KR100887442B1 - 비전 장치를 가지는 페리클 접착장치 - Google Patents

비전 장치를 가지는 페리클 접착장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 비전(vision) 장치를 이용하여 서로 다른 규격을 갖는 일정한 패턴을 노광하는 장비에 의해 형성된 패턴의 중앙점을 정확하게 인식하여 자동 얼라인이 이루어지도록 하기 위한 비전장치를 가지는 페리클 접착장치에 관한 것으로서, 페리클 접착장치에 있어서, 상기 백도어의 배면에 서로 평행하도록좌우에 설치되어 있어 상기 마스크 홀더에 고정되는 포토 마스크에 인쇄된 패턴정렬키를 촬영하여 전기적 신호로 변환하여 출력하는 비전(vision) 장치 외부로부터 입력되는 홀더 구동제어신호에 응하여 상기 마스크 홀더가 전진 구동 또는 후진 구동 또는 좌측 구동 또는 우측 구동되도록하는 마스크 홀더 구동부 및 상기 비전(vision) 장치로부터 입력되는 포토 마스크에 인쇄된 패턴정렬키의 현재 위치와 미리 설정되어 있는 위치를 비교하여 상기 패턴정렬키의 현재 위치가 미리 설정되어 있는 위치의 오차범위에 포함되도록 포토 마스크가 이동되도록 상기 마스크 홀더 구동부로 홀더 구동제어신호를 출력하는 하는 한편 상기 구동모터가정회전 또는 역회전되도록 제어하는 컨트롤러를 포함하여 구비되는 것을 특징으로 한다.
페리클, 접착, 마스크, 비전, 얼라인, 리소그래피, 캐논키

Description

비전 장치를 가지는 페리클 접착장치{PELLICLE ATTACHMENT APPARATUS HAVING A VISION DEVICE}
도 1은 본 발명에 따른 비전장치를 가지는 페리클 접착장치의 사시도.
도 2는 본 발명에 따른 비전장치를 가지는 페리클 접착장치의 단면도,
도 3은 본 발명에 따른 비전장치를 가지는 페리클 접착장치의 평면도,
도 4는 본 발명인 비전장치를 가지는 페리클 접착장치에 적용된 마스크 홀더의 현재위치를 변경시키기 위한 마스크 홀더 구동부를 설명하기 위한 도면,
도 5는 마스크 홀더 높이 제어기에 마스크 홀더가 연결된 구조를 설명하기 위한 도면,
도 6은 패턴정렬키와 페리클 프레임과의 관계를 설명하기 위한 도면이다.
*** 도면의 주요부분에 대한 부호 설명 ***
10 : 마스크 홀더 12 : 페리클 도어
14 : 페리클 도어 홀더 16 : 페리클 도어 암
18 : 백도어 20 : 백도어 홀더
22 : 백도어 암 24 : 제 1 고정부재
25 : 제 2 고정부재 26 : 밸런스 부재
50 : 마스크 홀더 방향 제어기 52, 54 : 마스크 홀더 높이 제어기
36 : 서보모터
본 발명은 비전장치를 가지는 페리클 접착장치에 관한 것이다.
보다 상세하게는, 비전(vision) 장치를 이용하여 서로 다른 규격을 갖는 패턴 라이트 장비에 의해 형성된 패턴의 중앙점을 정확하게 인식하여 자동 얼라인이 이루어지도록 하기 위한 비전장치를 가지는 페리클 접착장치에 관한 것이다.
반도체 장치 또는 액정표시장치의 제조에는 포토리소그래피 기술이 이용되고, 투영형 노광장치를 이용하여 포토 마스크 또는 레티클 상의 패턴을 기판에 노광전사하는 공정이 포함되어 있다.
그러나 상술한 바와 같이 소자의 고집적화, 미세화가 진행되면 포토 마스크 또는 레티클 상에 부착한 이물질(먼지)의 상이 상기 노광공정에서 기판상에 노광되는 것에 기인하는 결함이 생기기 쉽다.
이로 인해 패턴이 형성되어 있는 포토 마스크 표면 또는 레티클 표면에 이물질이 부착되지 않도록 포토 마스크 표면 또는 레티클 표면으로부터 일정 높이에 광학적으로안정된 투명한 고분자 박막(페리클)을 부착시킨다.
상기와 같이 포토 마스크 표면 또는 레티클 표면에 상기 페리클을 부착시킬 때 수동방식을 적용할 경우 정확한 부착이 용이하지 못하며, 균일한 힘의 전달이 불가능한 문제점이 있었다.
즉 부착 과정에서 흔들임이 발생하여 균일한 접착이 불가능하며, 페리클이 수직하게 부착되지 않는 문제점이 있었다.
따라서, 포토 마스크 표면 또는 레티클 표면에 상기 페리클이 일정 간격을 갖도록 장착할 수 있는 자동 방식의 페리클 접착장치를 요구하기에 이르렀다.
그러나, 상기와 같은 자동 방식의 페리클 접착장치의 경우 패턴 라이팅 장비가 표준화가 되어 있지 않아 패턴 쉬프트 현상이 발생된 상태에서 상기 쉬프트가 보정되지 않을 경우 페리클을 부착할 때 페리클 프레임에 의해 리소그래피공정시 자동 얼라인에 이용되는 키가 가려져 자동 얼라인을 수행할 수 없도록 하는 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해소시키기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 비전(vision) 장치를 이용하여 서로 다른 규격을 갖는 패턴 라이트 장비에 의해 형성된 패턴의 중앙점을 정확하게 인식하여 자동 얼라인이 이루어지도록 하기 위한 비전장치를 가지는 페리클 접착장치를 제공함에 있다.
상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 제안된 본 발명의 일 실시예는, 포토 마스크를 고정시키기 위한 마스크 홀더와, 페리클을 상기 포토 마스크에 부착시키기 위한 페리클 도어와, 상기 페리클 도어를 고정시키기 위한 페리클 도어 홀더와, 상기 페리클 도어 홀더가 전진 구동 또는 후진 구동 되도록 하는 페리클 도어 암과, 상기 마스크 홀더를 페리클 도어 방향으로 밀어 상기 포토 마스크에 페리클이 부착되도록 하는 백도어와, 상기 백도어를 고정시키기 위한 백도어 홀더와, 상기 백도어 홀더가 전진 구동 또는 후진 구동되도록 하는 백도어 암과, 외부로부터 입력되는 제어신호에 응하여 상기 페리클 도어 암 및 백도어 암을 전진 구동 또는 후진구동 시키는 구동모터를 포함하고 있는 페리클 접착장치에 있어서, 상기 백도어의 배면에 서로 평행하도록 좌우에 설치되어 있어 상기 마스크 홀더에 고정되는 포토 마스크에 인쇄된 패턴정렬키를 촬영하여 전기적 신호로 변환하여 출력하는 비전(vision) 장치 외부로부터 입력되는 홀더구동제어신호에 응하여 상기 마스크 홀더가 전진 구동 또는 후진 구동 또는 좌측 구동 또는 우측 구동되도록하는 마스크 홀더 구동부 및 상기 비전(vision) 장치로부터 입력되는 포토 마스크에 인쇄된 패턴정렬키의 현재 위치와 미리 설정되어 있는 위치를 비교하여 상기 패턴정렬키의 현재 위치가 미리 설정되어 있는 위치의 오차범위에 포함되도록 포토 마스크가 이동되도록 상기 마스크 홀더 구동부로 홀더구동제어신호를 출력하는 한편 상기 구동모터가 정회전 또는 역회전되도록 제어하는 컨트롤러를 포함하여 구비되는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 비전 장치를 가지는 페리클 접착장치에 대해 상세하게 설명한다.
첨부 도면 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 포토 마스크를 고정시키기 위한 마스크 홀더(10)와, 페리클을 상기 포토 마스크에 부착시키기 위한 페리클 도어(12)와, 상기 페리클 도어(12)를 고정시키기 위한 페리클 도어 홀더(14)와, 상기 페리클 도어 홀더(14)가 전진 구동 또는 후진 구동되도록하는 페리클 도어 암(16)과, 상기 마스크 홀더(10)를 페리클 도어 방향으로 밀어 상기 포토 마스크에 페리클이 부착되도록 하는 백도어(18)와, 상기 백도어를 고정시키기 위한 백도어 홀더(20)와, 상기 백도어 홀더(20)가 전진 구동 또는 후진 구동되도록하는 백도어 암(22)과, 상기 페리클 도어 암(22) 및 백도어 암(22)을 전진 구동 또는 후진 구동시키는구동모터(36)와, 상기 백도어의 배면에 서로 평행하도록 좌우에 설치되어 있어 상기 마스크 홀더에 고정되는 포토 마스크에 인쇄된 패턴정렬키를 촬영하여 전기적 신호로 변환하여 출력하는 비전(vision) 장치(37)와, 상기 구동모터(36)에 연결되어 상기 구동모터(36)에 의해 정방향 또는 역방향 회전되어 상기 백도어 암(22) 전진 구동 또는 후진 구동되도록 하는 제 1 볼스크류(30)와, 상기 제 1 볼스크류(30)와 역방향으로 연동하여 상기 페리클 도어 암(22)이 전진 구동 또는 후진 구동되도록 하는 제 2 볼스크류(32)와, 상기 페리클 도어(12)의 좌우 정 밸런스를 조정하기 위해 상기 페리클 도어 암(16)의 양측단에 구비되는 좌우밸런스 조정부재(24)와, 상기 백도어(18)의 상하 정 밸런스를 조정하기 위해 상기 백도어 홀더(20)의 상하 측단에 구비되는 상하밸런스 조정부재(25)와, 상기 페리클 도어 홀더(14) 및 페리클 도어 암(16) 사이에 복수개 구비되고, 상기 백도어 홀더(20) 및 백도어 암(22)에 복수개 구비되며, 상기 포토마스크에 페리클이 부착될 때 상기 페리클 도어 암(16) 및 백도어 암(22)에 의해 가해지는 힘이 탄성력에 의해 균등하게 가해질 수 있도록 하는 밸런스 조정부재(26)와, 후술하는 컨트롤러(34)로부터 입력되는 홀더 구동제어신호에 응하여 상기 마스크 홀더(10)가 전진 구동 또는 후진 구동 또는 좌측 구동 또는 우측 구동되도록 하는 마스크 홀더 구동부와, 상기 마스크 홀더(10)의 양 측단부에 구비되어 작업자의 조작에 따라 상기 마스크 홀더(10)가 전진 또는 후진되도록 하여 마스크와 결합되는 폭이 감소 또는 증가되도록 하는 프론트/백 레벨 제어기(38)와, 작업자의 입력조건에 따라 상기 구동모터(36)의 스피드를 제어하는 한편 상기 페리클 도어 암(16) 및 상기 백도어 암(22)에 가해지는 압력을 제어하며, 상기 구동모터(36)의 구동상태를 피드백받아 상기 구동모터(36)가 작업자에 의해 설정된 스피드 및 압력으로 구동되도록 하며, 상기 비전(vision) 장치로부터 입력되는 포토 마스크에 인쇄된 패턴정렬키의 현재 위치와 미리 설정되어 있는 위치를 비교하여 상기 패턴정렬키의 현재 위치가 미리 설정되어 있는 위치의 오차범위에 포함되도록 포토 마스크가 이동되도록 상기 마스크 홀더 구동부(50)로 홀더 구동제어신호를 출력하는 컨트롤러(34)로 구성된다.
그리고, 비전(vision) 장치(37)는 도면상에는 미도시되어 있으나 하우징에 의해 보호되어 외부환경에 의해 그 위치가 변경되지 않는다.
상기 마스크 홀더 구동부는 첨부 도면 도 3에 도시된 바와 같이 상기 마스크 홀더(10)가 전진구동 또는 후진구동 또는 좌측구동 또는 우측구동되도록 하는 마스크 홀더 방향제어기(50)와, 상기 마스크 홀더(10)가 상측구동 또는 하측구동 되도록 하는 마스크 홀더 높이 제어기(52)(54)로 구성된다. 여기서, 마스크 홀더 구동부에 포함되는 제어기(50)(52)(54)는 컨트롤러(34)의 제어에 따라 개별적으로 구동된다.
상기 마스크 홀더 높이 제어기(52)(54)는 상기 마스크 홀더 좌측 하단 및 우측 하단에 각각 구비되며, 상기 컨트롤러(34)의 제어에 따라 동시에 또는 선택적으로 구동되어 마스크 홀더의 좌측 높이 또는 우측 높이를 조정할 수 있도록 한다.
이때, 상기 마스크 홀더 방향제어기(50) 및 마스크 홀더 높이 제어기(52)(54)는 스텝핑 모터로서, 상기 마스크 홀더(10)의 이동거리가 최소 4㎛가 되도록 이동시킬 수 있도록 하므로, 마스크 홀더(10)를 아주 미세하게 움직일 수 있도록 한다.
그리고, 첨부 도면 도 5에 도시된 바와 같이 마스크 홀더(10)는 마스크 홀더 고정기(28)에 의해 마스크 홀더 높이 제어기(54)에 연결되는데, 상기 홀더 고정기(28)는 마스크 홀더 높이 제어기(54)에 연결된 연결부재(56)에 의해 고정되고, 상기 연결부재(56)가 상기 마스크 홀더 높이 제어기(54)에 의해 상하로 구동되고, 이에 마스크 홀더(10)가 상하로 구동된다.
그리고, 상기 컨트롤러(34)는 상기 패턴정렬키의 현재 위치가 미리 설정되어 있는 위치의 오차범위를 이탈하는 경우 상기 마스크 홀더 높이 제어기(52)(54)와 마스크 홀더 방향 제어기(50)로 구동제어신호를 출력하여 상기 마스크 홀더(10)에 장착된 포토마스크가 좌측 또는 우측이 상승 또는 하강되도록 하고 전진 또는 후진하도록 하며, 상기 비전(vision) 장치(37)로 촬영신호를 출력하여 촬영된 패턴정렬키(64)의 이미지 신호를 입력받는다. 이때, 상기 패턴정렬키(64)의 위치는 첨부 도면 도 6에 도시된 바와 같이 페리클 프레임(62)으로부터 290㎛ 정도 이격된 위치에 위치되는 것이 최적이나 오차범위는 200㎛~290㎛로 설정해둔다. 즉, 패턴정렬키(64)의 폭(a)은 420㎛이고, 패턴정렬키(64)와 페리클 프레임(62)의 이격거리(b)는 290㎛가 바람직하다. 본 발명에 적용된 패턴정렬키(64)는 포토 마스크(60)를 정밀하게 재조정하기위한 키이며, 도면부호 66은 얼라인키로서 포트 마스크(60)를 로딩할 때 정렬시키기 위한 키이다.
그리고, 상기 구동모터(36)는 서보모터이며, 상기 제 1 볼스크류(30) 및 제 2 볼스크류(32)는 서로 다른 방향의 나사산 구조를 이루고 있어 백도어 암(22) 및 페리클 도어 암(16)이 마스크 홀더(10)를 중심으로 전진 구동 또는 후진 구동되도록 한다.
그리고, 상기 비전 장치(37)는 카메라이며, 백도어 암(22) 내측에 설치 고정된다.
상기 프론트/백 레벨 제어기(38)는 조정볼트이다.
미설명 도면 부호 28은 마스크 홀더 고정기이고, 도면 부호 44는 롤러이다.
미설명 도면 40은 프론트/백 레벨 제어기(38)에 의해 조절되는 마스크 고정수단(42)이 마스크 홀더(10)에 고정되도록 하는 고정볼트이다.
이에, 상기와 같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 비전 장치를 가지는 페리클 접착장치의 작용상태에 대하여 살펴보면 다음과 같다.
첨부 도면 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이 먼저 페리클 접착장치의 마스크 홀더(10)에 포토 마스크를 로딩시켜 장착, 고정시키고, 페리클 도어(12)에 페리클을 로딩시켜 장착, 고정시킨다.
그러면 비전(vision) 장치(37)가 마스트 홀더(10)에 장착된 포토 마스크에 인쇄된 패턴정렬키를 촬영하여 전기적 신호로 변환시켜 컨트롤러(34)로 출력하면, 컨트롤러(34)는 촬영된 포토 마스크에 인쇄된 패턴정렬키의 현재 위치와 내부 메모리에 저장되어 있는 패턴정렬키의 설정된 위치를 비교하여 마스크 홀더(10)에 포토 마스크의 위치를 어느 정도 이동시켜야 하는지를 연산하여 포토 마스크의 이동위치 값을 산출한다.
그리고, 상기 컨트롤러(34)는 상기 산출된 포토 마스크의 이동위치 값만큼 첨부 도면 도 3에 도시된 바와 같이 마스크 홀더 높이 제어기(52) 또는 (54)로 홀더 구동제어신호를 출력하여 마스크 홀더(10)의 좌측 또는 우측의 높이가 높아지거나 낮아지도록 조절한다. 경우에 따라서는 컨트롤러(34)는 마스크 홀더 방향 제어기(50)로 홀더 구동제어신호를 출력하여 마스크 홀더(10)가 전진구동 또는 후진구동 또는 좌측구동 또는 우측구동 되도록 하여 상기 패턴정렬키가 페리클 프레임에 의해 가려지지 않도록 한다.
그리고, 상기 컨트롤러(34)는 비전(vision) 장치(37)로 촬영제어신호를 송출 하고, 상기 비전(vision)장치(37)는 다시 포토 마스크에 인쇄된 패턴정렬키를 촬영하여 상기 컨트롤러(34)로 출력한다. 그러면 컨트롤러(34)는 상술한 바와 같은 과정을 반복 수행하여 마스크 홀더(10)에 장착된 포토 마스크의 현재 위치가 변경되도록 한다. 이 과정은 상기 패턴정렬키의 현재 위치가 페리클 프레임으로부터 200㎛~290㎛ 정도 이격된 위치에 위치될 때까지 반복적으로 이루어진다.
그리고, 작업자는 컨트롤러(34)를 이용하여 서보모터(36)를 스피드를 제어하는 한편, 상기 서보모터(36)를 제어하여 페리클 도어 암(16)과 백도어 암(22)이 마스크 홀더(10)에 가해지는 압력을 제어한다. 즉, 작업자에 의해 작업시작신호가 입력되면 컨트롤러(34)는 서보모터(36)를 정회전시키고, 이에 따라 제 1, 제 2 볼스크류(30)(32)가 서로 반대방향으로 정회전되어 페리클 도어 암(16)과 백도어 암(22)이 마스크 홀더(10)를 향하여 전진 구동되도록 하며, 상기 페리클 도어 암(16) 및 백도어 암(22)이 작업자에 의해 세팅된 힘으로 마스크 홀더(10)와 밀착되면 상기 컨트롤러(34)는 작업자에 의해 세팅된 가압시간동안 구동모터(36)를 정지시켜 마스크 홀더(10)에 장착된 포토 마스크에 페리클 도어(12)에 장착된 페리클이 부착되도록 한다.
그리고, 포토 마스크에 페리클을 부착시키기 위해 페리클 도어(12) 및 백도어(18)가 마스크 홀더(10)를 가압할 때, 페리클 도어 홀더(14) 및 페리클 도어 암(16) 사이에 구비된 4개의 밸런스부재(26)와 백도어 홀더(20) 및 백도어 암(22) 사이에 구비된 4개의 밸런스 부재(26)인 스프링에 의해 상하좌우가 탄성력에 의해 균일하게 힘을 받아 페리클의 이동을 최소시키면서 페리클이 포토 마스크에 균일하 게 부착되게 한다. 또한, 상기 백도어 홀더(20)의 상하측단에 구비된 상하밸런스 조정부재(25)에 의해 백도어(18)의 상하 정 밸런스가 조정되고, 상기 페리클 홀더(12)의 양측단에 구비된 좌우밸런스 조정부재(24)에 의해 페리클 도어(12)의 좌우 정 밸런스가 조정되어 페리클이 포토 마스크에 더욱더 균일하게 부착되게 한다.
이상의 본 발명은 상기 실시예들에 의해 한정되지 않고, 당업자에 의해 다양한 변형 및 변경을 가져올 수 있으며, 이는 첨부된 청구항에서 포함되는 본 발명의 취지와 범위에 포함된다.
상기와 같은 구성 및 작용 그리고 바람직한 실시예를 가지는 본 발명은 비전(vision) 장치를 이용하여 서로 다른 규격을 갖는 패턴 라이트 장비에 의해 형성된 패턴의 중앙점을 정확하게 인식하여 리소그래피 장비를 이용하여 리소그래피 공정을 수행하는 경우 자동 얼라인이 이루어지도록 하는 효과가 있다.

Claims (5)

  1. 포토 마스크를 고정시키기 위한 마스크 홀더와, 페리클을 상기 포토 마스크에 부착시키기 위한 페리클 도어와, 상기 페리클 도어를 고정시키기 위한 페리클 도어 홀더와, 상기 페리클 도어 홀더가 전진 구동 또는 후진 구동 되도록 하는 페리클 도어 암과, 상기 마스크 홀더를 페리클 도어 방향으로 밀어 상기 포토 마스크에 페리클이 부착되도록 하는 백도어와, 상기 백도어를 고정시키기위한 백도어 홀더와, 상기 백도어 홀더가 전진 구동 또는 후진 구동되도록 하는 백도어 암와, 외부로부터 입력되는 제어신호에 응하여 상기 페리클 도어 암 및 백도어 암을 전진 구동 또는 후진구동 시키는 구동모터를 포함하고 있는 페리클 접착장치에 있어서,
    상기 백도어의 배면에 대향되도록 좌우에 설치되어 있어 상기 마스크 홀더에 고정되는 포토 마스크의 패턴을 촬영하여 전기적 신호로 변환하여 출력하는 비전(vision) 장치;
    상기 마스크 홀더가 전진구동 또는 후진구동 또는 좌측구동 또는 우측구동 되도록 하는 마스크 홀더 방향제어기와, 상기 마스크 홀더가 상측구동 또는 하측구동 되도록 하는 마스크 홀더 높이 제어기를 포함하며, 외부로부터 입력되는 홀더 구동제어신호에 응하여 상기 마스크 홀더가 전진 구동 또는 후진 구동 또는 좌측 구동 또는 우측 구동되도록 하는 마스크 홀더 구동부; 및
    상기 비전(vision) 장치로부터 입력되는 포토 마스크에 인쇄된 패턴정렬키의 현재 위치와 미리 설정되어 있는 위치를 비교하여 상기 패턴정렬키의 현재 위치가 미리 설정되어 있는 위치의 오차범위에 포함되도록 포토 마스크가 이동되도록 상기 마스크 홀더로 홀더 구동제어신호를 출력하는 하는 한편 상기 구동모터가 정회전 또는 역회전되도록 제어하는 컨트롤러
    를 포함하여 구비되는 것을 특징으로 하는 비전 장치를 가지는 페리클 접착장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 비전 장치는,
    상기 백도어 암의 내측에 고정, 설치되는 것을 특징으로 하는 비전 장치를 가지는 페리클 접착장치.
  3. 삭제
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 마스크 홀더 높이 제어기는,
    상기 마스크 홀더 좌측 하단 및 우측 하단에 각각 구비되며, 상기 컨트롤러의 제어에 따라 동시에 또는 선택적으로 구동되어 마스크 홀더의 좌측 높이 또는 우측 높이를 조정하는 것을 특징으로 하는 비전장치를 가지는 페리클 접착장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 마스크 홀더 방향제어기 및 높이 제어기는,
    스텝핑 모터인 것을 특징으로 하는 비전 장치를 가지는 페리클 접착장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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