JPH0422425B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 (1) 発明の目的 〔産業上の利用分野〕 本発明は、薄膜の張付技術に関し、特に、連続
した薄膜を所定の寸法に切断して基板に張り付け
る薄膜張付装置に適用して有効な技術に関するも
のである。

〔従来技術〕

コンピユータ等の電子機器に使用されるプリン
ト配線板は、銅等の所定パターンの配線が絶縁性
基板の片面又は両面に形成されたものである。

この種のプリント配線板は、次の製造工程によ
り製造することができる。

まず、絶縁性基板上に設けられた導電層上に、
感光性樹脂（フオトレジスト）層とそれを保護す
る感光性樹脂フイルム（保護膜）とからなる積層
体を熱圧着ラミネートする。この熱圧着ラミネー
トは、薄膜張付装置所謂ラミネータにより量産的
に行われる。この後、前記積層体に配線パターン
フイルムを重ね、この配線パターンフイルム及び
透光性樹脂フイルムを通して、感光性樹脂層を所
定時間露光する。そして、透光性樹脂フイルムを
剥離装置で剥離した後、露光された感光性樹脂層
を現像してエツチングマスクパターンを形成す
る。この後、前記導電層の不必要部分をエツチン
グにより除去し、さらに残存する感光性樹脂層を
除去し、所定の配線パターンを有するプリント配
線板を形成する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

前述のプリント配線板の製造工程においては、
絶縁性基板の導電層上に、薄膜張付装置で自動的
に積層体を熱圧着ラミネートする工程が必要とさ
れている。この熱圧着ラミネート工程の概要は次
のとおりである。

まず、薄膜張付装置の供給ローラに連続的に巻
回されている積層体を、メインバキユームプレー
トで基板に供給する。メインバキユームプレート
は、積層体供給面に複数の吸着孔が設けられてお
り、この吸着孔に積層体を吸着し供給するように
構成されている。基板に供給される積層体の先端
部は、メインバキユームプレートの先端部に設け
られた円弧形状の仮付部に吸着され、この仮付部
で絶縁性基板の導電層上に仮り付け（仮熱圧着）
される。仮付部への積層体の吸着は、サブバキユ
ームプレートにより行われる。

次に、先端部が仮り付けされた積層体は、熱圧
着ローラで基板に熱圧着ラミネートされる。積層
体が一定量熱圧着ラミネートされると、メインバ
キユームプレートは、熱圧着ラミネート速度より
も速い速度で積層体を供給し、積層体の後端部に
たるみを持たせる。この積層体のたるみは、サブ
バキユームプレートと、熱圧着ローラと同一回転
軸で回転する回転バキユームプレートとの間に、
それらの吸着動作により形成される。積層体の後
端部にたるみを持たせるのは、積層体の熱圧着ラ
ミネートを行いながら、切断される部分の積層体
を実質的に静止状態にするためである。

この後、切断装置により基板に対応した所定寸
法（基板長と同等乃至若干短めの寸法）に積層体
が切断され、回転バキユームプレートのガイドに
より、熱圧着ローラで積層体の後端部が熱圧着ラ
ミネートされる。

しかしながら、この種の薄膜張付装置では、前
記積層体にたるみを形成する工程において、回転
バキユームプレートから剥離する方向（熱圧着ロ
ーラに密着する方向と反対の方向）にたるみが形
成される場合が生じ、回転バキユームプレートに
よるガイドができないため、しわ等の熱圧着ラミ
ネート不良が生じるという問題があつた。

本発明で解決しようとする前記ならびにその他
の問題点と新規な特徴は、本明細書の記述及び添
付図面によつて明らかになるであろう。

(2) 発明の構成 〔問題点を解決するための手段〕 本願において開示される発明のうち、代表的な
ものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりであ
る。

本発明は、連続した薄膜を所定の寸法に切断
し、この切断された薄膜を基板に張り付ける薄膜
張付装置において、前記連続した薄膜を基板に供
給する薄膜供給部材と、該薄膜供給部材で供給さ
れる供給方向の薄膜の先端部を基板に仮り付けす
る仮付部材とを、基板に近接及び離反する支持部
材を介して装置本体に設け、該仮付部材で基板に
仮り付けされた薄膜を基板に張り付ける圧着ロー
ラを、前記装置本体の所定部に設け、該圧着ロー
ラで基板に薄膜を張り付け開始後に、前記圧着ロ
ーラの薄膜張付速度よりも前記薄膜供給部材の薄
膜供給速度を速くし、薄膜の後端部にたるみを持
たせる薄膜たるみ形成手段を設け、該薄膜たるみ
形成手段で形成された薄膜のたるみ部分を前記圧
着ローラに密着させる方向に薄膜を突出させる薄
膜突出装置を、前記仮付部材の移動経路の近傍の
装置本体又は前記支持部材に設けたことを特徴と
したものである。

