JPH049656B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、薄膜を基板に張り付ける技術に関
し、特に、基板に薄膜の先端を仮付けする薄膜張
付装置薄膜仮付部材に適用して有効な技術に関す
るものである。

〔従来技術〕

コンピユータ等の電子機器に使用されるプリン
ト配線板は、銅等の所定のパターンの配線が絶縁
性基板の片面又は両面に形成されたものである。

この種のプリント配線板は、次の製造工程によ
り製造することができる。

まず、絶縁性基板上に設けられた導電層上に、
感光性樹脂（フオトレジスト）層とそれを保護す
る透光性樹脂フイルム（保護膜）とからなる積層
体を熱圧着ラミネートする。この熱圧着ラミネー
トは、薄膜張付装置所謂ラミネータにより量産的
に行われる。この後、前記積層体に配線パターン
フイルムを重ね、この配線パターンフイルム及び
透光性樹脂フイルムを通して、感光性樹脂層を所
定時間露光する。そして、透光性樹脂フイルムを
剥離装置で剥離した後、露光された感光性樹脂層
を現像してエツチングマスクパターンを形成す
る。この後、前記導電層の不必要部分をエツチン
グにより除去し、さらに残存する感光性樹脂層を
除去し、所定の配線パターンを有するプリント配
線板を形成する。

前述のプリント配線板の製造工程においては、
絶縁性基板の導電層上に、薄膜張付装置で自動的
に積層体を熱圧着ラミネートする工程が必要とさ
れている。この熱圧着ラミネート工程の概要は次
のとおりである。

まず、薄膜張付装置の供給ローラに連続的に巻
回されている積層体を、メインバキユームプレー
トで基板に供給する。メインバキユームプレート
は、積層体供給面に複数の吸着孔が設けられてお
り、この吸着孔に積層体を吸着し供給するように
構成されている。基板に供給される積層体の先端
部は、メインバキユームプレートの供給方向先端
側に設けられた円弧形状の仮付部で絶縁性基板の
導電層上に仮り付け（仮熱圧着）される。積層体
の先端部は、積層体の供給経路に近接又は離反す
るサブバキユームプレートにより、仮付部に吸着
させることができる。メインバキユームプレート
及びサブバキユームプレートは、積層体の供給及
び仮付動作が行えるように、基板に対して近接及
び離反する支持部材を介して装置本体に取り付け
られている。

次に、先端部が仮り付けされた積層体は、熱圧
着ローラで基板に熱圧着ラミネートされる。積層
体が一定量熱圧着ラミネートされると、切断装置
により基板に対応した所定寸法に積層体が切断さ
れる。切断装置は、メインバキユームプレート及
びサブバキユームプレートと共に、前記支持部材
に設けられている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、この種の薄膜張付装置では、メ
インバキユームプレートの供給方向先端側に設け
られた円弧形状の仮付部が破損した場合、メイン
バキユームプレート全体を取り換えなければなら
ないという問題があつた。

また、メインバキユームプレートの供給方向先
端側に設けられた円弧形状の仮付部で絶縁性基板
の導電層上に薄膜の先端が仮付け（仮熱圧着）さ
れる際、仮付け部分以外の部分も加熱されるの
で、感光性樹脂（フオトレジスト）層がべとつい
て、熱圧着ラミネートされた薄膜に気泡等が発生
して接着不良を発生するという問題があつた。

本発明の目的は、薄膜張付装置において、メイ
ンバキユームプレート供給方向先端側に設けられ
た円弧形状の仮付部が破損しても、その破損した
仮付部のみを取り換えることができる技術を提供
することにある。

本発明の他の目的は、薄膜張付装置用薄膜仮付
部材の基板に薄膜を押圧して仮付けするための薄
膜仮付用先端部材のみを加熱することができる技
術を提供することにある。

本発明の他の目的は、薄膜張付装置において、
基板に張り付けられた薄膜における気泡等による
接着不良を防止することができる技術を提供する
ことにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特
徴は、本明細書の記述及び添付図面によつて明ら
かになるであろう。

〔問題点を解決するための手段〕

本願において開示される発明のうち、代表的な
ものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりであ
る。

本発明は、薄膜を基板に張り付けるための薄膜
張付装置であつて、前記基板に張り付けられる薄
膜を押圧して仮付けするための薄膜仮付部材を薄
膜供給部材の薄膜供給方向の先端部に断熱材を介
在させて着脱自在に取り付けたことを特徴とする
ものである。

また、前記薄膜仮付部材をその本体と基板に張
り付けられる薄膜を押圧して仮付けするための薄
膜仮付用先端部材とに分割し、前記薄膜仮付部材
本体を薄膜供給部材の薄膜供給方向の先端部に断
熱材を介在させて着脱自在に取り付け、前記薄膜
仮付用先端部材を薄膜仮付部材本体に着脱自在に
断熱材を介在させて取り付けたことを特徴とする
ものである。

また、前記薄膜仮付部材本体に加熱源設定用凹
部を設け、基板に張り付けられる薄膜を押圧して
仮付けする薄膜仮付用先端部材の前記加熱源設定
用凹部に対応する位置に加熱源を装着し、前記薄
膜仮付部材本体を薄膜供給部材の薄膜供給方向の
先端部に断熱材を介在させて着脱自在に取り付
け、前記薄膜仮付用先端部材を薄膜仮付部材本体
に着脱自在に断熱材を介在させて取り付けたこと
を特徴とするものである。

〔作 用〕

上述した手段によれば、薄膜仮部材の先端部又
は薄膜仮付用先端部材の基板に張り付けられる薄
膜を押圧して仮付けする部分が破損しても、薄膜
仮付用先端部材を薄膜仮付け部材本体から取り外
して交換することができるので、メインバキユー
ムプレート全体を交換する必要がない。

また、前記基板に張り付けられる薄膜を押圧し
て薄膜を仮付けする薄膜仮部材又は薄膜仮付用先
端部材を、薄膜供給部材又は薄膜仮付部材本体に
着脱自在に断熱材を介在させて取り付けたことに
より、薄膜仮付用先端部材のみを加熱し、その熱
が他の部分に伝導していくのを断熱材により防止
することができるので、感光性樹脂（フオトレジ
スト）層をべとつかせることなく、薄膜の仮付を
行う部分のみが熱圧着され、熱圧着ラミネートさ
れた薄膜に気泡等が発生して接着不良を発生する
のを防止することができる。

また、前記薄膜仮付部材本体に加熱源設定用凹
部を設け、薄膜仮付用先端部材の前記加熱源設定
用凹部に対応する位置に加熱源を装着し、該薄膜
仮付用先端部材を前記薄膜仮付部材本体に着脱自
在に断熱材を介在させて取り付けたことにより、
薄膜仮付部材をコンパクトに構成することができ
る。

〔発明の実施例〕

以下、プリント配線用基板に感光性樹脂層と透
光性樹脂フイルムとからなる積層体を熱圧着ラミ
ネートする薄膜張付装置に適用した本発明の一実
施例について、図面を用いて具体的に説明する。

