JPH05188582A - ペリクル装着装置、及び方法 - Google Patents
ペリクル装着装置、及び方法Info
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- JPH05188582A JPH05188582A JP488092A JP488092A JPH05188582A JP H05188582 A JPH05188582 A JP H05188582A JP 488092 A JP488092 A JP 488092A JP 488092 A JP488092 A JP 488092A JP H05188582 A JPH05188582 A JP H05188582A
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- JP
- Japan
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- pressing
- pressure
- mask
- pellicle
- time interval
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レチクルに歪みが生じないようにペリクルを
装着する 【構成】 押圧部５には局所領域を個別に押圧可能なア
クチュエータ６が設けられている。ペリクルが張られた
ペリクルフレーム１０が仮装着されているレチクル９を
固定押圧部１３と押圧部５とで押圧する。この際、軽荷
重で押圧を行い、このときのレチクル９の歪みをＣＣＤ
カメラを介して観測し、画像処理部１５で歪みの大きさ
と状態を検出する。制御部１６は画像処理部１５からの
情報に基づいてアクチュエータ６を駆動し、歪みを許容
値以下とする。その後、好適な圧力で押圧を行い、歪み
のない装着を可能とする。
装着する 【構成】 押圧部５には局所領域を個別に押圧可能なア
クチュエータ６が設けられている。ペリクルが張られた
ペリクルフレーム１０が仮装着されているレチクル９を
固定押圧部１３と押圧部５とで押圧する。この際、軽荷
重で押圧を行い、このときのレチクル９の歪みをＣＣＤ
カメラを介して観測し、画像処理部１５で歪みの大きさ
と状態を検出する。制御部１６は画像処理部１５からの
情報に基づいてアクチュエータ６を駆動し、歪みを許容
値以下とする。その後、好適な圧力で押圧を行い、歪み
のない装着を可能とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ペリクル装着装置、及
び方法に関し、特にペリクルが張られたフレームを露光
装置に用いられるレチクルやマスク等の原板に装着する
装置、及び方法に関するものである。
び方法に関し、特にペリクルが張られたフレームを露光
装置に用いられるレチクルやマスク等の原板に装着する
装置、及び方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のペリクル装着装置を図４に示す。
図４（Ａ）はペリクル装着装置により、露光用原板（レ
チクル等）９の両面にフレーム１０ａ、１０ｂが仮装着
された様子を示す図であり、原板９にはペリクル１１ａ
が張られたフレーム１０ａと、ペリクル１１ｂが張られ
たフレーム１０ｂとが接着剤１８を介して仮装着されて
いる。原板９はアーム１２ａにより保持された状態で貼
り付け部に搬送される。そして、図４（Ｂ）に示すよう
に、押圧部５がＺ方向に移動し、固定押圧板１３と押圧
部５とでフレーム１０ａ、及びフレーム１０ｂを介して
原板９を所定の圧力で挟み込み、所定時間押圧してペリ
クルを装着していた。
図４（Ａ）はペリクル装着装置により、露光用原板（レ
チクル等）９の両面にフレーム１０ａ、１０ｂが仮装着
された様子を示す図であり、原板９にはペリクル１１ａ
が張られたフレーム１０ａと、ペリクル１１ｂが張られ
たフレーム１０ｂとが接着剤１８を介して仮装着されて
いる。原板９はアーム１２ａにより保持された状態で貼
り付け部に搬送される。そして、図４（Ｂ）に示すよう
に、押圧部５がＺ方向に移動し、固定押圧板１３と押圧
部５とでフレーム１０ａ、及びフレーム１０ｂを介して
原板９を所定の圧力で挟み込み、所定時間押圧してペリ
クルを装着していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、露光用原板にペリクル付フレームを装着す
る際、原板の両側から一定の圧力で単純に押圧していた
