JP3325395B2 - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
- Publication number
- JP3325395B2 JP3325395B2 JP19296694A JP19296694A JP3325395B2 JP 3325395 B2 JP3325395 B2 JP 3325395B2 JP 19296694 A JP19296694 A JP 19296694A JP 19296694 A JP19296694 A JP 19296694A JP 3325395 B2 JP3325395 B2 JP 3325395B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultrasonic
- substrate
- showers
- ultrasonic cleaning
- pure water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造用の基板を
垂直に立て、水平に搬送する搬送手段と、スリット状の
開口から純水を噴出して、搬送されてくる基板に当てて
基板を洗浄する複数の超音波シャワーとからなる超音波
洗浄装置に関する。
垂直に立て、水平に搬送する搬送手段と、スリット状の
開口から純水を噴出して、搬送されてくる基板に当てて
基板を洗浄する複数の超音波シャワーとからなる超音波
洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図4はこの種の超音波洗浄装置の従来例
を示す示す平面図、図5は図4の従来例の正面図、図6
は図4の従来例の側面図である。ガラス基板31,32
は、搬送手段(不図示)により垂直に、かつ適当な間隔
をもって保持され、矢印Hで示される方向に水平に搬送
される。
を示す示す平面図、図5は図4の従来例の正面図、図6
は図4の従来例の側面図である。ガラス基板31,32
は、搬送手段(不図示)により垂直に、かつ適当な間隔
をもって保持され、矢印Hで示される方向に水平に搬送
される。
【0003】超音波シャワー41は搬送されてくるガラ
ス基板31,32の第1の主表面とそれぞれ等間隔をも
って対面するように配置されている。超音波シャワー5
1は搬送されてくるガラス基板の第2の主表面とそれぞ
れ等間隔をもって対面するように配置されるとともに、
超音波シャワー41と搬送されてくるガラス基板を挟ん
で対面している。
ス基板31,32の第1の主表面とそれぞれ等間隔をも
って対面するように配置されている。超音波シャワー5
1は搬送されてくるガラス基板の第2の主表面とそれぞ
れ等間隔をもって対面するように配置されるとともに、
超音波シャワー41と搬送されてくるガラス基板を挟ん
で対面している。
【0004】各超音波シャワー41,51のガラス基板
と対面する側には、中央部で垂直に延びる開口となって
いるスリット46,56が設けられている。また、各超
音波シャワー41,51のガラス基板と対面しない側に
は、超音波振動子(不図示)が取り付けられている。
と対面する側には、中央部で垂直に延びる開口となって
いるスリット46,56が設けられている。また、各超
音波シャワー41,51のガラス基板と対面しない側に
は、超音波振動子(不図示)が取り付けられている。
【0005】給水管44,54からはそれぞれ給水端4
11,511を介して超音波シャワー41,51に一定の
圧力で純水が供給され、供給された純水は超音波シャワ
ー41,51のスリット46,56からそれぞれ噴出
し、搬送されてくるガラス基板に当り、超音波振動子か
らの超音波と協働してガラス基板を洗浄する。噴出され
なかった残余の純水は排水端412,512を介して排水
管45,55から排出され、次工程に送られる。しか
し、超音波シャワー41,51のスリット46,56か
ら噴出されるた純水は、超音波シャワー41,51がそ
れぞれ単一でスリットが長いため、図6に示すようにガ
ラス基板に垂直に当らず、ガラス基板に当らない部分が
ガラス基板の上部に発生してしまう。
11,511を介して超音波シャワー41,51に一定の
圧力で純水が供給され、供給された純水は超音波シャワ
ー41,51のスリット46,56からそれぞれ噴出
し、搬送されてくるガラス基板に当り、超音波振動子か
らの超音波と協働してガラス基板を洗浄する。噴出され
なかった残余の純水は排水端412,512を介して排水
管45,55から排出され、次工程に送られる。しか
し、超音波シャワー41,51のスリット46,56か
ら噴出されるた純水は、超音波シャワー41,51がそ
れぞれ単一でスリットが長いため、図6に示すようにガ
ラス基板に垂直に当らず、ガラス基板に当らない部分が
ガラス基板の上部に発生してしまう。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来の
超音波洗浄装置においては、純水が超音波シャワー4
1,51のスリット46,56から噴出される場合に、
スリットが長いため、図6に示すようにガラス基板に垂
直に当らず、ガラス基板に当らない部分がガラス基板の
上部に発生してしまうという問題点がある。
