JPH05137956A - ガス排気装置 - Google Patents

ガス排気装置

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Publication number
JPH05137956A
JPH05137956A JP3330050A JP33005091A JPH05137956A JP H05137956 A JPH05137956 A JP H05137956A JP 3330050 A JP3330050 A JP 3330050A JP 33005091 A JP33005091 A JP 33005091A JP H05137956 A JPH05137956 A JP H05137956A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydrofluoric acid
gas
detector
halogen
acid detector
Prior art date
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Pending
Application number
JP3330050A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaru Sugihara
賢 杉原
Fumio Muramatsu
文雄 村松
Tomohiko Takeda
智彦 竹田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kokusai Electric Corp filed Critical Kokusai Electric Corp
Priority to JP3330050A priority Critical patent/JPH05137956A/ja
Publication of JPH05137956A publication Critical patent/JPH05137956A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】ガス排気装置に於いて、ハロゲン系ガスの検出
精度を向上させると共にハロゲン系ガスを含有する排ガ
スの流出を防止する。 【構成】配管2より分岐させ弗酸検出器5を経て一般大
気に排気し、前記弗酸検出器のハロゲン系ガス検出によ
って前記配管を閉塞する様にしたガス排気装置に於い
て、前記弗酸検出器の上流側に混合槽8を設け、該混合
槽に水素を含むガスを流入させる様にして弗酸の生成を
促進し、弗酸の検出精度を向上させ、又前記弗酸検出器
下流に弗酸検出によって作動する電磁遮断バルブ11を
設けてガス排気装置からのハロゲン系ガスの排出を防止
し、又前記弗酸検出器の下流にハロゲン系ガス吸着槽を
設けてガス排気装置を流通するハロゲン系ガスを吸着す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、工場等からの使用済み
ガスを排気するガス排気装置、特に半導体製造工場等で
用いられるハロゲン系特殊ガスの排気装置に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】従来のハロゲン系特殊ガスの排気装置に
ついて、図2に於いて説明する。
【0003】半導体製造装置に於いて使用された、3弗
化塩素(ClF3 )、3弗化窒素(NF3 )等のハロゲ
ン系ガスは窒素ガスによって希釈され、排ガス処理装置
1に導入され、ハロゲン系ガスが除去された後、配管2
を経由して図示しない排ガス集中処理装置(スクラバ)
へ送出される。又、排ガスの1部は前記配管2に接続さ
れた分岐管3に導かれ、バルブ7を介してポンプ4に吸
引され、弗酸検出器5を経て一般排気ダクトへ送られて
いる。
【0004】前記弗酸検出器5は、排ガス中の弗酸(H
F)を検出するものであり、弗酸は排ガス中の弗素が分
解して排ガス中に含まれる水素と化合して生じる。前記
弗酸検出器5で検出する弗酸(HF)が所定以上の濃度
となった場合は、表示警報器6からの警報信号で図示し
ない主制御装置が、前記排ガス処理装置1の上流側に設
けたバルブ及びポンプ4上流のバルブ7を閉鎖して、排
ガスが排ガス集中処理装置へ送出されない様に、又弗酸
検出器5からハロゲン系ガスが含まれた排ガスが一般排
気に混入しない様にしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記した様に、ガス排
気装置では、排気ガス中の弗酸を検出しているが、半導
体製造装置から排気されたハロゲン系ガスは窒素ガスで
希釈されており、前記弗酸検出器5を流通する排ガスは
水素の含有率が低い。この為、排ガス中のハロゲン系ガ
スの混入を検出しずらい。更に、ポンプ4上流のバルブ
7を閉鎖している為、バルブ7より下流側のハロゲン系
ガスを含有する排ガスが流出してしまうという問題があ
った。
【0006】本発明は斯かる実情に鑑み、ハロゲン系ガ
スの検出精度を向上させると共にハロゲン系ガスを含有
する排ガスの流出を防止しようとするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、配管より分岐
させ弗酸検出器を経て一般大気に排気し、前記弗酸検出
器のハロゲン系ガス検出によって前記配管を閉塞する様
にしたガス排気装置に於いて、前記弗酸検出器の上流側
