JPS6389328A - 薄膜の張付装置 - Google Patents

薄膜の張付装置

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JPS6389328A
JPS6389328A JP23416886A JP23416886A JPS6389328A JP S6389328 A JPS6389328 A JP S6389328A JP 23416886 A JP23416886 A JP 23416886A JP 23416886 A JP23416886 A JP 23416886A JP S6389328 A JPS6389328 A JP S6389328A
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    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0079Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the method of application or removal of the mask

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)発明の目的 〔産業上の利用分野〕 本発明は、薄膜の張付技術に関し、特に、連続した薄膜
を所定の寸法に切断して基板に張り付ける薄膜の張付装
置に適用して有効な技術に関するものである。
〔従来技術〕
コンピュータ等の電子機器に使用されるプリント配線板
は、銅等の所定パターンの配線が絶縁性基板の片面又は
両面に形成されたものである。
この種のプリント配線板は、次の製造工程により製造す
ることができる。
まず、絶縁性基板上に設けられた導電層上に。
感光性樹脂(フォトレジスト)層とそれを保護する透光
性樹脂フィルム(保護膜)とからなる積層体を熱圧着ラ
ミネートする。この熱圧着ラミネートは、薄膜張付装置
所謂ラミネータにより量産的に行われる。この後、前記
積層体に配線パターンフィルムを重ね、この配線パター
ンフィルム及び透光性樹脂フィルムを通して、感光性樹
脂層を所定時間露光する。そして、透光性樹脂フィルム
を剥離装置で剥離した後、露光された感光性樹脂層を現
像してエツチングマスクパターンを形成する。この後、
前記導電層の不必要部分をエツチングにより除去し、さ
らに残存する感光性樹脂層を除去し、所定の配線パター
ンを有するプリント配線板を形成する。
〔発明が解決しようとする間層点〕
前述のプ「fント配線板の製造工程においては、絶縁性
基板の導電層上に、薄膜張付装置で自動的(量産的)に
積層体を熱圧着ラミネートする工程が必要とされている
。前記積層体は、薄膜張付装置の供給ローラに連続的に
巻回されており、搬送装置で搬送されてくる絶縁性基板
の寸法に対応して所定の寸法に切断し、熱圧着ラミネー
トされるようになっている。
ところが、絶縁性基板が順次搬送されている際に、供給
ローラの積層体がなくなり、これに作業者が気が付かな
い場合に、積層体が張り付けられていない絶縁性基板が
多量に薄膜張付装置から搬送されてしまう、このため、
プリント配線板の製造上の歩留りが低下するという問題
があった。
本発明の目的は、薄膜張付装置において、製造上の歩留
りを向上することが可能な技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、薄膜の供給時における供給状態を
検出し、前記目的を達成することが可能な技術を提供す
ることにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
(2)発明の構成 〔問題点を解決するための手段〕 本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
本発明は、連続した薄膜を所定の寸法に切断し、この切
断された薄膜を基板に張り付ける薄膜張付装置において
、前記薄膜の供給経路に、薄膜の供給時の供給状態を検
出する薄膜供給検出装置を設けたことを特徴とするもの
である。
〔作用〕
上述した手段によれば、簿膜の供給が正確に行われてい
るか否かを検出し1行なわれていない場合には作業者に
知らせたり、薄膜張付装置を停止させたりすることがで
きるので、製造上の歩留りを向上することができる。
〔発明の実施例〕
以下、プリント配線用基板に感光性樹脂層と透光性樹脂
フィルムとからなる積層体を熱圧着ラミネートする薄膜
張付装置に適用した本発明の一実施例について1図面を
用いて具体的に説明する。
なお、実施例を説明するための全回において、同一機能
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。
本発明の一実施例である薄膜張付装置を第1図(概略構
成図)で示す。
第1図に示すように、透光性樹脂フィルム、感光性樹脂
層及び透光性樹脂フィルムの3層構造からなる積層体l
