JPS63202516A - 板状物の移送装置 - Google Patents
板状物の移送装置Info
- Publication number
- JPS63202516A JPS63202516A JP3422187A JP3422187A JPS63202516A JP S63202516 A JPS63202516 A JP S63202516A JP 3422187 A JP3422187 A JP 3422187A JP 3422187 A JP3422187 A JP 3422187A JP S63202516 A JPS63202516 A JP S63202516A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- liquids
- different types
- cleaning
- jet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 40
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 31
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 19
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 25
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は板状物の移送装置に係り特に板状物を液体噴流
で浮上させて移送する装置に関する。
で浮上させて移送する装置に関する。
半導体製造工程では各処理工程の前後で、ウェハ上の不
純物を除去するために洗浄を行っている。
純物を除去するために洗浄を行っている。
このウェハの洗浄方法としては、1つのキャリアに複数
のウェハを収納してキャリア毎に一括して洗浄する方法
が一般に用いられている。しかし、この方法ではウェハ
の間隔が狭いため、ウェハ面に洗浄むらが生じ易く、近
年のウェハの大口径化に伴い、この傾向はますます顕著
になると予想されている。
のウェハを収納してキャリア毎に一括して洗浄する方法
が一般に用いられている。しかし、この方法ではウェハ
の間隔が狭いため、ウェハ面に洗浄むらが生じ易く、近
年のウェハの大口径化に伴い、この傾向はますます顕著
になると予想されている。
そこで、この不均一をな(すための手段として、第3図
に示すような、ウェハを1枚ずつ液中で浮上させながら
洗浄する装置が提案されてきた。この装置は、搬送路を
兼ねた洗浄槽1の開孔部2から洗浄薬液3を噴出させる
ことにより、ウェハ4を液中に浮上させると共に、該ウ
ェハ4の面を洗浄するものであり、ウェハ4は順次搬送
用アーム5で前方(矢印入方向)に移送されるようにな
っている。
に示すような、ウェハを1枚ずつ液中で浮上させながら
洗浄する装置が提案されてきた。この装置は、搬送路を
兼ねた洗浄槽1の開孔部2から洗浄薬液3を噴出させる
ことにより、ウェハ4を液中に浮上させると共に、該ウ
ェハ4の面を洗浄するものであり、ウェハ4は順次搬送
用アーム5で前方(矢印入方向)に移送されるようにな
っている。
ところで、従来のこのような移送装置では、一般的な洗
浄工程、即ち薬液による洗浄後、直ちに純水洗浄を行う
よう構成されているため、第4図に示すように、洗浄薬
液3と純水6とがその境界域で混合してしまい、その結
果洗浄薬液3の消費量が多くなると共に、境界域での混
合むらからウェハ4の面の清浄度が不均一になる等の欠
点があった。
浄工程、即ち薬液による洗浄後、直ちに純水洗浄を行う
よう構成されているため、第4図に示すように、洗浄薬
液3と純水6とがその境界域で混合してしまい、その結
果洗浄薬液3の消費量が多くなると共に、境界域での混
合むらからウェハ4の面の清浄度が不均一になる等の欠
点があった。
本発明の目的は上述した欠点に鑑みなされたもので、異
種の液を混合することなく、板状物を浮上させたまま異
種の波間を移送させることができるよう1こした板状物
の移送装置を提供するにある。
種の液を混合することなく、板状物を浮上させたまま異
種の波間を移送させることができるよう1こした板状物
の移送装置を提供するにある。
本発明は、ウェハ等の板状物を液流で浮上させたまま、
異種の液間を連続して移送する際、異種の液の境界付近
で両液が混合してしまい、液を多量に消費してしまうこ
とに着目し、異種の液と混合しない媒体を噴出する域を
異種の液の噴出域の中間に設けた構成としたものである
。
異種の液間を連続して移送する際、異種の液の境界付近
で両液が混合してしまい、液を多量に消費してしまうこ
とに着目し、異種の液と混合しない媒体を噴出する域を
異種の液の噴出域の中間に設けた構成としたものである
。
〔作用〕
本発明によれば、異種の液の噴出域の中間に両液と混じ
り合わない媒体が噴出するので、異種の液の噴出域を完
全に分離でき、よって板状物を連続して移動させても異
種の液どうしが混合することはない。
り合わない媒体が噴出するので、異種の液の噴出域を完
全に分離でき、よって板状物を連続して移動させても異
種の液どうしが混合することはない。
以下、図に示す実施例を用いて本発明の詳細な説明する
