JPH05109290A - 不揮発性メモリ回路 - Google Patents

不揮発性メモリ回路

Info

Publication number
JPH05109290A
JPH05109290A JP21993291A JP21993291A JPH05109290A JP H05109290 A JPH05109290 A JP H05109290A JP 21993291 A JP21993291 A JP 21993291A JP 21993291 A JP21993291 A JP 21993291A JP H05109290 A JPH05109290 A JP H05109290A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
precharge
signal
discharge
read
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP21993291A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2637314B2 (ja
Inventor
Osamu Matsumoto
修 松本
Kazuhiko Miki
和彦 三木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP21993291A priority Critical patent/JP2637314B2/ja
Priority to KR1019920015246A priority patent/KR960002007B1/ko
Priority to US07/936,787 priority patent/US5270978A/en
Priority to EP92114763A priority patent/EP0530713B1/en
Priority to DE69225366T priority patent/DE69225366T2/de
Publication of JPH05109290A publication Critical patent/JPH05109290A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2637314B2 publication Critical patent/JP2637314B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • G11C17/08Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements
    • G11C17/10Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM
    • G11C17/12Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM using field-effect devices
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/26Sensing or reading circuits; Data output circuits
    • G11C16/28Sensing or reading circuits; Data output circuits using differential sensing or reference cells, e.g. dummy cells
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/30Power supply circuits

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】プリチャージ/ディスチャージ方式の不揮発性
メモリにおいて、設計上プリチャージ期間が十分でない
構成でも、安定した読出し動作を実現する。 【構成】 リードセル側とダミーセル側の2つのビット
線出力をフリップフロップ回路により検出するプリチャ
ージ/ディスチャージ方式の不揮発性メモリにおいて、
プリチャージ終了前にディスチャージを開始する手段を
有したプリチャージ信号を発生する第1の論理回路とデ
ィスチャージ信号を発生する第2の論理回路とを具備し
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は特にマイコン等のロジ
ック製品に搭載されるEPROM等、プリチャージ、デ
ィスチャージ方式の不揮発性メモリ回路に関する。
【0002】
【従来の技術】図13は従来のプリチャージ、ディスチ
ャージ方式の不揮発性メモリ回路の読出し系の構成を示
す回路図である。ローデコーダ11はリードセル側の複数
のワード線のうちの1つのワード線RWを選択すると共
にダミーセル側のダミーワード線DWを選択する。
【0003】ワード線RWには各々制御ゲートが接続さ
