JPH0474562A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JPH0474562A JPH0474562A JP18748890A JP18748890A JPH0474562A JP H0474562 A JPH0474562 A JP H0474562A JP 18748890 A JP18748890 A JP 18748890A JP 18748890 A JP18748890 A JP 18748890A JP H0474562 A JPH0474562 A JP H0474562A
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- Japan
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- back roll
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- coating
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Links
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 claims description 4
- 238000007767 slide coating Methods 0.000 claims description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 abstract description 17
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、塗布装置のバックロールに関し、詳しくはウ
ェッブとバックロールの密着性を高める機構を有するビ
ード塗布装置に関する。
ェッブとバックロールの密着性を高める機構を有するビ
ード塗布装置に関する。
連続走行する可撓性長尺支持体（以下ウェッブという）
に塗布液を塗布する装置には各種の装置があるが、いわ
ゆるビード塗布装置ではバックローターエツジの間にビ
ードを形成させ、このビードを介して塗布が行われる。
に塗布液を塗布する装置には各種の装置があるが、いわ
ゆるビード塗布装置ではバックローターエツジの間にビ
ードを形成させ、このビードを介して塗布が行われる。
この際、ビードの安定が安定塗布のために非常に大きな
要因となる。ビード安定のためには幾つかの問題が考え
られるが、１つの方法としてビードの上下に圧力差を与
えること、一般的には下方に減圧を行うことが有効であ
る。さらにコーターエツジとバックロール（実際的には
ウェッブ）との間隙、すなわちビード間隙の安定も非常
に重要である。
要因となる。ビード安定のためには幾つかの問題が考え
られるが、１つの方法としてビードの上下に圧力差を与
えること、一般的には下方に減圧を行うことが有効であ
る。さらにコーターエツジとバックロール（実際的には
ウェッブ）との間隙、すなわちビード間隙の安定も非常
に重要である。
ビード間隙の安定のためには、まずウェッブが充分バッ
クロールに密着していることが必要である。一方、ウェ
ブを走行するためには塗布方向に、ある張力をもって引
っ張ることが必要であり、前記ウェッブとバックロール
との密着のためには張力を高めることが望ましいが、あ
まり高めるとかえって支持体が縦方向につれて歪む場合
がある。
クロールに密着していることが必要である。一方、ウェ
ブを走行するためには塗布方向に、ある張力をもって引
っ張ることが必要であり、前記ウェッブとバックロール
との密着のためには張力を高めることが望ましいが、あ
まり高めるとかえって支持体が縦方向につれて歪む場合
がある。
また、ウェッブのバックロールへの抱き角を大きくする
ことも有効ではあるが、これにも限界がある。
ことも有効ではあるが、これにも限界がある。
さらに前記減圧は、またウェッブを下方に引っ張る作用
もあるので、張力を必要以上に高めず、しかも減圧に抗
して充分ウェッブをバックロールに密着させなければな
らないという問題がある。
もあるので、張力を必要以上に高めず、しかも減圧に抗
して充分ウェッブをバックロールに密着させなければな
らないという問題がある。
上記のような問題に対して本発明の目的は、減圧装置を
有するビード塗布装置において、塗布張力を必要以上に
上昇することなく、ウェッブとバックロールとの充分な
密着性を得ることのできるバックロール機構を有する塗
布装置を提供することである。
有するビード塗布装置において、塗布張力を必要以上に
上昇することなく、ウェッブとバックロールとの充分な
密着性を得ることのできるバックロール機構を有する塗
布装置を提供することである。
本発明の上記目的は、連続走行するウェッブに押し出し
塗布あるいはスライド塗布により塗布を行う塗布装置に
おいて、バックロール内部に設置したサクション機構に
より、バックロール表面に設けた複数の孔からサクショ
ンを行うことにより、ウェッブをバックロールに密着塗
布することを特徴とする塗布装置により達成される。