なお、実施例を説明するための全図において、
同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰
り返しの説明は省略する。

本発明の一実施例に係る薄膜張付装置を第１図
（概略構成図）で示す。

第１図に示すように、透光性樹脂フイルム、感
光性樹脂層及び透光性樹脂フイルムの３層構造か
らなる積層体１は、供給ローラ２に連続的に巻回
されている。供給ローラ２に巻回された積層体１
は、薄膜分離ローラ３で、透光性樹脂フイルム
（保護膜）１Ａと、一面（接着面）が露出された
感光性樹脂層及び透光性樹脂フイルムからなる積
層体１Ｂとに分離される。分離された透光性樹脂
フイルム１Ａは、巻取ローラ４により巻き取られ
るように構成されている。

供給ローラ２は、第２図（要部斜視図）に示す
ように、その軸部２Ａと円弧状凹部５Ａとを嵌合
させ、ローラ仮支持部材５に支持されるようにな
つている。ローラ仮支持部材５は、装置本体７の
フレームの内側に、例えばネジ等の接続部材（又
は接着剤）によつて取り付けられている。

巻取ローラ４は、その軸部４ＡとＵ字状凹部６
Ａとを嵌回させ、ローラ支持部材６に支持されて
いる。ローラ支持部材６は、装置本体７のフレー
ムの内側に、ローラ支持部材５と同様に取り付け
られている。

ローラ仮支持部材５は、左側（作業者に近い
側）に供給ローラ２の仮置場としての円弧状凹部
５Ａ，５Ｂが設けられている。一方、ローラ支持
部材６は、右側（作業者に遠い側）に巻取ローラ
４の仮置場としての円弧状凹部６Ｂ，６Ｃが設け
られている。

ローラ支持部材５，６の夫々に設けられた仮置
場としての円弧状凹部５Ａ，５Ｂ，６Ｂ，６Ｃの
夫々は、例えば、次のように使用される。積層体
１がなくなり、供給ローラ２を交換する場合、巻
取ローラ４の軸部４ＡをＵ字状凹部６Ａから仮置
場としての円弧状凹部６Ｂ又は６Ｃに嵌合させ
る。この状態において、エアーシリンダのエアー
を開放し、棒状部材２Ｂを供給ローラ２の軸部２
Ａから外し、この軸部２Ａを一旦仮置場としての
円弧状凹部５Ａにおき、ついで円弧状凹部５Ｂに
一旦嵌合させ、この後、ローラ支持部材５から取
り外す。次に、新しい供給ローラ２を仮置場とし
ての円弧状凹部５Ｂに一旦嵌合させ、この後、円
弧状凹部５Ａに移動して嵌合させ、ついでエアー
シリンダを作動させ、棒状部材２Ｂを軸部２Ａに
嵌合させる。そして、ローラ支持部材６の円弧状
凹部６Ｂ又は６Ｃに嵌合させてあつた巻取ローラ
４の軸部４ＡをＵ字状凹部６Ａに嵌合させる。

このように、ローラ支持部材５に設けられた仮
置場としての円弧状凹部５Ａ又は５Ｂ、ローラ支
持部材６に設けられた仮置場としての円弧状凹部
６Ｂ又は６Ｃの夫々は、かなりの重量がある供給
ローラ２や巻取ローラ４を完全に取り外す必要が
なく、少し移動するだけで夫々の取り付け、取り
外し作業を行うことができる。つまり、薄膜張付
装置において、作業能率を向上することができ、
又、作業上の安全性を向上することができる。

前記薄膜分離ローラ３の一端部には、第２図及
び第３図（要部拡大斜視図）に示すように、薄膜
供給検出装置８が設けられている。薄膜分離ロー
ラ３は、積層体１の供給経路内に設けられてお
り、薄膜供給検出装置８は、積層体１及び１Ｂの
供給経路（供給ローラ２から基板までの経路）内
に設けられている。薄膜供給検出装置８は、薄膜
分離ローラ３の回転で矢印Ａ方向に回転し、その
円周部にスリツト部８Ａを有する回転板８Ｂと、
前記スリツト部８Ａを検出する検出部８Ｃとを有
するエンコーダで構成されている。つまり、薄膜
供給検出装置８は、薄膜分離ローラ３の回転数に
対応して所定の信号を出力するように構成されて
いる。回転板８Ｂは、例えば、樹脂材料，軽金属
材料，合金材料等で構成されている。検出部８Ｃ
は、例えば、光，超音波等でスリツト部８Ａが存
在するか否かを検出できるように構成されてい
る。薄膜供給検出装置８は、積層体１及び１Ｂの
供給に際し、邪魔にならないように、その供給経
路以外の装置本体７のフレームの外部に取り付け
られている。

このように、積層体１及び１Ｂの供給経路に薄
膜供給検出装置８を設けることにより、積層体１
及び１Ｂの供給時の供給状態を検出することがで
きる。つまり、薄膜供給検出装置８は、後述する
仮熱圧着動作時、熱圧着ラミネート動作時、積層
体１Ｂの切断動作時等、積層体１又は１Ｂが供給
される時に、その供給が正確に行われているか否
かを検出することができる。積層体１又は１Ｂの
供給が正確に行われていない場合は、検出部８Ｃ
の出力信号でアラーム等の異常警報装置（図示し
ていない）を動作させ、作業者に知らせることが
できる。また、自動的に、薄膜張付装置を停止さ
せることができる。すなわち、薄膜供給検出装置
８は、プリント配線板の製造上の歩留りを向上す
ることができる。

なお、薄膜供給検出装置８は、積層体１及び１
Ｂの供給経路内のどの場所に設けてもよいが、薄
膜分離ローラ３に設けることが有利である。つま
り、薄膜分離ローラ３は、複雑な構成を必要とせ
ず、又、回転以外の可動を必要としないので、簡
単に薄膜供給検出装置８を取り付けることができ
る。

前記薄膜分離ローラ３で分離された積層体１Ｂ
の供給方向の先端部は、第１図及び第２図に示す
テンシヨンローラ９を通してメインバキユームプ
レート１０に吸着されるように構成されている。

テンシヨンローラ９は、供給ローラ２とメイン
バキユームプレート１０又は熱圧着ローラ１６と
の間の積層体１Ｂに適度なテンシヨンを与えるよ
うに構成されている。つまり、テンシヨンローラ
９は、供給される積層体１Ｂにしわ等を生じない
ように構成されている。

