JPH0496004A - 高ｎａ光ファイバ用クラッド材 - Google Patents
高ｎａ光ファイバ用クラッド材Info
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- JPH0496004A JPH0496004A JP2213723A JP21372390A JPH0496004A JP H0496004 A JPH0496004 A JP H0496004A JP 2213723 A JP2213723 A JP 2213723A JP 21372390 A JP21372390 A JP 21372390A JP H0496004 A JPH0496004 A JP H0496004A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、高ＮＡ光フアイバ用クラツド材に関するもの
である。
である。
（従来の技術）
近年、ビル内の太陽光伝送に例示されるように、光ファ
イバをエネルギー伝送に使用する試みがおこなわれるよ
うになってきた。このような用途に適応し得る光ファイ
バに要求される重要な特性は、そのＮＡ （開口数が大
きいことである。ＮＡの大きな光ファイバは供給された
光がファイバにはいる割合が太き（なり、それ故に、供
給光を有効に活用できるという利点を有することになる
。
イバをエネルギー伝送に使用する試みがおこなわれるよ
うになってきた。このような用途に適応し得る光ファイ
バに要求される重要な特性は、そのＮＡ （開口数が大
きいことである。ＮＡの大きな光ファイバは供給された
光がファイバにはいる割合が太き（なり、それ故に、供
給光を有効に活用できるという利点を有することになる
。
ＮＡの大きな光ファイバを製造するためには、コアとク
ラッドの屈折率の差を大きく採ることが必要であり、ク
ラッドとして屈折率の低い含フッ素のポリマーをコアに
コーティングすることがおこなわれている。
ラッドの屈折率の差を大きく採ることが必要であり、ク
ラッドとして屈折率の低い含フッ素のポリマーをコアに
コーティングすることがおこなわれている。
かかる含フッ素のポリマーとしては従来フルオロシリコ
ーンを用いる例が知られていて、米国特許４．４３１．
２６４号明細書（特開昭５６−６２２０６号公報）には
クラッドとしてフッ素含有量５２％以下のフルオロシリ
コーンを用いることが開示されている。しかしながら、
このフルオロシリコーンは本質的に粘度の高いフルオロ
シリコーンガムであるために、その使用において、コア
にコーティングする際に溶媒を必要とし、コーティング
の際に揮発する溶媒がファイバに欠陥を生ぜしめるとい
う問題がある。
ーンを用いる例が知られていて、米国特許４．４３１．
２６４号明細書（特開昭５６−６２２０６号公報）には
クラッドとしてフッ素含有量５２％以下のフルオロシリ
コーンを用いることが開示されている。しかしながら、
このフルオロシリコーンは本質的に粘度の高いフルオロ
シリコーンガムであるために、その使用において、コア
にコーティングする際に溶媒を必要とし、コーティング
の際に揮発する溶媒がファイバに欠陥を生ぜしめるとい
う問題がある。
また、付加型硬化のフルオロシリコーンをクラツド材と
して用いた例においては、クラツド材の機械特性が不十
分であるために、製造中や後加工中に、クラツド材が剥
離したりファイバが断線するといった問題点があった。
して用いた例においては、クラツド材の機械特性が不十
分であるために、製造中や後加工中に、クラツド材が剥
離したりファイバが断線するといった問題点があった。
特開昭６２−７００６には、無溶媒でフルオロシリコー
ンをコーティングする方法が記載されているが、この物
もクラツド材の機械特性が不十分であるという問題点を
有していた。
ンをコーティングする方法が記載されているが、この物
もクラツド材の機械特性が不十分であるという問題点を
有していた。
（発明の解決しようとする課題）
本発明の目的は、室温において１００，０００ＣＰ以下
の付加型硬化のフルオロシリコーンをクラツド材として
用いることにより、無溶媒でコアへのコーティングをお
こない、溶媒揮発に起因するファイバ欠陥を皆無にする
ことである。
の付加型硬化のフルオロシリコーンをクラツド材として
用いることにより、無溶媒でコアへのコーティングをお
こない、溶媒揮発に起因するファイバ欠陥を皆無にする
ことである。
本発明の別の目的は、付加型硬化のフルオロシリコーン
にレジン成分を導入することにより、機械特性の優れた
物とすることである。
にレジン成分を導入することにより、機械特性の優れた
物とすることである。
（課題を解決するための手段）
即ち、本発明は、下記成分Ａ〜Ｄを含む組成物からなり
、且つ室温における粘度が１０，０００ＣＰ以下である
、熱により硬化可能な高ＮＡ光ファイバクラッド材を提
供するものである。
、且つ室温における粘度が１０，０００ＣＰ以下である
、熱により硬化可能な高ＮＡ光ファイバクラッド材を提
供するものである。
Ａ、下記式
（式中、Ｖｉはビニル基、Ｒ２はパーフルオロアルキル
基またはパーフルオロエーテル基を示し、１．ｍは正の
整数、ｎはＯ又は正の整数であってｎ／ ｌ ＋ｍ＋ｎ
＜０．０２を満足する。） で表わされるビニル基含有フルオロシリコーン。
基またはパーフルオロエーテル基を示し、１．ｍは正の
整数、ｎはＯ又は正の整数であってｎ／ ｌ ＋ｍ＋ｎ
＜０．０２を満足する。） で表わされるビニル基含有フルオロシリコーン。
Ｂ、該組成物を硬化させるに十分な量の、１分子中に平
均２個以上の珪素結合水素原子を有するシリコーン。
均２個以上の珪素結合水素原子を有するシリコーン。
Ｃ，Ｒ３１Ｏ＋、ｓ単位（Ｒは置換または非置換の一価
の飽和または不飽和基である）およびＳｉＯ□単位の少
なくとも１種を必須成分とするシリコーンレジン。
の飽和または不飽和基である）およびＳｉＯ□単位の少
なくとも１種を必須成分とするシリコーンレジン。
Ｄ、該組成物の硬化を促進するに十分な量の遷移金属触
媒。
媒。
本発明における成分Ａは上記式で表わされるビニル基含
有フルオロシリコーンであって、式中のＲ１にて示され
るパーフルオロアルキル基またはパーフルオロエーテル
基は炭素数４以上の長鎖のパーフルオロアルキル基また
はパーフルオロエーテル基であるのが、クラツド材の屈
折率を下げ、高ＮＡの光ファイバを得るという点におい
て好ましい。特に炭素数４以上のパーフルオロアルキル
基が好ましい。さらに、ｌ ／ ｍは４以上であるのが
好ましく、またｎは望ましくはＯであるが、クラツド材
の機械特性を変化させるために、ｎ／ １ ＋ｍ＋ｎ＜
０．０２の範囲で導入してもよい。而して、ｎ／１＋ｍ
＋ｎが０．０２より大きいビニル基含有フルオロシリコ
ーンの使用はクラツド材としては脆いものとなる。成分
Ａのビニル基含有フルオロシリコーンは単独重合体、あ
るいは例えばＲｆ基を異にする２種類以上の共重合体な
どいずれであってもよい。
有フルオロシリコーンであって、式中のＲ１にて示され
るパーフルオロアルキル基またはパーフルオロエーテル
基は炭素数４以上の長鎖のパーフルオロアルキル基また
はパーフルオロエーテル基であるのが、クラツド材の屈
折率を下げ、高ＮＡの光ファイバを得るという点におい
て好ましい。特に炭素数４以上のパーフルオロアルキル
基が好ましい。さらに、ｌ ／ ｍは４以上であるのが
好ましく、またｎは望ましくはＯであるが、クラツド材
の機械特性を変化させるために、ｎ／ １ ＋ｍ＋ｎ＜
０．０２の範囲で導入してもよい。而して、ｎ／１＋ｍ
＋ｎが０．０２より大きいビニル基含有フルオロシリコ
ーンの使用はクラツド材としては脆いものとなる。成分
Ａのビニル基含有フルオロシリコーンは単独重合体、あ
るいは例えばＲｆ基を異にする２種類以上の共重合体な
どいずれであってもよい。
成分Ｂは、１分子中に平均２個以上の珪素結合水素原子
を有する化合物であり、成分Ａのビニル基との間にハイ
ドロシリレーションと呼ばれる反応を起こし、該組成物
は硬化される。
を有する化合物であり、成分Ａのビニル基との間にハイ
ドロシリレーションと呼ばれる反応を起こし、該組成物
は硬化される。
成分Ｂの構造は、特に限定されるものでないが、Ａとの
相溶性を確実にするために、Ａと共通のＲｔ基を含むこ
とが望ましい。Ｂは該組成物を硬化させるに十分な量を
使用すればよく、通常はＡのビニル基に対して珪素結合
水素原子が０．５〜２．０の範囲で使用すればよい。
相溶性を確実にするために、Ａと共通のＲｔ基を含むこ
とが望ましい。Ｂは該組成物を硬化させるに十分な量を
使用すればよく、通常はＡのビニル基に対して珪素結合
水素原子が０．５〜２．０の範囲で使用すればよい。
成分Ｂのシリコーンとして好適なものは、例えば
（式中のＲｌｏは炭素数４以上のパーフルオロアルキル
基あるいはパーフルオロエーテル基、ｘ、ｙ、ｚは２以
上の整数であってＸ／Ｙ〉４である。） （式中のＲ２”は炭素数４以上のパーフルオロアルキレ
ン基あるいはパーフルオロエーテル基）などが挙げられ
る。
基あるいはパーフルオロエーテル基、ｘ、ｙ、ｚは２以
上の整数であってＸ／Ｙ〉４である。） （式中のＲ２”は炭素数４以上のパーフルオロアルキレ
ン基あるいはパーフルオロエーテル基）などが挙げられ
る。
成分Ｃは、クラツド材の機械特性を向上させる成分であ
り、Ｒ３１Ｏ＋、ｓ単位（Ｒは置換または非置換の一価
の飽和または不飽和基である）およびＳｉＯ＊単位の少
なくとも１種を必須成分とするシリコーンレジンである
。かかる成分Ｃは、成分Ａとの相溶性を確実にするため
成分Ａで説明したＲ、基を有するものが望ましい。
り、Ｒ３１Ｏ＋、ｓ単位（Ｒは置換または非置換の一価
の飽和または不飽和基である）およびＳｉＯ＊単位の少
なくとも１種を必須成分とするシリコーンレジンである
。かかる成分Ｃは、成分Ａとの相溶性を確実にするため
成分Ａで説明したＲ、基を有するものが望ましい。
また、成分Ｃは上記Ｒ３１Ｏ＋、 ｓ単位、５ｉＯａ単
位の他にＲ５５ｉＯ０，単位、ＲｆＳｉＯ＋、 ｓ単位
（Ｒは上記に同じ）を有していてもよい。
位の他にＲ５５ｉＯ０，単位、ＲｆＳｉＯ＋、 ｓ単位
（Ｒは上記に同じ）を有していてもよい。
さらに、成分Ｃは成分Ａ、Ｂと共加橋させると特に機械
特性がはかれるので、珪素結合水素原子や珪素結合ビニ
ル基を含むことが望ましい。
特性がはかれるので、珪素結合水素原子や珪素結合ビニ
ル基を含むことが望ましい。
成分Ｃの使用量は特に限定されないが、成分１００部に
対して５〜４０部が機械特性その他の面で好適な量とし
て用いられる。
対して５〜４０部が機械特性その他の面で好適な量とし
て用いられる。
成分りの遷移金属触媒は、該組成物の硬化を促進する化
合物であり、通常へキサクロロ白金酸などの白金化合物
、あるいはこれらの化合物と比較的低分子量のビニル基
含有オルガノシロキサンとの錯体が用いられる。成分り
の使用量は該組成物の硬化を促進するに十分な量を使用
すれば良いが、通常は１〜１００ ｐｐｍの範囲であれ
ば充分である。
合物であり、通常へキサクロロ白金酸などの白金化合物
、あるいはこれらの化合物と比較的低分子量のビニル基
含有オルガノシロキサンとの錯体が用いられる。成分り
の使用量は該組成物の硬化を促進するに十分な量を使用
すれば良いが、通常は１〜１００ ｐｐｍの範囲であれ
ば充分である。
さらに上記成分の他に、室温において成分Ａ〜Ｄを混合
して調整した組成物をクラツド材として、コアにコーテ
ィングし高温で硬化されるまでの間、室温における硬化
の進行を制御し、粘度を適度に保持するために用いられ
る抑制剤を含んでいてもよい。かかる抑制剤の好適な化
合物として、３−メチル−１−ブチン−３−オール等の
アセチレン化合物、有機チッソ化合物、有機リン化合物
、イオン含有化合物、ビニルシロキサンなどを例示する
ことができる。かかる抑制剤は、上記の使用目的及び高
温における該組成物の迅速な硬化を妨げないという点を
勘案してその適量が用いられる。
して調整した組成物をクラツド材として、コアにコーテ
ィングし高温で硬化されるまでの間、室温における硬化
の進行を制御し、粘度を適度に保持するために用いられ
る抑制剤を含んでいてもよい。かかる抑制剤の好適な化
合物として、３−メチル−１−ブチン−３−オール等の
アセチレン化合物、有機チッソ化合物、有機リン化合物
、イオン含有化合物、ビニルシロキサンなどを例示する
ことができる。かかる抑制剤は、上記の使用目的及び高
温における該組成物の迅速な硬化を妨げないという点を
勘案してその適量が用いられる。
本発明のクラツド材は上記成分Ａ〜Ｄを混合して調整し
た組成物として室温における粘度は１０，０００ＣＰ以
下であることが重要である。１０．０００ＣＰを越える
とコアにコーティングする際に溶媒を必要とするように
なる。かかる溶媒の使用は高温でクラツド材を硬化する
際に揮発し、これが光ファイバの欠陥を招くことになる
。
た組成物として室温における粘度は１０，０００ＣＰ以
下であることが重要である。１０．０００ＣＰを越える
とコアにコーティングする際に溶媒を必要とするように
なる。かかる溶媒の使用は高温でクラツド材を硬化する
際に揮発し、これが光ファイバの欠陥を招くことになる
。
本発明のクラツド材は熱により硬化可能であり、光ファ
イバのクラッドの形成方法としては、例えば石英ガラス
または光学ガラスのコアに調整された組成物を被覆し、
熱硬化反応せしめて硬化体とすることによって行なわれ
る。熱硬化反応における加熱処理条件はクラッド層の厚
さによって異なるが、例えば１００μの厚さとすると４
００℃にて２秒間の処理で充分である。
イバのクラッドの形成方法としては、例えば石英ガラス
または光学ガラスのコアに調整された組成物を被覆し、
熱硬化反応せしめて硬化体とすることによって行なわれ
る。熱硬化反応における加熱処理条件はクラッド層の厚
さによって異なるが、例えば１００μの厚さとすると４
００℃にて２秒間の処理で充分である。
（作 用）
本発明において、Ｒ２はクラツド材の屈折率下げるに有
用であり、これにより高ＮＡの光ファイバを得ることが
できる。またＡ成分のビニル基にＢ成分のＨ−ＳｔがＤ
成分の遷移金属触媒下に付加することにより組成物の硬
化が起こる。さらにＣ成分はクラツド材の機械特性を向
上させる成分であり、これにより光ファイバの断線がな
（なり後加工も容易になる。
用であり、これにより高ＮＡの光ファイバを得ることが
できる。またＡ成分のビニル基にＢ成分のＨ−ＳｔがＤ
成分の遷移金属触媒下に付加することにより組成物の硬
化が起こる。さらにＣ成分はクラツド材の機械特性を向
上させる成分であり、これにより光ファイバの断線がな
（なり後加工も容易になる。
（実施例）
合成例１（成分Ａの合成）
十分に窒素置換された、撹はん器、温度計、を備えた１
ρの４つロフラスコに、［Ｃ４Ｆ、Ｃ２Ｈ４（ＣＨ，）
Ｓｉｎ］、 ８１６ｇ （０，８９モル） 、 ［
（ＣＨ，）２ＳｉＯ］４２９６．６ｇ （１，０モル）
、Ｖｉ（ＣＨ３）ｍｓｉＯｓｉ（ＣＨｓ）ｚＶｉ４．
６ｇ （０，０２５モル）を入れた。内温を５０℃に保
持した後、ＣＦ３５Ｏ，８０，６２ｇ （４，１３ミリ
モル）を導入した。４時間後にモノマーの消失を確認し
、ＮａＨＣＯｓ ６．９ｇ（８２，１モル）を入れ反応
を停止した。濾過によりＮａＨＣＯｍを除去した後、１
８０℃／ ３ ｍｍＨｇで低沸カットをおこなった。得
られた生成物はＮＭＲｆＩＲにより下記式で示される構
造であることが確認され、粘度＝ ２０２０ＣＰＳであ
った。
ρの４つロフラスコに、［Ｃ４Ｆ、Ｃ２Ｈ４（ＣＨ，）
Ｓｉｎ］、 ８１６ｇ （０，８９モル） 、 ［
（ＣＨ，）２ＳｉＯ］４２９６．６ｇ （１，０モル）
、Ｖｉ（ＣＨ３）ｍｓｉＯｓｉ（ＣＨｓ）ｚＶｉ４．
６ｇ （０，０２５モル）を入れた。内温を５０℃に保
持した後、ＣＦ３５Ｏ，８０，６２ｇ （４，１３ミリ
モル）を導入した。４時間後にモノマーの消失を確認し
、ＮａＨＣＯｓ ６．９ｇ（８２，１モル）を入れ反応
を停止した。濾過によりＮａＨＣＯｍを除去した後、１
８０℃／ ３ ｍｍＨｇで低沸カットをおこなった。得
られた生成物はＮＭＲｆＩＲにより下記式で示される構
造であることが確認され、粘度＝ ２０２０ＣＰＳであ
った。
合成例２（成分Ｂの合成）
十分に窒素置換された、撹はん器、温度計、を備えた５
００ ｍＱの４つロフラスコに、［Ｃ４Ｆ。
００ ｍＱの４つロフラスコに、［Ｃ４Ｆ。
Ｃ２Ｈ４ＣＨ，）ＳｉＯ］３１５０ｇ（０，１６３モル
） 、 ［（ＣＨ３）５ｉｎ］、 ９．１ｇ（０，０３
１モル）団（ＣＨ３）５ｉＯ］４１８．４ｇ（０，０７
７モル） 、 （ＣＨ−）−３ＩＯ３Ｉ（ＣＨ３）
３ ５．５２ｇ（０，０３２モル）を入れた。内温を５
０℃に保持した後、ＣＦｓＳＯ−ＨＯ，０９ｇ （０，
０００６モル）を導入した。４時間後にモノマーの消失
を確認し、ＮａＨＣＯ３１，００ｇ（０，０１２モル）
を入れ反応を停止した。濾過によりＮａＨＣＯａを除去
した後、得られた生成物をＮＭＲｆＩＲにより調べ、下
記式で示される構造であることを確認した。
） 、 ［（ＣＨ３）５ｉｎ］、 ９．１ｇ（０，０３
１モル）団（ＣＨ３）５ｉＯ］４１８．４ｇ（０，０７
７モル） 、 （ＣＨ−）−３ＩＯ３Ｉ（ＣＨ３）
３ ５．５２ｇ（０，０３２モル）を入れた。内温を５
０℃に保持した後、ＣＦｓＳＯ−ＨＯ，０９ｇ （０，
０００６モル）を導入した。４時間後にモノマーの消失
を確認し、ＮａＨＣＯ３１，００ｇ（０，０１２モル）
を入れ反応を停止した。濾過によりＮａＨＣＯａを除去
した後、得られた生成物をＮＭＲｆＩＲにより調べ、下
記式で示される構造であることを確認した。
合成例３（成分Ｃの合成）
撹はん器、温度計、を備えた５００ｍ１の４つロフラス
コに、 （ＣＨｍ）ｍｓｉＯｓｉ（ＣＨｓ）ｉ ７．９
ｇ（０，０４９モル） 、 Ｖｉ（ＣＨｓ）ａ ５ｉＯ
Ｓｉ（ＣＨｘｈＶｉ ３６．３ｇ（０，１９モル）
、Ｃ４ＦｅＣＪ４（ＣＨｓ）ＳＬ（ＱＣｓ）Ｉａ）ｓ
２００ｇ （０，４９ｇモル） 、５ｉ（ＯＣ２Ｈ−
）４３９．２ｇ（０，１９モル） 、 ＣＦ、ＳＯ，Ｈ
Ｏ，１７ｇ （１，１３ミリモル）を入れた。内温を５
０℃に保持した後、８２０５７．２ｇ（３，１８モル）
を滴下した。４時間後にモノマーの消失を確認した後、
ＫＯＨの１０％メタノール溶液３．５ｇを入れ８０℃で
３時間反応させた。室温に冷却後、ＫＯＨをＨ３ＰＯ４
で中和した。
コに、 （ＣＨｍ）ｍｓｉＯｓｉ（ＣＨｓ）ｉ ７．９
ｇ（０，０４９モル） 、 Ｖｉ（ＣＨｓ）ａ ５ｉＯ
Ｓｉ（ＣＨｘｈＶｉ ３６．３ｇ（０，１９モル）
、Ｃ４ＦｅＣＪ４（ＣＨｓ）ＳＬ（ＱＣｓ）Ｉａ）ｓ
２００ｇ （０，４９ｇモル） 、５ｉ（ＯＣ２Ｈ−
）４３９．２ｇ（０，１９モル） 、 ＣＦ、ＳＯ，Ｈ
Ｏ，１７ｇ （１，１３ミリモル）を入れた。内温を５
０℃に保持した後、８２０５７．２ｇ（３，１８モル）
を滴下した。４時間後にモノマーの消失を確認した後、
ＫＯＨの１０％メタノール溶液３．５ｇを入れ８０℃で
３時間反応させた。室温に冷却後、ＫＯＨをＨ３ＰＯ４
で中和した。
実施例１
合成例１で得た成分Ａ １００ｇに、合成例３で得た成
分Ｃ２０ｇ、塩化白金酸の１％イソプロパツール溶液０
．２１ｇ、 ３−メチル−１−ブチン−３−オール０．
０１ｇを添加し、十分に撹はんした。これに合成例２で
得た成分Ｂ ５ｇをいれ、さらに十分撹はんした。こ
の物の粘度は、１、２００ＣＰであった。この組成物を
石英ファイバ（外径２００μ）の外周に１００μ厚さと
なるようにクラッド層として被覆し、４００℃に保持さ
れた加熱硬化炉に導入し、２秒間で通過させることによ
り、石英ガラスの外周にプラスチッククラッドの形成さ
れた光ファイバを得た。得られた光ファイバの特性を測
定した結果、ＮＡは０．５１、伝送損失は９ｄｂ／ｋｍ
であった。また、クラツド材を金型で硬化させシート状
にした後、物性を測定したところＴＢ・２０ｋｇ／ｃｍ
２、ショア硬度Ａ＝３８であった。
分Ｃ２０ｇ、塩化白金酸の１％イソプロパツール溶液０
．２１ｇ、 ３−メチル−１−ブチン−３−オール０．
０１ｇを添加し、十分に撹はんした。これに合成例２で
得た成分Ｂ ５ｇをいれ、さらに十分撹はんした。こ
の物の粘度は、１、２００ＣＰであった。この組成物を
石英ファイバ（外径２００μ）の外周に１００μ厚さと
なるようにクラッド層として被覆し、４００℃に保持さ
れた加熱硬化炉に導入し、２秒間で通過させることによ
り、石英ガラスの外周にプラスチッククラッドの形成さ
れた光ファイバを得た。得られた光ファイバの特性を測
定した結果、ＮＡは０．５１、伝送損失は９ｄｂ／ｋｍ
であった。また、クラツド材を金型で硬化させシート状
にした後、物性を測定したところＴＢ・２０ｋｇ／ｃｍ
２、ショア硬度Ａ＝３８であった。
比較例１
実施例１において、成分Ａとして１００，０００ＣＰの
ものを用い、Ｒ−１１３により全体を希釈した他は、同
様の方法により光ファイバを製造した。
ものを用い、Ｒ−１１３により全体を希釈した他は、同
様の方法により光ファイバを製造した。
このものは製造中に溶媒が揮発し、そのためりラッドに
欠陥が多く、伝送損失が３０ｄｂ／ｋｍと大きかった。
欠陥が多く、伝送損失が３０ｄｂ／ｋｍと大きかった。
比較例２
実施例から成分Ｃを除いた他は、同様の方法により組成
物を得たが、このものはＴ、＝２ｋｇ／ｃｎ＋２、ショ
ア硬度Ａ・３と著しく機械特性の劣るものであり、光フ
アイバ製造中に多数断線が生じた。
物を得たが、このものはＴ、＝２ｋｇ／ｃｎ＋２、ショ
ア硬度Ａ・３と著しく機械特性の劣るものであり、光フ
アイバ製造中に多数断線が生じた。
（発明の効果）
本発明のクラッドとする光ファイバはＮＡが太き（、エ
ネルギー伝送用ファイバとしての使用した場合、エネル
ギーを効率よ（送れるという利点を有する。また室温に
おいて１００．０００ｃｐ以下であるため溶媒で希釈す
る必要がなく、溶媒の揮発に起因するファイバの欠陥が
なく、伝送損失の低下が少ない。さらに、機械特性の改
良がなされているので、製造中や後加工中に、クラツド
材が剥離したり光ファイバが断線するといったことがな
い。
ネルギー伝送用ファイバとしての使用した場合、エネル
ギーを効率よ（送れるという利点を有する。また室温に
おいて１００．０００ｃｐ以下であるため溶媒で希釈す
る必要がなく、溶媒の揮発に起因するファイバの欠陥が
なく、伝送損失の低下が少ない。さらに、機械特性の改
良がなされているので、製造中や後加工中に、クラツド
材が剥離したり光ファイバが断線するといったことがな
い。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下記成分Ａ〜Ｄを含む組成物からなり、且つ室温に
おける粘度が１０，０００ＣＰ以下である、熱により硬
化可能な高ＮＡ光ファイバクラッド材。 Ａ、下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｖｉはビニル基、Ｒ＿ｆはパーフルオロアルキ
ル基またはパーフルオロエーテル基を 示し、ｌ、ｍは正の整数、ｎは０又は正の 整数であってｎ／ｌ＋ｍ＋ｎ＜０．０２を満足する。） で表わされるビニル基含有フルオロシリコーン。 Ｂ、該組成物を硬化させるに十分な量の、１分子中に平
均２個以上の珪素結合水素原子を有するシリコーン。 Ｃ、ＲＳｉＯ＿１＿．＿５単位（Ｒは置換または非置換
の一価の飽和または不飽和基である）および ＳｉＯ＿２単位の少なくとも１種を必須成分とするシリ
コーンレジン。 Ｄ、該組成物の硬化を促進するに十分な量の遷移金属触
媒。 ２、Ｒ＿ｆが炭素数４以上のパーフルオロアルキル基で
ある請求項１記載の高ＮＡ光ファイバクラッド材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2213723A JPH0496004A (ja) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | 高ｎａ光ファイバ用クラッド材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2213723A JPH0496004A (ja) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | 高ｎａ光ファイバ用クラッド材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0496004A true JPH0496004A (ja) | 1992-03-27 |
Family
ID=16643929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2213723A Pending JPH0496004A (ja) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | 高ｎａ光ファイバ用クラッド材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0496004A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06145527A (ja) * | 1992-11-05 | 1994-05-24 | Dow Corning Asia Kk | 剥離性組成物 |
| JP2007191504A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコーンゴム組成物及びその硬化物 |
| JP2008063508A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 押出成型用シリコ−ンゴム組成物 |
| CN102902008A (zh) * | 2011-07-27 | 2013-01-30 | 三菱电线工业株式会社 | 聚合物包层光纤及其制造方法 |
| JP2013041060A (ja) * | 2011-08-12 | 2013-02-28 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | ポリマークラッド光ファイバ及びその製造方法 |
| JP2013048214A (ja) * | 2011-07-27 | 2013-03-07 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | ダブルクラッド光ファイバ及びその製造方法、並びにダブルクラッド光ファイバ心線の製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5819370A (ja) * | 1981-07-27 | 1983-02-04 | Toshiba Silicone Co Ltd | 被覆用組成物および被覆方法 |
| JPS627006A (ja) * | 1985-07-04 | 1987-01-14 | Asahi Glass Co Ltd | プラスチツククラツド光伝送繊維 |
| JPS6249305A (ja) * | 1985-08-28 | 1987-03-04 | Asahi Glass Co Ltd | 光伝送フアイバ−用クラツド材組成物 |
| JPS63265956A (ja) * | 1987-04-24 | 1988-11-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光通信フアイバ−用シリコ−ン組成物 |
-
1990
- 1990-08-14 JP JP2213723A patent/JPH0496004A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5819370A (ja) * | 1981-07-27 | 1983-02-04 | Toshiba Silicone Co Ltd | 被覆用組成物および被覆方法 |
| JPS627006A (ja) * | 1985-07-04 | 1987-01-14 | Asahi Glass Co Ltd | プラスチツククラツド光伝送繊維 |
| JPS6249305A (ja) * | 1985-08-28 | 1987-03-04 | Asahi Glass Co Ltd | 光伝送フアイバ−用クラツド材組成物 |
| JPS63265956A (ja) * | 1987-04-24 | 1988-11-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光通信フアイバ−用シリコ−ン組成物 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06145527A (ja) * | 1992-11-05 | 1994-05-24 | Dow Corning Asia Kk | 剥離性組成物 |
| JP2007191504A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコーンゴム組成物及びその硬化物 |
| US8168730B2 (en) | 2006-01-17 | 2012-05-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Curable silicone rubber composition and cured product thereof |
| JP2008063508A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 押出成型用シリコ−ンゴム組成物 |
| US7977417B2 (en) | 2006-09-11 | 2011-07-12 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Silicone rubber composition for extrusion molding |
| CN102902008A (zh) * | 2011-07-27 | 2013-01-30 | 三菱电线工业株式会社 | 聚合物包层光纤及其制造方法 |
| JP2013048214A (ja) * | 2011-07-27 | 2013-03-07 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | ダブルクラッド光ファイバ及びその製造方法、並びにダブルクラッド光ファイバ心線の製造方法 |
| JP2013041060A (ja) * | 2011-08-12 | 2013-02-28 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | ポリマークラッド光ファイバ及びその製造方法 |
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