れた複数のメモリセルいわゆるリードセル12が配列して
いる。各リードセル12の電流通路の一端は対応するビッ
ト線BRに接続される。これらビット線BRの先端に
は、それぞれ選択トランジスタ13-1が設けられている。
選択トランジスタ13-1のゲートにはカラムデコーダ14-1
の出力が供給され、選択トランジスタ13-1はカラムデコ
ーダ14-1によって制御される。
【0004】また、ダミーワード線DWには各々制御ゲ
ートが接続された複数のダミーセル15が配列している。
各ダミーセル15の電流通路の一端は対応するダミービッ
ト線BDに接続され、これらビット線BDの先端にはそ
れぞれ選択トランジスタ13-2が設けられている。選択ト
ランジスタ13-2はカラムデコーダ14-2によって制御され
る。
【0005】プリチャージ/ディスチャージコントロー
ル回路16はクロックφに従って、Pチャネル型のプリチ
ャージトランジスタP1 ,P2 のゲートにプリチャージ
信号PRを与え、Nチャネル型のディスチャージトラン
ジスタD1 ,D2 のゲートにディスチャージ信号DIS
を与える。
【0006】プリチャージトランジスタP1 ,P2 それ
ぞれのソースは電源電圧VCCに接続される。プリチャー
ジトランジスタP1 のドレインはトランスファトランジ
スタN1 を介して選択トランジスタ13-1の共通ソース接
点に接続されている。また、プリチャージトランジスタ
P2 のドレインはトランスファトランジスタN2 を介し
て選択トランジスタ13-2の共通ソース接点に接続されて
いる。
【0007】上記トランスファトランジスタN1 ,N2
それぞれのゲートにはバイアス電圧発生回路17からの出
力が与えられ、このトランスファトランジスタN1 ,N
2 が制御されるようになっている。
【0008】ディスチャージトランジスタD1 ,D2 そ
れぞれのソースは接地電圧GNDに接続される。ディス
チャージトランジスタD1 のドレインは各リードセル12
の電流通路の他端に接続される。ディスチャージトラン
ジスタD2 のドレインは各ダミーセル15の電流通路の他
端に接続される。
【0009】読出しデータを出力する回路として、プリ
チャージトランジスタP1 とトランスファトランジスタ
N1 のドレイン接続点を一方の入力Vir、プリチャー
ジトランジスタP2 とトランスファトランジスタN2 の
ドレイン接続点を他方の入力Vidとするフリップフロ
ップ回路18が設けられている。このフリップフロップ回
路18は2個のNORゲート回路19,20の入出力間を交差
接続させてなり、一方のNORゲート回路20の出力端よ
り読出しデータDOUTを得る。
【0010】図14は上記回路中のプリチャージ/ディ
スチャージコントロール回路16の具体例を示す構成の回
路図である。AND回路61、NAND回路62、インバー
タ回路63,64,65から構成される。各信号の関係を図1
5のタイミングチャートに示す。MODE1 ,MODE
2 はテストモード信号であり、信頼性チェック時等に
“H”(ハイレベル)になる。従って、MODE1 ,M
ODE2 が共に“L”(ローレベル)のとき通常のリー
ドモードとなる。
【0011】図16、図17はそれぞれ上記図13の従
来回路の動作を示すタイミングチャートであり、図16
はプリチャージ期間が十分とられている場合、図17は
メモリの設計上動作周波数が高くなり、プリチャージ期
間が十分でない場合を示している。
【0012】図16および図17において、プリチャー
ジ信号PRおよびディスチャージ信号DISが“L”の
プリチャージ期間中、プリチャージトランジスタP1 ,
P2がオン状態になる。これにより、リードセル側とダ
ミーセル側におけるフリップフロップ回路18の両入力の
電位Vir,Vid、および選択されたビット線BRの
電位Vbr、ダミービット線BDの電位Vbd、そし
て、選択されたソース線の電位Vsr,Vsdはプリチ
ャージされる。
【0013】通常では、リードセル12とダミーセル15の
gm(オン抵抗の逆数)に差(リードセル>ダミーセ
ル)が設けられている。このため、プリチャージ期間
中、上記電位Vbr、電位Vbdと電位Vsr,Vsd
のプリチャージレベルにおいてレベル推移が異なる。す
なわち、Vbr>Vbd、Vsr>Vsdと始めはアン
バランスであり、次第にその差がなくなる方向に推移す
る。
【0014】次に、プリチャージ信号PRが“L”から
“H”になり、ディスチャージ信号DISも“L”から
“H”になってディスチャージ期間になる。このとき、
プリチャージ信号PRとディスチャージ信号DISとの
間に配線遅延等によりギャップがあると、この間プリチ
ャージされた各ノードはダイナミックに保持されること
となる。リードセル12のフローティングゲートに電子が
注入されていない状態として、以下説明する。
【0015】プリチャージ期間が十分とられている図1
6では、プリチャージ期間中に上記電位Vbr、電位V
bdのプリチャージレベル、および電位Vsr,Vsd
のプリチャージレベルは十分に引き上げられる。従っ
て、フリップフロップ回路18の両入力Vir,Vidは