ので、原板に歪みが生じ、露光時に像面が湾曲するとい
う問題があった。そこで本発明では、原板の歪みを適性
な値にまで小さくしてフレームを装着することを目的と
する。
においては、露光用原板にペリクル付フレームを装着す
る際、原板の両側から一定の圧力で単純に押圧していた
ので、原板に歪みが生じ、露光時に像面が湾曲するとい
う問題があった。そこで本発明では、原板の歪みを適性
な値にまで小さくしてフレームを装着することを目的と
する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的の為に本発明で
は、マスク（９）に塵埃等が付着するのを防止するため
にペリクル（１１）が張られた枠部材（１０）を有する
マスク保護部材をマスクに押圧する押圧部（５）を有
し、マスク保護部材をマスクに装着する装置において、
マスク保護部材押圧時にマスクの歪みを計測する計測手
段（１４、１５）と；押圧部に設けられ、枠部材の局所
領域を個別に押圧可能な複数の局所押圧部材（６）と；
計測手段からの計測結果に基づいて複数の局所押圧部材
の押圧力を調整する調整手段（１６）とを設けた
は、マスク（９）に塵埃等が付着するのを防止するため
にペリクル（１１）が張られた枠部材（１０）を有する
マスク保護部材をマスクに押圧する押圧部（５）を有
し、マスク保護部材をマスクに装着する装置において、
マスク保護部材押圧時にマスクの歪みを計測する計測手
段（１４、１５）と；押圧部に設けられ、枠部材の局所
領域を個別に押圧可能な複数の局所押圧部材（６）と；
計測手段からの計測結果に基づいて複数の局所押圧部材
の押圧力を調整する調整手段（１６）とを設けた
【０００５】
【作用】本発明では、露光原板の押圧時に原板の歪みを
計測し、計測結果に基づいて押圧力を局所的に調整でき
るようにした為、原板の歪みを許容範囲まで小さくした
状態でペリクルの装着ができる。
計測し、計測結果に基づいて押圧力を局所的に調整でき
るようにした為、原板の歪みを許容範囲まで小さくした
状態でペリクルの装着ができる。
【０００６】
【実施例】図１は本発明の一実施例に好適なペリクル装
着装置の概略を示す図である。可動押圧部は押圧部５と
駆動部７とで構成されている。押圧部５はペリクルフレ
ーム１０の面形状（Ｚ方向からみた面形状）とほぼ等し
い面形状を持つ中空構造の枠状押圧部である。この押圧
部５のレチクル９側の各辺端面にはピエゾ素子等の電歪
素子アクチュエータ６が設けられている。アクチュエー
タ６の各素子はペリクルフレーム１０の各辺を局所押圧
できるよう直線状に複数個設けられており、各々のアク
チュエータは制御部１６からの制御信号に基づいて個別
に制御（変位）可能である。押圧部５は中空構造の駆動
台７ａ上に設けられており、駆動台７ａとともに、一次
元方向に移動可能となっている。駆動台７ａはモータ等
（不図示）を動力源とするボールネジ７ｂによりＺ方向
に移動可能である。ここで、押圧部５近傍には歪みゲー
ジ２０が設けられており、制御部１６は押圧時の圧力を
計測可能となっている。尚、アクチュエータはペリクル
フレーム１０の各辺を局所押圧可能であればよく、電歪
素子に限るものではない。また、個別変位可能な素子が
一体に形成されていても局所押圧可能であれば構わな
い。
着装置の概略を示す図である。可動押圧部は押圧部５と
駆動部７とで構成されている。押圧部５はペリクルフレ
ーム１０の面形状（Ｚ方向からみた面形状）とほぼ等し
い面形状を持つ中空構造の枠状押圧部である。この押圧
部５のレチクル９側の各辺端面にはピエゾ素子等の電歪
素子アクチュエータ６が設けられている。アクチュエー
タ６の各素子はペリクルフレーム１０の各辺を局所押圧
できるよう直線状に複数個設けられており、各々のアク
チュエータは制御部１６からの制御信号に基づいて個別
に制御（変位）可能である。押圧部５は中空構造の駆動
台７ａ上に設けられており、駆動台７ａとともに、一次
元方向に移動可能となっている。駆動台７ａはモータ等
（不図示）を動力源とするボールネジ７ｂによりＺ方向
に移動可能である。ここで、押圧部５近傍には歪みゲー
ジ２０が設けられており、制御部１６は押圧時の圧力を
計測可能となっている。尚、アクチュエータはペリクル
フレーム１０の各辺を局所押圧可能であればよく、電歪
素子に限るものではない。また、個別変位可能な素子が
一体に形成されていても局所押圧可能であれば構わな
い。
【０００７】押圧部５のＺ方向上方には中空部を備えた
固定押圧板１３が設けられている。そして、固定押圧板