。
。
第1図および第2図は本発明に係る板状物の移送装置の
一実施例を示す図であり、第3図および第4図と同一部
分には同一符号を付しである。板状物であるウェハ4は
、搬送路兼用の洗浄槽1に水平方向に配置されると共に
、この洗浄槽1に摺動自在に装着された搬送用アーム5
によって一定速度で矢印へ方向に移動させられるように
構成されている。
一実施例を示す図であり、第3図および第4図と同一部
分には同一符号を付しである。板状物であるウェハ4は
、搬送路兼用の洗浄槽1に水平方向に配置されると共に
、この洗浄槽1に摺動自在に装着された搬送用アーム5
によって一定速度で矢印へ方向に移動させられるように
構成されている。
また、前記洗浄槽1には洗浄薬液噴出部7および純水噴
出部8が設けられていると共に、これら各噴出部7.8
の中間には空気噴出部9が配設されている。そして、前
記洗浄薬液噴出部7の開孔部7aから洗浄薬液3が、ま
た純水噴出部8の開孔部8aから純水6が、さらに空気
噴出部9の開孔部9aから加圧空気10がそれぞれ噴出
するよう構成されている。なお、洗浄槽1の下側には洗
浄薬液導入ロアb、純水導入口8bおよび空気導入口9
bが設けられている。
出部8が設けられていると共に、これら各噴出部7.8
の中間には空気噴出部9が配設されている。そして、前
記洗浄薬液噴出部7の開孔部7aから洗浄薬液3が、ま
た純水噴出部8の開孔部8aから純水6が、さらに空気
噴出部9の開孔部9aから加圧空気10がそれぞれ噴出
するよう構成されている。なお、洗浄槽1の下側には洗
浄薬液導入ロアb、純水導入口8bおよび空気導入口9
bが設けられている。
また、前記洗浄薬液噴出部7と空気噴出部9との間、お
よび空気噴出部9と純水噴出部8との間には排液溝11
.12が設けられており、使用後の洗浄薬液3および純
水6を外部に排出するようになっている。
よび空気噴出部9と純水噴出部8との間には排液溝11
.12が設けられており、使用後の洗浄薬液3および純
水6を外部に排出するようになっている。
次に、以上のように構成された移送装置の作用について
説明する。ウェハ4は第1図の位置で、洗浄薬液噴出部
7の開孔i7aから噴出する洗浄薬液3により浮上させ
られた状態でその表面を洗浄される。そして、これと同
時にウェハ4は搬送用アーム5によって一定速度で矢印
への方向に移動させられ、第2図の状態になる。この第
2図の状態でウェハ4は洗浄薬液3の噴出流と、加圧空
気lOの噴出流の両方から浮上刃を得て連続して浮上し
つつ移動できると共に、ウェハ4の面に当たる加圧空気
10の気流により、このウェハ4の面を伝って水平方向
に流れようとする洗浄薬液3の流れを阻止でき、これに
よって洗浄薬液3は排液溝11に落下し、外部に排出さ
れる。したがって、洗浄薬液3はウェハ4の上面に残留
する液滴を除き、前記排液溝11の位置から前方側、つ
まり空気噴出B9側へは流れない。
説明する。ウェハ4は第1図の位置で、洗浄薬液噴出部
7の開孔i7aから噴出する洗浄薬液3により浮上させ
られた状態でその表面を洗浄される。そして、これと同
時にウェハ4は搬送用アーム5によって一定速度で矢印
への方向に移動させられ、第2図の状態になる。この第
2図の状態でウェハ4は洗浄薬液3の噴出流と、加圧空
気lOの噴出流の両方から浮上刃を得て連続して浮上し
つつ移動できると共に、ウェハ4の面に当たる加圧空気
10の気流により、このウェハ4の面を伝って水平方向
に流れようとする洗浄薬液3の流れを阻止でき、これに
よって洗浄薬液3は排液溝11に落下し、外部に排出さ
れる。したがって、洗浄薬液3はウェハ4の上面に残留
する液滴を除き、前記排液溝11の位置から前方側、つ
まり空気噴出B9側へは流れない。
この後、ウェハ4は搬送用アーム5によってさらに矢印
へ方向へ移動させられ、加圧空気10の噴出する域、つ
まり空気噴出部9の上方を通過し、第2図に二点鎖線4
′で示すごとくウェハ4の進行方向の端部が純水6の噴
出する域、つまり純水噴出部8に到達する。ここでも、
前記洗浄薬液3の場合と同様に、純水6がウェハ4の面
を伝ってウェハ4の進行方向と逆向きに流れようとする
が、加圧空気10の気流によってその流れを阻止され、
排液溝12から排出される。
へ方向へ移動させられ、加圧空気10の噴出する域、つ
まり空気噴出部9の上方を通過し、第2図に二点鎖線4
′で示すごとくウェハ4の進行方向の端部が純水6の噴
出する域、つまり純水噴出部8に到達する。ここでも、
前記洗浄薬液3の場合と同様に、純水6がウェハ4の面
を伝ってウェハ4の進行方向と逆向きに流れようとする
が、加圧空気10の気流によってその流れを阻止され、
排液溝12から排出される。
このように、洗浄薬液噴出部7と純水噴出部8の間に、
加圧空気10を噴出する空気噴出部9を設けたことによ
り、ウェハ4を連続して浮上させたまま移送したとして
も、洗浄薬液3と純水6との混合は確実に避けられるの
で、その分洗浄薬液3の消費量を削減できる。
加圧空気10を噴出する空気噴出部9を設けたことによ
り、ウェハ4を連続して浮上させたまま移送したとして
も、洗浄薬液3と純水6との混合は確実に避けられるの
で、その分洗浄薬液3の消費量を削減できる。
なお、上述した実施例においては、洗浄薬液3と純水6
