JPH051078Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH051078Y2 JPH051078Y2 JP17983285U JP17983285U JPH051078Y2 JP H051078 Y2 JPH051078 Y2 JP H051078Y2 JP 17983285 U JP17983285 U JP 17983285U JP 17983285 U JP17983285 U JP 17983285U JP H051078 Y2 JPH051078 Y2 JP H051078Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tray
- cleaning device
- powder
- oxide film
- onto
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 19
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 17
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 8
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 9
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 7
- 238000001505 atmospheric-pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 239000005380 borophosphosilicate glass Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この考案はウエハー上にPSGやBPSG等の酸化
被膜を形成する常圧CVD装置の搬送用トレイの
クリーニング装置に関するものである。
被膜を形成する常圧CVD装置の搬送用トレイの
クリーニング装置に関するものである。
第4図はトレイ搬送機構も含めた従来の常圧
CVD装置の説明図である。この常圧CVD装置に
於けるトレイ搬送動作、及びウエハーにPSGや
BPSG膜を生成する過程を以下、図について説明
する。トレイとはウエハーを運搬する板状のもの
である。第4図に於いてまず、ローダトレイアツ
プ機構5からアツプしてきたトレイ上にメカ的に
ウエハーを載せる。ウエハーを載せたトレイはト
レイ搬送用ベルト上2を移動し、常圧CVDリア
クター1内を通過する。トレイ搬送用ベルト2の
下部には石英板を隔ててヒーターが設けられてお
り、トレイ上を一定の温度に保つている。常圧
CVDリアクター1内では、ウエハー上にPSGや
BPSG膜を生成すべく、SiH4,PH3,B2H5,O2,
N2等のガスをウエハー上に流出させ、反応させ
ている。トレイが常圧CVDリアクター1内を通
過し終えるとメカ的にウエハーをトレイから外
し、トレイはアンローダトレイダウン機構3をダ
ウンする。更にトレイは、トレイ搬送機構4を通
つて戻り、再び、ローダトレイアツプ機構5をア
ツプする。
CVD装置の説明図である。この常圧CVD装置に
於けるトレイ搬送動作、及びウエハーにPSGや
BPSG膜を生成する過程を以下、図について説明
する。トレイとはウエハーを運搬する板状のもの
である。第4図に於いてまず、ローダトレイアツ
プ機構5からアツプしてきたトレイ上にメカ的に
ウエハーを載せる。ウエハーを載せたトレイはト
レイ搬送用ベルト上2を移動し、常圧CVDリア
クター1内を通過する。トレイ搬送用ベルト2の
下部には石英板を隔ててヒーターが設けられてお
り、トレイ上を一定の温度に保つている。常圧
CVDリアクター1内では、ウエハー上にPSGや
BPSG膜を生成すべく、SiH4,PH3,B2H5,O2,
N2等のガスをウエハー上に流出させ、反応させ
ている。トレイが常圧CVDリアクター1内を通
過し終えるとメカ的にウエハーをトレイから外
し、トレイはアンローダトレイダウン機構3をダ
ウンする。更にトレイは、トレイ搬送機構4を通
つて戻り、再び、ローダトレイアツプ機構5をア
ツプする。
ところで、常圧CVDリアクター1内でウエハ
ー上にPSGやBPSG膜を生成させる際に、トレイ
に酸化膜等のパウダーが付着する。このパウダー
の付着をそのままにしておくと、パターン欠陥発
生や信頼性低下をひきおこす。このため、トレイ
は常にクリーニングしておく必要がある。常圧
CVD装置の搬送用トレイのクリーニングの方法
として、従来はトレイ搬送システムからトレイを
取り外し希弗酸等でウエツトエツチングしてトレ
イをクリーニングする方法が採られている。
ー上にPSGやBPSG膜を生成させる際に、トレイ
に酸化膜等のパウダーが付着する。このパウダー
の付着をそのままにしておくと、パターン欠陥発
生や信頼性低下をひきおこす。このため、トレイ
は常にクリーニングしておく必要がある。常圧
CVD装置の搬送用トレイのクリーニングの方法
として、従来はトレイ搬送システムからトレイを
取り外し希弗酸等でウエツトエツチングしてトレ
イをクリーニングする方法が採られている。
従来の連続式常圧CVD装置に於ける上記のよ
うな搬送用トレイのクリーニングの方法を採る
と、トレイ搬送システムからトレイを頻繁に取り
外さねばならず、トレイ交換に手間がかかるとい
う問題点があつた。
うな搬送用トレイのクリーニングの方法を採る
と、トレイ搬送システムからトレイを頻繁に取り
外さねばならず、トレイ交換に手間がかかるとい
う問題点があつた。
この考案は上記のような従来のものの問題点を
解決するためになされたもので、トレイに酸化膜