メインバキユームプレート（薄膜供給部材）１
０は、積層体１Ｂを供給ローラ２から絶縁性基板
１１の導電層（例えば、Cu層）上に供給するよ
うに構成されている。メインバキユームプレート
１０は、第１図及び第４図（要部拡大構成図）で
示すように、絶縁性基板１１に近接しかつ離反す
る（矢印Ｂ方向に移動する）支持部材１２に設け
られている。支持部材１２は、ガイド部材７Ａを
矢印Ｂ方向に摺動可能なように、装置本体（薄膜
張付装置の筐体）７に設けられている。支持部材
１２は、絶縁性基板１１の搬送経路を中心に、上
下、一対に設けられている。上部の支持部材１２
と下部の支持部材１２とは、ラツクアンドピニオ
ン機構により連動的に動作する（両者が同時に近
接又は離反する）ように構成されている。つま
り、上下、一対の支持部材１２は、夫々に設けら
れたラツク１２Ａと、このラツク１２Ａと嵌合す
るピニオン１２Ｂとで連動的に動作する。この支
持部材１２の動作は、下部の支持部材１２に設け
られた駆動源１２Ｃで行われる。駆動源１２Ｃ
は、例えば、エアーシリンダで構成する。また、
駆動源１２Ｃは、油圧シリンダ又は電磁シリン
ダ、或はステツプモータ及びその変位を支持部材
１２に伝達する伝達機構等で構成することができ
る。

前記メインバキユームプレート１０は、絶縁性
基板１１に近接しかつ離反する（矢印Ｃ方向に移
動する）ように、支持部材１２に設けられてい
る。メインバキユームプレート１０は、支持部材
１２に設けられた駆動源１２Ｄと、ラツクアンド
ピニオン機構とで動作するように構成されてい
る。このラツクアンドピニオン機構は、駆動源１
２Ｄに設けられたピニオン１２Ｅ、支持部材１２
に設けられたラツク１２Ｆ、メインバキユームプ
レート１０に設けられたラツク１０Ａで構成され
ている。駆動源１２Ｄは、駆動源１２Ｃと同様の
もので構成する。

メインバキユームプレート１０には、第５図
（部分断面斜視図）で示すように、積層体１Ｂの
供給方向と略直交する供給幅方向に延在する溝部
１０Ｂが搬送方向に複数設けられている。溝部１
０Ｂの長さ（積層体１Ｂの供給幅方向と同一方向
の長さ）は、適用する積層体の内で、最も巾寸法
が大である積層体１Ｂよりもやや大きい寸法で構
成されている。溝部１０Ｂの底部には、積層体１
Ｂを吸着させるための吸着孔１０Ｃが複数設けら
れている。図示していないが、吸着孔１０Ｃは、
排気管を通して、真空ポンプ等の真空源に接続さ
れている。溝部１０Ｂの端部１０Ｄは、メインバ
キユームプレート１０の端部から中央部に掘り下
げたテーパ形状に構成されている。

積層体１Ｂの供給方向におけるメインバキユー
ムプレート１０の先端部には、第６図（要部断面
図）に示すように、積層体１Ｂを吸着する面が円
弧形状に形成された仮付部材３０が、フエノール
樹脂等のプラスチツク等からなる断熱材３１を介
在して止めねじ３２で着脱自在に取り付けられて
いる。この薄膜仮付部材３０は、仮付部材本体３
３と仮付用先端部材３４とからなつており、仮付
用先端部材３４は、仮付部材本体３３にプラスチ
ツク等の断熱材３１を介在して止めねじ３２で着
脱自在に取り付けられている。絶縁性基板１１に
積層体１Ｂを仮付けするための仮付用先端部材３
４の先端部３４Ａは、例えば、1.5mmの幅の細い
帯状になつている。そして、仮付用先端部材３４
の仮付部材本体３３側に、先端部３４Ａを加熱す
るヒータ３５が設けられている。このヒータ３５
が設けられることによつて突出した部分の薄膜仮
付部材本体３３側には断熱材３１が設けられてい
る。

また、薄膜仮付部材３０の、絶縁性基板１１に
積層体１Ｂを仮付けする部分の構造は、第６図及
び第７図に示すように、薄膜仮付部材本体３３の
断熱材３１との境界面に、薄膜吸着用溝３６が複
数本設けられている。これらの薄膜吸着用溝３６
と連絡した薄膜吸着用溝３７を断熱材３１の露出
部分に設け、この薄膜吸着用溝３７と連絡し、断
熱材３１の薄膜仮付用先端部材３４に沿つた露出
部分には薄膜吸着用溝３８が設けられている。

また、前記薄膜仮付部材本体３３には、薄膜吸
着用溝３９及び薄膜吸着用孔４０が設けられてい
る。そして、前記薄膜吸着用溝３６と薄膜吸着用
孔４０は、同一系統の薄膜吸着手段（図示してい
ない）によつて吸引され、前述のメインバキユー
ムプレート１０の薄膜の吸着手段とは独立制御に
なつている。

このように薄膜吸着用溝３６〜３９及び薄膜吸
着用孔４０を設けることにより、前記積層体１Ｂ
の仮付部を先端部３４Ａの位置に正確に設定する
ことができる。

ここで、第８図に示すように、前記薄膜吸着用
溝３６を省略して、前記薄膜吸着用溝３７を延長
した薄膜吸着用溝４１を薄膜仮付部材本体３３の
絶縁性基板１１側の露出面に設け、この薄膜吸着
用溝４１を薄膜仮付部材本体３３に設けられてい
る薄膜吸着用溝３９に連絡するように構成しても
同様の効果が得られる。

次に、薄膜仮付部材本体３３の構成を、第９図
（要部の斜視図），第１０図（第９図の矢印Ｍ方向
から見た平面図），第１１図（第９図の矢印Ｎ方
向から見た平面図），第１２図（第１０図に示す
Ａ−Ａ切断線で切つた断面図），第１３図（第１
０図に示すＢ−Ｂ切断線で切つた断面図）及び第
１４図（第１１図に示すＣ−Ｃ切断線で切つた断
面図）に示す。

前記薄膜仮付部材本体３３の断熱材３１との境
界面には、第７図，第９図及び第１１図に示すよ
うに、薄膜吸着用溝３６が絶縁性基板１１から内
側に向けて複数本設けられ、これらの薄膜吸着用
溝３６と連絡された空気溜め用第１キヤビテイ４
２が設けられている。そして、第１３図及び第１
４図に示すように、この空気溜め用第１キヤビテ
イ４２と連絡され、この空気溜め用第１キヤビテ
イ４２よりも深く切り込まれた空気溜め用第２キ
ヤビテイ４３が設けられている。この空気溜め用
第２キヤビテイ４３と連絡され、メインバキユー
ムプレート１０側に貫通する通気孔４４が設けら
れている。この通気孔４４は、メインバキユーム
プレート１０側の表面部に設けられている空気溜
め用第３キヤビテイ４５と連絡されている。一
方、前記通気孔４０が薄膜仮付部材本体３３の中
央部に、絶縁性基板１１側からメインバキユーム
プレート１０側に向けて貫通して設けられ、この
通気孔４０は、メインバキユームプレート１０側
の表面部に設けられている空気溜め用第３キヤビ
テイ４５と連絡されている。