必然的にVirがVidよりも先にセンスレベルに達す
ることになる。これにより、フリップフロップ回路18の
出力には正常な読出しデータDOUTが得られる。
【0016】プリチャージ期間が十分でない図17で
は、プリチャージ期間中に、上記電位Vbr、電位Vb
dのプリチャージレベル、および電位Vsr,Vsdの
プリチャージレベルはアンバランスのままディスチャー
ジ期間に入ってしまう。
【0017】回路構成上、ソース線の容量が比較的大き
いのでソース線とビット線さらにフリップフロップの入
力の間にチャージシェアが起こり、フリップフロップの
入力のレベルが低下する。このときビット線の電位の関
係はVbr>Vbd、ソース線の電位関係はVsr>V
sdとなっているので、フリップフロップの入力端の電
位もVir>Vidとなる。これにより、本来のリード
セル12とダミーセル15のgmの差によってVir<Vi
dとなる前にVir>Vidのままフリップフロップ回
路18のセンスレベルまで低下する。
【0018】すなわち、ディスチャージが始まり、リー
ドセル12とダミーセル15のgmの差(リードセル>ダミ
ーセル)により本来Vir<Vidとならなければなら
ないところを、Vir>Vidのままフリップフロップ
回路18のセンスレベルまで達し、オンセルをオフセルと
してDOUTを読出してしまう誤動作が発生する。
【0019】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来では
設計上プリチャージ期間が十分でない構成では、プリチ
ャージレベルのアンバランスが助長され、リードセル側
から読み出す電位とダミーセル側から読み出す電位のレ
ベル推移に交差する部分が発生する。このため、センス
レベルに到達する順番が逆になり、フリップフロップ回
路が正常なデータ読み出さない場合があるという欠点が
ある。
【0020】この発明は上記のような事情を考慮してな
されたものであり、その目的はプリチャージ期間が十分
でない構成でも、安定した読出し動作を実現する不揮発
性メモリ回路を提供することにある。
【0021】
【課題を解決するための手段】この発明の不揮発性メモ
リ回路は、リードセル側とダミーセル側の2つのビット
線出力をフリップフロップ回路により検出するプリチャ
ージ/ディスチャージ方式の不揮発性メモリにおいて、
プリチャージ終了前にディスチャージを開始する手段を
有したプリチャージ信号を発生する第1の論理回路とデ
ィスチャージ信号を発生する第2の論理回路とを具備し
たことを特徴とする。
【0022】
【作用】この発明では、プリチャージ信号が切れる前に
ディスチャージを開始することにより、ビット線、ソー
ス線のプリチャージレベルのアンバランスによって生じ
るチャージシェアをなくす。
【0023】
【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例によ
り説明する。図1はこの発明の第1の実施例に係るプリ
チャージ、ディスチャージ方式の不揮発性メモリ回路の
読出し系の構成を示す回路図である。
【0024】前記図13の構成と比べてディスチャージ
コントロール回路21とプリチャージコントロール回路22
が別個に設けられたことが異なり、ディスチャージコン
トロール回路21の出力を受けてプリチャージコントロー
ル回路22が動作する構成である。その他の回路構成は前
記図13の回路構成と同様であるため説明を省略する。
【0025】図2は上記図1の構成の回路の動作を示す
各信号のタイミングチャートである。前記図13同様に
図1のリードセル12のフローティングゲートには電子が
注入されていない状態として動作説明する。
【0026】この発明の構成によれば、プリチャージ信
号PRをディスチャージ信号DISよりも遅らせる。こ
のようにすれば、動作周波数が高く設定されプリチャー
ジ期間が短く、プリチャージが不十分であったとしても
従来のような誤動作は回避できる。
【0027】すなわち、選択されたビット線BRの電位
Vbr、ダミービット線BDの電位Vbdのプリチャー
ジレベル、そして選択されたソース線の電位Vsr,V
sdのプリチャージレベルにおいて、リードセルとダミ
ーセルのgmの差(リードセル>ダミーセル)によって
アンバランス(Vbr>Vbd、Vsr>Vsd)が生
じていても、ダイナミック保持の期間がないため、チャ
ージシェアが起こらない。
【0028】すなわち、ディスチャージ信号DISが
“L”から“H”に変わってディスチャージが始まる
と、プリチャージレベルにアンバランスがあったソース
線の電位Vsr,Vsdは接地電圧GNDのレベルに設
定される。そして、ビット線BRとダミービット線BD
については、gmの差(リードセル>ダミーセル)によ
り、両者の電位はVbr<Vbdになるようにイコライ
ズされる。また、フリップフロップ回路18の入力Vi
r,Vidはプリチャージが切れるまで電源電圧Vccに
保持される。
【0029】その後、プリチャージ期間が切れると、フ
リップフロップ回路18の入力Vir,VidはVccから