〔作用〕

上述した手段によれば、前記薄膜突出装置によ
り、たるみを持たせた薄膜を圧着ローラの回転吸
着部材に確実に吸着させ、しわ等を生じることな
く基板に薄膜を張り付けることができるので、張
付不良を防止することができる。

〔発明の実施例〕

以下、プリント配線用基板に感光性樹脂層と透
光性樹脂フイルムとからなる積層体を熱圧着ラミ
ネートする薄膜張付装置に適用した本発明の一実
施例について、図面を用いて具体的に説明する。

なお、実施例を説明するための全面において、
同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰
り返しの説明は省略する。

本発明の一実施例である薄膜張付装置を第１図
（概略構成図）及び第２図（第１図の要部拡大構
成図）で示す。

第１図及び第２図に示すように、透光性樹脂フ
イルム、感光性樹脂層及び透光性樹脂フイルムの
３層構造からなる積層体１は、供給ローラ２に連
続的に巻回されている。供給ローラ２の積層体１
は、剥離ローラ３で、透光性樹脂フイルム（保護
膜）１Ａと、一面（接着面）が露出された感光性
樹脂層及び透光性樹脂フイルムからなる積層体１
Ｂとに分離される。分離された透光性樹脂フイル
ム１Ａは、巻取ローラ４により巻き取られるよう
に構成されている。

前記分離された積層体１Ｂの供給方向の先端部
は、テンシヨンローラ５を通してメインバキユー
ムプレート６に吸着されるように構成されてい
る。

テンシヨンローラ５は、供給ローラ２とメイン
バキユームプレート６との間の積層体１Ｂに適度
なテンシヨンを与えるように構成されている。つ
まり、テンシヨンローラ５は、積層体１Ｂにしわ
等を生じないように構成されている。

メインバキユームプレート（薄膜供給部材）６
は、積層体１Ｂを供給ローラ２から絶縁性基板１
２の導電層上に供給するように構成されている。
メインバキユームプレート６は、絶縁性基板１２
に近接しかつ離反する（矢印Ａ方向に移動する）
支持部材７を介して、装置本体（薄膜張付装置の
筐体）８に支持されている。支持部材７は、メイ
ンバキユームプレート６を移動させる。例えばエ
アーシリンダからなる駆動源７Ａと、駆動源７Ａ
を装置本体８に支持する支持部７Ｂとで構成され
ている。駆動源７Ａは、エアーシリンダに限定さ
れず、例えば、油圧シリンダ又は電磁シリンダ、
或はステツプモータ及びその変位をメインバキユ
ームプレート６に伝達する伝達機構等で構成する
ことができる。

メインバキユームプレート６には、第３図（部
分断面斜視図）で示すように、積層体１Ｂの供給
方向と略直交する供給幅方向に延在する溝部６Ａ
が搬送方向に複数設けられている。溝部６Ａの長
さ（積層体１Ｂの供給幅方向の長さ）は、供給幅
方向の積層体１Ｂの寸法と略同一の寸法で構成さ
れ、溝部６Ａを積層体１Ｂが覆うように構成され
ている。溝部６Ａの底部には、積層体１Ｂを吸着
させるための吸着孔６Ｂが複数設けられている。
図示していないが、吸着孔６Ｂは、排気管を介し
て、真空ポンプ等の真空源に接続されている。溝
部６Ａの端部６Ｃは、メインバキユームプレート
６の端部から中央部に掘り下げたテーパ形状に構
成されている。この端部６Ｃ（テーパ部）には、
メインバキユームプレート６に吸着される積層体
１Ｂの端部が位置するようになつている。

このテーパ形状に構成された端部６Ｃは、溝部
６Ａと積層体１Ｂとの吸着面積を最大限に確保し
て吸着効果を高めると共に、積層体１Ｂの吸着時
に、溝部６Ａと積層体１Ｂとの吸着位置にずれが
若干生じても、溝部６Ａに比べて浅いので、積層
体１Ｂの端部と端部６Ｃとの吸着性を良好にし、
溝部６Ａと積層体１Ｂとの吸着効果をさらに良好
にすることができる。

積層体１Ｂの供給方向におけるメインバキユー
ムプレート６の先端部には、積層体１Ｂの吸着面
が円弧形状に形成された仮付部材６Ｄが設けられ
ている。仮付部材６Ｄは、メインバキユームプレ
ート６と一体に構成されている。仮付部材６Ｄの
内部には、第１図及び第２図で示すように、円弧
形状部分を加熱するヒータ６Ｅが設けられてい
る。仮付部材６Ｄは、メインバキユームプレート
６で供給される積層体１Ｂの先端部を、基板１２
に仮り付け（仮熱圧着）するように構成されてい
る。