このような積層体１Ｂを吸引する薄膜吸着機構
部は、薄膜仮付部材本体３３に複数個所設けら
れ、積層体１Ｂの幅に応じて、それらを選択して
独立的に駆動させることにより、前記積層体１Ｂ
を薄膜仮付部材本体３３により強く吸引させ、そ
の仮付部を先端部３４Ａの位置に正確に設定する
ようになつている。

また、薄膜仮付部材本体３３の薄膜仮付用先端
部材３４側の中央ライン部には、第９図及び第１
１図乃至第１３図に示すように、所定の深さのヒ
ータ設定用溝４６が設けられており、このヒータ
設定用溝４６には、前記薄膜仮付用先端部材３４
に設けられているヒータ３５の部分が嵌め込まれ
るようになつている。

前述のように薄膜仮付部材３０を構成すること
により、薄膜仮付用先端部材３４の、絶縁性基板
１１に張り付けられる積層体１Ｂを押圧して薄膜
を仮付けする部分が破損しても、薄膜仮付用先端
部材３４を薄膜仮付部材本体３３から取り外して
交換することができるので、メインバキユームプ
レート１０全体を交換する必要がない。

また、前記絶縁性基板１１に張り付けられる薄
膜を押圧して仮付けする薄膜仮付用先端部材３４
を、薄膜仮付部材本体３３に着脱自在に断熱材３
１を介在させて取り付けたことにより、薄膜仮付
用先端部材３４のみを加熱し、その熱が他の部分
に伝導していくのを断熱材３１により防止するこ
とができるので、感光性樹脂（フオトレジスト）
層をべとつかせることなく、薄膜の仮付けを行う
部分のみが熱圧着され、熱圧着ラミネートされた
薄膜に気泡等が発生して接着不良を発生するのを
防止することができる。

前記薄膜仮付部材３０に近接した位置、つま
り、薄膜仮付部材３０と絶縁性基板１１との間の
積層体１Ｂの供給経路の近傍には、サブバキユー
ムプレート（薄膜保持部材）１３が設けられてい
る。サブバキユームプレート１３は、薄膜吸着用
孔を図示していないが、第４図に示すように、上
部吸着部１３ａと下部吸着部１３ｂとを有し、コ
の字形状に構成されている（このコの字部分は積
層体１Ｂの切断位置に相当する）。サブバキユー
ムプレート１３の上部吸着部１３ａは、主に、供
給方向の積層体１Ｂの先端部を吸着し、仮付部１
０Ｅに吸着（保持）させるように構成されてい
る。サブバキユームプレート１３は、積層体１Ｂ
の先端部を仮付部１０Ｅに吸着可能なように、積
層体１Ｂの供給経路に対して近接及び離反（矢印
Ｄ方向に移動）する例えばエアーシリンダからな
る駆動源１３Ａを介して、支持部材１２に取り付
けられている。

また、サブバキユームプレート１３の下部吸着
部１３ｂは、連続した積層体１Ｂを切断装置１４
で切断し、この切断された積層体１Ｂの後端部を
吸着し、積層体１Ｂの供給経路内に保持するよう
に構成されている。下部吸着部１３ｂは、熱圧着
ラミネート開始後、回転バキユームプレート１５
との間において、第４図に示すように、積層体１
Ｂにたるみを形成する（たるみを持たせた積層体
１B′を形成する）ように構成されている。この
たるみを持たせた積層体１B′は、熱圧着ローラ
１６の周速度（熱圧着ラミネート速度）に対し
て、メインバキユームプレート１０の積層体１Ｂ
の供給速度を速く制御することにより形成するこ
とができる。両者の制御は、図示していないが、
シーケンス制御回路により行われるようになつて
いる。

なお、サブバキユームプレート１３の駆動源１
３Ａとしては、エアーシリンダの他に前記駆動源
１２Ｃと同様に油圧シリンダ等で構成することが
できる。

前記仮付部１０Ｅと絶縁性基板１１との間（実
際には、仮付部１０Ｅと回転バキユームプレート
１５との間）の積層体１Ｂの供給経路の近傍の装
置本体７には、切断装置１４が設けられている。
詳述すれば、切断装置１４は、積層体１Ｂの後端
部を切断位置まで供給した時のサブバキユームプ
レート１３に対向した位置に構成されている。切
断装置１４は、絶縁性基板１１を搬送する前段搬
送装置１７側に構成されている（又はこの前段搬
送装置１７に構成してもよい）。切断装置１４は、
メインバキユームプレート１０で連続的に供給さ
れる積層体１Ｂを絶縁性基板１１の寸法に対応し
て所定の長さに切断するように構成されている。

この切断装置１４の具体的な構成を第１５図
（第４図の矢印方向から見た概略平面図）及び
第１６図（第１５図の−線で切つた断面図）
で示す。

切断装置１４は、第１５図及び第１６図に示す
ように、主に、ガイド部材１４Ａと、移動部材１
４Ｂと、円板状カツター１４Ｃとで構成されてい
る。

ガイド部材１４Ａは、積層体１Ｂの供給幅方向
に延在し、その両端部（又は一端部）が装置本体
７に固定されている。この固定は、ねじ、ボル
ト，ナツト、ビス、接着剤等の固定手段で行われ
る。

ガイド部材１４Ａには、積層体１Ｂの供給幅方
向（第１５図に示す矢印Ｅ方向）において、移動
部材１４Ｂを正確に移動できるように、移動部材
１４Ｂの凸部（又は凹部）１４ｂと嵌合する凹部
（又は凸部）１４ａが設けられている。

移動部材１４Ｂは、ガイド部材１４Ａに沿つて
矢印Ｅ方向に移動するように構成されている。移
動部材１４Ｂは、ガイド部材１４Ａに沿つて延在
しかつ両端部が装置本体７に支持された中空管１
４Ｄ内を、矢印E′方向に移動する中空管内移動部
材１４Ｅと接続されている。中空管内移動部材１
４Ｅの移動は、中空管１４Ｄの夫々の端部から空
気（air）等の流体を吹き込む（又は吸引する）
ことにより行われる。つまり、中空管内移動部材
１４Ｅは、第１５図において、中空管１４Ｄの左
側から流体を吹き込むと左側から右側に移動し、
中空管１４Ｄの右側から流体を吹き込むと右側か
ら左側に移動するように構成されている。中空管
内移動部材１４Ｅは、移動部材１４Ｂを移動させ
るように構成されている。中空管１４Ｄ内に吹き
込む流体としては、空気の他に、不活性ガス等の
気体、水，油等の液体を用いてもよい。また、移
動部材１４Ｂは、エアーシリンダ、油圧シリン
ダ、モータ等で移動するように構成してもよい。