Vir<Vidの状態を保ちつつGNDレベルまでディ
スチャージされる。これは、リードセルとダミーセルの
gmの差がリードセル>ダミーセルに設定されているこ
とに加え、この時点でビット線BRの電位Vbr、ダミ
ービット線BDの電位VbdはVbr<Vbdにイコラ
イズされているためである。この結果、従来のような誤
動作は起こらずに安定した読み出しが可能になる。
【0030】図3は図1の回路中のディスチャージコン
トロール回路21とプリチャージコントロール回路22の具
体例を示す回路図である。ディスチャージコントロール
回路21はOR回路31、NAND回路32、インバータ33,
34,35から構成される。また、プリチャージコントロー
ル回路22はNAND回路36、インバータ37,38から構成
される。
【0031】NAND回路32の一方入力端には、インバ
ータ33を介したMODE1 の反転信号が入力される。N
AND回路32の他方入力端にはOR回路31の出力端が接
続される。OR回路31の入力は3入力端あり、それぞれ
MODE2 ,MODE3 の各信号、インバータ34を介し
たクロックφが入力される。NAND回路32の出力はイ
ンバータ35を介してディスチャージ信号DISを発す
る。さらに、このディスチャージ信号DISはプリチャ
ージコントロール回路22内におけるNAND回路36の一
方入力端に入力される。NAND回路36の他方入力端に
はインバータ37を介したMODE3 の反転信号が入力さ
れる。NAND回路36の出力はインバータ38を介してプ
リチャージ信号PRを発する。
【0032】上記各信号の関係を図4のタイミングチャ
ートに示す。MODE1 ,MODE2 ,MODE3 はテ
ストモード信号であり、信頼性チェック時等に“H”
(ハイレベル)になる。従って、MODE1 ,2 ,3 が
共に“L”(ローレベル)のとき通常のリードモードと
なる。このとき、プリチャージ信号PRが切れる前にデ
ィスチャージが始まるようにプリチャージ信号PRを遅
らせる(図4中DL)。これによって誤動作の防止に寄
与する。図5はこの発明の第2の実施例に係るプリチャ
ージ、ディスチャージ方式の不揮発性メモリ回路の読出
し系の構成を示す回路図である。
【0033】前記図1と比べてディレー回路23が新たに
設けられている。このディレー回路23はクロックφを入
力し、その出力をプリチャージコントロール回路22に入
力する構成となっている。の信号が別個に設けられ、デ
ィスチャージコントロール回路21の出力を受けてプリチ
ャージコントロール回路22が動作する構成である。この
回路構成でも、動作は図2と同様である。プリチャージ
信号PRをディスチャージ信号DISよりも遅らせ、プ
リチャージが不十分であっても従来のような誤動作を回
避する。
【0034】図6は図5の回路中のディスチャージコン
トロール回路21、プリチャージコントロール回路22、デ
ィレー回路23の具体例を示す回路図である。ディスチャ
ージコントロール回路21は前記図3の構成のものと同様
である。また、プリチャージコントロール回路22はAN
D回路41、NOR回路42、インバータ43,44,44,46か
ら構成される。ディレー回路23は複数直列したインバー
タ47で構成される。
【0035】プリチャージコントロール回路22内のAN
D回路41の入力は3入力ある。第1の入力端子はクロッ
クφをディレー回路23さらにインバータ43を介して入力
する。第2、第3の入力端子はそれぞれMODE1 ,M
ODE2 の信号が入力される。
【0036】AND回路41の出力は、NOR回路42の一
方入力端にインバータ35を介してディスチャージ信号D
ISを発する。さらに、このディスチャージ信号DIS
はプリチャージコントロール回路22内のNAND回路36
の一方入力端に接続される。NOR回路42の他方入力端
にはMODE3 の信号が入力される。NOR回路46の出
力はインバータ46を介してプリチャージ信号PRを発す
る。
【0037】上記各信号の関係を図7のタイミングチャ
ートに示す。MODE1 ,2 ,3 の各テストモード信号
は図4と同様である。図中DLに示されるようにプリチ
ャージ信号PRがディスチャージ信号DISよりも遅れ
て出力される。図8はこの発明の第3の実施例に係るプ
リチャージ、ディスチャージ方式の不揮発性メモリ回路
の読出し系の構成を示す回路図である。
【0038】前記図5のディレー回路23をプリチャージ
コントロール回路22の前に設ける代りにプリチャージコ
ントロール回路22の後にディレー回路24を設ける構成と
なっている。プリチャージコントロール回路22からのプ
リチャージ信号PRを直接遅延させる構成である。この
回路構成でも、動作は図2と同様である。プリチャージ
信号PRをディスチャージ信号DISよりも遅らせ、プ
リチャージが不十分であっても従来のような誤動作を回
避する。
【0039】図9は図8の回路中のディスチャージコン
トロール回路21、プリチャージコントロール回路22、デ
ィレー回路24の具体例を示す回路図である。個々の回路
構成は前記図6のディスチャージコントロール回路21、
