JPH09330896A - 超音波洗浄機 - Google Patents
超音波洗浄機Info
- Publication number
- JPH09330896A JPH09330896A JP15081096A JP15081096A JPH09330896A JP H09330896 A JPH09330896 A JP H09330896A JP 15081096 A JP15081096 A JP 15081096A JP 15081096 A JP15081096 A JP 15081096A JP H09330896 A JPH09330896 A JP H09330896A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flat bar
- substrate
- cleaned
- ultrasonic
- cleaning liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 超音波洗浄機の洗浄効率を高める。
【解決手段】 超音波洗浄機１は、搬送中の基板３との
間でわずかな間隙を形成するように、洗浄液噴出ノズル
１ｅの端部から基板３の搬送方向および該方向と反対方
向に基板３と平行に延び、洗浄液噴出ノズル１ｅの長さ
と概ね同じ幅を有するフラットバー１ｆを備えている。
間でわずかな間隙を形成するように、洗浄液噴出ノズル
１ｅの端部から基板３の搬送方向および該方向と反対方
向に基板３と平行に延び、洗浄液噴出ノズル１ｅの長さ
と概ね同じ幅を有するフラットバー１ｆを備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンウェハ
ー、液晶ガラス基板を洗浄する超音波洗浄機に関する。
ー、液晶ガラス基板を洗浄する超音波洗浄機に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４（１），（２）はこの種の超音波洗
浄機の従来例の正面図と側面図である。
浄機の従来例の正面図と側面図である。
【０００３】超音波洗浄機４は、搬送ローラ２で搬送さ
れる基板３の表面を洗浄するもので、超音波発振器４ａ
と、超音波信号ケーブル４ｂと、洗浄液供給パイプ４
ｃ、洗浄機本体４ｄと、基板３の搬送方向と直交な方向
に延びる洗浄液噴出ノズル４ｅで構成されている。
れる基板３の表面を洗浄するもので、超音波発振器４ａ
と、超音波信号ケーブル４ｂと、洗浄液供給パイプ４
ｃ、洗浄機本体４ｄと、基板３の搬送方向と直交な方向
に延びる洗浄液噴出ノズル４ｅで構成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の超音波
洗浄機は、洗浄液噴出ノズルが細く絞り込まれた形状と
なっているため、その下を通過する被洗浄物をその細い
先端部のみでしか洗浄できず、洗浄効果がよくなかっ
た。
洗浄機は、洗浄液噴出ノズルが細く絞り込まれた形状と
なっているため、その下を通過する被洗浄物をその細い
先端部のみでしか洗浄できず、洗浄効果がよくなかっ
た。
【０００５】よって、洗浄効果を上げるためには、超音
波洗浄機を、図５に示すように、被洗浄物の搬送方向に
複数台並べて使用するしか方法がなかった。
波洗浄機を、図５に示すように、被洗浄物の搬送方向に
複数台並べて使用するしか方法がなかった。
【０００６】本発明の目的は、１台で洗浄効果の高い超
音波洗浄機を提供することにある。
音波洗浄機を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の超音波洗浄機
は、搬送中の被洗浄物との間でわずかな間隙を形成する
ように、洗浄液噴出ノズルの端部から被洗浄物の搬送方
向および該方向の反対方向に被洗浄物と平行に延び、洗
浄液噴出ノズルの長さと概ね同じ幅を有するフラットバ
ーを備えている。
は、搬送中の被洗浄物との間でわずかな間隙を形成する
ように、洗浄液噴出ノズルの端部から被洗浄物の搬送方
向および該方向の反対方向に被洗浄物と平行に延び、洗
浄液噴出ノズルの長さと概ね同じ幅を有するフラットバ
ーを備えている。
【０００８】ノズル下部に被洗浄物がない場合は洗浄液
はそのまま下部に落ちるが、下を被洗浄物が通過する際
には、フラットバーと被洗浄物との間に水の膜ができ、
そこを超音波が伝達するため、フラットバー全面で被洗
浄物を洗浄できる。
はそのまま下部に落ちるが、下を被洗浄物が通過する際
には、フラットバーと被洗浄物との間に水の膜ができ、
そこを超音波が伝達するため、フラットバー全面で被洗
浄物を洗浄できる。
【０００９】なお、フラットバーは強度的な問題（ソ
リ、うねり）がなければ、大きい程よい。
リ、うねり）がなければ、大きい程よい。
【００１０】本発明の実施態様によれば、フラットバー
の搬送方向の両端が被洗浄物と反対側に折り返されてい
る。