１３のＺ方向レチクル側にはペリクルフレーム１０の面
形状とほぼ等しい面形状を有する突出部１３ａが設けら
れており、押圧時にはこの突出部１３ａと押圧部５とで
レチクル９を介してペリクルフレーム１０を挟み込む。
さらに、固定押圧部１３の中空部には固定偏光板１３ｂ
が設けられており、固定押圧板１３のＺ方向上方にはペ
リクルフレーム１０で囲まれたレチクル９の領域を撮像
するＣＣＤカメラ１４が設けられている。ここで、組立
テーブル１２はレチクル９を保持可能なコの字型アーム
１２ａを有し、不図示のテーブル駆動系によりＸ方向に
移動可能である。レチクル９はペリクル１１が張られた
ペリクルフレーム１０が両面に仮装着された状態（ペリ
クルフレームが落ちない程度にレチクルに装着されてい
る状態）でアーム１２ａの上に保持され、押圧時には、
組立テーブル１２が移動し、ペリクル装着済のレチクル
９は押圧部５と固定押圧板１３との間の空間に進入す
る。この時の押圧部５とペリクルフレーム１０とが接触
可能となるようにテーブル駆動系で位置決めされる。
固定押圧板１３が設けられている。そして、固定押圧板
１３のＺ方向レチクル側にはペリクルフレーム１０の面
形状とほぼ等しい面形状を有する突出部１３ａが設けら
れており、押圧時にはこの突出部１３ａと押圧部５とで
レチクル９を介してペリクルフレーム１０を挟み込む。
さらに、固定押圧部１３の中空部には固定偏光板１３ｂ
が設けられており、固定押圧板１３のＺ方向上方にはペ
リクルフレーム１０で囲まれたレチクル９の領域を撮像
するＣＣＤカメラ１４が設けられている。ここで、組立
テーブル１２はレチクル９を保持可能なコの字型アーム
１２ａを有し、不図示のテーブル駆動系によりＸ方向に
移動可能である。レチクル９はペリクル１１が張られた
ペリクルフレーム１０が両面に仮装着された状態（ペリ
クルフレームが落ちない程度にレチクルに装着されてい
る状態）でアーム１２ａの上に保持され、押圧時には、
組立テーブル１２が移動し、ペリクル装着済のレチクル
９は押圧部５と固定押圧板１３との間の空間に進入す
る。この時の押圧部５とペリクルフレーム１０とが接触
可能となるようにテーブル駆動系で位置決めされる。
【０００８】光源１は特に限定されるものではないが、
白色光または単色光を射出するものであり、レチクル９
を均一に照明する。可動偏光板２は光源１と押圧部５と
の間に設けられ、光源１からの光の偏光状態（方向）を
制御する。可動偏光板２は固定台３に取り付けられてお
り、モータ４により回転可能となっている。光源１から
の光の偏光状態はこの可動偏光板２の回転により変更可
能となっている。
白色光または単色光を射出するものであり、レチクル９
を均一に照明する。可動偏光板２は光源１と押圧部５と
の間に設けられ、光源１からの光の偏光状態（方向）を
制御する。可動偏光板２は固定台３に取り付けられてお
り、モータ４により回転可能となっている。光源１から
の光の偏光状態はこの可動偏光板２の回転により変更可
能となっている。
【０００９】また、本装置には片持ち状態での押圧に起
因するたわみが押圧部５に生じないようにリニアガイド
８がＺ方向に延びるように設けられている。前述の光源
１、可動偏光板２、駆動台７ａ、ボールネジ７ｂ、固定
押圧板１３、ＣＣＤカメラ１４は下からこの順番でガイ
ド８に設けられている（図２参照）。さて、光源１から
の光は可動偏光板２を介して押圧部５を通過し、さらに
レチクル９、ペリクルフレーム１０、固定偏光板１３ｂ
を介してＣＣＤカメラ１４に達する。固定偏光板１３ｂ
は可動偏光板２からの光のうち所定方向に偏光された光
のみを通過させる。ＣＣＤカメラ１４からの画像情報は
画像処理部１５へ送られ、後述する画像処理が行われ
る。この処理結果は制御部１６へ送られ、アクチュエー
タ６を制御するための情報となる。制御部１６は前述の
アクチュエータ６の制御の他、アーム１２や駆動部７の
移動、さらに可動偏光板２の回転等装置全体を統括的に
制御する。
因するたわみが押圧部５に生じないようにリニアガイド
８がＺ方向に延びるように設けられている。前述の光源
１、可動偏光板２、駆動台７ａ、ボールネジ７ｂ、固定
押圧板１３、ＣＣＤカメラ１４は下からこの順番でガイ
ド８に設けられている（図２参照）。さて、光源１から
の光は可動偏光板２を介して押圧部５を通過し、さらに
レチクル９、ペリクルフレーム１０、固定偏光板１３ｂ
を介してＣＣＤカメラ１４に達する。固定偏光板１３ｂ
は可動偏光板２からの光のうち所定方向に偏光された光
のみを通過させる。ＣＣＤカメラ１４からの画像情報は