は、供給ローラ2に連続的に巻回されている。供給ロー
ラ2の積層体1は、薄膜分離ローラ3で、透光性樹脂フ
ィルム(保護膜)IAと、−面(接着面)が露出された
感光性樹脂層及び透光性樹脂フィルムからなる積層体I
Bとに分離される0分離された透光性樹脂フィルムIA
は、巻取ローラ4により巻き取られるように構成されて
いる。
供給ローラ2は、第2図(要部斜視図)に示すように、
その軸部2Aと円孤状凹部5Aとを嵌合させ、ローラ支
持部材5に支持されている。ローラ支持部材5は、装置
本体フのカバーフレームの外側に、例えばネジ等の接続
部材(又は接着剤)によって取り付けられている。
巻取ローラ4は、その軸部4AとU字状凹部6Aとを嵌
合させ、ローラ支持部材6に支持されている。ローラ支
持部材6は、装置本体7のカバーフレームの外側に、ロ
ーラ支持部材5と同様に取り付けられている。
ローラ支持部材5は、左側(作業者に近い側)に供給ロ
ーラ2の仮置場としての円孤状凹部5Bが設けられてい
る。一方、ローラ支持部材6は、右側(作業者に遠い側
)に巻取ローラ4の仮置場としての円孤状凹部6B、6
Cが設けられている。
ローラ支持部材5.6の夫々に設けられた仮置場として
の円孤状凹部5B、6B、6Cの夫々は、例えば1次の
ように使用される。積層体1がなくなり、供給ローラ2
を交換する場合、巻取ローラ4の軸部4AをU字状四部
6Aから仮置場としての円孤状凹部6B又は6Cに嵌合
させる。この状態において、供給ローラ2の軸部2Aを
円孤状凹部5Aから仮5i場としての円孤状凹部5Bに
一旦嵌合させ、この後、ローラ支持部材5から取り外す
0次に、新しい供給ローラ2を一旦仮置場としての円孤
状凹部5Bに嵌合させ、この後、供給ローラ2の軸部2
Aと円孤状凹部5Aとを嵌合させる。そして、ローラ支
持部材6の円孤状凹部6B又は6Cに嵌合させてあった
巻取ローラ4の軸部4AをU字状凹部6Aに嵌合させる
このように、ローラ支持部材5に設けられた仮置場とし
ての円孤状凹部5B、ローラ支持部材6に設けられた仮
に場としての円孤状凹部6B又は6Cの夫々は、かなり
の重量がある供給ローラ2や巻取ローラ4を完全に取り
外す必要がなく、少し移動するだけで夫々の取り付け、
取り外し作業を行うことができる。つまり、薄膜張付装
置において、作業能率を向上することができ、又、作業
上の安全性を向上することができる。
前記薄膜分離ローラ3の一端部には、第2図及び第3図
(要部拡大斜視図)に示すように、薄膜供給検出装置1
8が設けられている。薄膜分離ローラ3は、積層体1の
供給経路内に設けられており、薄膜供給検出装置8は、
積層体1及びIBの供給経路(供給ローラ2から基板ま
での経路)内に設けられている。薄膜供給検出装置8は
、薄膜分離ローラ3の回転で矢印六方向に回転し、その
円周部にスリット部8Aを有する回転板8Bと、前記ス
リット部8Aを検出する検出部8Cとを有するエンコー
ダで構成されている。つまり、薄膜供給検出装置8は、
薄膜分離ローラ3の回転数に対応して所定の信号を出力
するように構成されている。
回転板8Bは1例えば、樹脂材料、軽金属材料。
合金材料等で構成されている。検出部8Cは1例えば、
光、超音波等でスリット部8Aが存在するか否かを検出
できるように構成されている。薄膜供給検出袋[8は、
積層体1及びIBの供給に際し、邪魔にならないように
、その供給経路以外の装置本体)のカバーフレームの内
部に取り付けられている。
このように、積層体1及びIBの供給経路に薄膜供給検
出装置8を設けることにより、積層体l及びIBの供給
時の供給状態を検出することができる。つまり、薄膜供
給検出袋W18は、後述する偏熱圧着動作時、熱圧着う
ミネート動作時、積層体IBの切断動作時等、積層体1
又はIBが供給される時に、その供給が正確に行われて
いるか否かを検出することができる。積層体1又はIB
の供給が正確に行われていない場合は、検出部8Cの出
力信号でアラーム等の異常警報装置(図示していない)
を動作させ1作業者に知らせることができる。また、自
動的に、薄膜張付装置を停止させることができる。すな
わち、薄膜供給検出装置8は、プリント配線板の製造上
の歩留りを向上することができる。
なお、薄膜供給検出袋!2!8は、積層体1及びIBの
供給経路内のどの場所に設けてもよいが、薄膜分離ロー
ラ3に設けることが有利である。つまり、薄膜分離ロー
ラ3は、複雑な構成を必要とせず、又1回転以外の可動
を必要としないので、簡単に薄膜供給検出装置8を取り
付けることができる。
前記薄膜分離ローラ3で分離された積層体IBの供給方
向の先端部は、第1図及び第2図に示すテンションロー
ラ9を通してメインバキュームプレート10に吸着され
るように構成されている。
テンションローラ9は、供給ローラ2とメインバキュー
ムプレート10との間の積層体IBに適度なテンション
を与えるように構成されている。つまり、テンションロ
ーラ9は、供給される積だ体IBにしわ等を生じないよ
うに構成されている。
メインバキュームプレート(薄膜供給部材)10は、積