超音波洗浄装置においては、純水が超音波シャワー4
1,51のスリット46,56から噴出される場合に、
スリットが長いため、図6に示すようにガラス基板に垂
直に当らず、ガラス基板に当らない部分がガラス基板の
上部に発生してしまうという問題点がある。
【0007】本発明は上記問題点に鑑み、噴出される純
水をできるだけガラス基板に垂直に当てて、ガラス基板
を全体的に良好かつ平均的に洗浄できる超音波洗浄装置
を提供することを目的とする。
水をできるだけガラス基板に垂直に当てて、ガラス基板
を全体的に良好かつ平均的に洗浄できる超音波洗浄装置
を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の超音波洗浄装置
は、半導体製造用の基板を垂直に立て、垂直に立てた基
板を水平に搬送する搬送手段と、先端にスリット状の開
口が開けられたノズルを有し、搬送されてくる基板の主
表面に対し、スリット状の開口を基板の主表面に対し一
定の間隔で平行に保つとともに、スリット状の開口から
純水を噴出して、搬送されてくる基板に当てて基板を洗
浄する複数の超音波シャワーとからなる超音波洗浄装置
であって、前記複数の超音波シャワーは、基板の搬送方
向にしたがって、取り付け位置が順次下げられている。
は、半導体製造用の基板を垂直に立て、垂直に立てた基
板を水平に搬送する搬送手段と、先端にスリット状の開
口が開けられたノズルを有し、搬送されてくる基板の主
表面に対し、スリット状の開口を基板の主表面に対し一
定の間隔で平行に保つとともに、スリット状の開口から
純水を噴出して、搬送されてくる基板に当てて基板を洗
浄する複数の超音波シャワーとからなる超音波洗浄装置
であって、前記複数の超音波シャワーは、基板の搬送方
向にしたがって、取り付け位置が順次下げられている。
【0009】また、前記複数の超音波シャワーは、基板
の第1の主表面を洗浄する第1のグループと、基板の第
2の主表面を洗浄する第2のグループとに分けられ、各
グループの各超音波洗浄シャワーは搬送されてくる基板
を挟んで、それぞれ対向するように配置されており、各
超音波シャワーには純水が独立に供給されるのが好まし
い。
の第1の主表面を洗浄する第1のグループと、基板の第
2の主表面を洗浄する第2のグループとに分けられ、各
グループの各超音波洗浄シャワーは搬送されてくる基板
を挟んで、それぞれ対向するように配置されており、各
超音波シャワーには純水が独立に供給されるのが好まし
い。
【0010】
【作用】複数の超音波シャワーを高さを変えて配置する
とともに、純水噴出用のノズルを設けているので、基板
の高さ方向に関して、複数の超音波シャワーで洗浄を分
担でき、純水を平行に近く噴出することができる。
とともに、純水噴出用のノズルを設けているので、基板
の高さ方向に関して、複数の超音波シャワーで洗浄を分
担でき、純水を平行に近く噴出することができる。
【0011】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は本発明の超音波洗浄装置の一実施例
を示す示す平面図、図2は図1の実施例の正面図、図3
は図1の実施例の側面図である。ガラス基板31,32
は、搬送手段(不図示)により垂直に、かつ適当な間隔
をもって保持され、矢印Hで示される方向に水平に搬送
される。
て説明する。図1は本発明の超音波洗浄装置の一実施例
を示す示す平面図、図2は図1の実施例の正面図、図3
は図1の実施例の側面図である。ガラス基板31,32
は、搬送手段(不図示)により垂直に、かつ適当な間隔
をもって保持され、矢印Hで示される方向に水平に搬送
される。
【0012】超音波シャワー11,12,13は搬送さ
れてくるガラス基板31,32の第1の主表面とそれぞ
れ等間隔をもって対面するように配置されているが、そ
の取り付け高さは一定の差を持つように配置されてい
る。本実施例の場合、超音波シャワー11が最も高い位
置に配置され、超音波シャワー12,13の順に一定距
離だけ下方に下げられて配置されている。超音波シャワ
ー21,22,23は搬送されてくるガラス基板31,
32の第2の主表面とそれぞれ等間隔をもって対面する
ように配置されるとともに、それぞれ超音波シャワー1
1,12,13と搬送されてくるガラス基板を挟んで対
面するように配置されている。
れてくるガラス基板31,32の第1の主表面とそれぞ
れ等間隔をもって対面するように配置されているが、そ
の取り付け高さは一定の差を持つように配置されてい
る。本実施例の場合、超音波シャワー11が最も高い位
置に配置され、超音波シャワー12,13の順に一定距
離だけ下方に下げられて配置されている。超音波シャワ
ー21,22,23は搬送されてくるガラス基板31,
32の第2の主表面とそれぞれ等間隔をもって対面する
ように配置されるとともに、それぞれ超音波シャワー1
1,12,13と搬送されてくるガラス基板を挟んで対
面するように配置されている。
【0013】各超音波シャワー11〜13,21〜23
のガラス基板と対面する側には、中央部でガラス基板側
に突出し、かつ垂直に延び、先端がスリット状の開口と
なっているノズル16〜18,26〜28(水圧が1.