塗布あるいはスライド塗布により塗布を行う塗布装置に
おいて、バックロール内部に設置したサクション機構に
より、バックロール表面に設けた複数の孔からサクショ
ンを行うことにより、ウェッブをバックロールに密着塗
布することを特徴とする塗布装置により達成される。
以下、本発明について詳細に説明する。
第１図は本発明における押し出し型塗布装置の概要を示
す断面図である。
す断面図である。
バックロールｌに抱かれて矢印方向に走行するウェッブ
２は押し出しを塗布装置３により塗布液を塗布されるが
、塗布装置３はポンプにより定量の塗布液を矢印の方向
すなわちウェッブに向けて押し出し塗布装置の先端５で
ビードをつくり、ウェッブ上に塗布する。この際、減圧
装置４によりビードを下方に引くことによりビードの安
定をはかる。
２は押し出しを塗布装置３により塗布液を塗布されるが
、塗布装置３はポンプにより定量の塗布液を矢印の方向
すなわちウェッブに向けて押し出し塗布装置の先端５で
ビードをつくり、ウェッブ上に塗布する。この際、減圧
装置４によりビードを下方に引くことによりビードの安
定をはかる。
第２図はバックロールの減圧機構を示す断面図であるが
、同図においてバックロールｌはサイドの中心よりパイ
プを介して減圧ポンプにより内部を減圧し、バックロー
ル表面に設けた多くの小孔６によりウェッブを吸引し、
ウェッブとバックロールの密着性を高める。
、同図においてバックロールｌはサイドの中心よりパイ
プを介して減圧ポンプにより内部を減圧し、バックロー
ル表面に設けた多くの小孔６によりウェッブを吸引し、
ウェッブとバックロールの密着性を高める。
減圧装置の減圧度は０−１５０ｍｍＡｑが好ましいが、
この減圧度を△Ｐ１とし、減圧装置のウェッブに対する
開口面積を８１バツクロ一ル表面のサクション孔径（０
，０５〜３ｍｍが好ましい）をｄ、同孔数をｍ１バツク
ロ一ル内部の減圧度△Ｐ２とし、ウェッブの張力のバッ
クロール内部方向成分をＴとした時、下記式で表される
関係が必要である。
この減圧度を△Ｐ１とし、減圧装置のウェッブに対する
開口面積を８１バツクロ一ル表面のサクション孔径（０
，０５〜３ｍｍが好ましい）をｄ、同孔数をｍ１バツク
ロ一ル内部の減圧度△Ｐ２とし、ウェッブの張力のバッ
クロール内部方向成分をＴとした時、下記式で表される
関係が必要である。
△ｐ ｒ ｓ ＜△Ｐ２ｄｍ＋Ｔ
すなわち、これによりウェッブはバックロール中心方向
に対する力が強く密着性が良いことになる。
に対する力が強く密着性が良いことになる。
これらの具体的条件は例えば張力等も塗布乾燥装置の規
模、塗布中、塗布速度、ウェッブの抱き角等により変わ
るため、各実際条件に応じて適切に設定する必要がある
が、前記式条件を満足すれば必要以上に△Ｐ、を大きく
とる必要はない。
模、塗布中、塗布速度、ウェッブの抱き角等により変わ
るため、各実際条件に応じて適切に設定する必要がある
が、前記式条件を満足すれば必要以上に△Ｐ、を大きく
とる必要はない。
以下、実施例により具体的に本発明の効果を例証する。
実施例１
下記の塗布液、塗布条件により、本発明のバックロール
を使用した第１図に示す押出型塗布装置により塗布を行
った。
を使用した第１図に示す押出型塗布装置により塗布を行
った。
塗布液
アルミナゾル ４０ｇＡｓ −１
００（日産化学（株）製） アセトン ５００ＩＩＩＩ２メ
タノール ４００ｍＱデメチルホ
ルムアミド １００ｍ１２その他の固形含有
物（溶解物）３０ｇ 塗布条件 塗布速度： ３５ｍ／ｍｉｎ 減圧度△Ｐ １＝ ４０＋ｎｍＡｑ＝ ３．９９９９Ｘ
１０−’Ｋｇ／ｃｍ”開口面積Ｓ ＝ ６８０ｃｍ２ バックロール内部減圧度へＰ ｘ＝ １００ｍｍＡｑ＝
９．９９９７Ｘ１０’−’Ｋｇ／ａｍ２バックロール孔
径ｄ ＝ ２ ｍｍ 〃 孔数ｍ ＝ １００個 ウェブ張力バックロール内部方向成分子 ＝ ４ Ｋｇ
以上の条件から 八Ｐ 、 Ｓ ＝ ２．７２Ｋｇ △Ｐ 、ｄ ｍ ＋ Ｔ ＝ ４．２０Ｋｇとなり△ｐ
、ｓ＜△Ｐｘｄｍ＋Ｔの本発明の条件を満足する塗布条
件で塗布を行った結果、所期のとおり安定したビード状
態となり、バックロールの減圧をしない場合に比較して
良好な塗布状態を得ることができた。
００（日産化学（株）製） アセトン ５００ＩＩＩＩ２メ
タノール ４００ｍＱデメチルホ
ルムアミド １００ｍ１２その他の固形含有
物（溶解物）３０ｇ 塗布条件 塗布速度： ３５ｍ／ｍｉｎ 減圧度△Ｐ １＝ ４０＋ｎｍＡｑ＝ ３．９９９９Ｘ
１０−’Ｋｇ／ｃｍ”開口面積Ｓ ＝ ６８０ｃｍ２ バックロール内部減圧度へＰ ｘ＝ １００ｍｍＡｑ＝
９．９９９７Ｘ１０’−’Ｋｇ／ａｍ２バックロール孔
径ｄ ＝ ２ ｍｍ 〃 孔数ｍ ＝ １００個 ウェブ張力バックロール内部方向成分子 ＝ ４ Ｋｇ
以上の条件から 八Ｐ 、 Ｓ ＝ ２．７２Ｋｇ △Ｐ 、ｄ ｍ ＋ Ｔ ＝ ４．２０Ｋｇとなり△ｐ
、ｓ＜△Ｐｘｄｍ＋Ｔの本発明の条件を満足する塗布条
件で塗布を行った結果、所期のとおり安定したビード状
態となり、バックロールの減圧をしない場合に比較して
良好な塗布状態を得ることができた。
本発明により、減圧装置を有する押し出しあるいはスラ
イド塗布装置において、ウェッブとバックロールとの間