層体IBを供給ローラ2から絶縁性基板11の導電層(
例えば、Cub)上に供給するように構成されている。
メインバキュームプレート10は、第1図及び第4図(
要部拡大構成図)で示すように、絶縁性基板11に近接
しかつ離反する(矢印B方向に移動する)支持部材12
に設けられている。支持部材12は、ガイド部材フAを
矢印B方向に摺動可能なように、装置本体(薄膜張付装
置の筐体)7に設けられている。支持部材12は、絶縁
性基板11の搬送経路を中心に、上下、一対に設けられ
ている。
上部の支持部材12と下部の支持部材12とは、ラック
アンドピニオン機構により連動的に動作する(両者が同
時に近接又は離反する)ように構成されている。つまり
、上下、一対の支持部材12は、夫々に設けられたラッ
ク12Aと、このラック12Aと嵌合するピニオン12
Bとで連動的に動作する。
この支持部材12の動作は、下部の支持部材12に設け
られた駆動g12cで行われる。駆動源12Cは。
例えば、エアーシリンダで構成する。また、駆動源12
Cは、油圧シリンダ又は電磁シリンダ、或はステップモ
ータ及びその変位を支持部材12に伝達する伝達機構等
で構成することができる。
前記メインバキュームプレート10は、絶縁性基板11
に近接しかつ離反する(矢印C方向に移動する)ように
、支持部材12に設けられている。メインバキュームプ
レート10は、支持部材12に設けられた駆動源120
と、ラックアンドピニオン機構とで動作するように構成
されている。このラックアンドピニオン機構は、駆動源
12Dに設けられたピニオン12E、支持部材12に設
けられたラック12F、メインバキュームプレート10
に設けられたラック10Aで構成されている。駆動源1
2Dは、駆動源12Cと同様のもので構成する。
メインバキュームプレート10には、第5図(部分断面
斜視図)で示すように、積層体IBの供給方向と略直交
する供給幅方向に延在する溝部10Bが搬送方向に複数
設けられている。溝部10Bの長さく積層体IBの供給
幅方向と同一方向の長さ)は、供給幅方向の積層体IB
の寸法と略同−の寸法で構成され、溝部10Bを積層体
IBが覆うように構成されている。溝部10Bの底部に
は、積層体IBを吸着させるための吸着孔10Cが複数
設けられている。図示していないが、吸着孔10Cは、
排気管を通して、真空ポンプ等の真空源に接続されてい
る。メインバキュームプレート10の吸着動作、後述す
る仮付部10Eの吸着動作の夫々は、独立に制御される
ように構成されている。溝部10Bの端部10Dは、メ
インバキュームプレート10の端部から中央部に掘り下
げたテーパ形状に構成されている。
この端部10D(テーパ部)には、メインバキュームプ
レート10に吸着される積層体IBの端部が位置するよ
うになっている。
このテーパ形状に構成された端部10Dは、溝部10B
と積層体IBとの吸着面積を最大限に確保して吸着効果
を高めると共に、積層体IBの吸着時に、溝部10Bと
積層体IBとの吸着位置にずれが若干生じても、溝部1
0Bの端部10Dで、積層体IBの端部と端部10Dと
の吸着性を向上することができる。
積層体IBの供給方向におけるメインバキュームプレー
ト10の先端部には、積層体IBを吸着する面が円孤形
状に形成された仮付部10Eが設けられている。仮付部
10Eは、メインバキュームプレート10と一体に構成
されている。仮付部10Eの内部には、第1図及び第4
図に示すように、円孤形状部分を加熱するヒータIOF
が設けられている。
仮付部10Eは、メインバキュームプレート10で供給
される積層体IBの先端部を、絶縁性基板11に仮り付
け(偏熱圧着)するように構成されている。
なお、本発明は、メインバキュームプレート10と仮付
部10Eとを、夫々、別部材で構成し、両者を支持部材
12に構成してもよい。
前記仮付部10Eに近接した位置、つまり、仮付部10
Eと絶縁性基板11との間の積層体IBの供給経路の近
傍には、サブバキュームプレート(薄膜保持部材)13
が設けられている。サブバキュームプレート13は、吸
引孔を図示していないが、第4図に示すように、上部吸
着部13aと下部吸着部13bとを有し、コの字形状に
構成されている(このコの字部分は積層体IBの切断位
置に相当する)。
サブバキュームプレート13の上部吸着部13aは、主
に、供給方向の積層体IBの先端部を吸着し。
仮付部10Eに吸着(保持)させるように構成されてい
る。サブバキュームプレート13は、積層体IBの先端
部を仮付部10Eに吸着可能なように、積層体IBの供
給経路に対して近接及び離反(矢印り方向に移動)する
例えばエアーシリンダからなる駆動源13Aを介して、
支持部材12に取り付けられている。
また、サブバキュームプレート13の下部吸着部13b
は、連続したvC層体IBを切断装置14で切断し、こ
の切断された積層体IBの後端部を吸着し、積層体IB
の供給経路内に保持するように構成されている。下部吸
着部13bは、熱圧着ラミネート開始後1回転バキュー
ムプレート15との間において、第4図に示すように、