なお、本発明は、メインバキユームプレート６
と仮付部材６Ｄとを、夫々、別部材で構成し、両
者を支持部材７を介して装置本体８に設けてもよ
い。

前記仮付部材６Ｄに近接した位置、つまり、仮
付部材６Ｄと基板１２との間の積層体１Ｂの供給
経路の近傍の装置本体８には、サブバキユームプ
レート９が設けられている。サブバキユームプレ
ート９は、吸引孔を図示していないが、上部吸着
部９ａと下部吸着部９ｂとでコの字形状に構成さ
れている。サブバキユームプレート９の上部吸着
部９ａは、主に、供給方向の積層体１Ｂの先端部
を吸着し、仮付部材６Ｄに吸着（保持）させるよ
うに構成されている。サブバキユームプレート９
は、積層体１Ｂの先端部を仮付部材６Ｄに吸着可
能なように、積層体１Ｂの供給経路に対して近接
及び離反（矢印Ｂ方向に移動）する例えばエアー
シリンダからなる駆動源９Ａを介して、装置本体
８に固着されている。

また、サブバキユームプレート９の下部吸着部
９ｂは、連続した積層体１Ｂを切断装置１０で切
断し、この切断された積層体１Ｂの後端部を吸着
するように構成されている。下部吸着部９ｂは、
熱圧着ラミート開始後、回転バキユームプレート
１３との間において、積層体１Ｂにたるみを形成
する（たるみを持たせた積層体１B′を形成する）
ように構成されている。このたるみを持たせた積
層体１B′は、メインバキユームプレート６の積
層体１Ｂの供給速度に対して、熱圧着ローラ１１
の周速度（熱圧着ラミネート速度）を遅く制御す
ることにより形成することができる。例えば、熱
圧着ローラ１１の周速度を一定とした場合には、
メインバキユームプレー６で積層体１Ｂを供給す
る速度を前記周速度よりも速く設定する。両者の
制御は、図示していないが、シーケンス制御回路
により行われるようになつている。

なお、サブバキユームプレート９の駆動源９Ａ
としては、エアーシリンダの他に、前記駆動源７
Ａと同様に、油圧シリンダ等で構成することがで
きる。

前記仮付部材６Ｄと基板１２との間の積層体１
Ｂの供給経路の近傍の装置本体８（又は前段搬送
装置１４）には、切断装置１０が設けられてい
る。詳述すれば、切断装置１０は、積層体１Ｂを
介在してサブバキユームプレート９に対向した位
置に構成されている。切断装置１０は、メインバ
キユームプレート６で連続的に供給される積層体
１Ｂを基板１２の寸法に対応して所定長になるよ
うに切断するように構成されている。

この切断装置１０の具体的な構成を第４図（第
２図の矢印方向から見た概略平面図）及び第５
図（第４図の−線で切つた断面図）で示す。

切断装置１０は、第４図及び第５図に示すよう
に、主に、ガイド部材１０Ａと、移動部材１０Ｂ
と、円板状カツター１０Ｃとで構成されている。

ガイド部材１０Ａは、積層体１Ｂの供給幅方向
に延在し、その両端部（又は一端部）が装置本体
８に固定されている。この固定は、ねじ、ボル
ト、ナツト、ビス、接着剤等の固定手段で行なわ
れる。ガイド部材１０Ａには、積層体１Ｂの供給
幅方向（第４図に示す矢印Ｃ方向）において、移
動部材１０Ｂを正確に移動できるように、移動部
材１０Ｂを凸部（又は凹部）１０ａと嵌合する凹
部（又は凸部）１０ｂが設けられている。

移動部材１０Ｂは、ガイド部材１０Ａに沿つて
（積層体１Ｂの供給幅方向に）移動するように構
成されている。移動部材１０Ｂは、ガイド部材１
０Ａに沿つて延在しかつ両端部が装置本体８に支
持された中空管１０Ｄ内を、矢印C′方向に移動す
る中空管内移動部材１０Ｅと接続されている。中
空管内移動部材１０Ｅの移動は、中空管１０Ｄの
夫々の端部から空気（air）等の流体を吹き込む
（又は吸引する）ことにより行われる。つまり、
中空管内移動部材１０Ｅは、第４図において、中
空管１０Ｄの左側から流体を吹き込むと左側から
右側に移動し、中空管１０Ｄの右側から流体を吹
き込むと右側から左側に移動するように構成され
ている。中空管内移動部材１０Ｅは、移動部材１
０Ｂを移動するように構成されている。中空管１
０Ｄ内に吹き込む流体としては空気を用いる。ま
た、流体としては、不活性ガス等の気体、水、油
等の液体を用いてもよい。また、移動部材１０Ｂ
は、エアーシリンダ、油圧シリンダ、モータ等で
移動するように構成してもよい。