プリチャージコントロール回路22、ディレー回路23の構
成のものと同様であるが、図6においてクロックφの入
力端とプリチャージコントロール回路22内のインバータ
43との間に挿入されていたディレー回路23がこの図9で
はプリチャージコントロール回路22内のインバータ46の
後にディレー回路24として設けられた構成になってい
る。
【0040】上記各信号の関係を図10に示す。MOD
E1 ,2 ,3 の各テストモード信号は図4と同様であ
る。図中DLに示されるようにプリチャージ信号PRが
ディスチャージ信号DISよりも遅れて出力される。
【0041】また、上記図5内のディレー回路23の他の
実施例として図11(a)に示される回路図があげられ
る。この回路はNOR回路51の一方入力端に信号INを
直接入力させ、NOR回路51の他方入力端には偶数個の
複数のインバータ52によって遅延させた信号INを入力
させる。NOR回路51の出力はインバータ53を介して信
号OUTを出力する。
【0042】上記回路の動作は図11(b)に示される
ようになり、クロックφの立下がりのみをディレーさせ
ると共にプリチャージ信号PRの立上りのみをディレー
させることができる。
【0043】さらに、上記図8内のディレー回路24の他
の実施例として図12(a)に示される回路図があげら
れる。この回路はNAND回路55の一方入力端に信号I
Nを直接入力させ、NAND回路55の他方入力端には偶
数個の複数のインバータ56によって遅延させた信号IN
を入力させる。NAND回路55の出力はインバータ57を
介して信号OUTを出力する。上記回路の動作は図12
(b)に示されるようになり、プリチャージ信号PRの
立上りのみをディレーさせることができる。
【0044】このように上記各実施例によれば、プリチ
ャージ期間とディスチャージ期間にオーバーラップを設
けることで、プリチャージ期間中にリードセルとダミー
セルのgmの差によって生じたそれぞれのセルのソース
線とビット線のプリチャージレベルのアンバランスを正
常なレベルにイコライズする。これに伴い、従来プリチ
ャージ期間とディスチャージ期間のギャップによって生
じたチャージシェアによる誤動作をなくし、安定した読
出しを可能とする。
【0045】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
プリチャージ信号が切れる前にディスチャージを開始す
ることにより、ビット線、ソース線のプリチャージレベ
ルのアンバランスによって生じるチャージシェアをなく
し、プリチャージとディスチャージのオーバーラップ期
間にビット線、ソース線のリードセル側、ダミーセル側
でプリチャージレベルのアンバランスを補正する。これ
により、安定したデータの読み出しを実現し、信頼性の
高い不揮発性メモリ回路を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施例に係る構成を示す回路
図。
【図2】図1の構成の回路の動作を示す各信号のタイミ
ングチャート。
【図3】図1の回路中の一部の回路の具体的構成を示す
回路図。
【図4】図3の回路の動作を示す各信号のタイミングチ
ャート。
【図5】この発明の第2の実施例に係る構成を示す回路
図。
【図6】図5の回路中の一部の回路の具体的構成を示す
回路図。
【図7】図6の回路の動作を示す各信号のタイミングチ
ャート。
【図8】この発明の第3の実施例に係る構成を示す回路
図。
【図9】図8の回路中の一部の回路の具体的構成を示す
回路図。
【図10】図9の回路の動作を示す各信号のタイミング
チャート。
【図11】図11(a)は前記図5内の一部の回路の他
の実施例の構成を示す回路図、図11(b)は図11
(a)の回路の動作を示す波形図。
【図12】図12(a)は前記図8内の一部の回路の他
の実施例の構成を示す回路図、図12(b)は図12
(a)の回路の動作を示す波形図。
【図13】従来のプリチャージ、ディスチャージ方式の
不揮発性メモリ回路の読出し系の構成を示す回路図。
【図14】図13の回路中の一部の回路の具体例を示す
回路図。
【図15】図14の回路の動作を示す各信号のタイミン
グチャート。
【図16】第1の条件下での図13の回路の動作を示す
各信号のタイミングチャート。
【図17】第2の条件下での図13の回路の動作を示す
各信号のタイミングチャート。
【符号の説明】
11…ローデコーダ、12…リードセル(メモリセル)、13
-1,13-2…選択トランジスタ、14-1,14-2…カラムデコ
ーダ、15…ダミーセル、16…プリチャージ/ディスチャ
ージコントロール回路、17…バイアス電圧発生回路、18
…フリップフロップ回路、19,20…NORゲート回路、
21…ディスチャージコントロール回路、22…プリチャー
ジコントロール回路、23,24…ディレー回路。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年10月27日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0045