積層体IBにたるみを形成する(たるみを持たせた積層
体IB’ を形成する)ように構成されている。このた
るみを持たせた積層体IB’は、熱圧着ローラ16の周
速度(熱圧着ラミネート速度)に対して、メインバキュ
ームプレート10の積層体IBの供給速度を速く制御す
ることにより形成することができる。両者の制御は、図
示していないが、シーケンス制御回路により行われるよ
うになっている。
なお、サブバキュームプレート13の駆動源13Aとし
ては、エアーシリンダの他に前記駆動源12Gと同様に
、油圧シリンダ等で構成することができる。
前記仮付部10Eと絶縁性基板11との間(実際には、
仮付部10Eと回転バキュームプレート15との問)の
積層体IBの供給経路の近傍の装置本体7には、切断装
置14が設けられている。詳述すれば。
切断装置14は、積層体IBの後端部を切断位置まで供
給した時のサブバキュームプレート13に対向した位置
に構成されている。切断装置14は、絶縁性基板11を
搬送する前段搬送装置17側に構成されている(又はこ
の前段搬送装置17に構成してもよい)、切断装置14
は、メインバキュームプレート10で連続的に供給され
る積層体IBを絶縁性基板11の寸法に対応して所定の
長さに切断するように構成されている。
この切断装置14の具体的な構成を第6図(第4図の矢
印■方向から見た概略平面図)及び第7図(第6図の■
−■線で切った断面図)で示す。
切断装置14は、第6図及び第7図に示すように、主に
、ガイド部材14Aと、移動部材14Bと、円板状カッ
ター14Cとで構成されている。
ガイド部材14Aは、積層体IBの供給幅方向に延在し
、その両端部(又は一端部)が装置本体7に固定されて
いる。この固定は、ねじ、ボルト、ナツト、ビス、接着
剤等の固定手段で行なわれる。
ガイド部材14Aには、積層体IBの供給幅方向(第6
図に示す矢印E方向)において、移動部材14Bを正確
に移動できるように、移動部材14Bの凸部(又は凹部
)14bと嵌合する凹部(又は凸部)14aが設けられ
ている。
移動部材14Bは、ガイド部材14Aに沿って矢印E方
向に移動するように構成されている。移動部材14Bは
、ガイド部材14Aに沿って延在しかつ両端部が装置本
体7に支持された中空管14D内を、矢印E′方向に移
動する中空管内移動部材14Eと接続されている。中空
管内移動部材14Eの移動は。
中空管14Dの夫々の端部がら空気(air)等の流体
を吹き込む(又は吸引する)ことにより行われる。
つまり、中空管内移動部材14Eは、第6図において、
中空管14Dの左側から流体を吹き込むと左側から右側
に移動し、中空管14Dの右側から流体を吹き込むと右
側から左側に移動するように構成されている。中空管内
移動部材14Eは、移動部材14Bを移動させるように
構成されている。中空管14D内に吹き込む流体として
は、空気の他に、不活性ガス等の気体、水、油等の液体
を用いてもよい。
また、移動部材14Bは、エアーシリンダ、油圧シリン
ダ、モータ等で移動するように構成してもよい。
円板状カッター14Cは、移動部材14Bの移動に従っ
て回転し、少なくともその円周部に積層体IBを切断す
る刃部が設けられている0円板状カッター14Cの回転
は1回転軸14Fに設けられた歯車(ピニオン)14G
を介在し、回転軸14Hに設けられた歯車14Iとラッ
ク14Jとの嵌合により与えられる。ラック14Jは、
両端部(又は一端部)が装置本体7に固定されている。
ラック14Jと歯車14Iとの嵌合は、移動部材14B
に設けられた保持ローラ14Lにより安定に保持される
円板状カッター14Cは例えば高速度工具鋼等の金属材
料で構成されており、少なくとも刃部の表面にはポリテ
トラフルオロエチレンが塗布されている。ポリテトラフ
ルオロエチレンは、化学薬品に対する不活性、熱的安定
性に優れており、摩擦係数が小さく、又、他の材料へ付
着しづらい特徴がある。特に、薄膜張付装置においては
、積層体IBの切断により生じる微小で種々の化学薬品
を含有する切り屑が刃部に付着し、円板状カッターt4
cの切れ味を劣化し易いので、ポリテトラフルオロエチ
レンの塗布は有効である。
円板状カッター14Cの近傍の移動部材14Bには、主
に、作業者の安全を確保するために、円板状カッター1
4Cを覆う保護カバー14Kが設けられている。
この切断装置!14は、移動部材14Bがガイド部材1
4Aを一方向に移動することにより、この移動で与えら
れる円板状カッター14Cの回転で、絶縁性基板11の
長さに対応した寸法に積層体IBを切断することができ
る。また、円板状カッター14Cは、往復の移動により
積層体IBを2個所切断することができるので、積層体
IBの切断時間を短縮することができる。
このように構成される薄膜張付装置において。
メインバキュームプレート10とサブバキュームプレー
ト13とを支持部材12に設け、この支持部材12を絶
縁性基板11に近接及び離反するように装置本体フに設
け、積層体IBを切断する切断装置14を仮付部10E