円板状カツター１４Ｃは、移動部材１４Ｂの移
動に従つて回転し、少なくともその円周部に積層
体１Ｂを切断する刃部が設けられている。円板状
カツター１４Ｃの回転は、回転軸１４Ｆに設けら
れた歯車（ピニオン）１４Ｇを介在し、回転軸１
４Ｈに設けられた歯車１４Ｉとラツク１４Ｊとの
嵌合により与えられる。ラツク１４Ｊは、両端部
（又は一端部）が装置本体７に固定されている。
ラツク１４Ｊと歯車１４Ｉとの嵌合は、移動部材
１４Ｂに設けられた保持ローラ１４Ｌにより安定
に保持される。

円板状カツター１４Ｃは例えば高速度工具鋼等
の金属材料で構成されており、少なくとも刃部の
表面にはポリテトラフルオロエチレンが塗布され
ている。ポリテトラフルオロエチレンは、化学薬
品に対する不活性、熱的安定性に優れており、摩
擦係数が小さく、又、他の材料へ付着しずらい特
徴がある。特に、薄膜張付装置においては、積層
体１Ｂの切断により生じる微小で種々の化学薬品
を含有する切り屑が刃部に付着し、円板状カツタ
ー１４Ｃの切れ味じを劣化し易いので、ポリテト
ラフルオロエチレンの塗布は有効である。

円板状カツター１４Ｃの近傍の移動部材１４Ｂ
には、主に、作業者の安全を確保するために、円
板状カツター１４Ｃを覆う保護カバー１４Ｋが設
けられている。

この切断装置１４は、移動部材１４Ｂがガイド
部材１４Ａを一方向に移動することにより、この
移動で与えられる円板状カツター１４Ｃの回転
で、絶縁性基板１１の長さに対応した寸法に積層
体１Ｂを切断することができる。また、円板状カ
ツター１４Ｃは、往復の移動により積層体１Ｂを
２個所切断することができるので、積層体１Ｂの
切断時間を短縮することができる。

このように構成される薄膜張付装置において、
メインバキユームプレート１０とサブバキユーム
プレート１３とを支持部材１２に設け、この支持
部材１２を絶縁性基板１１に近接及び離反するよ
うに装置本体７に設け、積層体１Ｂを切断する切
断装置１４を仮付部１０Ｅと絶縁性基板１１との
間の積層体１Ｂの供給経路の近傍の装置本体７に
固定したことにより、前記支持部材７で支持する
部材の重量を軽くしたので、駆動能力（容量）の
小さな駆動源１２Ｃで支持部材１２を駆動するこ
とができる。

また、支持部材１２に支持される部品点数を低
減することができるので、支持部材１２及びその
周辺の構成を簡単化し、薄膜張付装置を小型化す
ることができる。

また、駆動源１２Ｃ等を小型化することができ
るので、薄膜張付装置の製造上のコストを低減す
ることができる。

また、切断装置１４は、円板状カツター１４Ｃ
を移動させる構成に代えて、超音波，レーザビー
ム等を使用したビームカツタで構成してもよい。
さらに、切断装置１４は、積層体１Ｂの供給幅方
向に、積層体１Ｂの供給幅寸法と略同等又はそれ
よりも大きな寸法の刃部を有するカツター、例え
ばギロチンカツター，帯状カツター，加熱もしく
は非加熱ワイヤー状カツター，ナイフ状カツター
等で構成してもよい。これらの切断装置１４は、
一度の動作で、略瞬時に、積層体１Ｂの初断部分
の全域を切断することができる。

前記メインバキユームプレート１０の仮付部１
０Ｅで絶縁性基板１１の導電層上に先端部が仮り
付け（仮熱圧着）される積層体１Ｂは、熱圧着ロ
ーラ１６でその全体が熱圧着ラミネートされるよ
うに構成されている。熱圧着ローラ１６は、積層
体１Ｂの先端部を仮付部１０Ｅで仮り付けする仮
付動作時は、第１図に符号１６′を符した点線で
示す位置に配置されかつ回転している。熱圧着ロ
ーラ１６は、仮付動作時に、仮付部１０Ｅと接触
しないように構成されている。仮付動作後の熱圧
着ローラ１６は、符号１６′を示す点線で示した
位置から実線で示す位置、つまり、積層体１Ｂを
介在して絶縁性基板１１を狭持する位置に移動す
るように構成されている。積層体１Ｂを介在して
絶縁性基板１１を狭持した熱圧着ローラ１６は、
第４図に示す矢印Ｆ方向に回転し、積層体１Ｂを
絶縁性基板１１の導電層上に熱圧着ラミネートす
ると共に、この絶縁性基板１１を搬送するように
構成されている。熱圧着ラミネート工程中におい
ては、メインバキユームプレート１０及びサブバ
キユームプレート１３の積層体１Ｂの吸着動作は
停止している。すなわち、熱圧着ローラ１６に
は、その回転力と、絶縁性基板１１との狭持力と
で、積層体１Ｂが供給ローラ２から自動的に供給
されるように構成されている。

前記切断装置１４で切断された積層体１Ｂの後
端部は、三角形状の回転バキユームプレート５５
でしわ等を生じないようにガイドされ、熱圧着ロ
ーラ１６で熱圧着ラミネートされるように構成さ
れている。回転バキユームプレート１５は、熱圧
着ローラ１６と同一軸に支持されかつそれを中心
に回転するように構成されており、図示していな
いが、積層体１Ｂと対向する吸着面には、複数の
吸引孔１５Ａが設けられている。前記吸着孔１５
Ａが配設された吸着面の構造は、第５図に示すメ
インバキユームプレート１０の吸着面と同様の構
造になつている。図示しないが、回転バキユーム
プレート１５の上面にも吸引孔を設けてもよく、
このように構成することにより、第４図に示すよ
うに、たるみを持たせた積層体１B′をより形成
し易くすることができる。

前記絶縁性基板１１は、搬送ローラ（下段）１
７Ａと搬送ローラ（上段）１７Ｂとで構成される
前段搬送装置１７により、薄膜張付装置の積層体
１Ｂの仮付位置まで搬送される。また、搬送ロー
ラ（下段）１８Ａと搬送ローラ（上段）１８Ｂと
で構成される後段搬送装置１８は、薄膜張付装置
の熱圧着ローラ１６で積層体１Ｂが熱圧着ラミネ
ートされた絶縁性基板１１を配線パターンを形成
する露光装置まで搬送するように構成されてい
る。

前記メインバキユームプレート１０の仮付部１
０Ｅの移動経路（薄膜供給経路）近傍の装置本体
７（又は前段搬送装置１７、或は支持部材１２）
には、第１図及び第４図に示すように、薄膜矯正
装置１９が設けられている。薄膜矯正装置１９
は、仮付部１０Ｅに密着させる方向に積層体１Ｂ
の供給方向の先端部を矯正するように構成されて
いる。薄膜矯正装置１９は、積層体１Ｂの供給幅
方向に延在して設けられた流体搬送管１９Ａと、
この流体搬送管１９Ａに複数設けられた流体吹付
孔１９Ｂとで構成されている。

