JPH0469899A - 半導体不揮発性メモリ - Google Patents
半導体不揮発性メモリInfo
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- JPH0469899A JPH0469899A JP2181349A JP18134990A JPH0469899A JP H0469899 A JPH0469899 A JP H0469899A JP 2181349 A JP2181349 A JP 2181349A JP 18134990 A JP18134990 A JP 18134990A JP H0469899 A JPH0469899 A JP H0469899A
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- JP
- Japan
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- write
- memory
- circuit
- array
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- Pending
Links
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 8
- 238000003491 array Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
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Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
C産業上の利用分野〕
この発明はコンビ二一夕などの電子機器に用いられる半
導体不揮発性メモリに関する。
導体不揮発性メモリに関する。
この発明は複数のメモリアレイを有し、まずは1つのメ
モリアレイのみ動作させ、書込みによる特性変化により
書込み限界まで動作させた後、次のメモリアレイに順次
切換えていくことにより、書換え特性を向上させた半導
体不揮発性メモリである。
モリアレイのみ動作させ、書込みによる特性変化により
書込み限界まで動作させた後、次のメモリアレイに順次
切換えていくことにより、書換え特性を向上させた半導
体不揮発性メモリである。
半導体不揮発性メモリ、特にMO3型メモリはチャネル
ホットエレクトロンやトンネリング電流などを利用して
浮遊ゲート電極の電位を変えることにより記憶保持を行
っている。第2図は一般的な半導体不揮発性メモリの書
換え特性である。異なる信号“1”および10”に対応
したメモリの浮遊ゲート電極の電位VTFGの差は通常
不揮発性メモリの書込みwindowと呼ばれている。
ホットエレクトロンやトンネリング電流などを利用して
浮遊ゲート電極の電位を変えることにより記憶保持を行
っている。第2図は一般的な半導体不揮発性メモリの書
換え特性である。異なる信号“1”および10”に対応
したメモリの浮遊ゲート電極の電位VTFGの差は通常
不揮発性メモリの書込みwindowと呼ばれている。
このwindow幅は、薄い絶縁膜中を電子が移動す
る際に作られるキャリアトラップにより、書換えのたび
に狭くなり、不揮発性メモリの最大書換え回数を決定し
ている。通常MO3型不揮発性メモリの最大書換え回数
は 10’−10’回であるが、メモリのユーザからは
書換え回数の増大が要求されてい第2図に従来の半導体
不揮発性メモリのプロ。
る際に作られるキャリアトラップにより、書換えのたび
に狭くなり、不揮発性メモリの最大書換え回数を決定し
ている。通常MO3型不揮発性メモリの最大書換え回数
は 10’−10’回であるが、メモリのユーザからは
書換え回数の増大が要求されてい第2図に従来の半導体
不揮発性メモリのプロ。
り構成図を示す。不揮発性メモリアレイIIにロウデコ
ーダ2およびセンスアンプを含むI10回路4、カラム
デコーダ3が接続されている。さらに170回84には
プログラムパルス発生回路5が接続されている。八〇〜
A、、はアドレス入力端子、l101〜l107はデー
タ入出力端子、Rはデータ読出し端子、PROGは書込
み時のプログラム制御端子である。
ーダ2およびセンスアンプを含むI10回路4、カラム
デコーダ3が接続されている。さらに170回84には
プログラムパルス発生回路5が接続されている。八〇〜
A、、はアドレス入力端子、l101〜l107はデー
タ入出力端子、Rはデータ読出し端子、PROGは書込
み時のプログラム制御端子である。
従来は不揮発性メモリアレイの内部状態にかかわらず、
統計的に求められた最大書換え回数になると使用不可と
していた。さらに、メモリアレイと同等の書込み特性を
モニタ素子の書込み特性を使って最大書換え回数を増や
そうとしたものである。
統計的に求められた最大書換え回数になると使用不可と
していた。さらに、メモリアレイと同等の書込み特性を
モニタ素子の書込み特性を使って最大書換え回数を増や
そうとしたものである。