のパウダーを吹き掛けることなく、CVDリアク
ター内で生成した酸化膜等のパウダー等をトレイ
上から除去することができる、搬送用トレイのク
リーニング装置を得ることを目的とするものであ
る。
解決するためになされたもので、トレイに酸化膜
のパウダーを吹き掛けることなく、CVDリアク
ター内で生成した酸化膜等のパウダー等をトレイ
上から除去することができる、搬送用トレイのク
リーニング装置を得ることを目的とするものであ
る。
この考案に係る搬送用トレイのクリーニング装
置は、CVD装置のウエハー搬送用トレイの搬送
装置にトレイクリーニング装置を設けてなり、該
トレイクリーニング装置はトレイにN2を吹付け
るN2吹付装置と、吹付けられたN2を酸化膜等の
パウダーとともに排出させる排出装置とを備え、
該N2吹付装置は該トレイクリーニング装置内に
適量のN2を流してノズル部領域が陰圧になるの
を避けるためのバイパス配管と絞り弁とを備えて
なるものである。
置は、CVD装置のウエハー搬送用トレイの搬送
装置にトレイクリーニング装置を設けてなり、該
トレイクリーニング装置はトレイにN2を吹付け
るN2吹付装置と、吹付けられたN2を酸化膜等の
パウダーとともに排出させる排出装置とを備え、
該N2吹付装置は該トレイクリーニング装置内に
適量のN2を流してノズル部領域が陰圧になるの
を避けるためのバイパス配管と絞り弁とを備えて
なるものである。
この考案においては、N2吹付装置がトレイに
N2を吹付けると、トレイに付着している酸化膜
等のパウダーがN2ガス中に飛散する。N2ガス中
に飛散した酸化膜等のパウダーは排出装置によつ
て外部に排出され、トレイはクリーニングされ
る。N2吹付装置はトレイクリーニング装置内に
適量のN2を流しているので、トレイ上への酸化
膜等へのパウダーの逆吹付けがなくなる。
N2を吹付けると、トレイに付着している酸化膜
等のパウダーがN2ガス中に飛散する。N2ガス中
に飛散した酸化膜等のパウダーは排出装置によつ
て外部に排出され、トレイはクリーニングされ
る。N2吹付装置はトレイクリーニング装置内に
適量のN2を流しているので、トレイ上への酸化
膜等へのパウダーの逆吹付けがなくなる。
以下、この考案の一実施例を図について説明す
る。第1図及び第2図はこの考案に係るトレイの
クリーニング装置を示す斜視図であり、図におい
て、7はN2配管、8はトレイ挿入口、9は電磁
バルブ、10は絞り弁、11は排気口、12はノ
ズル、13はフイルターである。N2配管7には
バイパス配管14が設けられている。このトレイ
クリーニング装置6は、第3図に示すように、連
続式常圧CVD装置のトレイ搬送システムのアン
ローダトレイダウン機構3の途中に設けられてい
る。
る。第1図及び第2図はこの考案に係るトレイの
クリーニング装置を示す斜視図であり、図におい
て、7はN2配管、8はトレイ挿入口、9は電磁
バルブ、10は絞り弁、11は排気口、12はノ
ズル、13はフイルターである。N2配管7には
バイパス配管14が設けられている。このトレイ
クリーニング装置6は、第3図に示すように、連
続式常圧CVD装置のトレイ搬送システムのアン
ローダトレイダウン機構3の途中に設けられてい
る。
上記のように構成されたトレイクリーニングボ
ツクスにおいて、トレイ挿入口8から挿入したト
レイは、N2配管7の先端のノズル12から噴出
されたN2で付着している酸化膜粉等のパウダー
を除去される。トレイ上にN2を噴出した際、一
瞬ノズル部領域が陰圧になり、トレイ上の酸化膜
粉を吸い込み、逆にトレイに吹き掛けることがあ
る。そこで、これを防止する為に、噴出部のN2
配管7にバイパス配管14と絞り弁10を設け、
常に適量のN2を流し、ノズル部領域が陰圧にな
るのを避け、酸化膜粉をトレイに吹き付けるのを
防止している。。N2噴出は電磁バルブ9の動作に
よつて行なわれる。フイルター13から、外気を
吸入し、噴出するN2と一緒に排気口11より排
気している。このためトレイ上の酸化膜粉等のパ
ウダーは、吹き飛び排気口11より排気される。
ツクスにおいて、トレイ挿入口8から挿入したト
レイは、N2配管7の先端のノズル12から噴出
されたN2で付着している酸化膜粉等のパウダー
を除去される。トレイ上にN2を噴出した際、一
瞬ノズル部領域が陰圧になり、トレイ上の酸化膜
粉を吸い込み、逆にトレイに吹き掛けることがあ
る。そこで、これを防止する為に、噴出部のN2
配管7にバイパス配管14と絞り弁10を設け、
常に適量のN2を流し、ノズル部領域が陰圧にな
るのを避け、酸化膜粉をトレイに吹き付けるのを
防止している。。N2噴出は電磁バルブ9の動作に
よつて行なわれる。フイルター13から、外気を
吸入し、噴出するN2と一緒に排気口11より排
気している。このためトレイ上の酸化膜粉等のパ
ウダーは、吹き飛び排気口11より排気される。
なお上記実施例では、N2噴出を行なつてトレ
イのクリーニングを行なつているが、N2の代わ
りに乾空やAr等を用いてもよいことはいうまで
もない。
イのクリーニングを行なつているが、N2の代わ
りに乾空やAr等を用いてもよいことはいうまで
もない。
この考案は以上説明したとおり、CVDリアク
ター内で生成した酸化膜等のパウダーを、トレイ
搬送システムからトレイを取り外すことなしにト
レイ上から除去でき、トレイのクリーニング作業
が容易になるという効果がある。また、N2噴出
ノズル口に適量のN2を流すようにしたので、ト
レイに逆に酸化膜粉を吹き付けて付着させるのを
防止することができるという効果がある。
ター内で生成した酸化膜等のパウダーを、トレイ
搬送システムからトレイを取り外すことなしにト
レイ上から除去でき、トレイのクリーニング作業
が容易になるという効果がある。また、N2噴出
ノズル口に適量のN2を流すようにしたので、ト
レイに逆に酸化膜粉を吹き付けて付着させるのを
防止することができるという効果がある。
第1図及び第2図は本考案に係るトレイクリー
ニング装置の斜視図、第3図は本考案に係る常圧
CVD装置の説明図、第4図は、従来の常圧CVD
装置の説明図である。 図において、1は常圧CVDリアクター、2は
トレイ搬送用本体ベルト、3はアンローダトレイ
ダウン機構、4はトレイ搬送機構、5はローダト
レイアツプ機構、6はトレイクリーニング装置、
7はN2配管、8はトレイ挿入口、9は電磁バル
ブ、10は絞り弁、11は排気口、12はノズ
ル、13はフイルターである。なお、各図中同一
符号は同一、又は相当部分を示す。
ニング装置の斜視図、第3図は本考案に係る常圧
CVD装置の説明図、第4図は、従来の常圧CVD
装置の説明図である。 図において、1は常圧CVDリアクター、2は
トレイ搬送用本体ベルト、3はアンローダトレイ
ダウン機構、4はトレイ搬送機構、5はローダト
レイアツプ機構、6はトレイクリーニング装置、
7はN2配管、8はトレイ挿入口、9は電磁バル
ブ、10は絞り弁、11は排気口、12はノズ
ル、13はフイルターである。なお、各図中同一
符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- CVD装置のウエハー搬送用トレイの搬送装置
にトレイクリーニング装置を設けてなり、該トレ
イクリーニング装置はトレイにN2を吹付けるN2
吹付装置と、吹付けられたN2を酸化膜等のパウ
ダーとともに排出させる排出装置とを備え、該
N2吹付装置は該トレイクリーニング装置内に適
量のN2を流してノズル部領域が陰圧になるのを
避けるためのバイパス配管と絞り弁とを備えてな
る搬送用トレイのクリーニング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17983285U JPH051078Y2 (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17983285U JPH051078Y2 (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6289138U JPS6289138U (ja) | 1987-06-08 |
JPH051078Y2 true JPH051078Y2 (ja) | 1993-01-12 |
Family
ID=31123240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17983285U Expired - Lifetime JPH051078Y2 (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH051078Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-11-25 JP JP17983285U patent/JPH051078Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6289138U (ja) | 1987-06-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100212074B1 (ko) | 기판의 액제거장치 | |
US6099396A (en) | Carbon dioxide jet spray pallet cleaning system | |
US20030056722A1 (en) | Coating film forming system | |
TW200407201A (en) | Substrate treatment apparatus and substrate washing method | |
JP3754905B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
JPH051078Y2 (ja) | ||
JP3526692B2 (ja) | 基板の液切り装置 | |
KR20030003235A (ko) | 기판처리장치 | |
TW202145408A (zh) | 乾燥裝置、基板處理裝置及基板固持器之乾燥方法 | |
JP4663919B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
JPH0955418A (ja) | ウェーハ搬送装置 | |
JP2003282525A (ja) | 基板処理装置 | |
KR100548639B1 (ko) | 흡입모듈이 구비된 세정장치 및 그를 이용한 세정방법 | |
JP4598911B2 (ja) | 基板から処理液を除去する方法及び装置 | |
JP3843252B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JPH083001Y2 (ja) | 基板の液切り装置 | |
CN107818937A (zh) | 喷淋式保湿自走机器人 | |
JP3325395B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
JPH03284386A (ja) | 洗浄用処理槽 | |
JPH059061Y2 (ja) | ||
JP2916217B2 (ja) | ブロー洗浄装置 | |
JPH10256231A (ja) | ウエハ処理装置及びウエハ処理方法 | |
JPH07302779A (ja) | 基板の液切り乾燥装置 | |
JPH08338686A (ja) | 基板乾燥方法及びその装置 | |
JPH11145096A (ja) | 洗浄方法及び洗浄装置 |