と絶縁性基板11どの間の積層体IBの供給経路の近傍
の装置本体7に固定したことにより、前記支持部材12
で支持する部材の重量を軽くしたので、駆動能力(容量
)の小さな駆動源12Cで支持部材12を駆動すること
ができる。
また、支持部材12に支持される部品点数を低減するこ
とができるので、支持部材12及びその周辺の構成を簡
単化し、薄膜張付装置を小型化することができる。
また、駆動源12C等を小型化することができるので、
薄膜張付装置の製造上のコストを低減することができる
また、切断装置14は1円板状カッター14Cを移動さ
せる構成に代えて、超音波、レーザビーム等を使用した
ビームカッターで構成してもよい、さらに、切断装置1
4は、積層体IBの供給幅方向に、積層体IBの供給幅
寸法と略同等又はそれよりも大きな寸法の刃部を有する
カッター、例えばギロチンカッター、帯状カッター、加
熱もしくは非加熱ワイヤー状カッター、ナイフ状カッタ
ー等で構成してもよい、これらの切断装置14は、−度
の動作で、略瞬時に、積層体IBの切断部分の全域を切
断することができる。
前記メインバキュームプレート10の仮付部10Eで絶
縁性基板11の4電層上に先端部が仮り付け(偏熱圧着
)される積層体IBは、熱圧着ローラ16でその全体が
熱圧着ラミネートされるように構成されている。熱圧着
ローラ16は、積層体IBの先端部を仮付部10Eで仮
り付けする仮付動作時は、第1図に符号16′ を符し
た点線で示す位置に配置されかつ回転している。熱圧着
ローラ16は、仮付動作時に、仮付部10Eと接触しな
いように構成されている。仮付動作後の熱圧着ローラ1
6は、符号16′ を示す点線で示した位置から実線で
示す位置、つまり、積層体IBを介在して絶縁性基板1
1を挟持する位置に移動するように構成されている。積
層体IBを介在して絶縁性基板11を挟持した熱圧着ロ
ーラ16は、第4図に示す矢印F方向に回転し。
積層体IBを絶縁性基板11の導電層上に熱圧着ラミネ
ートすると共に、この絶縁性基板11を搬送するように
構成されている。熱圧着ラミネート工程中においては、
メインバキュームプレート10及びサブバキュームプレ
ート13のUt層体IBの吸着動作は停止している。す
なわち、熱圧着ローラ16には、その回転力と、絶縁性
基板11との挟持力とで、積層体IBが供給ローラ2か
ら自動的に供給されるように構成されている。
前記切断装置14で切断された積層体IBの後端部は、
三角形状の回転バキュームプレート15でしわ等を生じ
ないようにガイドされ、熱圧着ローラ16で熱圧着ラミ
ネートされるように構成されている0回転バキュームプ
レート15は、熱圧着ローラ16と同一軸に支持されか
つそれを中心に回転するように構成されており、図示し
ていないが、積層体IBと対向する吸着面には、複数の
吸引孔15Aが設けられている。前記吸着孔15Aが配
設された吸着面の構造は、第5図に示すメインバキュー
ムプレート10の吸着面と同様の構造になっている。
図示しないが1回転バキュームプレート15の上面にも
吸引孔を設けてもよく、このように構成することにより
、第4図に示すように、たるみを持たせた積層体IB’
 をより形成し易くすることができる。
前記絶縁性基板11は、搬送ローラ(下段)17Aと搬
送ローラ(上段)17Bとで構成される前段搬送装置1
7により、薄膜張付装置の積層体IBの仮付位置まで搬
送される。また、搬送ローラ(下段)18Aと搬送ロー
ラ(上段)18Bとで構成される後段搬送袋ff!18
は、薄膜張付装置の熱圧着ローラ16で積層体IBが熱
圧着ラミネートされた絶縁性基板11を配線パターンを
形成する露光装置まで搬送するように構成されている。
前記メインバキュームプレート10の仮付部10Eの移
動経路(薄膜供給経路)近傍の装置本体フ(又は前段搬
送装置17、或は支持部材12)には、第1図及び第4
図に示すように、薄膜矯正装置i’119が設けられて
いる。簿膜矯正装置19は、仮付部10Eに密着させる
方向に積層体IBの供給方向の先端部を矯正するように
構成されている。81Km正装置19は、積層体IBの
供給幅方向に延在して設けられた流体搬送管19Aと、
この流体搬送管19Aに複数設けられた流体吹付孔19
Bとで構成されている。
流体搬送管19Aは、内部が中空に構成されており、常
圧よりも高圧力の流体を流すように構成されている。流
体搬送管19Aの断面形状は、本実施例では略円形状に
構成されているが、これに限定されず、方形状又は楕円
形状に構成してもよい。
流体吹付孔19Bは、積層体IBを矯正する方向(第4
図に示す矢印G方向)に流体を吹き付けるように設けら
れている。
薄膜矯正装置19で使用する流体としては、空気を使用
する。また、流体としては、不活性ガス等の気体、水、
油等の液体を用いてもよい。
このように、薄膜張付装置において、供給方向の積層体
IBの先端部を仮付部10Eに密着させる方向に矯正す
る薄膜矯正装置19を、前記仮付部10Eの移動経路の
近傍の装に本体7(又は支持部材12成は前段搬送袋!
