JPH0471896B2 - - Google Patents
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- JPH0471896B2 JPH0471896B2 JP26399587A JP26399587A JPH0471896B2 JP H0471896 B2 JPH0471896 B2 JP H0471896B2 JP 26399587 A JP26399587 A JP 26399587A JP 26399587 A JP26399587 A JP 26399587A JP H0471896 B2 JPH0471896 B2 JP H0471896B2
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26399587A JPH01106835A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | パラー第三級−ブトキシスチレンの合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26399587A JPH01106835A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | パラー第三級−ブトキシスチレンの合成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01106835A JPH01106835A (ja) | 1989-04-24 |
| JPH0471896B2 true JPH0471896B2 (OSRAM) | 1992-11-16 |
Family
ID=17397082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26399587A Granted JPH01106835A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | パラー第三級−ブトキシスチレンの合成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01106835A (OSRAM) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4546050A1 (en) | 2023-10-23 | 2025-04-30 | Valstybinis Moksliniu Tyrimu Institutas Fiziniu Ir Technologijos Mokslu Centras | Method for patterning graphene layers through photolithography for a scalable fabrication of graphene devices |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3585277B2 (ja) * | 1994-12-05 | 2004-11-04 | 本州化学工業株式会社 | スチレン誘導体の製造方法 |
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| US6472567B2 (en) | 1998-01-30 | 2002-10-29 | Tosoh Corporation | Process for the production of styrene compound, and styrene compound free from biphenyl |
| US6433118B1 (en) | 1998-10-15 | 2002-08-13 | Mitsui Chemicals, Inc. | Copolymer, a manufacturing process therefor and a solution containing thereof |
| JP4238405B2 (ja) * | 1999-02-09 | 2009-03-18 | 東ソー株式会社 | 置換スチレン誘導体又は置換ビアリール誘導体の製造方法 |
| JP2003055285A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Hokko Chem Ind Co Ltd | 4−tert−ブトキシ−4’−ハロゲノビフェニルおよびその製法、並びに4−ハロゲノ−4’−ヒドロキシビフェニルの製法 |
| JP2007084563A (ja) * | 2006-11-06 | 2007-04-05 | Tosoh Corp | オキシスチレン誘導体の蒸留方法 |
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-
1987
- 1987-10-21 JP JP26399587A patent/JPH01106835A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4546050A1 (en) | 2023-10-23 | 2025-04-30 | Valstybinis Moksliniu Tyrimu Institutas Fiziniu Ir Technologijos Mokslu Centras | Method for patterning graphene layers through photolithography for a scalable fabrication of graphene devices |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01106835A (ja) | 1989-04-24 |
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