画像処理部１５へ送られ、後述する画像処理が行われ
る。この処理結果は制御部１６へ送られ、アクチュエー
タ６を制御するための情報となる。制御部１６は前述の
アクチュエータ６の制御の他、アーム１２や駆動部７の
移動、さらに可動偏光板２の回転等装置全体を統括的に
制御する。
【００１０】次に、本装置の全体的な動作の一例を図２
を参照して説明する。 〔ステップ１００〕アーム１２ａで保持され、かつペリ
クルが仮装着されているレチクル９は組立テーブル１２
の移動により、押圧部５と固定押圧板１３との間に進入
する。押圧部５とペリクルフレーム１０との位置決めは
組立テーブル１２が所定量だけ送り込まれることにより
制御される。この時の位置決め精度はテーブル駆動系の
送り精度に依存した値となる。 〔ステップ１０１〕次にボールネジ７ｂの駆動により押
圧部５がレチクル９に向かって上方に移動する。押圧部
５はアクチュエータ６がレチクル９の下面に仮装着され
たペリクルフレーム１０ｂに接触するまで移動し、さら
にレチクル９の上面に仮装着されたペリクルフレーム１
０ａが突出部１３ａに係合するまでレチクル９を持ち上
げながら移動する。この係合と同時に制御部１６内のタ
イマーがスタートする。その後、押圧部５はレチクル９
を所定量だけ移動し、ペリクルフレーム１０は突出部１
３ａと押圧部５とによりレチクル９に圧力Ｐ1 （軽荷
重）で押しつけられる（予備押圧）。この時の圧力Ｐ1
は装着に好適な圧力Ｐ2 の２０％程度の軽荷重が望まし
い。この時アクチュエータ６はＺ方向に均一な長さを有
しており（初期状態）、ペリクルフレーム１０はほぼ均
一な圧力でレチクル９に押しつけられる。この段階でレ
チクル９には押圧力による歪みが発生しており、軽荷重
Ｐ1 での歪みの傾向と装着に好適な圧力Ｐ2 での歪みの
傾向はほぼ等しい。従って、以下の如く圧力Ｐ1 での押
圧時に歪みの傾向を求め、歪みを許容範囲内（理想的に
は零）とするように調整した後、圧力Ｐ2 まで圧力を増
加し、圧力Ｐ2 で押圧（本押圧）を行う。また、圧力増
加過程で歪みが許容値を越えるような場合は最終押圧力
を調整して押圧を行うようにすればよい。このように、
予備押圧を行い歪みを調整した後、所定の押圧力で本押
圧を行うことにより歪みのない状態でペリクルの装着が
可能となる。
を参照して説明する。 〔ステップ１００〕アーム１２ａで保持され、かつペリ
クルが仮装着されているレチクル９は組立テーブル１２
の移動により、押圧部５と固定押圧板１３との間に進入
する。押圧部５とペリクルフレーム１０との位置決めは
組立テーブル１２が所定量だけ送り込まれることにより
制御される。この時の位置決め精度はテーブル駆動系の
送り精度に依存した値となる。 〔ステップ１０１〕次にボールネジ７ｂの駆動により押
圧部５がレチクル９に向かって上方に移動する。押圧部
５はアクチュエータ６がレチクル９の下面に仮装着され
たペリクルフレーム１０ｂに接触するまで移動し、さら
にレチクル９の上面に仮装着されたペリクルフレーム１
０ａが突出部１３ａに係合するまでレチクル９を持ち上
げながら移動する。この係合と同時に制御部１６内のタ
イマーがスタートする。その後、押圧部５はレチクル９
を所定量だけ移動し、ペリクルフレーム１０は突出部１
３ａと押圧部５とによりレチクル９に圧力Ｐ1 （軽荷
重）で押しつけられる（予備押圧）。この時の圧力Ｐ1
は装着に好適な圧力Ｐ2 の２０％程度の軽荷重が望まし
い。この時アクチュエータ６はＺ方向に均一な長さを有
しており（初期状態）、ペリクルフレーム１０はほぼ均
一な圧力でレチクル９に押しつけられる。この段階でレ
チクル９には押圧力による歪みが発生しており、軽荷重
Ｐ1 での歪みの傾向と装着に好適な圧力Ｐ2 での歪みの
傾向はほぼ等しい。従って、以下の如く圧力Ｐ1 での押
圧時に歪みの傾向を求め、歪みを許容範囲内（理想的に
は零）とするように調整した後、圧力Ｐ2 まで圧力を増
加し、圧力Ｐ2 で押圧（本押圧）を行う。また、圧力増
加過程で歪みが許容値を越えるような場合は最終押圧力
を調整して押圧を行うようにすればよい。このように、
予備押圧を行い歪みを調整した後、所定の押圧力で本押
圧を行うことにより歪みのない状態でペリクルの装着が
可能となる。
【００１１】〔ステップ１０２〕この圧力Ｐ1 での押し
つけ時での歪みの大きさや分布の状態を求める。前述の
如く光源１からの光は可動偏光板２、押圧部５、レチク
ル９、ペリクルフレーム１０、固定偏光板１３ｂを介し
てＣＣＤ１４に達する。ＣＣＤ１４はレチクル９上を撮