eE17)に設けたことにより、積層体IBの先端部を
確実に仮付部10Eに密着させることができるので、絶
縁性基板11の導電層上に確実に積層体IBの先端部を
仮り付け(偏熱圧着)することができる。
さらに、サブバキュームプレート13の下部吸着部13
bと回転バキュームプレート15との間に供給される積
層体IB(IB’)に近接した装置本体7(又は前段搬
送装置!!17.或は支持部材12)には、第1図及び
第4図に示すように、薄膜突出装置20が設けられてい
る。つまり、薄膜突出装置20は、熱圧着ローラ16に
密着させる方向に前記たるみを持たせた積層体IB’ 
を形成するように構成されている。薄膜突出装置20は
、積層体IBの供給幅方向に延在して設けられた流体搬
送管20Aと、この流体搬送管20Aに複数設けられた
流体吹付孔20Bとで構成されている。
流体搬送管20Aは、内部が中空に構成されており、常
圧よりも高圧力の流体を流すように構成されている。流
体搬送管20Aの断面形状は、本実施例では略円形状に
構成されているが、流体搬送管19Aと同様に、これに
限定されず、方形状又は楕円形状に構成してもよい。
流体吹付孔20Bは、積層体IB’の前記たるみを前述
のように突出させる方向(第4図に示す矢印H方向)に
流体を吹き付けるように設けられている。
薄膜突出装置20で使用する流体としては、薄lI々矯
正装置19と同様に、空気を使用する。また、流体とし
ては、不活性ガス等の気体、水、油等の液体を用いても
よい。
このように、薄膜張付装置において、熱圧着ローラ16
に密着させる方向に前記たるみを持たせた積層体IB’
 を矯正する薄膜突出装置20を、積層体IB’の近傍
の装置本体7(又は支持部材12或は前段搬送装置i!
17)に設けたことにより、積層体IB’ を確実に熱
圧着ローラ16に密着させる方向にたるみを持たせるこ
とができるので、特に、回転バキュームプレート15に
積層体IBの後端部を確実に吸着させることができる。
従って、しわ等を生じることなく、絶縁性基板11の導
電層上に確実に積層体IBの後端部を熱圧着ラミネート
することができる。
なお、本発明は、薄膜矯正装置19又は薄膜突出装置2
0を、積層体IBの供給幅方向に複数設けられた、積層
体IBを前述の如く適正な方向に矯正又は突出させるよ
うに流体を吹き付ける流体吹付ノズルで構成してもよい
また1本発明は、薄膜矯正袋@19又は薄膜突出装置2
0を、積層体IBの供給幅方向に延在して設けられた吸
引管と、この吸引管に複数設けられた、積層体IBを前
述の如く適正な方向に矯正又は突出させる方向に吸引す
る吸引孔とで構成してもよ()。
また1本発明は、薄膜矯正装置19又はF、f膜突出装
W120を、積層体IBを前述の如く適正な方向に矯正
又は突出させる突状部材で構成してもよい。
また1本発明は、薄膜矯正装置19を薄膜突出装置20
で、若しくは薄膜突出装置20を薄膜矯正装置19で兼
用することも可能である。
前記熱圧着ローラ16と後段搬送装置18の搬送ローラ
18Aとの間の装置本体フ(又は後段搬送装置18)に
は、第1図及び第4図に示すように、基板ガイド部材2
1が設けられている。基板ガイド部材21は、積層体I
Bが熱圧着ラミネートされた絶縁性基板11を、熱圧着
ラミネート位置から搬送ローラ18A及び18Bの位置
までガイドするように構成されている。基板ガイド部材
21は、例えば、絶縁性基板11の搬送方向に延在する
棒状部をその搬送幅方向に複数配置したクシ型形状で構
成する。クシ型形状に構成された基板ガイド部材21は
、絶縁性基板11の搬送に際して、絶縁性基板11との
接触面積を小さくし摩擦抵抗を小さくできるので、スム
ーズに絶縁性基板11をガイドすることができる。
このように、前記熱圧着ローラ16と後段搬送装置18
の搬送ローラ18Aとの間に基板ガイド部材21を設け
ることにより、特に、薄い絶縁性基板11においては、
熱圧着ラミネート後の搬送方向の先端部の垂れ下りを防
止し1wi送ローラ18A及び18Bに確実に導びき、
搬送することができるので、後段搬送装置18(絶縁性
基板11の搬送経路)におけるトラブルを防止すること
ができる。特に、本実施例の薄膜張付装置の搬送装置に
おいては、仮付動作を行うために、熱圧着ローラ16が
符号16′ を付けた点線で示す位置から実線で示す位
置まで移動する空間が必要となり、熱圧着ローラ16と
搬送ローラ18Aとの間にかなりの空間<m送距離)が
形成されるので、基板ガイド部材21は有効である。
なお、本発明は、基板ガイド部材21を網状構造で構成
してもよい。
また、本発明は、基板ガイド部材21を板状構造で構成
してもよい。
次に、本実施例の薄膜張付装置による積層体IBの熱圧
着ラミネート方法について、前記第1図、第4図、第8
図乃至第10図(各工程毎の要部拡大構成図)を用いて
簡単に説明する。
まず最初に、手作業により、a膜分雅ローラ3で分離さ
れた積層体IBの供給方向の先端部を、サブバキューム
プレート13と切断装置14との間に配置する。
次に、前段搬送装置17の搬送ローラ17A及び17B
で搬送される絶縁性基板11の搬送方向の先端部が仮付
位置に搬送されると、サブバキュームプレート13で積
層体IBの先端部を吸着する。積層体IBの吸着後、駆
動源13Aで積層体IBの供給経路から離反する位置に