【補正方法】変更
【補正内容】
【0045】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
プリチャージ信号が切れる前にディスチャージを開始す
ることにより、ビット線、ソース線のプリチャージレベ
ルのアンバランスによって生じるチャージシェアをなく
し、プリチャージとディスチャージのオーバーラップ期
間にビット線、ソース線のリードセル側、ダミーセル側
でプリチャージレベルのアンバランスを補正する。これ
により、安定したデータの読み出しを実現し、信頼性の
高い不揮発性メモリ回路を提供することができる。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施例に係る構成を示す回路
図。
【図2】図1の構成の回路の動作を示す各信号のタイミ
ングチャート。
【図3】図1の回路中の一部の回路の具体的構成を示す
回路図。
【図4】図3の回路の動作を示す各信号のタイミングチ
ャート。
【図5】この発明の第2の実施例に係る構成を示す回路
図。
【図6】図5の回路中の一部の回路の具体的構成を示す
回路図。
【図7】図6の回路の動作を示す各信号のタイミングチ
ャート。
【図8】この発明の第3の実施例に係る構成を示す回路
図。
【図9】図8の回路中の一部の回路の具体的構成を示す
回路図。
【図10】図9の回路の動作を示す各信号のタイミング
チャート。
【図11】図11(a)は前記図5内の一部の回路の他
の実施例の構成を示す回路図、図11(b)は図11
(a)の回路の動作を示す波形図。
【図12】図12(a)は前記図8内の一部の回路の他
の実施例の構成を示す回路図、図12(b)は図12
(a)の回路の動作を示す波形図。
【図13】従来のプリチャージ、ディスチャージ方式の
不揮発性メモリ回路の読出し系の構成を示す回路図。
【図14】図13の回路中の一部の回路の具体例を示す
回路図。
【図15】図14の回路の動作を示す各信号のタイミン
グチャート。
【図16】第1の条件下での図13の回路の動作を示す
各信号のタイミングチャート。
【図17】第2の条件下での図13の回路の動作を示す
各信号のタイミングチャート。
【符号の説明】 11…ローデコーダ、12…リードセル(メモリセル)、13
-1,13-2…選択トランジスタ、14-1,14-2…カラムデコ
ーダ、15…ダミーセル、16…プリチャージ/ディスチャ
ージコントロール回路、17…バイアス電圧発生回路、18
…フリップフロップ回路、19,20…NORゲート回路、
21…ディスチャージコントロール回路、22…プリチャー
ジコントロール回路、23,24…ディレー回路。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リードセル側とダミーセル側の2つのビ
    ット線出力をフリップフロップ回路により検出するプリ
    チャージ/ディスチャージ方式の不揮発性メモリにおい
    て、 プリチャージ終了前にディスチャージを開始する手段を
    有したプリチャージ信号を発生する第1の論理回路とデ
    ィスチャージ信号を発生する第2の論理回路とを具備し
    たことを特徴とする不揮発性メモリ回路。
  2. 【請求項2】 前記プリチャージ信号は前記ディスチャ
    ージ信号を入力とした前記第1の論理回路の出力である
    ことを特徴とする請求項1記載の不揮発性メモリ回路。
  3. 【請求項3】 前記プリチャージ信号とディスチャージ
    信号を発生する第1、第2の論理回路に入力されるクロ
    ック信号のうち第1の論理回路の入力を遅延する遅延回
    路を設けたことを特徴とする請求項1記載の不揮発性メ
    モリ回路。
  4. 【請求項4】 前記プリチャージ信号とディスチャージ
    信号を発生する第1、第2の論理回路の出力のうち第1
    の論理回路の出力を遅延する遅延回路を設けたことを特
    徴とする請求項1記載の不揮発性メモリ回路。
JP21993291A 1991-08-30 1991-08-30 不揮発性メモリ回路 Expired - Fee Related JP2637314B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21993291A JP2637314B2 (ja) 1991-08-30 1991-08-30 不揮発性メモリ回路
KR1019920015246A KR960002007B1 (ko) 1991-08-30 1992-08-25 불휘발성 메모리의 독출회로
US07/936,787 US5270978A (en) 1991-08-30 1992-08-28 Nonvolatile memory circuit
EP92114763A EP0530713B1 (en) 1991-08-30 1992-08-28 Nonvolatile memory circuit