流体搬送管１９Ａは、内部が中空に構成されて
おり、常圧よりも高圧力の流体を流すように構成
されている。流体搬送管１９Ａの断面形状は、本
実施例では略円形状に構成されているが、これに
限定されず、方形状又は楕円形状に構成してもよ
い。

流体吹付孔１９Ｂは、積層体１Ｂを矯正する方
向（第４図に示す矢印Ｇ方向）に流体を吹き付け
るように設けられている。

薄膜矯正装置１９で使用する流体としては、空
気を使用する。また、不活性ガス等を用いてもよ
い。

このように、薄膜張付装置において、仮付部１
０Ｅに密着させる方向に供給方向の積層体１Ｂの
先端部を矯正する薄膜矯正装置１９を、前記仮付
部１０Ｅの移動経路の近傍の装置本体７（又は支
持部材１２或は前段搬送装置１７）に設けたこと
により、積層体１Ｂの先端部を確実に仮付部１０
Ｅに密着させることができるので、絶縁性基板１
１の導電層上に確実に積層体１Ｂの先端部を仮り
付け（仮熱圧着）することができる。

さらに、サブバキユームプレート１３の下部吸
着部１３ｂと回転バキユームプレート１５との間
に供給される積層体１Ｂ，１B′に近接した装置
本体７（又は前段搬送装置１７、或は支持部材１
２）には、第１図及び第４図に示すように、薄膜
突出装置２０が設けられている。つまり、薄膜突
出装置２０は、熱圧着ローラ１６に密着させる方
向に前記たるみを持たせた積層体１B′を形成す
るように構成されている。薄膜突出装置２０は、
積層体１Ｂの供給幅方向に延在して設けられた流
体搬送管２０Ａと、この流体搬送管２０Ａに複数
設けられた流体吹付孔２０Ｂとで構成されてい
る。

流体搬送管２０Ａは、内部が中空に構成されて
おり、常圧よりも高圧力の流体を流すように構成
されている。流体搬送管２０Ａの断面形状は、本
実施例では略円形状に構成されているが、流体搬
送管１９Ａと同様に、これに限定されず、方形状
又は楕円形状に構成してもよい。

流体吹付孔２０Ｂは、積層体１B′の前記たる
みを前述のように突出させる方向（第４図に示す
矢印Ｈ方向）に流体を吹き付けるように設けられ
ている。

薄膜突出装置２０で使用する流体としては、薄
膜矯正装置１９と同様に、空気を使用する。ま
た、不活性ガス等を用いてもよい。

このように、薄膜張付装置において、熱圧着ロ
ーラ１６の側に倒れかけさせる方向に前記たるみ
を持たせた積層体１B′を矯正する薄膜突出装置
２０を、積層体１B′の近傍の装置本体７（又は
支持部材１２或は前段搬送装置１７）に設けたこ
とにより、積層体１B′を確実に熱圧着ローラ１
６に密着させる方向にたるみを持たせることがで
きるので、特に、回転バキユームプレート１５に
積層体１Ｂの後端部を確実に吸着させることがで
きる。従つて、しわ等を生じることなく、絶縁性
基板１１の導電層上に確実に積層体１Ｂの後端部
を熱圧着ラミネートすることができる。

なお、本発明は、薄膜矯正装置１９又は薄膜突
出装置２０を、積層体１Ｂの供給幅方向に複数設
けられた、積層体１Ｂを前述の如く適正な方向に
矯正又は突出させるように流体を吹き付ける流体
吹付ノズルで構成してもよい。

また、本発明は、薄膜矯正装置１９又は薄膜突
出装置２０を、積層体１Ｂの供給幅方向に延在し
て設けられた吸引管と、この吸引管に複数設けら
れた、積層体１Ｂを前述の如く適正な方向に矯正
又は突出させる方向に吸引する吸引孔とで構成し
てもよい。

また、本発明は、薄膜矯正装置１９又は薄膜突
出装置２０を、積層体１Ｂを前述の如く適正な方
向に矯正又は突出させる突状部材で構成してもよ
い。

また、本発明は、薄膜矯正装置１９を薄膜突出
装置２０で、若しくは薄膜突出装置２０を薄膜矯
正装置１９で兼用することも可能である。

前記熱圧着ローラ１６と後段搬送装置１８の搬
送ローラ１８Ａとの間の装置本体７（又は後段搬
送装置１８）には、第１図及び第４図に示すよう
に、基板ガイド部材２１が設けられている。基板
ガイド部材２１は、積層体１Ｂが熱圧着ラミネー
トされた絶縁性基板１１を、熱圧着ラミネート位
置から搬送ローラ１８Ａ及び１８Ｂの位置までガ
イドするように構成されている。基板ガイド部材
２１は、例えば、絶縁性基板１１の搬送方向に延
在する棒状部をその搬送幅方向に複数配置したク
シ型形状で構成する。クシ型形状に構成された基
板ガイド部材２１は、絶縁性基板１１の搬送に際
して、絶縁性基板１１の接触面積を小さくし摩擦
抵抗を小さくできるので、スムーズに絶縁性基板
１１をガイドすることができる。

このように、前記熱圧着ローラ１６と後段搬送
装置１８の搬送ローラ１８Ａとの間に基板ガイド
部材２１を設けることにより、特に、薄い絶縁性
基板１１においては、熱圧着ラミネート後の搬送
方向の先端部の垂れ下りを防止し、搬送ローラ１
８Ａ及び１８Ｂに確実に導びき、搬送することが
できるので、後段搬送装置１８（絶縁性基板１１
の搬送経路）におけるトラブルを防止することが
できる。特に、本実施例の薄膜張付装置の搬送装
置においては、仮付動作を行うために、熱圧着ロ
ーラ１６が符号１６′を付けた点線で示す位置か
ら実線で示す位置まで移動する空間が必要とな
り、熱圧着ローラ１６と搬送ローラ１８Ａとの間
にかなりの空間（搬送距離）が形成されるので、
基板ガイド部材２１は有効である。

なお、本発明は、基板ガイド部材２１を網状構
造で構成してもよい。

また、本発明は、基板ガイド部材２１を板状構
造で構成してもよい。

次に、本実施例の薄膜張付装置による積層体１
Ｂの熱圧着ラミネート方法について、前記第１
図、第４図、第１７図乃至第１９図（各工程毎の
要部拡大構成図）を用いて簡単に説明する。

まず最初に、手作業により、供給ローラ２から
繰出した積層体薄膜を薄膜分離ローラ３を介して
保護膜と分離し、分離された積層体１Ｂの供給方
向の先端部を、サブバキユームプレート１３と切
断装置１４との間に配置し、真空源を作動させて
積層体１Ｂをメインバキユームプレート１０及び
サブバキユームプレート１３に吸着保持させた後
切断装置１４を働かせて積層体１Ｂを切断し、不
要部分の積層体を取り除いておく。