の密着性を高め、これによりビード間隙の精度を高めて
安定塗布の可能な塗布装置を提供することができた。
イド塗布装置において、ウェッブとバックロールとの間
の密着性を高め、これによりビード間隙の精度を高めて
安定塗布の可能な塗布装置を提供することができた。
第１図は本発明の機構を有する塗布装置の１例を示す断
面図である。 第２図はバックロールの減圧機構を示す断面図である。 ｌ：バックロール ３：塗布装置 ５：コーターエツジ ２：ウェッブ ４：減圧装置 ６：小孔
面図である。 第２図はバックロールの減圧機構を示す断面図である。 ｌ：バックロール ３：塗布装置 ５：コーターエツジ ２：ウェッブ ４：減圧装置 ６：小孔
Claims (1)
- 連続走行するウエッブに、押し出し塗布あるいはスラ
イド塗布により塗布を行う塗布装置において、バックロ
ール内部に設置したサクション機構により、バックロー
ル表面に設けた複数の孔からサクションを行うことによ
り、ウエッブをバックロールに密着し、塗布を行うこと
を特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18748890A JPH0474562A (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18748890A JPH0474562A (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | 塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0474562A true JPH0474562A (ja) | 1992-03-09 |
Family
ID=16206946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18748890A Pending JPH0474562A (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0474562A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001139009A (ja) * | 1999-11-12 | 2001-05-22 | Osaka Sealing Printing Co Ltd | シート状被着材への塗布装置およびその方法 |
| JP2011215231A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Konica Minolta Opto Inc | 光学フィルム、及びその製造方法 |
| JP2012035228A (ja) * | 2010-08-11 | 2012-02-23 | Oji Paper Co Ltd | カーテン塗工装置 |
| WO2012039218A1 (ja) * | 2010-09-25 | 2012-03-29 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 塗布方法、有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
-
1990
- 1990-07-16 JP JP18748890A patent/JPH0474562A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001139009A (ja) * | 1999-11-12 | 2001-05-22 | Osaka Sealing Printing Co Ltd | シート状被着材への塗布装置およびその方法 |
| JP4558871B2 (ja) * | 1999-11-12 | 2010-10-06 | 大阪シーリング印刷株式会社 | シート状被着材への塗剤の塗布方法 |
| JP2011215231A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Konica Minolta Opto Inc | 光学フィルム、及びその製造方法 |
| JP2012035228A (ja) * | 2010-08-11 | 2012-02-23 | Oji Paper Co Ltd | カーテン塗工装置 |
| WO2012039218A1 (ja) * | 2010-09-25 | 2012-03-29 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 塗布方法、有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
| JP5648691B2 (ja) * | 2010-09-25 | 2015-01-07 | コニカミノルタ株式会社 | 塗布方法、有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
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