円板状カツター１０Ｃは、移動部材１０Ｂの移
動に従つて回転し、少なくともその円周部に積層
体１Ｂを切断する刃部が設けられている。円板状
カツタ−１０Ｃの回転は、回転軸１０Ｆに設けら
れた歯車（ピニオン）１０Ｇを介在し、回転軸１
０Ｈに設けられた歯車１０Ｉとラツク１０Ｊとの
嵌合により与えられる。ラツク１０Ｊは、両端部
（又は一端部）が装置本体８に固定されている。
ラツク１０ｊと歯車１０Ｉとの嵌合は、移動部材
１０Ｂに設けられた保持ローラ１０Ｌにより安定
に保持される。

円板状カツター１０Ｃは例えば高速度工具鋼管
の金属材料で構成されており、少なくとも刃部の
表面にはポリテトラフルオロエチレンが塗布され
ている。ポリテトラフルオロエチレンは、化学薬
品に対する不活性、熱的安定性に優れており、摩
擦係数が小さく、又、他の材料へ付着しずらい特
徴がある。特に、薄膜張付装置においては、積層
体１Ｂの切断により生ずる微小で種々の化学薬品
を含有する切り屑が刃部に付着し、円板状カツタ
ー１０Ｃの切れ味じを劣化し易いので、ポリテト
ラフルオロエチレンの塗布は有効である。

円板状カツター１０Ｃの近傍の移動部材１０Ｂ
には、主に、作業者の安全を確保するために、円
板状カツター１０Ｃを覆う保護カバー１０Ｋが設
けられている。

この切断装置１０は、移動部材１０Ｂがガイド
部材１０Ａを一方向に移動することにより、この
移動で与えられる円板状カツター１０Ｃの回転
で、絶縁性基板１２の長さに対応した寸法に積層
体１Ｂを切断することができる。また、円板状カ
ツター１０Ｃは、一方向の移動により積層体１Ｂ
を切断することができるので、積層体１Ｂの切断
時間を短縮することができる。

このように構成される薄膜張付装置において、
メインバキユームプレート６と仮付部材６Ｄと
を、基板１２に近接及び離反する支持部材７を介
して装置本体８に設け、積層体１Ｂを切断する切
断装置１０を、前記仮付部材６Ｄと基板１２との
間の積層体１Ｂの供給経路の近傍の装置本体８に
固定したことにより、前記支持部材７で支持する
部材の重量を軽くしたので、駆動能力（容量）の
小さな駆動源７Ａで支持部材７を駆動することが
できる。

また、支持部材７に支持される部品点数を低減
することができるので、支持部材７及びその周辺
の構成を簡単化し、薄膜張付装置を小型化するこ
とができる。

また、駆動源７Ａ等を小型化することができる
ので、薄膜張付装置の製造上のコストを低減する
ことができる。

なお、サブバキユームプレート９は、本実施例
において装置本体８に支持されているが、切断装
置１０に比べて非常に軽いので、メインバキユー
ムプレート６と共に支持部材７に設けてもよい。

また、切断装置１０は、円板状カツター１０Ｃ
を移動させる構成に代えて、超音波、レーザビー
ム等を使用したビームカツタとか、積層体１Ｂの
供給幅方向に、積層体１Ｂの供給幅寸法と略同等
又はそれよりも大きな寸法の刃部を有するカツタ
ー、例えばギロチンカツター、帯状カツター、加
熱もしくは非加熱ワイヤー状カツター、ナイフ状
カツター等で構成してもよい。この切断装置１０
は、一度に積層体１Ｂを切断することができる。

前記メインバキユームプレート６の仮付部材６
Ｄで絶縁性基板１２の導電層上に先端部が仮り付
け（仮熱圧着）される積層体１Ｂは、熱圧着ロー
ラ１１でその全体が熱圧着ラミネートされるよう
に構成されている。熱圧着ローラ１１は、積層体
１Ｂの先端部を仮付部材６Ｄで仮り付けする仮付
動作時は、第１図に符号１１′を符した点線で示
す位置に配置されかつ回転している。熱圧着ロー
ラ１１は、仮付動作時に、仮付部材６Ｄと接触し
ないように構成されている。仮付動作後の熱圧着
ローラ１１は、符号１１′を示す点線で示した位
置から実線で示す位置、つまり、積層体１Ｂを介
在して基板１２を挟持する位置に移動するように
構成されている。積層体１Ｂを介在して基板１２
を挟持した熱圧着ローラ１１は、第２図に示す矢
印Ｄ方向に回転し、積層体１Ｂを絶縁性基板１２
の導電層上に熱圧着ラミネートすると共に、この
基板１２を搬送するように構成されている。熱圧
着ラミネート工程中においては、メインバキユー
ムプレート６及びサブバキユームプレート９の積
層体１Ｂの吸着動作は停止している。すなわち、
熱圧着ローラ１１には、その回転力と、基板１２
との挟持力とで、積層体１Ｂが供給ローラ２から
自動的に供給されるように構成されている。