最大書換え回数を大幅に増大させようとする場合、従来
は不揮発性メモリデバイスの構造やプロセスの改良を行
うしか方法はなかった。
は不揮発性メモリデバイスの構造やプロセスの改良を行
うしか方法はなかった。
C課題を解決するための手段〕
本発明は不揮発性メモリアレイを複数個(n)用意し、
1つのメモリアレイのみを選択的に動作させる制御回路
を通して、書込み/続出し動作を行う。不揮発性のカウ
ンタ回路により、最大書換え回数に達した場合、あるい
は書込みレベルモニタにより書込み限界に近づいた場合
に制御回路により次のメモリアレイに順次切換えて不揮
発性メモリ動作を連続させるものである。
1つのメモリアレイのみを選択的に動作させる制御回路
を通して、書込み/続出し動作を行う。不揮発性のカウ
ンタ回路により、最大書換え回数に達した場合、あるい
は書込みレベルモニタにより書込み限界に近づいた場合
に制御回路により次のメモリアレイに順次切換えて不揮
発性メモリ動作を連続させるものである。
不揮発性メモリデバイスの構造やプロセスの改良なしに
、最大書換え回数をアレイ数倍に増加させることができ
る。
、最大書換え回数をアレイ数倍に増加させることができ
る。
第1図に本発明の実施例である半導体不揮発性メモリの
ブロック構成図を示す。A0〜A、はアドレス入力端子
、Ilo、〜I 10.はデータ入出力端子、Rはデー
タリード端子、STOはデータ書込み(ストア)端子で
ある。本実施例では全く同じサイズ、全く同じ特性の不
揮発性メモリアレイ11〜14が設けられている。この
メモリアレイ11〜14にロウデコーダ2とカラムデコ
ーダ3およびセンスアンプ等を含むI10回路4が接続
され、周辺回路1を構成している。不揮発性メモリの書
込みは、STO信号によりストアパルス発生回路22で
ストアパルスを発生し、コントロール回路21とメモリ
アレイ切換え回路21を通してメモリアレイ11〜14
のいずれか1つにストアパルスを供給する。
ブロック構成図を示す。A0〜A、はアドレス入力端子
、Ilo、〜I 10.はデータ入出力端子、Rはデー
タリード端子、STOはデータ書込み(ストア)端子で
ある。本実施例では全く同じサイズ、全く同じ特性の不
揮発性メモリアレイ11〜14が設けられている。この
メモリアレイ11〜14にロウデコーダ2とカラムデコ
ーダ3およびセンスアンプ等を含むI10回路4が接続
され、周辺回路1を構成している。不揮発性メモリの書
込みは、STO信号によりストアパルス発生回路22で
ストアパルスを発生し、コントロール回路21とメモリ
アレイ切換え回路21を通してメモリアレイ11〜14
のいずれか1つにストアパルスを供給する。
詳細な動作説明を以下に述べる。まず電源が投入される
とメモリアレイ11とモニタ素子31が動作するように
ストアコントロール回路を設定しておく。ここでモニタ
素子31〜34はメモリアレイ11〜14と全く同じ構
造のものを用いている。
とメモリアレイ11とモニタ素子31が動作するように
ストアコントロール回路を設定しておく。ここでモニタ
素子31〜34はメモリアレイ11〜14と全く同じ構
造のものを用いている。
ストア信号STOが入ると、10〜20Vのストアパル
スが発生し、メモリアレイ切換え回路26を通してメモ
リアレイ11のみ書換え動作が行われる。
スが発生し、メモリアレイ切換え回路26を通してメモ
リアレイ11のみ書換え動作が行われる。
またモニタ素子31にも同様のストアパルスが供給され
るが、書換え時のデータ信号は“1°/“0″発生回路
23により“1”と′0′が交互に与えられる。これは
“1”/“0”信号での書換えが、書換え特性変化に対
して一番厳しいため、この状態でモニタ素子を監視して
おけば、メモリアレイ11が書込み不可となる危険性が
一番受ないためである。
るが、書換え時のデータ信号は“1°/“0″発生回路
23により“1”と′0′が交互に与えられる。これは
“1”/“0”信号での書換えが、書換え特性変化に対
して一番厳しいため、この状態でモニタ素子を監視して
おけば、メモリアレイ11が書込み不可となる危険性が
一番受ないためである。
モニタ素子31の占込みレベルはその都度、書込みレベ
ル検出回路25でチエツクされ書込み限界まで書込みが
行われる。書込みレベル検出回路25にて限界値を検出
した場合には、速やかにメモリアレイ12およびモニタ
素子32に切換えるようにストアコントロール回路が動
作する。また電源投入時にメモリアレイ12とモニタ素
子32に切り換わるようにしておく。
ル検出回路25でチエツクされ書込み限界まで書込みが
行われる。書込みレベル検出回路25にて限界値を検出
した場合には、速やかにメモリアレイ12およびモニタ
素子32に切換えるようにストアコントロール回路が動
作する。また電源投入時にメモリアレイ12とモニタ素
子32に切り換わるようにしておく。
このようにして、1つのメモリアレイが書込み限界にき
たら他のメモリアレイに順次切り換わるようにする。
たら他のメモリアレイに順次切り換わるようにする。
第4図は本発明の他の実施例で、第1図にて、切換え条