サブバキュームプレートエ3を移動させ、第8図に示す
ように、仮付部10Eに積層体IBの先端部を吸着させ
る。この時、メインバキュームプレート10及び仮付部
10Eの吸着動作が行われると共に、薄膜矯正装置19
で積層体IBを矯正できるので、仮付部10Eに積層体
IBの先端部を確実に吸着させることができる。なお。
連続動作が行われている時は、切断装置14で切断され
た積層体IBの先端部が仮付部10Eに吸着される。
この後、駆動源12Gで支持部材12を移動させ、メイ
ンバキュームプレート10及びサブバキュームプレート
13を絶縁性基板11に近接する方向に移動させる。こ
の移動と共に、駆動源12Dで支持部材12に対してメ
インバキュームプレート10をさらに移動させ、第9図
に示すように、仮付部10Eに吸着された積層体IBの
先端部を絶縁性基板11の導電層上に仮り付け(偏熱圧
着)する。
積層体IBの仮り付は後、メインバキュームプレート1
0及び仮付部10Eの吸着動作を停止し、第10図に示
すように、駆動源12G及び12Dでメインバキューム
プレート10.仮付部10E及びザブバキュームプレー
ト13を仮付位置から離反させる。
この離反は、前記第8図に示す積層体IBを仮付部10
Eへ吸着する工程における位置に比べてさらに離反する
位置に、駆動g12cでメインバキュームプレート1o
及びサブバキュームプレート13を移動させる。この移
動量は、積層体IB’に持たせるたるみ量に比例する。
このとき、支持部材12の駆動源12Cは、前述したよ
うに、切断装置i’!14を装置本体7に固定している
ので、小型化或は駆動能力を高めて動作速度の高速化を
図ることができる。
この後、符号16′ を付けて点線で示す位置から実線
で示す仮付位置に熱圧着ローラ16を近接させる。そし
て、この熱圧着ローラ16で積層体IBの先端部が仮り
付けされた絶縁性基板11を挟持し回転することにより
、絶縁性基板11の導電層上に積層体IBを熱圧着ラミ
ネートする。この時、メインバキュームプレート10、
仮付部1αE、サブバキュームプレート13の夫々の吸
着動作は停止しているので、熱圧着ローラ16には、そ
の回転力と、絶縁性基板11との挟持力とで、積層体I
Bが供給ローラ2から自動的に供給されるようになって
いる。
積層体IBが、一定量、熱圧着ラミネートされると、メ
インバキュームプレート10、サブバキュームプレート
13、回転バキュームプレート15の夫々の吸着動作が
実質的に同時に開始される。そして、第10図に示す状
態から、駆動g12Cで支持部材12を移動させ、メイ
ンバキュームプレート10で積層体IBを絶縁性基板1
1に供給すると共に、前記第4図に示すように、サブバ
キュームプレート13の下部吸着部13bで積層体IB
の後端部(切断位置)を切断装置14の切断位置に一致
させる。
積層体IBの供給速度(支持部材12の移動速度)は、
熱圧着ローラ16による熱圧着ラミネート速度(熱圧着
ローラ16の周速度)よりも速く設定されている。
このように、メインバキュームプレート10とサブバキ
ュームプレート13とを支持部材12に設け、この支持
部材12を絶縁性基板11に近接及び離反するように装
置本体7に設けたことにより、メインバキュームプレー
ト10の吸着動作と実質的に同時に、積層体IBの後端
部(切断位W)をサブバキュームプレート13で吸着し
、メインバキュームプレート10とサブバキュームプレ
ート13とを支持部材12で移動させて、切断装置14
の切断位置に積層体IBの切断位置を一致させることが
できるので、メインバキュームプレート10とサブバキ
ュームプレート13との間の積層体IBに不必要なたる
みを生じることがなくなる。つまり、第10図に示す、
メインバキュームプレート10とサブバキュームプレー
ト13の円板状カッター14Cが作用する位置(コの字
形状部)との距離工は、第4図に示す積層体IBの切断
位置と切断装S!14の切断位置とを一致させた状態に
おいても変化することがない。
したがって、積層体IBの切断位置と切断装置14の切
断位置とを正確に一致させることができるので、絶縁性
基板11の寸法に対して正確な寸法に積層体IBを切断
し、熱圧着ラミネートすることができ、製造上の歩留り
を向上することができる。
しかも、前述のように、メインバキュームプレート10
及びサブバキュームプレート13を設けた支持部材12
は、切断装置14を装置本体7に固定しているので、小
さなin能力の駆動源12Cで駆動させることができる
前記積層体IBの供給後及び積層体IBの切断位置を切
断袋W114の切断位置に一致させると、サブバキュー
ムプレート10と回転バキュームプレート15との間に
たるみを持たせた積層体IB’ を形成することができ
る。このたるみを持たせた積層体IB’の供給方向の両
端部は、薄膜矯正装置20の矯正により、サブバキュー
ムプレート13の下部吸着部13b1回転バキュームプ
レート15の夫々に確実に吸着させることができる。
この状態において、切断装置14により、積層体1Bの
後端部(切断位置)が絶縁性基板11の寸法に対応した
所定寸法に切断される。
この後、切断装置14で切断された積層体IBの後端部
が回転バキュームプレート15に吸着されると、熱圧着
ローラ16の回転速度より若干遅い速度で回転バキュー
ムプレート15が回転し、絶縁性基板11の導電層上に
積層体IBの後端部を熱圧着ラミネートすることができ
る0回転バキュームプレート15は、熱圧着ローラ16
の回転速度より若干遅い速度で回転すると、熱圧着ロー
ラ16との間の積層体IBに適度なテンションを与える
ことができるので、積層体IBにしわ等を生じることが
ない。
積層体IBが熱圧着ラミネートされた絶縁性基板11は
、熱圧着ローラ16の回転力により、基板ガイド部材2
1を通して、トラブルを生じることなく、後段搬送装置
18の搬送ローラ18A及び18Bに搬送される。後段
搬送装置18に搬送された絶縁性基板11は、露光装置
に搬送される。
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に
基づき具体的に説明したが、本発明は。
前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱
しない範囲において1種々変形し得ることは勿論である
例えば1本発明は、前記サブバキュームプレート13を
、仮付部10Eに積層体IBの供給方向の先端部を吸着
させるサブバキュームプレートと、前記切断袋[14の
ホルダとして使用されるサブバキュームプレートとで構
成し、夫々を独立に制御してもよい。
また、本発明は、前記実施例の絶縁性基板11を予熱し
た後、この絶縁性基板11に積層体IBを非加熱圧着ロ
ーラで熱圧着ラミネートする薄膜張付装置に適用するこ
とができる。
また、本発明は、建築材として使用される化粧板に保護
膜を張り付ける薄膜張付装置に適用することができる。
(3)発明の効果 本発明によれば、連続した薄膜を所定の寸法に切断し、
この切断された薄膜を基板に張り付ける薄膜の張付装置
において、前記薄膜の供給経路に、薄膜の供給時の供給
状態を検出する薄膜供給検出装置を設けたことにより、
薄膜の供給が正確に行われているか否かを検出し、行な
われていない場合には作業者に知らせたり、薄膜の張付
装置を停止させたりすることができるので、製造上の歩
留りを向上することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例である薄膜張付装置の概略
構成図。 第2図は、前記第1図の要部斜視図、 第3図は、前記第2図に示す薄膜供給検出装置の要部拡
大斜視図、 第4図は、前記第1図の要部拡大斜視図、第5図は、前
記第1図及び第4図に示すメインバキュームプレートの
部分断面斜視図、第6図は、前記第4図における矢印■
方向から見た概略平面図、 第7図は、前記第6図の■−■線で切った要部断面図、 第8図乃至第10図は、熱圧着ラミネート方法を説明す
るために、各工程缶に示す前記第1図の要部拡大構成図
である。 図中、IB・・・積層体(薄膜)、2・・・供給ローラ
、3・・・薄膜分離ローラ、4・・・巻取ローラ、7・
・・装置本体、8・・・薄膜供給検出装置、10・・・
メインバキュームプレート(薄膜供給部材)、IOE・
・・仮付部、11・・・絶縁性基板、12・・・支持部
材、12C,12D、13A・・・駆動源、13・・・
サブバキュームプレート(薄膜保持部材)、14・・・
切断装置、14A・・・ガイド部材、14B・・・移動
部材、14G・・・円板状カッター、15・・・回転バ
キュームプレート(回転吸着部材)、16・・・熱圧着
ローラ、17.18・・・搬送装置、17A、17B、
18A。 18B・・・搬送ローラ、19・・・薄膜矯正装置、2
0・・・薄膜突出装置、21・・・基板ガイド部材であ
る。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)連続した薄膜を所定の寸法に切断し、この切断さ
    れた薄膜を基板に張り付ける薄膜の張付装置において、
    前記薄膜の供給経路に、薄膜の供給時の供給状態を検出
    する薄膜供給検出装置を設けたことを特徴とする薄膜の
    張付装置。
  2. (2)前記薄膜は、透光性樹脂フィルム、感光性樹脂層
    、透光性樹脂フィルムを順次重ね合せた積層体で形成さ
    れ、薄膜分離ローラで一方の透光性樹脂フィルムを分離
    した後、他方の透光性樹脂フィルム及び感光性樹脂層を
    基板に張り付けるように構成されており、前記薄膜供給
    検出装置は、前記分離ローラの一端部に設けられている
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の薄膜の
    張付装置。
  3. (3)前記薄膜供給検出装置は、前記薄膜分離ローラの
    回転で回転し、その円周部にスリット部を有する回転板
    と、前記スリット部を検出する検出部とを有し、薄膜分
    離ローラの回転数に対応する信号を出力するエンコーダ
    で構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項又は第2項に記載の薄膜の張付装置。
  4. (4)前記薄膜供給検出装置は、装置本体のカバーフィ
    ルム内に設けられていることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項乃至第3項に記載の夫々の薄膜の張付装置。
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