像し、画像処理部１５はＣＣＤ１４からの画像情報から
レチクル９上の応力分布を求める。この応力分布は光弾
性観測により求めることができる。具体的には可動偏光
板２を回転させ、縞模様の空間周波数のスペクトルが最
も広帯域に現れる位置（応力分布が最もよく検出できる
偏光状態となる可動偏光板２の位置）で回転を停止す
る。この場合におけるＣＣＤ１４からの画像信号を画像
処理することにより応力分布（歪みの大きさ、歪みの分
布状態）を求めることができる。制御部１６はこの応力
分布とアクチュエータ６の個々の素子の駆動（変位）量
との関係を予めテーブル値として持っておき、画像処理
部１５からの応力情報とこのテーブル値とから歪みを許
容値以下にする為の局所押圧力を算出する。制御部１６
はこの算出結果に基づいてアクチュエータ６の各素子の
押圧力を変化させ、レチクル９の歪みを制御前に較べて
小さくする。 〔ステップ１０３〕制御部１６は歪みの値が許容範囲内
か否かチェックを行い、許容範囲内ならばステップ１０
４に進み、許容範囲外ならばステップ１０２の動作を繰
り返す。
つけ時での歪みの大きさや分布の状態を求める。前述の
如く光源１からの光は可動偏光板２、押圧部５、レチク
ル９、ペリクルフレーム１０、固定偏光板１３ｂを介し
てＣＣＤ１４に達する。ＣＣＤ１４はレチクル９上を撮
像し、画像処理部１５はＣＣＤ１４からの画像情報から
レチクル９上の応力分布を求める。この応力分布は光弾
性観測により求めることができる。具体的には可動偏光
板２を回転させ、縞模様の空間周波数のスペクトルが最
も広帯域に現れる位置（応力分布が最もよく検出できる
偏光状態となる可動偏光板２の位置）で回転を停止す
る。この場合におけるＣＣＤ１４からの画像信号を画像
処理することにより応力分布（歪みの大きさ、歪みの分
布状態）を求めることができる。制御部１６はこの応力
分布とアクチュエータ６の個々の素子の駆動（変位）量
との関係を予めテーブル値として持っておき、画像処理
部１５からの応力情報とこのテーブル値とから歪みを許
容値以下にする為の局所押圧力を算出する。制御部１６
はこの算出結果に基づいてアクチュエータ６の各素子の
押圧力を変化させ、レチクル９の歪みを制御前に較べて
小さくする。 〔ステップ１０３〕制御部１６は歪みの値が許容範囲内
か否かチェックを行い、許容範囲内ならばステップ１０
４に進み、許容範囲外ならばステップ１０２の動作を繰
り返す。
【００１２】ここで、制御部１６はステップ１０１での
タイマーＯＮから歪みの値が許容範囲となるまでの時間
間隔ｔ1 を計測する。 〔ステップ１０４〕次に圧力Ｐ2 となるまで押圧部５を
さらに移動する。この間もレチクル９の応力分布は画像
処理部１５で検出され、制御部１６では歪みの量が許容
範囲内であるか否かのチェックを引き続き行う。ここで
押圧力が圧力Ｐ2 に達しても応力分布が許容範囲内であ
れば、ステップ１０５へ進む。一方、圧力Ｐ1 から圧力
Ｐ2 への押圧力増加の過程で歪みが許容値を越える場合
はステップ１０７へ進む。
タイマーＯＮから歪みの値が許容範囲となるまでの時間
間隔ｔ1 を計測する。 〔ステップ１０４〕次に圧力Ｐ2 となるまで押圧部５を
さらに移動する。この間もレチクル９の応力分布は画像
処理部１５で検出され、制御部１６では歪みの量が許容
範囲内であるか否かのチェックを引き続き行う。ここで
押圧力が圧力Ｐ2 に達しても応力分布が許容範囲内であ
れば、ステップ１０５へ進む。一方、圧力Ｐ1 から圧力
Ｐ2 への押圧力増加の過程で歪みが許容値を越える場合
はステップ１０７へ進む。
【００１３】先ず、押圧力が圧力Ｐ2 に達しても歪みが
許容範囲である場合から説明する。 〔ステップ１０５〕ステップ１０３で計測した時間間隔
ｔ1 に基づいて次の（１）から装着に必要な残りの時間
間隔ｔ2 を求める。ここで、Ａは装着に必要な圧力と時
間間隔との積の総和である。 ｔ2 ＝Ａ−（Ｐ1 ×ｔ1 ）／Ｐ2 …（１） 〔ステップ１０６〕圧力Ｐ2 で所定の時間間隔ｔ2 だけ
押圧を続ける。 〔ステップ１１０〕時間間隔ｔ2 経過後ペリクルフレー
ム１０の装着が完了した後に、可動押圧部５が移動しペ
リクルフレーム１０と突出部１３ａとが離れた時、タイ
マーをＯＦＦにする。そして、ペリクルフレーム装着後
のレチクル９を組立テーブル１２に戻した後、さらに可
動押圧部５を始めの位置まで移動する。このときアクチ
ュエータ６は初期状態に戻される。 〔ステップ１１１〕組立テーブル１２は所定位置まで戻
される。