DE69225366T DE69225366T2 (de) 1991-08-30 1992-08-28 Nichtflüchtige Speicherschaltung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21993291A JP2637314B2 (ja) 1991-08-30 1991-08-30 不揮発性メモリ回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05109290A true JPH05109290A (ja) 1993-04-30
JP2637314B2 JP2637314B2 (ja) 1997-08-06

Family

ID=16743283

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21993291A Expired - Fee Related JP2637314B2 (ja) 1991-08-30 1991-08-30 不揮発性メモリ回路

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5270978A (ja)
EP (1) EP0530713B1 (ja)
JP (1) JP2637314B2 (ja)
KR (1) KR960002007B1 (ja)
DE (1) DE69225366T2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100527593B1 (ko) * 1998-07-21 2006-02-13 주식회사 하이닉스반도체 비트라인 프리차지 전압(vblp) 및 셀 플레이트전압(vcp) 제어 장치

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001167591A (ja) 1999-12-08 2001-06-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
US5640114A (en) * 1995-12-27 1997-06-17 Vlsi Technology, Inc. Versatile select and hold scan flip-flop
US5703809A (en) * 1996-10-01 1997-12-30 Microchip Technology Incorporated Overcharge/discharge voltage regulator for EPROM memory array
JPH11213684A (ja) * 1998-01-28 1999-08-06 Toshiba Corp 不揮発性半導体メモリ
JP3401522B2 (ja) * 1998-07-06 2003-04-28 日本電気株式会社 ヒューズ回路及び冗長デコーダ回路
JP2004158111A (ja) * 2002-11-06 2004-06-03 Toshiba Corp メモリ回路
US6909639B2 (en) * 2003-04-22 2005-06-21 Nexflash Technologies, Inc. Nonvolatile memory having bit line discharge, and method of operation thereof
US7050354B2 (en) * 2003-12-16 2006-05-23 Freescale Semiconductor, Inc. Low-power compiler-programmable memory with fast access timing
DE102015004824A1 (de) * 2015-04-14 2016-10-20 Infineon Technologies Ag Verfahren und Vorrichtung zum Steuern von Strom in einer Array-Zelle

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4571708A (en) * 1984-12-26 1986-02-18 Mostek Corporation CMOS ROM Data select circuit
US4638459A (en) * 1985-01-31 1987-01-20 Standard Microsystems Corp. Virtual ground read only memory
JPS61181000A (ja) * 1985-02-06 1986-08-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd ダイナミツクrom回路
FR2610134B1 (fr) * 1987-01-27 1989-03-31 Thomson Semiconducteurs Circuit de lecture pour memoire
JPH0682520B2 (ja) * 1987-07-31 1994-10-19 株式会社東芝 半導体メモリ