との間の媒体として加圧空気10を用いたが、これは他
のいかなる気体であってもよい。
との間の媒体として加圧空気10を用いたが、これは他
のいかなる気体であってもよい。
また、前後の液が水溶液等の場合は、水と容易に分離す
るフロンを前記気体のかわりに用いる等、前後の液と混
じり合わない液体を用いてもよい。
るフロンを前記気体のかわりに用いる等、前後の液と混
じり合わない液体を用いてもよい。
ただし、この場合は排液溝から洗浄薬液とフロン等の液
体が一緒に排出されるため、排出後に洗浄薬液とフロン
等の液体とを分離する設備が必要となる。
体が一緒に排出されるため、排出後に洗浄薬液とフロン
等の液体とを分離する設備が必要となる。
以上説明したように本発明に係る板状物の移送装置によ
れば、異種の液の中間に両液と混じり合わない媒体を介
在させるようにしたので、異種の液どうしを混合させる
ことなくウェハ等の板状物を浮上させたまま異種の液間
を移送できるようになった。したがって、従来に比べて
洗浄薬液の消費量を削減することができると共に、板状
物面の清浄度も均一にできるという効果を有する。
れば、異種の液の中間に両液と混じり合わない媒体を介
在させるようにしたので、異種の液どうしを混合させる
ことなくウェハ等の板状物を浮上させたまま異種の液間
を移送できるようになった。したがって、従来に比べて
洗浄薬液の消費量を削減することができると共に、板状
物面の清浄度も均一にできるという効果を有する。
第1図および第2図は本発明に係る板状物の搬送装置の
一実施例を示す斜視図と断面図、第3図および第4図は
従来の板状物の搬送装置の斜視図と断面図である。 3・・・洗浄薬液、 4・・・ウェハ、 6・・・純
水、7・・・洗浄薬液噴出部、 8・・・純水噴出部、
9・・・空気噴出部、 lO・・・加圧空気。 出願人 日立プラント建設株式会社 第1図 第2図 ]0・770に’4fft 第3図 第4図
一実施例を示す斜視図と断面図、第3図および第4図は
従来の板状物の搬送装置の斜視図と断面図である。 3・・・洗浄薬液、 4・・・ウェハ、 6・・・純
水、7・・・洗浄薬液噴出部、 8・・・純水噴出部、
9・・・空気噴出部、 lO・・・加圧空気。 出願人 日立プラント建設株式会社 第1図 第2図 ]0・770に’4fft 第3図 第4図
Claims (2)
- (1)水平方向に配置された板状物を連続して噴出する
液流で浮上させつつ移送する装置において、異種の液の
噴出域の中間に両液と混じり合わない媒体が噴出する領
域を設け、前記異種の液を混合することなく、板状物を
浮上させたまま移送するよう構成したことを特徴とする
板状物の移送装置。 - (2)前記媒体として加圧空気を用いたことを特徴とす
る特許請求の範囲第(1)項記載の板状物の移送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3422187A JPS63202516A (ja) | 1987-02-17 | 1987-02-17 | 板状物の移送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3422187A JPS63202516A (ja) | 1987-02-17 | 1987-02-17 | 板状物の移送装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63202516A true JPS63202516A (ja) | 1988-08-22 |
Family
ID=12408090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3422187A Pending JPS63202516A (ja) | 1987-02-17 | 1987-02-17 | 板状物の移送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63202516A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000012416A1 (fr) * | 1998-08-31 | 2000-03-09 | Kabushiki Kaisha Watanabe Shoko | Dispositif et systeme de transport a plateau flottant |
JPWO2005074020A1 (ja) * | 2004-01-30 | 2007-09-13 | シャープ株式会社 | 半導体製造装置およびそれを用いた半導体製造方法 |
JP2008016543A (ja) * | 2006-07-04 | 2008-01-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2008195541A (ja) * | 2008-03-31 | 2008-08-28 | Watanabe Shoko:Kk | 浮上搬送装置および浮上搬送システム |
KR100899101B1 (ko) | 2007-10-15 | 2009-05-27 | 엠파워(주) | 기판반송장치 |
KR100899104B1 (ko) | 2007-10-15 | 2009-05-27 | 엠파워(주) | 기판반송장치 |
CN102806179A (zh) * | 2011-05-30 | 2012-12-05 | 东丽工程株式会社 | 悬浮传送加热装置 |
-
1987
- 1987-02-17 JP JP3422187A patent/JPS63202516A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000012416A1 (fr) * | 1998-08-31 | 2000-03-09 | Kabushiki Kaisha Watanabe Shoko | Dispositif et systeme de transport a plateau flottant |
JPWO2005074020A1 (ja) * | 2004-01-30 | 2007-09-13 | シャープ株式会社 | 半導体製造装置およびそれを用いた半導体製造方法 |
JP4542043B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2010-09-08 | シャープ株式会社 | 半導体製造装置およびそれを用いた半導体製造方法 |
US7918939B2 (en) | 2004-01-30 | 2011-04-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor manufacturing apparatus and semiconductor manufacturing method using the same |
JP2008016543A (ja) * | 2006-07-04 | 2008-01-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
KR100899101B1 (ko) | 2007-10-15 | 2009-05-27 | 엠파워(주) | 기판반송장치 |
KR100899104B1 (ko) | 2007-10-15 | 2009-05-27 | 엠파워(주) | 기판반송장치 |
JP2008195541A (ja) * | 2008-03-31 | 2008-08-28 | Watanabe Shoko:Kk | 浮上搬送装置および浮上搬送システム |
CN102806179A (zh) * | 2011-05-30 | 2012-12-05 | 东丽工程株式会社 | 悬浮传送加热装置 |
CN102806179B (zh) * | 2011-05-30 | 2016-04-13 | 东丽工程株式会社 | 悬浮传送加热装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI641032B (zh) | Substrate cleaning device | |
KR100212074B1 (ko) | 기판의 액제거장치 | |
KR100982492B1 (ko) | 기판 세정용 이류체 분사 노즐 | |
KR101335885B1 (ko) | 비접촉 부상 반송 기능을 가지는 기판 처리 장치 | |
JPH10326763A (ja) | 洗浄方法及び洗浄装置 | |
JPS63202516A (ja) | 板状物の移送装置 | |
KR101499681B1 (ko) | 기판 세정 장치의 챔버 배열 구조 | |
JP2007141933A (ja) | 基板乾燥装置及び基板処理方法 | |
WO2003071594A1 (fr) | Dispositif de traitement de substrats de type support | |
JP3550277B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2000254605A (ja) | 可撓性基板の洗浄装置 | |
JP2002252200A (ja) | 基板処理装置及び処理方法 | |
US8739805B2 (en) | Confinement of foam delivered by a proximity head | |
JP4663919B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
JPH069494Y2 (ja) | 板状物の洗浄装置 | |
JP4488965B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JPS6234440Y2 (ja) | ||
JP2606979B2 (ja) | 洗浄装置および洗浄方法 | |
JPH06260412A (ja) | シャワー型枚葉式現像装置 | |
JP2001104897A (ja) | 超音波洗浄装置及び洗浄方法 | |
JP3488109B2 (ja) | 洗浄装置 | |
JP2005169356A (ja) | エアナイフ乾燥装置 | |
JPH09246228A (ja) | 基板の液切り装置 | |
JP2005152705A (ja) | 洗浄用スリットノズルおよびこれを備えた洗浄装置 | |
JP3325395B2 (ja) | 超音波洗浄装置 |