の搬送方向の両端が被洗浄物と反対側に折り返されてい
る。
【００１１】したがって、洗浄後の液がフラットバーの
上面にかかって被洗浄物が再び汚れるのが防止される。
上面にかかって被洗浄物が再び汚れるのが防止される。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。
図面を参照して説明する。
【００１３】図（１），（２）はそれぞれ本発明の一実
施形態の超音波洗浄機の正面図、側面図、図２は図１の
部分拡大断面図である。
施形態の超音波洗浄機の正面図、側面図、図２は図１の
部分拡大断面図である。
【００１４】本実施形態の超音波洗浄機１は、従来と同
じ超音波発振器１ａと超音波信号ケーブル１ｂと洗浄液
供給パイプ１ｃと洗浄機本体１ｄと洗浄液噴出ノズル１
ｅに加えて、フラットバー１ｆを新たに備えている。
じ超音波発振器１ａと超音波信号ケーブル１ｂと洗浄液
供給パイプ１ｃと洗浄機本体１ｄと洗浄液噴出ノズル１
ｅに加えて、フラットバー１ｆを新たに備えている。
【００１５】このフラットバー１ｆは搬送中の基板３と
の間でわずかな間隙を形成するように、洗浄液噴出ノズ
ル１ｅの端部から基板３の搬送方向および該方向と反対
方向に基板３と平行に延び、洗浄液噴出ノズル１ｅの長
さと概ね同じ幅を有している。
の間でわずかな間隙を形成するように、洗浄液噴出ノズ
ル１ｅの端部から基板３の搬送方向および該方向と反対
方向に基板３と平行に延び、洗浄液噴出ノズル１ｅの長
さと概ね同じ幅を有している。
【００１６】ノズル下部に被洗浄物である基板３がない
場合は洗浄液はそのまま下部に落ちるが、下を被洗浄物
である基板３が通過する際には、図２に示すように、フ
ラットバー１ｆと基板３との間に水の膜ができ、そこ
を、超音波が反射しながら伝達するため、フラットバー
全面で基板３を洗浄できる。
場合は洗浄液はそのまま下部に落ちるが、下を被洗浄物
である基板３が通過する際には、図２に示すように、フ
ラットバー１ｆと基板３との間に水の膜ができ、そこ
を、超音波が反射しながら伝達するため、フラットバー
全面で基板３を洗浄できる。
【００１７】図３はフラットバー１ｆの他の例を示す断
面図である。このフラットバー１ｆは基板３の搬送方向
の両端が上方に折り返され、これにより洗浄後の液がフ
ラットバー１ｆの上面にかかって基板３が再び汚れるの
が防止される。
面図である。このフラットバー１ｆは基板３の搬送方向
の両端が上方に折り返され、これにより洗浄後の液がフ
ラットバー１ｆの上面にかかって基板３が再び汚れるの
が防止される。
【００１８】なお、本実施形態の超音波洗浄機を基板３
の裏側にも設けて基板の裏面の洗浄を行うことができ
る。ただし、この場合、フラットバーは搬送ローラ間に
入らなければならず、表側を洗浄する場合よりも長さが
短くなる。
の裏側にも設けて基板の裏面の洗浄を行うことができ
る。ただし、この場合、フラットバーは搬送ローラ間に
入らなければならず、表側を洗浄する場合よりも長さが
短くなる。
【００１９】また、以上の実施形態は、フラットバー１
ｆは洗浄液噴出ノズル１ｅと一体になっているが、洗浄
液噴出ノズル１ｅに適宜な手段で後から取り付けられる
ようにしてもよい。
ｆは洗浄液噴出ノズル１ｅと一体になっているが、洗浄
液噴出ノズル１ｅに適宜な手段で後から取り付けられる
ようにしてもよい。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、洗浄液噴
出ノズルの先端に、被洗浄物と平行に、かつ被洗浄物と
わずかな間隙をもってフラットバー備えることにより、
フラットバーと被洗浄物の間で水膜を作り、超音波を被
洗浄物に効果的に伝達して被洗浄物を洗浄することが可
能となり、洗浄効率が向上する効果がある。
出ノズルの先端に、被洗浄物と平行に、かつ被洗浄物と
わずかな間隙をもってフラットバー備えることにより、
フラットバーと被洗浄物の間で水膜を作り、超音波を被
洗浄物に効果的に伝達して被洗浄物を洗浄することが可
能となり、洗浄効率が向上する効果がある。
【図１】本発明の一実施形態の超音波洗浄機の正面図
（図１（１））と側面図（図１（２））である。
（図１（１））と側面図（図１（２））である。
【図２】図１のフラットバーの拡大断面図である。
【図３】フラットバーの他の例の拡大断面図である。
【図４】超音波洗浄機の従来例の正面図（図４（１））
と側面図（図４（２））である。
と側面図（図４（２））である。
【図５】従来の超音波洗浄機を複数台設置して洗浄を行
う例を示す図である。
う例を示す図である。
１ 超音波洗浄機 １ａ 超音波発振器 １ｂ 超音波信号ケーブル １ｃ 洗浄液供給パイプ １ｄ 洗浄機本体 １ｅ 洗浄機噴出ノズル １ｆ フラットバー ２ 搬送ローラ ３ 基板
Claims (2)
- 【請求項１】 搬送される薄板状の被洗浄物の搬送方向
と直角な方向に延びる洗浄液噴出ノズルを備え、前記被