JPH07105152B2 (ja) * 1988-03-09 1995-11-13 株式会社東芝 不揮発性メモリ回路装置
KR930000963B1 (ko) * 1988-03-09 1993-02-11 가부시기가이샤 도오시바 불휘발성 메모리 회로장치
JPH0770235B2 (ja) * 1988-06-24 1995-07-31 株式会社東芝 不揮発性メモリ回路装置
JP2573335B2 (ja) * 1988-11-09 1997-01-22 株式会社東芝 不揮発性メモリ
JP2573380B2 (ja) * 1989-12-22 1997-01-22 株式会社東芝 不揮発性半導体メモリ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100527593B1 (ko) * 1998-07-21 2006-02-13 주식회사 하이닉스반도체 비트라인 프리차지 전압(vblp) 및 셀 플레이트전압(vcp) 제어 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR960002007B1 (ko) 1996-02-09
EP0530713B1 (en) 1998-05-06
EP0530713A3 (ja) 1994-02-02
US5270978A (en) 1993-12-14
DE69225366T2 (de) 1998-10-01
JP2637314B2 (ja) 1997-08-06
KR930005033A (ko) 1993-03-23
EP0530713A2 (en) 1993-03-10
DE69225366D1 (de) 1998-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0293339B1 (en) Nonvolatile memory device with a high number of cycle programming endurance
US4937787A (en) Programmable read only memory with means for discharging bit line before program verifying operation
US4817056A (en) Semiconductor memory device
US4894803A (en) Memory circuit with improved data output control
US4827160A (en) Dynamic decoder circuit with charge-sharing prevention means
JP3647994B2 (ja) 不揮発性半導体メモリの読出回路
US5457661A (en) Semiconductor memory device having a delay circuit for controlling access time
JPH0917183A (ja) 半導体記憶装置
JPH05109290A (ja) 不揮発性メモリ回路
JP2573380B2 (ja) 不揮発性半導体メモリ
JP4083908B2 (ja) マルチ−ビットデータを貯蔵するための半導体メモリ装置
JPH0512898A (ja) 半導体集積回路装置
EP0845784B1 (en) Method and corresponding circuit for generating a syncronization ATD signal
KR100263843B1 (ko) 반도체기억장치
US4949343A (en) Error detecting circuit for a decoder
CA1290823C (en) Programmable sense amplifier for read only memory
US5262919A (en) Semiconductor memory device including programming circuitry
KR100205326B1 (ko) 입력 버퍼회로
KR100481826B1 (ko) 반도체메모리장치의비트라인디스챠아지회로
JP2954080B2 (ja) 不揮発性半導体メモリ
JP2765441B2 (ja) 半導体記憶集積回路
JP2954079B2 (ja) 不揮発性半導体メモリ
JPH07244995A (ja) リードオンリメモリのセンス回路
JPH023188A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JPH0560197B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080425

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090425

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees