を環状に取り囲み、かつその内部に環
状の液溜まり室と、この液溜まり室内の一部に対して外
部から塗布液を供給する供給口と、前記液溜まり室の内
方に開口するスリットとを有する環状塗布装置におい
て、前記塗布液供給口を前記環状液溜まり室の接線方向
としたことで解決できる。
【０００７】また、前記塗布液供給口を複数設けるこ
と、前記供給口を前記液溜り室の外側壁によって描かれ
る円の半径位置に相当する位置より外側に後退させて、
前記液溜り室内の供給口部分に供給塗布液の拡散用空間
を形成したこと、さらには、外周面円筒形の被塗布体を
連続的にその長手方向に移動する過程において、その周
囲を環状に取り囲み、かつその内部に相互に連通しかつ
直径の異なる二以上の環状液溜まり室と、最外郭環状液
溜まり室内に対して外部から塗布液を供給する供給口
と、最内郭環状液溜まり室の内方に開口するスリットと
を有することでもよい。この場合、液溜まり室内におい
て液面を有しない押し出し型塗布、たとえばスライドホ
ッパー型塗布装置に対して好適に適用できる。
と、前記供給口を前記液溜り室の外側壁によって描かれ
る円の半径位置に相当する位置より外側に後退させて、
前記液溜り室内の供給口部分に供給塗布液の拡散用空間
を形成したこと、さらには、外周面円筒形の被塗布体を
連続的にその長手方向に移動する過程において、その周
囲を環状に取り囲み、かつその内部に相互に連通しかつ
直径の異なる二以上の環状液溜まり室と、最外郭環状液
溜まり室内に対して外部から塗布液を供給する供給口
と、最内郭環状液溜まり室の内方に開口するスリットと
を有することでもよい。この場合、液溜まり室内におい
て液面を有しない押し出し型塗布、たとえばスライドホ
ッパー型塗布装置に対して好適に適用できる。
【０００８】
【作用】本発明によれば、塗布液供給口近傍における圧
力を分散・緩和せしめたので、環状液溜り室の周方向の
圧力分布が均一となり、被塗布体に対して均一な塗布膜
を形成することができるようになる。
力を分散・緩和せしめたので、環状液溜り室の周方向の
圧力分布が均一となり、被塗布体に対して均一な塗布膜
を形成することができるようになる。
【０００９】
【実施例】以下本発明を図面を参照しながら実施例によ
りさらに詳説する。本発明では、たとえば図１に示され
るように、外周面円筒形の被塗布体たとえば中空ドラム
１を連続的にその長手方向に上昇移動させる過程におい
て、その周囲を取り囲み、中空ドラム１の外周面に対し
て塗布ヘッド１０により塗布液Ｌが塗布される。なお、
対象の被塗布物としては、中空ドラムのほか、シームレ
スベルト型の被塗布物でもよい。前記塗布ヘッド１０に
は、中空ドラム１側に開口する塗布液流出口１１を有す
る幅狭の塗布液分配スリット１２が水平方向に形成され
ている。このスリット１２は環状液溜り室１３に連通
し、この環状液溜り室１３には貯留タンク４内の感光液
Ｌを圧送ポンプ５により供給管１４を介して供給するよ
うになっている。他方、スリット１２の塗布液流出口１
１の下側には、連続して下窄まりに傾斜し中空ドラム１
の外寸よりやや大なる寸法で終端をなすように形成され
た液スライド面１５が形成されている。さらに、この液
スライド面１５終端より下方に延びる唇状部１６が形成
されている。唇状部１６の下方には、これに連なる減圧
室１７が形成され、減圧ポンプに連なっている。減圧室
１７を減圧すると、唇状部１６に感光液を確実に導くこ
とができ、塗布性が良好となる。
りさらに詳説する。本発明では、たとえば図１に示され
るように、外周面円筒形の被塗布体たとえば中空ドラム
１を連続的にその長手方向に上昇移動させる過程におい
て、その周囲を取り囲み、中空ドラム１の外周面に対し
て塗布ヘッド１０により塗布液Ｌが塗布される。なお、
対象の被塗布物としては、中空ドラムのほか、シームレ
スベルト型の被塗布物でもよい。前記塗布ヘッド１０に
は、中空ドラム１側に開口する塗布液流出口１１を有す
る幅狭の塗布液分配スリット１２が水平方向に形成され
ている。このスリット１２は環状液溜り室１３に連通
し、この環状液溜り室１３には貯留タンク４内の感光液
Ｌを圧送ポンプ５により供給管１４を介して供給するよ
うになっている。他方、スリット１２の塗布液流出口１
１の下側には、連続して下窄まりに傾斜し中空ドラム１
の外寸よりやや大なる寸法で終端をなすように形成され
た液スライド面１５が形成されている。さらに、この液
スライド面１５終端より下方に延びる唇状部１６が形成
されている。唇状部１６の下方には、これに連なる減圧
室１７が形成され、減圧ポンプに連なっている。減圧室
１７を減圧すると、唇状部１６に感光液を確実に導くこ
とができ、塗布性が良好となる。
【００１０】かかる塗布装置において、中空ドラム１を
引き上げる過程で、感光液Ｌをスリット１２から押出
し、液スライド面１５に沿って流下させると、唇状部１
６に到った感光液は、その唇状部１６と中空ドラム１外
面とのクリアランスに相当する厚みをもって中空ドラム
１外面に塗布される。
引き上げる過程で、感光液Ｌをスリット１２から押出
し、液スライド面１５に沿って流下させると、唇状部１
６に到った感光液は、その唇状部１６と中空ドラム１外
面とのクリアランスに相当する厚みをもって中空ドラム
１外面に塗布される。
【００１１】しかし、たとえば一つの供給口から塗布液
を中心方向に向けて供給し、中空ドラム外面を塗布する
場合、環状液溜り室３２内での圧力の不均一により（供
給口部において液圧が高い）塗布液供給口の位置におい
て塗布膜厚が不均一となる。
を中心方向に向けて供給し、中空ドラム外面を塗布する
場合、環状液溜り室３２内での圧力の不均一により（供
給口部において液圧が高い）塗布液供給口の位置におい
て塗布膜厚が不均一となる。
【００１２】そこで、以下に示す４実施例により対処し
ている。
ている。
【００１３】第１実施例では、図２に示されるように、
塗布液供給口１４を環状液溜り室１３の接線方向に設け
ることによって、前記環状液溜り室１３内の周方向の圧
力分布の均一化を図り、塗布液が均一に流出するように
している。
塗布液供給口１４を環状液溜り室１３の接線方向に設け
ることによって、前記環状液溜り室１３内の周方向の圧
力分布の均一化を図り、塗布液が均一に流出するように
している。
【００１４】また、第２実施例では、図３に示されるよ
うに、従来一箇所から比較的高い圧力で環状液溜り室２
２内に供給されていた塗布液を、塗布ヘッド２０に対し
て複数の塗布液供給口２１Ａ〜２１Ｄを設け、複数箇所
より分散して環状液溜り室２２に供給することにより、
環状液溜り室２２内の周方向の圧力分布の均一化を図っ
ている。
うに、従来一箇所から比較的高い圧力で環状液溜り室２
２内に供給されていた塗布液を、塗布ヘッド２０に対し
て複数の塗布液供給口２１Ａ〜２１Ｄを設け、複数箇所
より分散して環状液溜り室２２に供給することにより、
環状液溜り室２２内の周方向の圧力分布の均一化を図っ
ている。
【００１５】第３実施例では、図４に示されるように、
塗布液供給口３１の位置と環状液溜り室３２の内側壁間
の距離ｌを長くするとともに、平面的に供給口３１部か
ら液溜り室３２の環状部分にすり付け、液溜まり空間を
形成するようにして、塗布液供給口３１部から供給され
た塗布液を、室内流入後に左右周方向に拡散させ、環状
液溜り室３２内の圧力を均一化している。
塗布液供給口３１の位置と環状液溜り室３２の内側壁間
の距離ｌを長くするとともに、平面的に供給口３１部か
ら液溜り室３２の環状部分にすり付け、液溜まり空間を
形成するようにして、塗布液供給口３１部から供給され
た塗布液を、室内流入後に左右周方向に拡散させ、環状
液溜り室３２内の圧力を均一化している。
【００１６】第４実施例では、図５に示されるように、
塗布ヘッド４０内に、互いに連通しかつ直径の異なる二
つの環状液溜り室４１、４２を形成することにより、塗
布液供給口４５から流入した塗布液の圧力を緩和せし
め、圧力の均一化を図ったものである。外側環状液溜り
室４１内に供給された塗布液は、連通する内側環状液溜
り室４２を経た後、スリット４３を通り、液スライド面
４４を流下し、被塗布体１に対して塗布される。なお、
前記環状液溜り室を三以上設ければより効果的となる。
塗布ヘッド４０内に、互いに連通しかつ直径の異なる二
つの環状液溜り室４１、４２を形成することにより、塗
布液供給口４５から流入した塗布液の圧力を緩和せし
め、圧力の均一化を図ったものである。外側環状液溜り
室４１内に供給された塗布液は、連通する内側環状液溜
り室４２を経た後、スリット４３を通り、液スライド面
４４を流下し、被塗布体１に対して塗布される。なお、
前記環状液溜り室を三以上設ければより効果的となる。
【００１７】ところで、感光体としては、電子写真用感
光体を製造する場合において公知のものをそのまま用い
ることができる。感光液としては、酸化亜鉛や硫化カド
ミウム等の無機感光材料、ポリビニルカルバゾールとト
リニトロフルオレン等の有機感光材料を高分子バインダ
ーに分散させたものなどを用いることができる。また近
年、高感度化、耐久性向上のために、電荷発生層と電荷
輸送層を積層した機能分離型感光層を製造することに用
いることもできる。感光体が複数層により形成される場
合には、前記の環状塗布装置の上方にさらに異なる塗布
液を塗布するための別の１種または２種以上の環状塗布
装置を配設できる。感光体は下引き層や電気発生層を有
する場合もある。したがって、本発明が対象とする塗布
液としては、感光材料自体のほか、感光体を製造する際
に関連する塗布液も含む。
光体を製造する場合において公知のものをそのまま用い
ることができる。感光液としては、酸化亜鉛や硫化カド
ミウム等の無機感光材料、ポリビニルカルバゾールとト
リニトロフルオレン等の有機感光材料を高分子バインダ
ーに分散させたものなどを用いることができる。また近
年、高感度化、耐久性向上のために、電荷発生層と電荷
輸送層を積層した機能分離型感光層を製造することに用
いることもできる。感光体が複数層により形成される場
合には、前記の環状塗布装置の上方にさらに異なる塗布
液を塗布するための別の１種または２種以上の環状塗布
装置を配設できる。感光体は下引き層や電気発生層を有
する場合もある。したがって、本発明が対象とする塗布
液としては、感光材料自体のほか、感光体を製造する際
に関連する塗布液も含む。
【００１８】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、塗布液供
給口近傍に生じる圧力分布の不均一を無くし、被塗布体
の全周に渡って均一の膜厚を形成することができる。
給口近傍に生じる圧力分布の不均一を無くし、被塗布体
の全周に渡って均一の膜厚を形成することができる。
【図１】本発明に係る塗布装置例の縦断面図である。
【図２】本発明第１実施例に係る塗布装置の水平断面図
である。
である。
【図３】本発明第２実施例に係る塗布装置の水平断面図
である。
である。
【図４】本発明第３実施例に係る塗布装置の水平断面図
である。
である。
【図５】本発明第４実施例に係る塗布装置の水平断面図
である。
である。
１…中空ドラム、１０・２０・３０…塗布ヘッド、４…
貯留タンク、５…循環ポンプ、１２…スリット、１３・
２２・３２・４１・４２…環状液溜り室、１４・２１Ａ
〜２１Ｄ・３１…塗布液供給口、１５・４４…液スライ
ド面、１６…唇状部
貯留タンク、５…循環ポンプ、１２…スリット、１３・
２２・３２・４１・４２…環状液溜り室、１４・２１Ａ
〜２１Ｄ・３１…塗布液供給口、１５・４４…液スライ
ド面、１６…唇状部
Claims (5)
- 【請求項１】外周面円筒形の被塗布体を連続的にその長
手方向に移動する過程において、その周囲を環状に取り
囲み、かつその内部に環状の液溜まり室と、この液溜ま
り室内に対して外部から塗布液を供給する供給口と、前
記液溜まり室の内方に開口するスリットとを有する環状
塗布装置において、 前記塗布液供給口を前記環状液溜まり室の接線方向に設
けたことを特徴とする環状塗布装置。 - 【請求項２】外周面円筒形の被塗布体を連続的にその長
手方向に移動する過程において、その周囲を環状に取り
囲み、かつその内部に環状の液溜まり室と、この液溜ま
り室内に対して外部から塗布液を供給する供給口と、前
記液溜まり室の内方に開口するスリットとを有する環状
塗布装置において、 前記塗布液供給口を複数設けたことを特徴とする環状塗
布装置。 - 【請求項３】外周面円筒形の被塗布体を連続的にその長
手方向に移動する過程において、その周囲を環状に取り
囲み、かつその内部に環状の液溜まり室と、この液溜ま
り室内に対して外部から塗布液を供給する供給口と、前
記液溜まり室の内方に開口するスリットとを有する環状
塗布装置において、 前記供給口を前記液溜り室の外側壁によって描かれる円
の半径位置に相当する位置より外側に後退させて、前記
液溜り室内の供給口部分に供給塗布液の拡散用空間を形
成したことを特徴とする環状塗布装置。 - 【請求項４】外周面円筒形の被塗布体を連続的にその長
手方向に移動する過程において、その周囲を環状に取り
囲み、かつその内部に相互に連通しかつ直径の異なる二
以上の環状液溜まり室と、最外郭環状液溜まり室内の一
部に対して外部から塗布液を供給する供給口と、最内郭
環状液溜まり室の内方に開口するスリットとを有するこ
とを特徴とする環状塗布装置。 - 【請求項５】環状の液溜り室内において液面を有しない
請求項１、２、３または請求項４記載の環状塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17240091A JPH0519502A (ja) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | 環状塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17240091A JPH0519502A (ja) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | 環状塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0519502A true JPH0519502A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=15941246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17240091A Pending JPH0519502A (ja) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | 環状塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0519502A (ja) |
-
1991
- 1991-07-12 JP JP17240091A patent/JPH0519502A/ja active Pending
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