洗浄物の対向する面を洗浄する超音波洗浄機において、 搬送中の被洗浄物との間でわずかな間隙を形成するよう
に、前記洗浄液噴出ノズルの端部から前記搬送方向およ
び該方向の反対方向に前記被洗浄物と平行に延び、前記
洗浄液噴出ノズルの長さと概ね同じ幅を有するフラット
バーを備えていることを特徴とする超音波洗浄機。 - 【請求項２】 前記フラットバーの搬送方向の両端が被
洗浄物と反対側に折り返されている、請求項１記載の超
音波洗浄機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15081096A JPH09330896A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 超音波洗浄機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15081096A JPH09330896A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 超音波洗浄機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09330896A true JPH09330896A (ja) | 1997-12-22 |
Family
ID=15504924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15081096A Pending JPH09330896A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 超音波洗浄機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09330896A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6983756B2 (en) * | 1999-12-24 | 2006-01-10 | M - Fsi Ltd. | Substrate treatment process and apparatus |
| JP2011000571A (ja) * | 2009-06-22 | 2011-01-06 | Hitachi Plant Technologies Ltd | フィルムの洗浄ノズル装置 |
| US8539969B2 (en) * | 2010-07-30 | 2013-09-24 | Sematech, Inc. | Gigasonic brush for cleaning surfaces |
| CN110153097A (zh) * | 2019-05-17 | 2019-08-23 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 设备清洗方法、装置及显影设备 |
-
1996
- 1996-06-12 JP JP15081096A patent/JPH09330896A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6983756B2 (en) * | 1999-12-24 | 2006-01-10 | M - Fsi Ltd. | Substrate treatment process and apparatus |
| JP2011000571A (ja) * | 2009-06-22 | 2011-01-06 | Hitachi Plant Technologies Ltd | フィルムの洗浄ノズル装置 |
| US8539969B2 (en) * | 2010-07-30 | 2013-09-24 | Sematech, Inc. | Gigasonic brush for cleaning surfaces |
| CN110153097A (zh) * | 2019-05-17 | 2019-08-23 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 设备清洗方法、装置及显影设备 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20040623 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040819 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Effective date: 20040819 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040929 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050216 |