件をモニタ素子の書込みレベルで判断していたのに対し
、各メモリアレイの推定あるいは標準書込み回数により
、メモリアレイ11〜14の切換えを行うものである。
件をモニタ素子の書込みレベルで判断していたのに対し
、各メモリアレイの推定あるいは標準書込み回数により
、メモリアレイ11〜14の切換えを行うものである。
この場合、ストア信号を数えるカウンタ27は不揮発性
動作可能でなければならないので実際の使用は難しい。
動作可能でなければならないので実際の使用は難しい。
以上述べたように本発明により、デバイス/プロセスの
改良なしに確実に従来の数倍の書換え特性が得られる。
改良なしに確実に従来の数倍の書換え特性が得られる。
第1図のブロック図から分かるように、本発明はメモリ
セルを複数個用いるので、千ノブ面積は増大する。しか
し、小容量でも高書換え回数を必要としている不揮発性
メモリの構成には最適である。
セルを複数個用いるので、千ノブ面積は増大する。しか
し、小容量でも高書換え回数を必要としている不揮発性
メモリの構成には最適である。
第1図は本発明の実施例である不(1発性メモリのブロ
ック図、第2図は従来の不揮発性メモリのブロック図、
第3図は不揮発性メモリの書換え特性図、第4図は本発
明の他の実施例である不揮発性メモリのブロック図であ
る。 11〜1,4・ 20・ ・ ・ 21・ ・ 22・ 23・ ・ ・ 24・ ・ ・ ・ 25・ ・ ・ 2G・ ・ ・ ・ 27・ ・ ・ ・ 31〜34・ ・ ・メモ1ノアレイ ・制御回路 ・ス]・アコントロール回路 ・ストアパルス発生回路 “1゛/“0“信号発生回路 モニタ素子切換え回路 ・書込みレベル検出回路 ・メモリアレイ切換え回路 ・不揮発性カウンタ モニタ素子
ック図、第2図は従来の不揮発性メモリのブロック図、
第3図は不揮発性メモリの書換え特性図、第4図は本発
明の他の実施例である不揮発性メモリのブロック図であ
る。 11〜1,4・ 20・ ・ ・ 21・ ・ 22・ 23・ ・ ・ 24・ ・ ・ ・ 25・ ・ ・ 2G・ ・ ・ ・ 27・ ・ ・ ・ 31〜34・ ・ ・メモ1ノアレイ ・制御回路 ・ス]・アコントロール回路 ・ストアパルス発生回路 “1゛/“0“信号発生回路 モニタ素子切換え回路 ・書込みレベル検出回路 ・メモリアレイ切換え回路 ・不揮発性カウンタ モニタ素子
Claims (1)
- “1”、“0”の2値信号に対応する2つの安定な状態
により不揮発性の記憶保持を司どる記憶素子からなる複
数のメモリアレイと、前記メモリアレイの1つにアドレ
ス選択や読出し等を行う周辺回路と、前記メモリアレイ
の1つを書込限界まで動作させた後に他のメモリアレイ
へ切換え、さらに書込み限界まで動作させる作業を繰り
返す制御回路からなる半導体不揮発性メモリ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2181349A JPH0469899A (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 半導体不揮発性メモリ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2181349A JPH0469899A (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 半導体不揮発性メモリ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0469899A true JPH0469899A (ja) | 1992-03-05 |
Family
ID=16099157
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2181349A Pending JPH0469899A (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 半導体不揮発性メモリ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0469899A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010040165A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Samsung Electronics Co Ltd | メモリ装置 |
-
1990
- 1990-07-09 JP JP2181349A patent/JPH0469899A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010040165A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Samsung Electronics Co Ltd | メモリ装置 |
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