に混合槽を設け、該混合槽に水素を含むガスを流入させ
る様構成したことを特徴とするものであり、又弗酸検出
器下流に弗酸検出によって作動する遮断バルブを設け、
又弗酸検出器の下流にハロゲン系ガス吸着槽を設けたも
のである。
【0008】
【作用】混合槽に水素を含有するガスが混入されること
で、弗酸の生成が促進され、弗酸検出器の弗酸検出精度
が向上する、又弗酸の検出によって遮断バルブがガス排
気装置からの排ガスの排出を阻止する。又、ガス排気装
置を流通する排ガスに含まれるハロゲン系ガスは吸着槽
に於いて吸着する。
【0009】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
【0010】尚、図1中、図2中で示したものと同一の
ものには同符号を付してある。
【0011】配管2にバルブ7を介して接続したポンプ
4に、混合槽8を接続する。該混合槽8にはポンプ9に
よって空気が供給される様になっている。又、前記弗酸
検出器5には吸着槽10が接続され、該吸着槽10は電
磁遮断バルブ11を介して一般排気ダクトに接続されて
いる。
【0012】弗酸検出器5に接続された表示警報器6
は、図示しない主制御装置に検出結果を出力すると共に
前記電磁遮断バルブ11を作動させる様になっている。
【0013】以下、作動について説明する。
【0014】分岐管3よりバルブ7を介してポンプ4に
吸引された排ガスは、混合槽8に流入する。又、該混合
槽8にはポンプ9によって吸引された大気が流入し、該
混合槽8で排ガスと大気が混合する。この排ガスと大気
との混合によって、排ガス中にハロゲン系ガスが混入し
ていた場合は、ハロゲン系ガスと水素との化合が促進さ
れ、弗酸が生成される。
【0015】弗酸は弗酸検出器5に於いて検出され、該
検出結果は表示警報器6に入力され、該表示警報器6は
検出結果が所定の含有率を越える場合は、図示しない主
制御装置に信号を発すると共に電磁遮断バルブ11を駆
動して管路を閉塞する。
【0016】又、弗酸検出器5を流出した排ガスは吸着
槽10、電磁遮断バルブ11を経て一般大気に排出され
るが、前記した様に排ガスにハロゲン系ガスが含有され
ている場合は、前記電磁遮断バルブ11の作動で管路が
閉塞され排出が遮断される。更に、排ガスにハロゲン系
ガスが含有されている場合には前記吸着槽10でハロゲ
ン系ガスを吸着する。
【0017】而して、排ガス中のハロゲン系ガスが検出
されると排ガスは前記電磁遮断バルブ11によって封込
まれ、一般大気に排出されることがない。
【0018】尚、前記混合槽には大気を流入させたが、
該大気に水素を積極的に混入させてもよい。
【0019】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、排ガス
中のハロゲン系ガスの検出精度を高められると共にガス
排気装置を通ってハロゲン系ガスが大気に排気されるこ
とが防止される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示すブロック図である。
【図2】従来例を示すブロック図である。
【符号の説明】
2 配管 3 分岐管 5 弗酸検出器 8 混合槽 10 吸着槽 11 電磁遮断バルブ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 配管より分岐させ弗酸検出器を経て一般
    大気に排気し、前記弗酸検出器のハロゲン系ガス検出に
    よって前記配管を閉塞する様にしたガス排気装置に於い
    て、前記弗酸検出器の上流側に混合槽を設け、該混合槽
    に水素を含むガスを流入させる様構成したことを特徴と
    するガス排気装置。
  2. 【請求項2】 弗酸検出器下流に弗酸検出によって作動
    する遮断バルブを設けたガス排気装置。
  3. 【請求項3】 弗酸検出器の下流にハロゲン系ガス吸着
    槽を設けた請求項1のガス排気装置。
JP3330050A 1991-11-19 1991-11-19 ガス排気装置 Pending JPH05137956A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002516741A (ja) * 1998-05-29 2002-06-11 セントローテルム・エレクトリツシエ・アンラーゲン・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー プロセス廃ガスを精製する方法

Cited By (2)

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JP2002516741A (ja) * 1998-05-29 2002-06-11 セントローテルム・エレクトリツシエ・アンラーゲン・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー プロセス廃ガスを精製する方法
JP4776073B2 (ja) * 1998-05-29 2011-09-21 セントローテルム・エレクトリツシエ・アンラーゲン・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー プロセス廃ガスを精製する方法

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