許容範囲である場合から説明する。 〔ステップ１０５〕ステップ１０３で計測した時間間隔
ｔ1 に基づいて次の（１）から装着に必要な残りの時間
間隔ｔ2 を求める。ここで、Ａは装着に必要な圧力と時
間間隔との積の総和である。 ｔ2 ＝Ａ−（Ｐ1 ×ｔ1 ）／Ｐ2 …（１） 〔ステップ１０６〕圧力Ｐ2 で所定の時間間隔ｔ2 だけ
押圧を続ける。 〔ステップ１１０〕時間間隔ｔ2 経過後ペリクルフレー
ム１０の装着が完了した後に、可動押圧部５が移動しペ
リクルフレーム１０と突出部１３ａとが離れた時、タイ
マーをＯＦＦにする。そして、ペリクルフレーム装着後
のレチクル９を組立テーブル１２に戻した後、さらに可
動押圧部５を始めの位置まで移動する。このときアクチ
ュエータ６は初期状態に戻される。 〔ステップ１１１〕組立テーブル１２は所定位置まで戻
される。
【００１４】以上のステップによりペリクルフレーム１
０が装着される。次に押圧力が圧力Ｐ2 に達する前に歪
みが許容値を越える場合について説明する。 〔ステップ１０７〕制御部１６は歪みが許容値に達した
時点で圧力の増加（押圧部材５の移動）を停止し、その
時の圧力Ｐ3 を求める。 〔ステップ１０８〕圧力Ｐ3 による押圧時間間隔ｔ3 を
前述の（１）と同様に（２）式から求める。 ｔ3 ＝Ａ−（Ｐ1 ×ｔ1 ）／Ｐ3 …（２） 〔ステップ１０９〕圧力Ｐ3 で所定の時間間隔ｔ3 だけ
押圧を続ける。
０が装着される。次に押圧力が圧力Ｐ2 に達する前に歪
みが許容値を越える場合について説明する。 〔ステップ１０７〕制御部１６は歪みが許容値に達した
時点で圧力の増加（押圧部材５の移動）を停止し、その
時の圧力Ｐ3 を求める。 〔ステップ１０８〕圧力Ｐ3 による押圧時間間隔ｔ3 を
前述の（１）と同様に（２）式から求める。 ｔ3 ＝Ａ−（Ｐ1 ×ｔ1 ）／Ｐ3 …（２） 〔ステップ１０９〕圧力Ｐ3 で所定の時間間隔ｔ3 だけ
押圧を続ける。
【００１５】押圧が終了したら前述のステップ１１０へ
進み前述と同様の動作でペリクルフレーム１０の装着が
完了する。ステップ１０７からステップ１０９までの工
程は歪みが許容範囲外となってしまう場合に行う補助工
程である。本実施例では、レチクル９内の応力とペリク
ル１１内の応力との両方の影響を受けた偏光を観測する
ことになる。しかし、ペリクル１１は極めて薄い膜なの
で、応力感度係数が小さく、偏光は主にレチクル９内部
の応力の影響を受けると考えることができる。また、ス
テップ３では応力分布とアクチュエータ６の個々の素子
の駆動（変位）量との関係を予めテーブル値として持っ
ておき、画像処理部１５からの応力情報とこのテーブル
値とから局所押圧力を算出したが、応力分布を観測しな
がら素子を駆動させ、最適な応力分布となるまで観測と
駆動を繰り返すようにしてもよい。この際、ロットの始
めについてはこのような観測と駆動の繰り返しを行い、
歪みの傾向がほぼ一定であると認識した場合には予め歪
みに合わせて素子を駆動させる等の学習機能を持たせる
ようにしてもよい。
進み前述と同様の動作でペリクルフレーム１０の装着が
完了する。ステップ１０７からステップ１０９までの工
程は歪みが許容範囲外となってしまう場合に行う補助工
程である。本実施例では、レチクル９内の応力とペリク
ル１１内の応力との両方の影響を受けた偏光を観測する
ことになる。しかし、ペリクル１１は極めて薄い膜なの
で、応力感度係数が小さく、偏光は主にレチクル９内部
の応力の影響を受けると考えることができる。また、ス
テップ３では応力分布とアクチュエータ６の個々の素子
の駆動（変位）量との関係を予めテーブル値として持っ
ておき、画像処理部１５からの応力情報とこのテーブル
値とから局所押圧力を算出したが、応力分布を観測しな
がら素子を駆動させ、最適な応力分布となるまで観測と
駆動を繰り返すようにしてもよい。この際、ロットの始
めについてはこのような観測と駆動の繰り返しを行い、
歪みの傾向がほぼ一定であると認識した場合には予め歪
みに合わせて素子を駆動させる等の学習機能を持たせる
ようにしてもよい。
【００１６】さらに、ペリクルフレーム１０が突出部１
３ａに係合するのに連動して応力分布の観測を開始し、
ペリクルフレーム１０が突出部１３ａから離れた時観測
を終了するようにしてもよい。なお、押圧力を受けたレ
チクル９の歪み分布状態を観測する別の方法として、レ
チクル９面に対してコヒーレント光を垂直に照射し、表
面反射光と裏面反射光による干渉縞を観測するようにし
てもよい。
３ａに係合するのに連動して応力分布の観測を開始し、
ペリクルフレーム１０が突出部１３ａから離れた時観測
を終了するようにしてもよい。なお、押圧力を受けたレ
チクル９の歪み分布状態を観測する別の方法として、レ
チクル９面に対してコヒーレント光を垂直に照射し、表
面反射光と裏面反射光による干渉縞を観測するようにし
てもよい。
【００１７】また上記の実施例は、レチクルの両面にペ
リクルフレームを装着する場合だけでなく、片面のみに
装着する場合にも適用できる。
リクルフレームを装着する場合だけでなく、片面のみに
装着する場合にも適用できる。
【００１８】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば露光用原
板の押圧時に原板の歪みを観測し、観測結果に基づいて
押圧力を局所的に調整できるようにしたので、原板の歪
みを小さくした状態でペリクルの装着ができる。また、
歪みのない状態でペリクルの装着が完了するため、露光
原板の歪みに起因する露光時の像面湾曲の問題は解消す
る。
板の押圧時に原板の歪みを観測し、観測結果に基づいて
押圧力を局所的に調整できるようにしたので、原板の歪
みを小さくした状態でペリクルの装着ができる。また、
歪みのない状態でペリクルの装着が完了するため、露光
原板の歪みに起因する露光時の像面湾曲の問題は解消す
る。
【図１】本発明の一実施例によるペリクル装着装置の概
略を示す斜視図、
略を示す斜視図、
【図２】図１の装置の側面図、
【図３】図３は図１の装置によるペリクル装着の動作を
説明する流れ図、
説明する流れ図、
【図４】（Ａ）レチクルにペリクルが仮装着されている
状態を示す図、（Ｂ）従来の貼り付け動作を説明する図
である。
状態を示す図、（Ｂ）従来の貼り付け動作を説明する図
である。
５…押圧部、 ９…レチクル １０…ペリクルフレーム １１…ペリクル １３…固定押圧板 １４…ＣＣＤカメラ １５…画像処理部 １６…制御部 ２０…歪みゲージ
Claims (5)
- 【請求項１】 マスクに塵埃等が付着するのを防止する
ためにペリクルが張られた枠部材を有するマスク保護部
材を前記マスクに押圧する押圧部を有し、該マスク保護
部材を前記マスクに装着する装置において、 前記マスク保護部材押圧時に前記マスクの歪みを計測す
る計測手段と；前記押圧部に設けられ、前記枠部材の局
所領域を個別に押圧可能な複数の局所押圧部材と；前記
計測手段からの計測結果に基づいて前記複数の局所押圧
部材の押圧力を調整する調整手段とを有することを特徴
とするペリクル装着装置。 - 【請求項２】 前記歪みが許容値以下となるように前記
調整手段をフィードバック制御する制御手段を有し、前
記計測手段は前記歪みを実時間で計測することを特徴と
する請求項１記載のペリクル装着装置。 - 【請求項３】 マスクに塵埃等が付着するのを防止する
ためにペリクルが張られた枠部材を有するマスク保護部
材を前記マスクに押圧する押圧部を備えたペリクル装着
装置を使用し、該マスク保護部材を前記マスクに装着す
るペリクル装着方法において、 前記マスク保護部材を所定の第１圧力で押圧する第１工
程と；前記第１工程での前記マスクの歪みを計測する第
２工程と；前記第２工程で計測された計測結果に基づい
て前記枠部材に対する局所的な押圧力を調整する第３工
程と；前記歪みが許容値以下となるまで前記第２工程と
前記第３工程とを繰り返す第４工程と；前記第１工程が
開始されてから前記第４工程が終了するまでの第１時間
間隔を計測する第５工程と；前記押圧部による押圧力を
前記第１圧力から所定の第２圧力へ変更する第６工程
と；少なくとも前記第１時間間隔に基づいて前記装着に
必要な残りの第２時間間隔を求める第７工程と；前記第
２圧力で前記第２時間間隔だけ前記枠部材を押圧する第
８工程と；前記第２時間間隔経過後、押圧を終了する第
９工程とを有することを特徴とするペリクル装着方法。 - 【請求項４】 前記第６工程は押圧力が前記第２圧力に
達するまでに前記歪みが前記許容値を越えるか否かを検
出し、前記歪みが前記許容値を越える場合には、前記歪
みが前記許容値に達した時の圧力を前記第２圧力とする
補助工程を含むことを特徴とする請求項３記載のペリク
ル装着方法。 - 【請求項５】 前記第１圧力と前記第１時間間隔の積と
前記第２圧力と前記第２時間間隔の積との和は一定であ
り、前記第１圧力は前記第２圧力より小さいことを特徴
とする請求項３記載のペリクル装着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP488092A JPH05188582A (ja) | 1992-01-14 | 1992-01-14 | ペリクル装着装置、及び方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP488092A JPH05188582A (ja) | 1992-01-14 | 1992-01-14 | ペリクル装着装置、及び方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05188582A true JPH05188582A (ja) | 1993-07-30 |
Family
ID=11595993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP488092A Pending JPH05188582A (ja) | 1992-01-14 | 1992-01-14 | ペリクル装着装置、及び方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05188582A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007510937A (ja) * | 2003-10-06 | 2007-04-26 | トッパン、フォウタマスクス、インク | フォトマスク上にペリクル・アセンブリを自動的に装着するシステムおよび方法。 |
| KR100887442B1 (ko) * | 2005-09-09 | 2009-03-10 | 민경준 | 비전 장치를 가지는 페리클 접착장치 |
| JP2011075753A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Toppan Printing Co Ltd | ペリクル貼付用器具、フォトマスク用支持器具、ペリクル貼付装置およびペリクル貼付方法、フォトマスク |
| JP2013131745A (ja) * | 2011-12-21 | 2013-07-04 | Asml Netherlands Bv | 変形センサを有するリソグラフィ装置 |
| US8895210B2 (en) | 2011-11-21 | 2014-11-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for fabricating pellicle, photo mask, and semiconductor device |
-
1992
- 1992-01-14 JP JP488092A patent/JPH05188582A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007510937A (ja) * | 2003-10-06 | 2007-04-26 | トッパン、フォウタマスクス、インク | フォトマスク上にペリクル・アセンブリを自動的に装着するシステムおよび方法。 |
| KR100887442B1 (ko) * | 2005-09-09 | 2009-03-10 | 민경준 | 비전 장치를 가지는 페리클 접착장치 |
| JP2011075753A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Toppan Printing Co Ltd | ペリクル貼付用器具、フォトマスク用支持器具、ペリクル貼付装置およびペリクル貼付方法、フォトマスク |
| US8895210B2 (en) | 2011-11-21 | 2014-11-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for fabricating pellicle, photo mask, and semiconductor device |
| JP2013131745A (ja) * | 2011-12-21 | 2013-07-04 | Asml Netherlands Bv | 変形センサを有するリソグラフィ装置 |
| US9360774B2 (en) | 2011-12-21 | 2016-06-07 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus with a deformation sensor |
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