5kg/cm2、スリット幅が0.5〜2mmのときス
リット状の部分の長さは200mm以下くらいが適切で
あった)が設けられている。また、各超音波シャワー1
1〜13,21〜23のガラス基板と対面しない側に
は、超音波振動子(不図示)が取り付けられている。
のガラス基板と対面する側には、中央部でガラス基板側
に突出し、かつ垂直に延び、先端がスリット状の開口と
なっているノズル16〜18,26〜28(水圧が1.
5kg/cm2、スリット幅が0.5〜2mmのときス
リット状の部分の長さは200mm以下くらいが適切で
あった)が設けられている。また、各超音波シャワー1
1〜13,21〜23のガラス基板と対面しない側に
は、超音波振動子(不図示)が取り付けられている。
【0014】給水端111,121,131,211,22
1,231からは、超音波シャワー11,12,13,2
1,22,23に、それぞれ独立に給水源から給水管を
経て一定の圧力の純水が供給され、供給された純水はそ
れぞれノズル16〜18,26〜28から噴出し、搬送
されてくるガラス基板に当り、超音波振動子からの超音
波と協働してガラス基板を洗浄する。噴出されなかった
残余の純水はそれぞれ排水端112,122,132,2
12,222,232から配水管を経て次工程に排出され
る。
1,231からは、超音波シャワー11,12,13,2
1,22,23に、それぞれ独立に給水源から給水管を
経て一定の圧力の純水が供給され、供給された純水はそ
れぞれノズル16〜18,26〜28から噴出し、搬送
されてくるガラス基板に当り、超音波振動子からの超音
波と協働してガラス基板を洗浄する。噴出されなかった
残余の純水はそれぞれ排水端112,122,132,2
12,222,232から配水管を経て次工程に排出され
る。
【0015】上述のように純水がノズル16〜18,2
6〜28から噴出される場合に、超音波シャワー11〜
13,21〜23は、縦方向に短くなるように3つに分
割されているため、図4〜図6の従来のものに比較し同
じ水圧でも、ノズルから噴出される純水はより直角に近
い角度でガラス基板の主表面に当っている。したがっ
て、水圧を上げなくとも噴出する純水が、ガラス基板に
当らない部分が発生しない。
6〜28から噴出される場合に、超音波シャワー11〜
13,21〜23は、縦方向に短くなるように3つに分
割されているため、図4〜図6の従来のものに比較し同
じ水圧でも、ノズルから噴出される純水はより直角に近
い角度でガラス基板の主表面に当っている。したがっ
て、水圧を上げなくとも噴出する純水が、ガラス基板に
当らない部分が発生しない。
【0016】なお、上述の実施例に用いられる超音波シ
ャワー11,12,〜,23の構造は、縦方向のサイズ
が図4〜図6の従来例の約3分の1であること、ノズル
16,17,〜,28が設けられていることを除けば、
従来例とほぼ同様な構造となっている。
ャワー11,12,〜,23の構造は、縦方向のサイズ
が図4〜図6の従来例の約3分の1であること、ノズル
16,17,〜,28が設けられていることを除けば、
従来例とほぼ同様な構造となっている。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、複数の超
音波シャワーを高さを変えて配置するとともに、純水噴
出用のノズルを設けているので、基板の高さ方向に関し
て、複数の超音波シャワーで洗浄を分担でき、純水をで
きるだけ平行に噴出することができ、洗浄を基板全体に
平均して行なうことができる。
音波シャワーを高さを変えて配置するとともに、純水噴
出用のノズルを設けているので、基板の高さ方向に関し
て、複数の超音波シャワーで洗浄を分担でき、純水をで
きるだけ平行に噴出することができ、洗浄を基板全体に
平均して行なうことができる。
【図1】本発明の超音波洗浄装置の一実施例を示す示す
平面図である。
平面図である。
【図2】図1の実施例の正面図である。
【図3】図1の実施例の側面図である。
【図4】超音波洗浄装置の従来例を示す示す平面図であ
る。
る。
【図5】図4の正面図である。
【図6】図4の側面図である。
11,12,13,21,22,23 超音波シャワ
ー 111,121,131,211,221,231 給水端 112,122,132,212,222,232 排水端 16,17,18,26,27,28 ノズル 31,32 ガラス基板
ー 111,121,131,211,221,231 給水端 112,122,132,212,222,232 排水端 16,17,18,26,27,28 ノズル 31,32 ガラス基板
Claims (3)
- 【請求項1】 半導体製造用の基板を垂直に立て、垂直
に立てた基板を水平に搬送する搬送手段と、 先端にスリット状の開口が開けられたノズルを有し、搬
送されてくる基板の主表面に対し、スリット状の開口を
基板の主表面に対し一定の間隔で平行に保つとともに、
スリット状の開口から純水を噴出して、搬送されてくる
基板に当てて基板を洗浄する複数の超音波シャワーとか
らなる超音波洗浄装置であって、 前記複数の超音波シャワーは、基板の搬送方向にしたが
って、取り付け位置が順次下げられている超音波洗浄装
置。 - 【請求項2】前記複数の超音波シャワーは、基板の第1