次に、前段搬送装置１７の搬送ローラ１７Ａ及
び１７Ｂで搬送される絶縁性基板１１の搬送方向
の先端部が仮付位置に搬送されると、駆動源１３
Ａで積層体１Ｂの供給経路から離反する位置にサ
ブバキユームプレート１３を移動させ、第１７図
に示すように、仮付部１０Ｅに積層体１Ｂの先端
部を吸着させる。この時、メインバキユームプレ
ート１０及び仮付部１０Ｅの吸着動作が行われて
いると共に、薄膜矯正装置１９で積層体１Ｂを矯
正できるので、仮付部１０Ｅに積層体１Ｂの先端
部を確実に吸着させることができる。

この後、駆動源１２Ｄで支持部材１２に対して
メインバキユームプレート１０を絶縁性基板１１
に近接する方向に移動させ、第１８図に示すよう
に、仮付部１０Ｅに吸着された積層体１Ｂの先端
部を絶縁性基板１１の導電層上に仮り付け（仮熱
圧着）する。

積層体１Ｂの仮り付け後、メインバキユームプ
レート１０及び仮付部１０Ｅの吸着動作を停止
し、第１９図に示すように、駆動源１２Ｃ及び１
２Ｄでメインバキユームプレート１０、仮付部１
０Ｅ及びサブバキユームプレート１３を仮付位置
から離反させる。この離反は、前記第１７図に示
す積層体１Ｂを仮付部１０Ｅへ吸着する工程にお
ける位置に比べてさらに離反する位置に、駆動源
１２Ｃでメインバキユームプレート１０及びサブ
バキユームプレート１３を移動させる。この移動
量は、積層体１B′に持たせるたるみ量に比例す
る。このとき、支持部材１２の駆動源１２Ｃは、
前述したように、切断装置１４を装置本体７に固
定しているので、小型化或は駆動能力を高めて動
作速度の高速化を図ることができる。

この後、符号１６′を付けて点線で示す位置か
ら実線で示す仮付位置に熱圧着ローラ１６を近接
させる。そして、この熱圧着ローラで積層体１Ｂ
の先端部が仮り付けされた絶縁性基板１１を狭持
し回転することにより、絶縁性基板１１の導電層
上に積層体１Ｂを熱圧着ラミネートする。この
時、メインバキユームプレート１０、仮付部１０
Ｅ、サブバキユームプレート１３の夫々の吸着動
作は停止しているので、熱圧着ローラ１６には、
その回転力と、絶縁性基板１１との狭持力とで、
積層体１Ｂが供給ローラ２から自動的に供給され
るようになつている。

積層体１Ｂが、一定量、熱圧着ラミネートされ
ると、メインバキユームプレート１０、サブバキ
ユームプレート１３、回転バキユームプレート１
５の夫々の吸着動作が実質的に同時に開始され
る。そして、第１９図に示す状態から、駆動源１
２Ｃで支持部材１２を移動させ、メインバキユー
ムプレート１０で積層体１Ｂを絶縁性基板１１に
供給すると共に、前記第４図に示すように、サブ
バキユームプレート１３の下部吸着部１３ｂで積
層体１Ｂの後端部（切断位置）を切断装置１４の
切断位置に一致させる。積層体１Ｂの供給速度
（支持部材１２の移動速度）は、熱圧着ローラ１
６による熱圧着ラミネート速度（熱圧着ローラ１
６の周速度）よりも速く設定されている。

このように、メインバキユームプレート１０と
サブバキユームプレート１３とを支持部材１２に
設け、この支持部材１２を絶縁性基板１１に近接
及び離反するように装置本体７に設けたことによ
り、メインバキユームプレート１０の吸着動作と
実質的に同時に、積層体１Ｂの後端部（切断位
置）をサブバキユームプレート１３で吸着し、メ
インバキユームプレート１０とサブバキユームプ
レート１３とを支持部材１２で移動させ、切断装
置１４の切断位置に積層体１Ｂの切断位置を一致
させることができるので、メインバキユームプレ
ート１０とサブバキユームプレート１３との間の
積層体１Ｂに不必要なたるみを生じることがなく
なる。つまり、第１９図に示す、メインバキユー
ムプレート１０とサブバキユームプレート１３の
円板状カツター１４Ｃが作用する位置（コの字形
状部）との距離はは、第４図に示す積層体１Ｂ
の切断位置と切断装置１４の切断位置とを一致さ
せた状態においても変化することがない。したが
つて、積層体１Ｂの切断位置と切断装置１４の切
断位置とを正確に一致させることができるので、
絶縁性基板１１の寸法に対して正確な寸法に積層
体１Ｂを切断し、熱圧着ラミネートすることがで
き、製造上の歩留りを向上することができる。し
かも、前述のように、メインバキユームプレート
１０及びサブバキユームプレート１３を設けた支
持部材１２は、切断装置１４を装置本体７に固定
しているので、小さな駆動能力の駆動源１２Ｃで
駆動させることができる。

前記積層体１Ｂの供給後及び積層体１Ｂの切断
位置を切断装置１４の切断位置に一致させると、
サブバキユームプレート１３と回転バキユームプ
レート１５との間にたるみを持たせた積層体１
B′を形成することができる。このたるみを持た
せた積層体１B′の供給方向の両端部は、薄膜矯
正装置２０の矯正により、サブバキユームプレー
ト１３の下部吸着部１３ｂ、回転バキユームプレ
ート１５の夫々に確実に吸着させることができ
る。

この状態において、切断装置１４により、積層
体１Ｂの後端部（切断位置）が絶縁性基板１１の
寸法に対応した所定寸法に切断される。

この後、切断装置１４で切断された積層体１Ｂ
のたるみ部分が回転バキユームプレート１５に吸
引されながら摺動して進み、後端部が回転バキユ
ームプレート１５に適宜近づいた時点で、回転バ
キユームプレート１５の旋廻を開始し回転バキユ
ームプレート１５の吸着面が絶縁性基板１１の面
に近づくように回転しながら、絶縁性基板１１の
導電層上に積層体１Ｂの後端部を熱圧着ラミネー
トすることができる。回転バキユームプレート１
５は、熱圧着ローラ１６の回転速度より若干遅い
速度で回転するのと、積層体１Ｂが回転バキユー
ムプレート１５の吸着面上でのすべり摩擦力によ
り熱圧着ローラ１６との間の積層体１Ｂに適度な
テンシヨンを与えることができるので、積層体１
Ｂにしわ等を生じることがない。

積層体１Ｂが熱圧着ラミネートされた絶縁性基
板１１は、熱圧着ローラ１６の回転力により、基
板ガイド部材２１を通して、トラブルを生じるこ
となく、後段搬送装置１８の搬送ローラ１８Ａ及
び１８Ｂに搬送される。後段搬送装置１８に搬送
された絶縁性基板１１は、露光装置に搬送され
る。

以上、本発明者によつてなされた発明を、前記
実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、
前記実施例に限定されるものではなく、その要旨
を逸脱しない範囲において、種々変形し得ること
は勿論である。

例えば、本発明は、前記サブバキユームプレー
ト１３を、仮付部１０Ｅに積層体１Ｂの供給方向
の先端部を吸着させるサブバキユームプレート
と、前記切断装置１４の受け部材として使用され
るサブバキユームプレートとで構成し、夫々を独
立に制御してもよい。

また、本発明は、前記実施例の絶縁性基板１１
を予熱した後、この絶縁性基板１１に積層体１Ｂ
を非加熱圧着ローラで熱圧着ラミネートする薄膜
張付装置に適用することができる。

また、本発明は、基板に圧着する前に剥す保護
膜のない積層体１Ｂをラミネートする薄膜張付装
置にも適用できる。

また、本発明は、建築材として使用される化粧
板に保護膜を張り付ける薄膜張付装置に適用する
ことができる。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、仮付部
材又は薄膜仮付部材本体をメインバキユームプレ
ート本体に着脱自在に取り付ける構造にしたこと
により、薄膜仮付部材の先端部の薄膜を押圧して
仮付けする部分が破損しても、薄膜仮付部材又は
薄膜仮付部材本体をメインバキユームプレートか
ら取り外して交換することができるので、メイン
バキユームプレート全体を交換しなくてもよい。
これにより、装置の寿命を向上することができ
る。

また、前記薄膜仮付部材又は薄膜仮付用先端部
材をメインバキユームプレート又は薄膜仮付部材
本体に断熱材を介在して着脱自在に取り付けたこ
とにより、薄膜仮付部材のみを加熱し、その熱が
他の部分に伝導していくのを断熱材により防止す
ることができるので、感光性樹脂（フオトレジス
ト）層をべとつかせることなく、薄膜の仮付を行
う部分のみが熱圧着され、熱圧着ラミネートされ
た薄膜に気泡等を発生するのを防止することがで
きる。

また、前記薄膜仮付部材本体に加熱設定凹部を
設け、薄膜仮付用先端部材の前記加熱源設定用凹
部に対応する位置に加熱源を装着し、該薄膜仮付
用先端部材を薄膜仮付部材本体に着脱自在に断熱
材を介在させて取り付けたことにより、コンパク
トな構成で薄膜仮付用先端部材のみを加熱し、そ
の熱が他の部分に伝導していくのを断熱材により
防止することができるので、感光性樹脂（フオト
レジスト）層をべとつかせることなく、薄膜の仮
付を行なう部分のみを熱圧着することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例に係る薄膜張付装
置の概略構成図、第２図は、第１図の要部斜視
図、第３図は、第２図に示す薄膜供給検出装置の
要部拡大斜視図、第４図は、第１図の要部拡大構
成図、第５図は、第１図及び第４図に示すメイン
バキユームプレートの部分断面斜視図、第６図
は、第１図及び第４図に示すメインバキユームプ
レートの仮付部分の断面図、第７図及び第８図
は、第１図及び第４図に示すメインバキユームプ
レートの仮付部分の先端部分の構造を示す要部斜
視図、第９図は、第６図に示す薄膜仮付部材本体
の構成を示す要部斜視図、第１０図は、第９図の
矢印Ｍ方向から見た平面図、第１１図は、第９図
の矢印Ｎ方向から見た平面図、第１２図は、第１
０図に示すＡ−Ａ切断線で切つた断面図、第１３
図は、第１０図に示すＢ−Ｂ切断線で切つた断面
図、第１４図は、第１１図に示すＣ−Ｃ切断線で
切つた断面図、第１５図は、前記第４図における
矢印方向から見た概略平面図、第１６図は、前
記第１５図の−線で切つた要部断面図、第１
７図乃至第１９図は、熱圧着ラミネート方法を説
明するために、各工程毎に示す前記第１図の要部
拡大構成図である。 図中、１Ｂ…積層体（薄膜）、２…供給ローラ、
３…薄膜分離ローラ、４…巻取ローラ、７…装置
本体、８…薄膜供給検出装置、１０…メインバキ
ユームプレート（薄膜供給部材）、１１…絶縁性
基板、１２…支持部材、１２Ｃ，１２Ｄ，１３Ａ
…駆動源、１３…サブバキユームプレート（薄膜
保持部材）、１４…切断装置、１４Ａ…ガイド部
材、１４Ｂ…移動部材、１４Ｃ…円板状カツタ
ー、１５…回転バキユームプレート（回転吸着部
材）、１６…熱圧着ローラ、１７，１８…搬送装
置、１７Ａ，１７Ｂ，１８Ａ，１８Ｂ…搬送ロー
ラ、１９…薄膜矯正装置、２０…薄膜突出装置、
２１…基板ガイド部材、３０…薄膜仮付部材、３
１…断熱材、３２…止めねじ、３３…薄膜仮付部
材本体、３４…薄膜仮付用先端部材、３４Ａ…先
端部、３５…ヒータ、３６〜３９，４１…吸着
溝、４０，４４…通気孔、４２…第１キヤビテ
イ、４３…第２キヤビテイ、４５…第３キヤビテ
イ、４６…ヒータ設定用溝である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 薄膜を基板に張り付けるための薄膜張付装置
   であつて、前記基板に張り付けられる薄膜を押圧
   して仮付けするための薄膜仮付部材を薄膜供給部
   材の薄膜供給方向の先端部に断熱材を介在させて
   着脱自在に取り付けたことを特徴とする薄膜張付
   装置。 ２ 薄膜を基板に張り付けるための薄膜張付装置
   であつて、薄膜仮付部材をその本体と基板に張り
   付けられる薄膜を押圧して仮付けするための薄膜
   仮付用先端部材とに分割し、前記薄膜仮付部材本
   体を薄膜供給部材の薄膜供給方向の先端部に断熱
   材を介在させて着脱自在に取り付け、前記薄膜仮
   付用先端部材を薄膜仮付部材本体に着脱自在に断
   熱材を介在させて取り付けたことを特徴とする薄
   膜張付装置。 ３ 薄膜を基板に張り付けるための薄膜張付装置
   であつて、薄膜仮付部材をその本体と基板に張り
   付けられる薄膜を押圧して仮付けするための薄膜
   仮付用先端部材とに分割し、前記薄膜仮付部材本
   体に加熱源設定用凹部を設け、基板に張り付けら
   れる薄膜を押圧して仮付けする薄膜仮付先端部材
   の前記加熱源設定用凹部に対応する位置に加熱源
   を装着し、前記薄膜仮付部材本体を薄膜供給部材
   の薄膜供給方向の先端部に断熱材を介在させて着
   脱自在に取り付け、前記薄膜仮付用先端部材を薄
   膜仮付部材本体に着脱自在に断熱材を介在させて
   取り付けたことを特徴とする薄膜張付装置。 ４ 前記薄膜仮付用先端部材の薄膜仮付部分の幅
   は、微細なラインとなるように構成され、例えば
   1.5mmであることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項に記載の薄膜張付装置。