前記切断装置１０で切断された積層体１Ｂの後
端部は、三角形状の回転バキユームプレート１３
でしわ等を生じないようにガイドされ、熱圧着ロ
ーラ１１で熱圧着ラミネートされるように構成さ
れている。回転バキユームプレート１３は、第６
図（要部斜視図）で示すように、熱圧着ローラ１
１と同一軸に支持されかつそれを中心に回転する
ように構成されており、積層体１Ｂと対向する吸
着面には、複数の吸引孔１３Ａが設けられてい
る。前記吸着孔１３Ａが配設された吸着面の構造
は、第３図に示すメインバキユームプレート６の
吸着面と同様の構造になつている。図示しない
が、回転バキユームプレート１３の上面にも吸引
孔を設けてもよく、このように構成することによ
り、たるみ１B′を第２図に示すような状態とす
ることができる。

前記基板１２は、搬送ローラ（下段）１４Ａと
搬送ローラ（上段）１４Ｂとで構成される前段搬
送装置１４により、薄膜張付装置の積層体１Ｂの
仮付位置まで搬送される。

また、搬送ローラ（下段）１５Ａと搬送ローラ
（上段）１５Ｂとで構成される後段搬送装置１５
は、薄膜張付装置の熱圧着ローラ１１で積層体１
Ｂが熱圧着ラミネートされた基板１２を配線パタ
ーンを形成する露光装置まで搬送するように構成
されている。

前記メインバキユームプレート６の仮付部材６
Ｄの移動経路（薄膜供給経路）近傍の装置本体８
（又は前段搬送装置１４、或は支持部材７）には、
薄膜矯正装置１６が設けられている。薄膜矯正装
置１６は、仮付部材６Ｄに密着させる方向に積層
体１Ｂの供給方向の先端部を矯正するように構成
されている。薄膜矯正装置１６の具体的な構成
は、第２図及び第７図（要部斜視図）で示すよう
に、積層体１Ｂの供給幅方向に延在して設けられ
た流体搬送管１６Ａと、この流体搬送管１６Ａに
複数設けられた流体吹付孔１６Ｂとで構成されて
いる。

流体搬送管１６Ａは、内部が中空に構成されて
おり、常圧よりも高圧力の流体を流すように構成
されている。流体搬送管１６Ａの断面形状は、本
実施例では略円形状に構成されているが、これに
限定されず、方形状又は楕円形状に構成してもよ
い。

流体吹付孔１６Ｂは、積層体１Ｂを矯正する方
向（第２図及び第７図に示す矢印Ｅ方向）に流体
を吹き付けるように設けられている。

薄膜矯正装置１６で使用する流体としては、空
気を使用する。また、流体としては、不活性ガス
等の気体、水、油等の流体を用いてもよい。

このように、薄膜張付装置において、仮付部材
６Ｄに密着させる方向に供給方向の積層体１Ｂの
先端部を矯正する薄膜矯正装置１６を、前記仮付
部材６Ｄの移動経路の近傍の装置本体８（又は支
持部材７或は前段搬送装置１４）に設けたことに
より、積層体１Ｂの先端部を確実に仮付部材６Ｄ
に密着させることができるので、絶縁性基板１２
の導電層上に確実に積層体１Ｂの先端部を仮り付
け（仮熱圧着）することができる。

さらに、サブバキユームプレート９の下部吸着
部９ｂと回転バキユームプレート１３との間に供
給される積層体１Ｂ（１B′）に近接した装置本体
８（又は前段搬送装置１４、或は支持部材７）に
は、薄膜突出装置１７が設けられている。つま
り、薄膜突出装置１７は、熱圧着ローラ１１に密
着させる方向に前記たるみを持たせ積層体１
B′を突出させるように構成されている。薄膜突
出装置１７の具体的な構成は、第２図及び第７図
で示すように、積層体１Ｂの供給幅方向に延在し
て設けられた流体搬送管１７Ａと、この流体搬送
管１７Ａに複数設けられた流体吹付孔１７Ｂとで
構成されている。

流体搬送管１７Ａは、内部が中空に構成されて
おり、常圧よりも高圧力の流体を流すように構成
されている。流体搬送管１７Ａの断面形状は、本
実施例では略円形状に構成されているが、流体搬
送管１６Ａと同様に、これに限定されず、方形状
又は楕円形状に構成してもよい。

流体吹付孔１７Ｂは、積層体１B′の前記たる
みを前述のように突出させる方向（第２図及び第
７図に示す矢印Ｆ方向）に流体を吹き付けるよう
に設けられている。

薄膜突出装置１７で使用する流体としては、薄
膜矯正装置１６と同様に、空気を使用する。ま
た、流体としては、不活性ガス等の気体、水、油
等の液体を用いてもよい。

このように、薄膜張付装置において、熱圧着ロ
ーラ１１に密着させる方向に前記たるみを持たせ
た積層体１B′を矯正する薄膜突出装置１７を、
積層体１B′の近傍の装置本体８（又は支持部材
７或は前段搬送装置１４）に設けたことにより、
積層体１B′を確実に熱圧着ローラ１１に密着さ
せる方向にたるみを持たせることができるので、
特に、回転バキユームプレート１３に積層体１Ｂ
の後端部を確実に吸着させることができる。従つ
て、しわ等を生じることなく、絶縁性基板１２の
導電層上に確実に積層体１Ｂの後端部を熱圧着ラ
ミネートすることができる。

なお、本発明は、薄膜矯正装置１６又は薄膜突
出装置１７を、積層体１Ｂの供給幅方向に複数設
けられた、積層体１Ｂを前述の如く適正な方向に
矯正又は突出させるように流体を吹き付ける流体
吹付ノズルで構成してもよい。

また、本発明は、薄膜矯正装置１６又は薄膜突
出装置１７を、積層体１Ｂの供給幅方向に延在し
て設けられた吸引管と、この吸引管に複数設けら
れた、積層体１Ｂを前述の如く適正な方向に矯正
又は突出させる方向に吸引する吸引孔とで構成し
てもよい。

また、本発明は、薄膜矯正装置１６又は薄膜突
出装置１７を、積層体１Ｂを前述の如く適正な方
向に矯正又は突出させる突状部材で構成してもよ
い。

また、本発明は、薄膜矯正装置１６を薄膜突出
装置１７で、若しくは薄膜突出装置１７を薄膜矯
正装置１６で兼用することも可能である。

前記熱圧着ローラ１１と後段搬送装置１５の搬
送ローラ１５Ａとの間の装置本体８（又は後段搬
送装置１５）には、基板ガイド部材１８が設けら
れている。基板ガイド部材１８は、積層体１Ｂが
熱圧着ラミネートされた基板１２を、熱圧着ネミ
ネート位置から搬送ローラ１５Ａ及び１５Ｂの位
置までガイドするように構成されている。基板ガ
イド部材１８は、特に、第６図で示すように、基
板１２の搬送方向に延在する棒状部をその搬送幅
方向に複数配置したクシ型形状に構成したもので
ある。クシ型形状に構成された基板ガイド部材１
８は、基板１２の搬送に際して、基板１２との接
触面積を小さくし摩擦抵抗を小さくできるので、
スムーズに基板１２をガイドすることができる。

このように、前記熱圧着ローラ１１と後段搬送
装置１５の搬送ローラ１５Ａとの間に基板ガイド
部材１８を設けることにより、特に、薄い基板１
２においては、熱圧着ラミネート後の搬送方向の
先端部の垂れ下りを防止し、搬送ローラ１５Ａ及
び１５Ｂに確実に導びき、搬送することができる
ので、後段搬送装置１５（基板１２の搬送経路）
におけるトラブルを防止することができる。特
に、本実施例の薄膜張付装置の搬送装置において
は、仮付動作を行うために、熱圧着ローラ１１が
符号１１′を付けた点線で示す位置から実線で示
す位置まで移動する空間が必要となり、熱圧着ロ
ーラ１１と搬送ローラ１５Ａとの間にかなりの空
間が形成されるので、基板ガイド部材１８は有効
である。

なお、本発明は、基板ガイド部材１８を網状構
造で構成してもよい。

また、本発明は、基板ガイド部材１８を板状構
造で構成してもよい。

次に、本実施例の薄膜張付装置による積層体１
Ｂの熱圧着ラミネート方法について、簡単に説明
する。

まず最初に、手作業により、剥離ローラ３で分
離された積層体１Ｂの供給方向の先端部を、サブ
バキユームプレート９と切断装置１０との間に配
置する。

次に、前段搬送装置１４の搬送ローラ１４Ａ及
び１４Ｂで搬送される基板１２の搬送方向の先端
部が仮付位置に搬送されると、サブバキユームプ
レート９で積層体１Ｂの先端部を吸着する。積層
体１Ｂの吸着後、駆動源９Ａで積層体１Ｂの供給
経路から離反する位置にサブバキユームプレート
９を移動させ、仮付部材６Ｄに積層体１Ｂの先端
部を吸着させる。この時、メインバキユームプレ
ート６及び仮付部材６Ｄの吸着動作が行われると
共に、薄膜矯正装置１６で積層体１Ｂを矯正でき
るので、仮付部材６Ｄに積層体１Ｂの先端部を確
実に吸着させることができる。なお、連続動作が
行われている時は、切断装置１０で切断された積
層体１Ｂの先端部が仮付部材６Ｄに吸着される。

この後、駆動源７Ａにより、メインバキユーム
プレート６を基板１２に近接する方向に移動させ
る。この移動により、仮付部材６Ｄに吸着された
積層体１Ｂの先端部が絶縁性基板１２の導電層上
に仮り付け（仮熱圧着）される。

積層体１Ｂの仮り付け後、メインバキユームプ
レート６及び仮付部材６Ｄの吸着動作を停止し、
駆動源７Ａにより、メインバキユームプレート６
及び仮付部材６Ｄを仮付位置から離反させる。こ
の駆動源７Ａは、前述したように、切断装置１０
を装置本体８に固定しているので、小型に構成或
は駆動能力を高めて高速動作できるように構成さ
れている。

この後、符号１１′を付けて点線で示す位置か
ら実線で示す仮付位置に熱圧着ローラ１１を近接
させる。そして、この熱圧着ローラ１１で積層体
１Ｂの先端部が仮り付けされた絶縁性基板１２を
挟持し回転することにより、絶縁性基板１２の導
電層上に積層体１Ｂを熱圧着ラミネートする。こ
の時、メインバキユームプレート６、仮付部材６
Ｄ、サブバキユームプレート９の夫々の吸着動作
は停止しているので、熱圧着ローラ１１には、そ
の回転力と、基板１２との挟持力とで、積層体１
Ｂが供給ローラ２から自動的に供給されるように
なつている。

積層体１Ｂが一定量熱圧着ラミネートされる
と、メインバキユームプレート６、回転バキユー
ムプレート１３の夫々の吸着動作が開始され、駆
動源７Ａにより、メインバキユームプレート６で
積層体１Ｂを基板１２に供給する。この供給速度
は、熱圧着ローラ１１による熱圧着ラミネート速
度（熱圧着ローラ１１の周速度）よりも速く設定
されている。

積層体１Ｂの供給後、メインバキユームプレー
ト６の吸着動作を停止させて、駆動源７Ａによ
り、メインバキユームプレート６を離反させる。
この離反動作とともに、サブバキユームプレート
９の吸着動作を開始すると共に、積層体１Ｂの供
給経路に近接させ、積層体１Ｂの後端部（切断部
分）を吸着保持する。この吸着により、サブバキ
ユームプレート９と回転バキユームプレート１３
との間にたるみを持たせた積層体１B′を形成す
ることができる。このたるみを持たせる積層体１
B′の供給方向の両端部は、薄膜矯正装置１７の
矯正により、サブバキユームプレート９の下部吸
着部９ｂ、回転バキユームプレート１３の夫々に
確実に吸着させることができる。

前記サブバキユームプレート９で積層体１Ｂの
後端部が吸着保持されると、切断装置１０によ
り、基板１２の寸法に対応した所定寸法に積層体
１Ｂの後端部が切断される。

この後、切断装置１０で切断された積層体１Ｂ
の後端部が回転バキユームプレート１３に吸着さ
れると、熱圧着ローラ１１の回転速度より若干遅
い速度で回転バキユームプレート１３が回転し、
熱圧着ローラ１１による薄膜張付部と薄膜の後端
との間の薄膜に適度のテンシヨンを与えるので、
積層体１Ｂにしわ等を生じることなく、絶縁性基
板１２の導電層上に積層体１Ｂの後端部を熱圧着
ラミネートすることができる。

積層体１Ｂが熱圧着ラミネートされた基板１２
は、熱圧着ローラ１１の回転力により、基板ガイ
ド部材１８を通して、トラブルを生じることな
く、後段搬送装置１５の搬送ローラ１５Ａ及び１
５Ｂに搬送される。後段搬送装置１５に搬送され
た基板１２は、露光装置に搬送される。

以上、本発明者によつてなされた発明を、前記
実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、
前記実施例に限定されるものではなく、その要旨
を逸脱しない範囲において、種々変形し得ること
は勿論である。

例えば、本発明は、前記サブバキユームプレー
ト９を、仮付部材６Ｄに積層体１Ｂの供給方向の
先端部を吸着させるサブバキユームプレートと、
前記切断装置１０のホルダとして使用されるサブ
バキユームプレートとで構成し、夫々を独立に制
御してもよい。

また、本発明は、前記実施例の基板１２を予熱
した後、この基板１２に積層体１Ｂを非加熱圧着
ローラで熱圧着ラミネートする薄膜張付装置に適
用することができる。

また、本発明は、建築材として使用される化粧
板に保護膜を張り付ける薄膜張付装置に適用する
ことができる。

(3) 発明の効果 本発明によれば、連続した薄膜の所定の寸法に
切断し、この切断された薄膜を基板に張り付ける
薄膜張付装置において、前記連続した薄膜を基板
に供給する薄膜供給部材と、該薄膜供給部材で供
給される供給方向の薄膜の先端部を基板に仮り付
けする仮付部材とを、基板に近接及び離反する支
持部材を介して装置本体に設け、該仮付部材で基
板に仮り付けされた薄膜を基板に張り付ける圧着
ローラを、前記装置本体の所定部に設け、該圧着
ローラで基板に薄膜を張り付け開始後に、前記圧
着ローラの薄膜張付速度よりも前記薄膜供給部材
の薄膜供給速度を速くし、薄膜の後端部にたるみ
を持たせる薄膜たるみ形成手段を設け、該薄膜た
るみ形成手段で形成された薄膜のたるみ部分を前
記圧着ローラに密着させる方向に薄膜を突出させ
る薄膜突出装置を、前記仮付部材の移動経路の近
傍の装置本体又は前記支持部材に設けたことによ
り、前記薄膜突出装置でたるみを持たせた薄膜を
圧着ローラの回転吸着部材に確実に吸着させ、し
わ等を生じることなく基板に薄膜を張り付けるこ
とができるので、張付不良を防止することができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例である薄膜張付装
置の概略構成図、第２図は、前記第１図の要部拡
大構成図、第３図は、前記第１図に示すメインバ
キユームプレートの部分断面斜視図、第４図は、
前記第２図における矢印方向から見た概略平面
図、第５図は、前記第４図の−線で切つた要
部断面図、第６図は、前記第１図及び第２図に示
す熱圧着ローラ及び基板ガイド部材の要部斜視
図、第７図は、前記第１図及び第２図に示す薄膜
矯正装置及び薄膜突出装置の要部斜視図である。 図中、１Ｂ……積層体（薄膜）、２……供給ロ
ーラ、６……メインバキユームプレート（薄膜供
給部材）、６Ｄ……仮付部材、７……支持部材、
７Ａ，９Ａ……駆動源、８……装置本体、９……
サブバキユームプレート、１０……切断装置、１
０Ａ……ガイド部材、１０Ｂ……移動部材、１０
Ｃ……円板状カツター、１１……熱圧着ローラ、
１２……絶縁性基板、１３……回転バキユームプ
レート（回転吸着部材）、１４，１５……搬送装
置、１４Ａ，１４Ｂ，１５Ａ，１５Ｂ……搬送ロ
ーラ、１６……薄膜矯正装置、１７……薄膜突出
装置、１８……基板ガイド部材である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 連続した薄膜を所定の寸法に切断し、この切
   断された薄膜を基板に張り付ける薄膜の張付装置
   において、前記連続した薄膜を基板に供給する薄
   膜供給部材と、該薄膜供給部材で供給される供給
   方向の薄膜の先端部を基板に仮り付けする仮付部
   材とを、基板に近接及び離反する支持部材を介し
   て装置本体に設け、該仮付部材で基板に仮り付け
   された薄膜を基板に張り付ける圧着ローラを、前
   記装置本体の所定部に設け、該圧着ローラで基板
   に薄膜を張り付け開始後に、前記圧着ローラの薄
   膜張付速度よりも前記薄膜供給部材の薄膜供給速
   度を速くし、薄膜の後端部にたるみを持たせる薄
   膜たるみ形成手段を設け、該薄膜たるみ形成手段
   で形成された薄膜のたるみ部分を前記圧着ローラ
   に密着させる方向に薄膜を突出させる薄膜突出装
   置を、前記仮付部材の移動経路の近傍の装置本体
   又は前記支持部材に設けたことを特徴とする薄膜
   の張付装置。 ２ 前記薄膜供給部材は、薄膜を吸着する吸着孔
   が複数設けられており、前記仮付部材は、前記薄
   膜供給部材と一体に構成され、かつ円弧状に構成
   されていることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項に記載の薄膜の張付装置。 ３ 前記圧着ローラには、その回転速度よりも若
   干遅い速度で回転し、かつ薄膜の後端部を吸着す
   る回転吸着部材が設けられており、前記薄膜突出
   装置は、前記薄膜供給部材と回転吸着部との間の
   薄膜に流体を吹き付けるように構成されているこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の薄
   膜の張付装置。 ４ 前記薄膜突出装置は、前記連続した薄膜の供
   給方向に対して略直角をなす幅方向に延在して設
   けられた流体搬送管と、該流体搬送管に複数設け
   られた、薄膜を突出させる方向に流体を吹き付け
   る流体吹付孔で構成されていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項に記載の薄膜の張付装置。 ５ 前記薄膜突出装置は、前記連続した薄膜の供
   給方向に対して略直角をなす幅方向に複数設けら
   れた、薄膜を突出させる方向に流体を吹き付ける
   流体吹付ノズルで構成されていることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項に記載の薄膜の張付装
   置。 ６ 前記薄膜突出装置は、前記連続した薄膜の供
   給方向に対して略直角をなす幅方向に延在して設
   けられた吸引管と、該吸引管に複数設けられた、
   薄膜を突出させる方向に吸引する吸引孔とで構成
   されていることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項に記載の薄膜の張付装置。 ７ 前記薄膜突出装置は、薄膜を突出させる突状
   部材で構成されていることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項に記載の薄膜の張付装置。