の主表面を洗浄する第1のグループと、基板の第2の主
表面を洗浄する第2のグループとに分けられ、各グルー
プの各超音波洗浄シャワーは搬送されてくる基板を挟ん
で、それぞれ対向するように配置されている請求項1記
載の超音波洗浄装置。 - 【請求項3】前記各超音波シャワーには純水が独立に供
給される請求項1または2記載の超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19296694A JP3325395B2 (ja) | 1994-08-17 | 1994-08-17 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19296694A JP3325395B2 (ja) | 1994-08-17 | 1994-08-17 | 超音波洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0857436A JPH0857436A (ja) | 1996-03-05 |
JP3325395B2 true JP3325395B2 (ja) | 2002-09-17 |
Family
ID=16300011
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19296694A Expired - Fee Related JP3325395B2 (ja) | 1994-08-17 | 1994-08-17 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3325395B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE602004021965D1 (de) * | 2004-02-18 | 2009-08-20 | Kawasaki Plant Systems Kk | Vertikale arbeitslinie für plattenmaterial |
-
1994
- 1994-08-17 JP JP19296694A patent/JP3325395B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0857436A (ja) | 1996-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH05291228A (ja) | ウェーハ洗浄装置及び洗浄方法 | |
JP3070511B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
KR20010070234A (ko) | 판상부재의 반송 및 세정장치 | |
JP3325395B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
JP3550277B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR20030003235A (ko) | 기판처리장치 | |
JP3526692B2 (ja) | 基板の液切り装置 | |
JP2862458B2 (ja) | 被洗浄基板の洗浄方法およびその装置 | |
US6751824B2 (en) | Cleaning apparatus for semiconductor wafer | |
JPS63202516A (ja) | 板状物の移送装置 | |
JP3866856B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JPH09327671A (ja) | 超音波洗浄機 | |
JP2002307025A (ja) | 基板洗浄方法および洗浄装置 | |
JPH0777209B2 (ja) | 噴射形超音波洗浄装置 | |
JP2988828B2 (ja) | 基板の液切り乾燥装置 | |
JP3851370B2 (ja) | 基板の液切り装置 | |
JP2656980B2 (ja) | ガラス基板洗浄方法 | |
JP3113192B2 (ja) | 液晶用基板の液体噴射装置 | |
JPH05226809A (ja) | プリント配線板のエッチング方法 | |
TWI345260B (en) | Resist elimination device | |
JPH09330896A (ja) | 超音波洗浄機 | |
JPH08257520A (ja) | 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 | |
JPH05129266A (ja) | 洗浄方法及びその装置 | |
JPH08338686A (ja) | 基板乾燥方法及びその装置 | |
JPH07204593A (ja) | 基板の処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080705 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090705 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |