JPS62259835A

JPS62259835A - 薄膜の張付装置

Info

Publication number: JPS62259835A
Application number: JP61104393A
Authority: JP
Inventors: Shigeo Sumi; 住　成夫; Fumio Hamamura; 濱村　文雄; Kazuo Fukuda; 一夫福田
Original assignee: Somar Corp
Current assignee: Somar Corp
Priority date: 1986-05-07
Filing date: 1986-05-07
Publication date: 1987-11-12
Also published as: JPH0422425B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（１）発明の目的〔産業上の利用分野〕本発明は、薄膜の張付技術に関し、特に、連続した薄膜
を所定の寸法に切断して基板に張り付ける薄膜張付装置
に適用して有効な技術に関するものである。

〔従来技術〕

コンピュータ等の電子機器に使用されるプリント配線板
は、銅等の所定パターンの配線が絶縁性基板の片面又は
両面に形成されたものである。

この種のプリント配線板は、次の製造工程により製造す
ることができる。

まず、絶縁性基板上に設けられた導電層上に、感光性樹
脂（フォトレジスト）層とそれを保護する透光性樹脂フ
ィルム（保護膜）とからなる積層体を熱圧着ラミネート
する。この熱圧着ラミネートは、薄膜張付装置所謂ラミ
ネータにより量産的に行われる。この後、前記積層体に
配線パターンフィルムを重ね、この配線パターンフィル
ム及び透光性樹脂フィルムを通して、感光性樹脂層を所
定時間露光する。そして、透光性樹脂フィルムを剥離装
置で剥離した後、露光された感光性樹脂層を現像してエ
ツチングマスクパターンを形成する。この後、前記導電
層の不必要部分をエツチングによす除去し、さらに残存
する感光性樹脂層を除去し、所定の配線パターンを有す
るプリント配線板を形成する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

前述のプリント配線板の製造工程においては、絶縁性基
板の導電層上に、薄膜張付装置で自動的に積層体を熱圧
着ラミネートする工程が必要とされている。この熱圧着
ラミネート工程の概要は次のとおりである。

まず、薄膜張付装置の供給ローラに連続的に巻回されて
いるｆｆ１層体を、メインバキュームプレートで基板に
供給する。メインバキュームプレートは、積層体供給面
に複数の吸着孔が設けられており、この吸着孔に積層体
を吸着し供給するように構成されている。基板に供給さ
れる積層体の先端部は、メインバキュームプレートの先
端部に設けられた円孤形状の仮付部に吸着され、この仮
付部で絶縁性基板の導電層上に仮り付け（偏熱圧着）さ
れる。仮付部への積層体の吸着は、サブバキュームプレ
ートにより行われる。

次に、先端部が仮り付けされた積層体は、熱圧着ローラ
で基板に熱圧着ラミネートされる。積層体が一定量熱圧
着ラミネートされると、メインバキュームプレートは、
熱圧着ラミネート速度よりも速い速度で積層体を供給し
、積層体の後端部にたるみを持たせる。この積層体のた
るみは、サブバキュームプレートと、熱圧着ローラと同
一回転軸で回転する回転バキュームプレートとの間に。

それらの吸着動作により形成される。積層体の後端部に
たるみを持たせるのは、積層体の熱圧着ラミネートを行
いながら、切断される部分の積層体を実質的に静止状態
にするためである。

この後、切断装置により基板に対応した所定寸法（基板
長と同等乃至若干短めの寸法）に積層体が切断され、回
転バキュームプレートのガイドにより、熱圧着ローラで
積層体の後端部が熱圧着ラミネートされる。

しかしながら、この種の薄膜張付装置では、前記積層体
にたるみを形成する工程において、回転バキュームプレ
ートから剥離する方向（熱圧着口−ラに密着する方向と
反対の方向）にたるみが形成される場合が生じ１回転バ
キュームプレートによるガイドができないため、しわ等
の熱圧着ラミネート不良が生じるという問題があった。

本発明で解決しようとする前記ならびにその他の問題点
と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって
明らかになるであろう。

（２）発明の構成〔問題点を解決するための手段〕本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば１次のとおりである。

本発明は、連続した薄膜を所定の寸法に切断し。

この切断された薄膜を基板に張り付ける薄膜張付装置に
おいて、前記連続した薄膜を基板に供給する薄膜供給部
材と、該薄膜供給部材で供給される供給方向の薄膜の先
端部を基板に仮り付けする仮付部材とを、基板に近接及
び離反する支持部材を介して装置本体に設け、該仮付部
材で基板に仮り付けされた薄膜を基板に張り付ける圧着
ローラを。

前記装置本体の所定部に設け、該圧着ローうで基板に薄
膜を張り付け開始後に、前記圧着ローラの薄膜張付速度
よりも前記薄膜供給部材の薄膜供給速度を速くし、薄膜
の後端部にたるみを持たせる薄膜たるみ形成手段を設け
、該薄膜たるみ形成手段で形成された薄膜のたるみ部分
を前記圧着ローラに密着させる方向に薄膜を突出させる
薄膜突出装置を、前記仮付部材の移動経路の近傍の装置
本体又は前記支持部材に設けたことを特徴としたもので
ある。

〔作用〕

上述した手段によれば、前記薄膜突出装置により、たる
みを持たせた薄膜を圧着ローラの回転吸着部材に確実に
吸着させ、しわ等を生じることなく基板に薄膜を張り付
けることができるので、張付不良を防止することができ
る。

〔発明の実施例〕

以下、プリント配線用基板に感光性樹脂層と透光性樹脂
フィルムとからなる積層体を熱圧着ラミネートする薄膜
張付装置に適用した本発明の一実施例について１図面を
用いて具体的に説明する。

なお、実施例を説明するための企図において、同一機能
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。

本発明の一実施例である薄膜張付装置を第１図（概略構
成図）及び第２図（第１図の要部拡大構成図）で示す。

第１図及び第２図に示すように、透光性樹脂フィルム、
感光性樹脂層及び透光性樹脂フィルムの３層構造からな
る積層体１は、供給ローラ２に連続的に巻回されている
。供給ローラ２の積層体１は、剥難ローラ３で、透光性
樹脂フィルム（保護膜）ＩＡと、−面（接着面）が露出
された感光性樹脂層及び透光性樹脂フィルムからなる積
層体ＩＢとに分着される。分離された透光性樹脂フィル
ムＩＡは１巻取ローラ４により巻き取られるように構成
されている。

前記分離された積層体ＩＢの供給方向の先端部は、テン
ションローラ５を通してメインバキュームプレート６に
吸着されるように構成されている。

テンションローラ５は、供給ローラ２とメインバキュー
ムプレート６との間の積層体ＩＢに適度なテンションを
与えるように構成されている。つまり、テンションロー
ラ５は、積層体ＩＢにしわ等を生じないように構成され
ている。

メインバキュームプレート（簿膜供給部材）６は。

積層体ＩＢを供給ローラ２から絶縁性基板１２の導Ｗｉ
層上に供給するように構成されている。メインバキュー
ムプレート６は、絶縁性基板１２に近接しかつ離反する
（矢印へ方向に移動する）支持部材７を介して、装置本
体（簿１漠張付装置の筐体）８に支持されている。支持
部材７は、メインバキュームプレート６を移動させる、
例えばエアーシリンダからなる駆動源７Ａと、ｌψ動源
７Ａを装置本体８に支持する支持部７Ｂとで構成されて
いる。

駆動源７Ａは、エアーシリンダに限定されず、例えば、
油圧シリンダ又は電ＨＪ１シリンダ、或はステップモー
タ及びその変位をメインバキュームプレート６に伝達す
る伝達機構等で構成することができる。

メインバキュームプレート６には、第３図（部分断面斜
視図）で示すように、積層体ＩＢの供給方向と略直交す
る供給幅方向に延在する溝部６Ａが搬送方向に複数設け
られている。溝部６Ａの長さくｆｉ！！層体Ｉ春体供給
幅方向の長さ）は、供給幅方向の積層体ＩＢの寸法と略
同−の寸法で構成され、溝部６Ａを積層体ＩＢが覆うよ
うに構成されている。溝部６Ａの底部には、積層体ＩＢ
を吸着させるための吸着孔６Ｂが複数設けられている。

図示していないが、吸着孔６Ｂは、排気管を介して、真
空ポンプ等の真空源に接続されている。溝部６Ａの端部
６Ｃは、メインバキュームプレート６の端部から中央部
に掘り下げたテーパ形状に構成されている。この端部６
Ｇ（テーパ部）には、メインバキュームプレート６に吸
着される積層体ＩＢの端部が位置するようになっている
。

このテーパ形状に構成された端部６Ｃは、溝部６Ａと積
層体ＩＢとの吸着面積を最大限に確保して吸着効果を高
めると共に、積層体ＩＢの吸着時に、溝部６Ａと積層体
ＩＢとの吸着位置にずれが若干生じても、溝部６Ａに比
べて浅いので、積層体ＩＢの端部と端部６Ｃとの吸着性
を良好にし、溝部６Ａと積層体ＩＢとの吸着効果をさら
に良好にすることができる。

積層体ＩＢの供給方向におけるメインバキュームプレー
ト６の先端部には、積層体ＩＢの吸着面が円孤形状に形
成された仮付部材６Ｄが設けられている。仮付部材６Ｄ
は、メインバキュームプレート６と一体に構成されてい
る。仮付部材６Ｄの内部には、第１図及び第２図で示す
ように、円孤形状部分を加熱するヒータ６Ｅが設けられ
ている。

仮付部材６Ｄは、メインバキュームプレート６で供給さ
れる積層体ＩＢの先端部を、基板１２に仮り付け（偏熱
圧着）するように構成されている。

なお１本発明は、メインバキュームプレート６と仮付部
材６Ｄとを、夫々、別部材で構成し、両者を支持部材７
を介して装置本体８に設けてもよい。

前記仮付部材６Ｄに近接した位置、つまり、仮付部材６
Ｄと基板１２との間の積層体ＩＢの供給経路の近傍の装
置本体８には、サブバキュームプレート９が設けられて
いる。サブバキュームプレート９は、吸引孔を図示して
いないが、上部吸着部９ａと下部吸着部９ｂとでコの字
形状に構成されている。サブバキュームプレート９の上
部吸着部９ａは、主に、供給方向の積層体ＩＢの先端部
を吸着し、仮付部材６Ｄに吸着（保持）させるように構
成されている。サブバキュームプレート９は、積層体Ｉ
Ｂの先端部を仮付部材６Ｄに吸９着可能なように、積層
体ＩＢの供給経路に対して近接及び離反（矢印Ｂ方向に
移動）する例えばエアーシリンダからなる駆動源９Ａを
介して、装置本体８に固着されている。

また、サブバキュームプレート９の下部吸着部９ｂは、
連続した積層体ＩＢを切断装置１０で切断し、この切断
された積層体ＩＢの後端部を吸着するように構成されて
いる。下部吸着部９ｂは、熱圧着ラミート開始後、回転
バキュームプレート１３との間において、積層体ＩＢに
たるみを形成する（たるみを持たせた積層体ＩＢ’　を
形成する）ように構成されている。このたるみを持たせ
た積層体ＩＢ’は、メインバキュームプレート６の積層
体ＩＢの供給速度に対して、熱圧着ローラ１１の周速度
（熱圧着ラミネート速度）を遅く制御することにより形
成することができる。例えば、熱圧着ローラ１１の周速
度を一定とした場合には、メインバキュームプレー６で
ｖｉ層春体Ｂを供給する速度を前記周速度よりも速く設
定する。両者の制御は、図示していないが、シーケンス
制御回路により行われるようになっている。

なお、サブバキュームプレート９の駆動源９Ａとしては
、エアーシリンダの他に、前記駆動源７Ａと同様に、油
圧シリンダ等で構成することができる。

前記仮付部材６Ｄと基板１２との間の積層体ＩＢの供給
経路の近傍の装置本体８（又は前段搬送装置１４）には
、切断装置１０が設けられている。

詳述すれば、切断装置１０は、積層体ＩＢを介在してサ
ブバキュームプレート９に対向した位置に構成されてい
る。切断装置１０は、メインバキュ−ムプレート６で連
続的に供給される積層体ＩＢを基板工２の寸法に対□応
して所定長になるように切断するように構成されている
。

この切断装置１０の具体的な構成を第４図（第２図の矢
印■方向から見た概略平面図）及び第５図（第４図の■
−■線で切った断面図）で示す。

切断装置１０は、第４図及び第５図に示すように、主に
、ガイド部材１０Ａと、移動部材１０Ｂと１円板状カッ
ター１０Ｃとで構成されている。

ガイド部材１０Ａは、積層体ＩＢの供給幅方向に延在し
、その両端部（又は一端部）が装置本体８に固定されて
いる。この固定は、ねじ、ボルト。

ナツト、ビス、接着剤等の固定手段で行なわれる。

ガイド部材１０Ａには、積層体ＩＢの供給幅方向（第４
図に示す矢印Ｃ方向）において、移動部材１０Ｂを正確
に移動できるように、移動部材１０Ｂの凸部（又は凹部
）１０ａと嵌合する凹部（又は凸部）１０ｂが設けられ
ている。

移動部材１０Ｂは、ガイド部材１０Ａに沿って（積層体
ＩＢの供給幅方向に）移動するように構成されている。

移動部材１０Ｂは、ガイド部材１０Ａに沿って延在しか
つ両端部が装置本体８に支持された中空管１０Ｄ内を、
矢印Ｃ′力方向移動する中空管内移動部材１０Ｅと接続
されている。中空管内移動部材１０Ｅの移動は、中空管
１０Ｄの夫々の端部がら空気（ａｉｒ）等の流体を吹き
込む（又は吸引する）ことにより行われる。つまり、中
空管内移動部材１０Ｅは、第４図において、中空管１０
Ｄの左側から流体を吹き込むと左側から右側に移動し、
中空管１０Ｄの右側から流体を吹き込むと右側から左側
に移動するように構成されている。中空管内移動部材１
０Ｅは、移動部材１０Ｂを移動させるように構成されて
いる。中空管１０Ｄ内に吹き込む流体としては空気を用
いる。また、流体としては、不活性ガス等の気体、水、
油等の液体を用いてもよい。また、移動部材１０Ｂは、
エアーシリンダ、油圧シリンダ、モータ等で移動するよ
うに構成してもよい。

円板状カッター１０Ｃは、移動部材１０Ｂの移動に従っ
て回転し、少なくともその円周部に積層体ＩＢを切断す
る刃部が設けられている。円板状カッター１０Ｃの回転
は、回転軸１０Ｆに設けられた歯車（ピニオン）１０Ｇ
を介在し、回転軸１０Ｈに設けられた歯車１０Ｉとラッ
クＩＯＪとの嵌合により与えられる。ラックＩＯＪは１
両端部（又は一端部）が装置本体８に固定されている。

ラックＩＯＪと歯車１０１との嵌合は、移動部材１０Ｂ
に設けられた保持ローラＩＯＬにより安定に保持される
。

円板状カッター１００は例えば高速度工具鋼等の金属材
料で構成されており、少なくとも刃部の表面にはポリテ
トラフルオロエチレンが塗布されている。ポリテトラフ
ルオロエチレンは、化学薬品に対する不活性、熱的安定
性に優れており、摩擦係数が小さく、又、他の材料へ付
着しずらい特徴がある。特に、薄膜張付装置においては
、積層体ＩＢの切断により生じる微小で種々の化学薬品
を含有する切り屑が刃部に付着し１円板状カッター１０
Ｃの切れ味じを劣化し易いので、ポリテトラフルオロエ
チレンの塗布は有効である。

円板状カッター１０Ｃの近傍の移動部材１０Ｂには、主
に、作業者の安全を確保するために、円板状カッター１
０Ｃを覆う保護カバー１０Ｋが設けられている。

この切断装置工０は、移動部材１０Ｂがガイド部材１０
Ａを一方向に移動することにより、この移動で与えられ
る円板状カッター１０Ｃの回転で、絶縁性基板１２の長
さに対応した寸法に積層体ＩＢを切断することができる
。また、円板状カッターｔＯＣは、一方向の移動により
積層体ＩＢを切断することができるので、積層体ＩＢの
切断時間を短縮することができる。

このように構成される薄膜張付装置において、メインバ
キュームプレート６と仮付部材６Ｄとを、基板１２に近
接及び雅反する支持部材７を介して装置本体８に設け、
積層体ＩＢを切断する切断装置１０を、前記仮付部材６
Ｄと基板１２との間の積層体ＩＢの供給経路の近傍の装
置本体８に固定したことにより、前記支持部材７で支持
する部材の重量を軽くしたので、駆動能力（容量）の小
さな駆動ｇ７Ａで支持部材７を駆動することができる。

また、支持部材７に支持される部品点数を低減すること
ができるので、支持部材７及びその周辺の構成を簡単化
し、薄膜張付装置を小型化することができる。

また、駆動源７Ａ等を小型化することができるので、薄
膜張付装置の製造上のコストを低減することができる。

なお、サブバキュームプレート９は、本実施例において
装置本体８に支持されているが、切断袋Ｖ１１０に比べ
て非常に軽いので、メインバキュームプレート６と共に
支持部材７に設けてもよい。

また、切断装置１０は、円板状カッター１００を移動さ
せる構成に代えて、超音波、レーザビーム等を使用した
ビームカッタとか、積層体ＩＢの供給幅方向に、積層体
ＩＢの供給幅寸法と略同等又はそれよりも大きな寸法の
刃部を有するカッター、例えばギロチンカッター、帯状
カッター、加熱もしくは非加熱ワイヤー状カッター、ナ
イフ状カッター等で構成してもよい。この切断装置１０
は、一度に積層体ＩＢを切断することができる。

前記メインバキュームプレート６の仮付部材６Ｄで絶縁
性基板１２の導電層上に先端部が仮り付け（偏熱圧着）
される積層体ＩＢは、熱圧着ローラ１１でその全体が熱
圧着ラミネートされるように構成されている。熱圧着ロ
ーラ１１は、積層体ＩＢの先端部を仮付部材６Ｄで仮り
付けする仮付動作時は、第１図に符号１１′を符した点
線で示す位置に配置されかつ回転している。熱圧着ロー
ラ１１は、仮付動作時に、仮付部材６Ｄと接触しないよ
うに構成されている。仮付動作後の熱圧着ローラエ１は
、符号１１′を示す点線で示した位置から実線で示す位
置、つまり、積層体ＩＢを介在して基板１２を挟持する
位置に移動するように構成されている。積層体ＩＢを介
在して基板１２を挟持した熱圧着ローラ１１は、第２図
に示す矢印り方向に回転し、積層体ＩＢを絶縁性基板１
２の導電層上に熱圧着ラミネートすると共に、この基板
１２を搬送するように構成されている。熱圧着ラミネー
ト工程中においては、メインバキュームプレート６及び
サブバキュームプレート９の積層体ＩＢの吸着動作は停
止している。すなわち、熱圧着ローラ１１には、その回
転力と、基板１２との挟持力とで、　ｆ？Ｆ層体春体が
供給ローラ２から自動的に供給されるように構成されて
いる。

前記切断装置１０で切断された積層体ＩＢの後端部は、
三角形状の回転バキュームプレート１３でしわ等を生じ
ないようにガイドされ、熱圧着ローラ１１で熱圧着ラミ
ネートされるように構成されている０回転バキュームプ
レート１３は、第６図（要部斜視図）で示すように、熱
圧着ローラ１１と同一軸に支持されかつそれを中心に回
転するように構成されており、積層体ＩＢと対向する吸
着面には、複数の吸引孔１３Ａが設けられている。

前記吸着孔１３Ａが配設された吸着面の構造は、第３図
に示すメインバキュームプレート６の吸着面と同様の構
造になっている。図示しないが、回転バキュームプレー
ト１３の上面にも吸引孔を設けてもよく、このように構
成することにより、たるみＩＢ’　を第２図に示すよう
な状態とすることができる。

前記基板１２は、搬送ローラ（下段）１４Ａと搬送ロー
ラ（上段）１４Ｂとで構成される前段搬送装置１４によ
り、薄膜張付装置の積層体ＩＢの仮付位置まで搬送され
る。

また、搬送ローラ（下段）１５Ａと搬送ローラ（上段）
１５Ｂとで構成される後段搬送装置１５は、薄膜張付装
置の熱圧着ローラ１１で積層体ｌＢが熱圧着ラミネート
された基板１２を配線パターンを形成する露光装置まで
搬送するように構成されている。

前記メインバキュームプレート６の仮付部材６Ｄの移動
経路（薄膜供給経路）近傍の装置本体８（又は前段搬送
装置１４、或は支持部材７）には、薄膜矯正装置１６が
設けられている。屡膜矯正装置１６は、仮付部材６Ｄに
密着させる方向に積層体ＩＢの供給方向の先端部を矯正
するように構成されている。薄ぬ矯正装置１６の具体的
な構成は、第２図及び第７図（要部斜視図）で示すよう
に、積棒体ＩＢの供給幅方向に延在して設けられた流体
搬送管１６Ａと、この流体搬送管１６Ａに複数設けられ
た流体吹付孔１６Ｂとで構成されている。

流体搬送管１６Ａは、内部が中空に構成されており、常
圧よりも高圧力の流体を流すように構成されている。流
体搬送管１６Ａの断面形状は、本実施例では略円形状に
構成されているが、これに限定されず、方形状又は楕円
形状に構成してもよい。

流体吹付孔１６Ｂは、積層体ＩＢを矯正する方向（第２
図及び第７図に示す矢印Ｅ方向）に流体を吹き付けるよ
うに設けられている。

薄膜矯正装置１６で使用する流体としては、空気を使用
する。また、流体としては、不活性ガス等の気体、水、
油等の液体を用いてもよい。

このように、薄膜張付装置において、仮付部材６Ｄに密
着させる方向に供給方向の積層体ＩＢの先端部を矯正す
る薄膜矯正装置１６を、前記仮付部材６Ｄの移動経路の
近傍の装置本体８（又は支持部材７或は前段搬送装＠１
４）に設けたことにより、積層体ＩＢの先端部を確実に
仮付部材６Ｄに密着させることができるので、絶縁性基
板１２の導電層」二に確実に積層体ＩＢの先端部を仮り
付け（偏熱圧着）することができる。

さらに、サブバキュームプレート９の下部吸着部９ｂと
回転バキュームプレート１３との間に供給される積層体
ＩＢ（ＩＢ″）に近接した装置本体８（又は前段搬送装
置１４．或は支持部材７）には。

薄膜突出装置１７が設けられている。つまり、薄膜突出
装置１７は、熱圧着ローラ１１に密着させる方向に前記
たるみを持たせた積層体ＩＢ″を突出させるように構成
されている。薄膜突出装置１７の具体的な構成は、第２
図及び第７図で示すように、積層体ＩＢの供給幅方向に
延在して設けられた流体搬送管１７Ａと、この流体搬送
管１７Ａに複数設けられた流体吹付孔１７Ｂとで構成さ
れている。

流体搬送管１７Ａは、内部が中空に構成されており、常
圧よりも高圧力の流体を流すように構成されている。流
体搬送管１７Ａの断面形状は、本実施例では略円形状に
構成されているが、流体搬送管１６Ａと同様に、これに
限定されず、方形状又は楕円形状に構成してもよい。

流体吹付孔１７Ｂは、積層体ＩＢ’の前記たるみを前述
のように突出させる方向（第２図及び第７図に示す矢印
Ｆ方向）に流体を吹き付けるように設けられている。

薄膜突出装置１７で使用する流体としては、薄膜矯正装
［１６と同様に、空気を使用する。また、流体としては
、不活性ガス等の気体、水、油等の液体を用いてもよい
。

このように、薄膜張付装置において、熱圧着ローラ１１
に密着させる方向に前記たるみを持たせた積層体ＩＢ’
　を矯正する薄膜突出装置１７を、積層体ＩＢ’の近傍
の装置本体８（又は支持部材７或は前段搬送装置１４）
に設けたことにより。

積層体ＩＢ’　を確実に熱圧着ローラ１１に密着させる
方向にたるみを持たせることができるので。

特に、回転バキュームプレート１３に積層体ＩＢの後端
部を確実に吸着させることができる。従って、しわ等を
生じることなく、絶縁性基板１２の導電層上に確実に積
層体ＩＢの後端部を熱圧着ラミネー１−することができ
る。

なお１本発明は、薄膜矯正装置１６又は薄膜突出装置１
７を、積層体ＩＢの供給幅方向に複数Ｊジけられた。積
層体ＩＢを前述の如く適正な方向に矯正又は突出させる
ように流体を吹き付ける流体吹付ノズルで構成してもよ
い。

また２本発明は、薄１漠嬌正装置１６又は薄膜突出装置
１７を、積層体ＩＢの供給幅方向に延在して設けられた
吸引管と、この吸引管に複数設けられた。積層体ＩＢを
前述の如く適正な方向に矯正又は突出させる方向に吸引
する吸引孔とで構成してもよい。

また、本発明は、薄膜矯正′ＪＡ置１６又は茸成突出装
置１７を、積層体ＩＢを前述の如く適正な方向に矯正又
は突出させる実状部材で構成してもよい。

また、本発明は、薄膜矯正装置１６を薄膜突出装置１７
で、若しくは薄膜突出装置１７を薄膜橋正装置１６で兼
用することも可能である。

前記熱圧着ローラ１１と後段搬送装置１５の搬送ローラ
１５Ａとの間の装置本体８（又は後段搬送装置１５）に
は、基板ガイド部材１８が設けられている。基板ガイド
部材１８は、積層体ＩＢが熱圧着ラミネートされた基板
１２を、熱圧着ネミネート位置から搬送ローラ１５Ａ及
び１５Ｂの位置までガイドするように構成されている。

基板ガイド部材１８は、特に、第６図で示すように、基
板１２の搬送方向に延在する棒状部をその搬送幅方向に
複数配置したクシ型形状に構成したものである。クシ型
形状に構成された基板ガイド部材１８は、基板１２の搬
送に際して、基板１２との接触面積を小さくし摩擦抵抗
を小さくできるので、スムーズに基板１２をガイドする
ことができる。

このように、前記熱圧着ローラ１１と後段搬送装置１５
の搬送ローラ１５Ａとの間に基板ガイド部材１８を設け
ることにより、特に、薄い基板１２においては、熱圧着
ラミネート後の搬送方向の先端部の垂れ下りを防止し、
搬送ローラ１５Ａ及び１５Ｂに確実に導びき、搬送する
ことができるので、後段搬送装置１５（基板１２の搬送
経路）におけるトラブルを防止することができる。特に
、本実施例の薄膜張付装置の搬送装置においては。

仮付動作を行うために、熱圧着ローラ１１が符号１１′
を付けた点線で示す位置から実線で示す位置まで移動す
る空間が必要となり、熱圧着ローラ１１と搬送ローラ１
５Ａとの間にかなりの空間が形成されるので、基板ガイ
ド部材１８は有効である。

なお１本発明は、基板ガイド部材１８を網状構造で構成
してもよい。

また、本発明は、基板ガイド部材１８を板状構造で構成
してもよい。

次に、本実施例の薄膜張付装置による積層体ＩＢの熱圧
着ラミネート方法について、簡単に説明する。

まず最初に、手作業により、剥離ローラ３で分離された
積層体ＩＢの供給方向の先端部を、サブバキュームプレ
ート９と切断装置１０との間に配置する。

次に、前段搬送装置１４の搬送ローラ１４Ａ及び１４Ｂ
で搬送される基板１２の搬送方向の先端部が仮付位置に
搬送されると、サブバキュームプレート９で積層体ＩＢ
の先端部を吸着する。積層体ＩＢの吸着後、駆動源９Ａ
で積層体ＩＢの供給経路から踵皮する位置にサブバキュ
ームプレート９を移動させ、仮付部材６Ｄに積層体ＩＢ
の先端部を吸着させる。この時、メインバキュームプレ
ート６及び仮付部材６Ｄの吸着動作が行われると共に、
薄膜矯正装置１６で積層体ＩＢを矯正できるので、仮付
部材６Ｄに積層体ＩＢの先端部を確実に吸着させること
ができる。なお、連続動作が行われている時は、切断装
置１０で切断された積層体ＩＢの先端部が仮付部材６Ｄ
に吸着される。

この後、駆動源７Ａにより、メインバキュームプレート
６を基板１２に近接する方向に移動させる。この移動に
より、仮付部材６Ｄに吸着された積層体ＩＢの先端部が
絶縁性基板１２の導電層上に仮り付け（偏熱圧若）され
る。

積層体ＩＢの仮り付け後、メインバキュームプレート６
及び仮付部材６Ｄの吸着動作を停止し。

駆動源７Ａにより、メインバキュームプレート６及び仮
付部材６Ｄを仮付位置から離反させる。この駆動源７Ａ
は、前述したように、切断装置１０を装置本体８に固定
しているので、小型に構成或は駆動能力を高めて高速動
作できるように構成されている。

この後、符号１１′を付けて点線で示す位置から実線で
示す仮付位置に熱圧着ローラ１１を近接させる。そして
、この熱圧着ローラ１１で積層体ＩＢの先端部が仮り付
けされた絶縁性基板１２を挟持し回転することにより、
絶縁性基板１２の導電層−ヒに積層体ＩＢを熱圧着ラミ
ネートする。この時、メインバキュームプレート６、仮
付部材６Ｄ、サブバキュームプレート９の夫々の吸着動
作は停止しているので、熱圧着ローラ１１には、その回
転力と、基板１２との挟持力とで、積層体ＩＢが供給ロ
ーラ２から自動的に供給されるようになっている。

積層体ＩＢが一定量熱圧着ラミネートされると、メイン
バキュームプレート６、回転バキュームプレート１３の
夫々の吸着動作が開始され、駆動源７Ａにより、メイン
バキュームプレート６で積層体ＩＢを基板１２に供給す
る。この供給速度は。

熱圧着ローラ１１による熱圧着ラミネート速度（熱圧着
ローラ１１の周速度）よりも速く設定されている。

積層体ＩＢの供給後、メインバキュームプレート６の吸
着動作を停止させて、駆動源７Ａにより、メインバキュ
ームプレート６を離反させる。この踵皮動作とともに、
サブバキュームプレート９の吸着動作を開始すると共に
、積層体ＩＢの供給経路に近接させ、積層体ＩＢの後端
部（切断部分）を吸着保持する。この吸着により、サブ
バキュームプレート９と回転バキュームプレート１３と
の間にたるみを持たせた積層体ＩＢ’　を形成すること
ができろ。このたるみを持たせた積層体ＩＢ’の供給方
向の両端部は、薄膜矯正装置１７の矯正により、サブバ
キュームプレート９の下部吸着部９ｂ、回転バキューム
プレート１３の夫々に確実に吸着させることができる。

前記サブバキュームプレート９で積層体ＩＢの後端部が
吸着保持されると、切断装置１０により。

基板１２の寸法に対応した所定寸法に積層体ＩＢの後端
部が切断される。

この後、切断装置１０で切断された積層体ＩＢの後端部
が回転バキュームプレート１３に吸着されると、熱圧着
ローラ１１の回転速度より若干遅い速度で回転バキュー
ムプレート１３が回転し。

熱圧着ローラ１１による薄膜張付部と薄膜の後端との間
の薄膜に適度のテンションを与えるので、積層体ＩＢに
しわ等を生じることなく、絶縁性基板１２の導電層上に
積層体ＩＢの後端部を熱圧着ラミネートすることができ
る。

積層体ＩＢが熱圧着ラミネートされた基板１２は、熱圧
着ローラ１１の回転力により、基板ガイド部材１８を通
して、トラブルを生じることなく、後段搬送装置１５の
搬送ローラ１５Ａ及び１５Ｂに搬送される。後段搬送装
置１５に搬送された基板１２は、露光装置に搬送される
。

以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に
基づき具体的に説明したが、本発明は。

前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱
しない範囲において、種々変形し得ることは勿論である
。

例えば、本発明は、前記サブバキュームプレート９を、
仮付部材６Ｄに積層体ＩＢの供給方向の先端部を吸着さ
せるサブバキュームプレートと。

前記切断装置１０のホルダとして使用されるサブバキュ
ームプレートとで構成し、夫々を独立に制御してもよい
。

また、本発明は、前記実施例の基板１２を予熱した後、
この４山板１２に積層体ＩＢを非加熱圧着ローラで熱圧
着ラミネートする薄膜張付装置に適用することができる
。

また、本発明は、建築材として使用される化粧板に保護
膜を張り付ける薄膜張付装置に適用することができる。

（３）発明の効果本発明によれば、連続した薄膜を所定の寸法に切断し、
この切断された薄膜を基板に張り付ける薄膜張付装置に
おいて、前記連続した薄膜を基板に供給する薄膜供給部
材と、該薄膜供給部材で供給される供給方向の薄膜の先
端部を基板に仮り付けする仮付部材とを、基板に近接及
び離反する支持部材を介して装置本体に設け、該仮付部
材で基板に仮り付けされた薄膜を基板に張り付ける圧着
ローラを、前記装置本体の所定部に設け、該圧着ローラ
で基板に薄膜を張り付け開始後に、前記圧着ローラの薄
膜張付速度よりも前記薄膜供給部材の薄膜供給速度を速
くし、薄膜の後端部にたるみを持たせる薄膜たるみ形成
手段を設け、該薄膜たるみ形成手段で形成された薄膜の
たるみ部分を前記圧着ローラに密着させる方向に薄膜を
突出させる薄膜突出装置を、前記仮付部材の移動経路の
近傍の装置本体又は前記支持部材に設けたことにより、
前記薄膜突出装置でたるみを持たせた薄膜を圧着ローラ
の回転吸着部材に確実に吸着させ、しわ等を生じること
なく基板に薄膜を張り付けることができるので、張付不
良を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は１本発明の一実施例である薄膜張付装置の概略
構成図。第２図は、前記第１図の要部拡大構成図、第３図は、前
記第１図に示すメインバキュームプレートの部分断面斜
視図、第４図は、前記第２図における矢印ＩＶ力方向ら見た概
略平面図。第５図は、前記第４図のｖ−ｖｇで切った要部断面図。第６図は、前記第１図及び第２図に示す熱圧着ローラ及
び基板ガイド部材の要部斜視図、第７図は、前記第１図
及び第２図に示す薄膜矯正装置及び薄膜突出装置の要部
斜視図である。図中、ＩＢ・・・積層体（薄膜）、２・・・供給ローラ
、６・・・メインバキュームプレート（薄膜供給部材）
。６Ｄ・・・仮付部材、７・・・支持部材、７Ａ、９Ａ・
・・駆動源、８・・・装置本体、９・・・サブバキュー
ムプレート、１０・・・切断装置、ＩＯＡ・・・ガイド
部材、１０Ｂ・・・移動部材、ＩＯＣ・・・円板状カッ
ター、１１・・・熱圧着ローラ、１２・・・絶縁性基板
、１３・・・回転バキュームプレート（回転吸着部材）
、１４．１５・・・搬送装置、１４Ａ、１４Ｂ、１５Ａ
、１５Ｂ・・・搬渚ローラ、１６・・・薄膜矯正装置、
１７・・・薄膜突出装置、１８・・・基板ガイド部材で
ある。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）連続した薄膜を所定の寸法に切断し、この切断さ
れた薄膜を基板に張り付ける薄膜の張付装置において、
前記連続した薄膜を基板に供給する薄膜供給部材と、該
薄膜供給部材で供給される供給方向の薄膜の先端部を基
板に仮り付けする仮付部材とを、基板に近接及び離反す
る支持部材を介して装置本体に設け、該仮付部材で基板
に仮り付けされた薄膜を基板に張り付ける圧着ローラを
、前記装置本体の所定部に設け、該圧着ローラで基板に
薄膜を張り付け開始後に、前記圧着ローラの薄膜張付速
度よりも前記薄膜供給部材の薄膜供給速度を速くし、薄
膜の後端部にたるみを持たせる薄膜たるみ形成手段を設
け、該薄膜たるみ形成手段で形成された薄膜のたるみ部
分を前記圧着ローラに密着させる方向に薄膜を突出させ
る薄膜突出装置を、前記仮付部材の移動経路の近傍の装
置本体又は前記支持部材に設けたことを特徴とする薄膜
の張付装置。
（２）前記薄膜供給部材は、薄膜を吸着する吸着孔が複
数設けられており、前記仮付部材は、前記薄膜供給部材
と一体に構成され、かつ円弧状に構成されていることを
特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の薄膜の張付装
置。
（３）前記圧着ローラには、その回転速度よりも若干遅
い速度で回転し、かつ薄膜の後端部を吸着する回転吸着
部材が設けられており、前記薄膜突出装置は、前記薄膜
供給部材と回転吸着部との間の薄膜に流体を吹き付ける
ように構成されていることを特徴とする特許請求の範囲
第１項に記載の薄膜の張付装置。
（４）前記薄膜突出装置は、前記連続した薄膜の供給方
向に対して略直角をなす幅方向に延在して設けられた流
体搬送管と、該流体搬送管に複数設けられた、薄膜を突
出させる方向に流体を吹き付ける流体吹付孔で構成され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の
薄膜の張付装置。
（５）前記薄膜突出装置は、前記連続した薄膜の供給方
向に対して略直角をなす幅方向に複数設けられた、薄膜
を突出させる方向に流体を吹き付ける流体吹付ノズルで
構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第１項
に記載の薄膜の張付装置。
（６）前記薄膜突出装置は、前記連続した薄膜の供給方
向に対して略直角をなす幅方向に延在して設けられた吸
引管と、該吸引管に複数設けられた、薄膜を突出させる
方向に吸引する吸引孔とで構成されていることを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載の薄膜の張付装置。
（７）前記薄膜突出装置は、薄膜を突出させる実状部材
で構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第１
項に記載の薄膜の張付装置。