JP3476479B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JP3476479B2
JP3476479B2 JP24004091A JP24004091A JP3476479B2 JP 3476479 B2 JP3476479 B2 JP 3476479B2 JP 24004091 A JP24004091 A JP 24004091A JP 24004091 A JP24004091 A JP 24004091A JP 3476479 B2 JP3476479 B2 JP 3476479B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に係わ
り、特に、セル状態検出回路を有する電気的書き込み可
能な半導体記憶装置に関する。
【0002】近年、電気的書き込み可能な半導体記憶装
置、例えばEPROM(Erasable and Programmable Re
ad Only Memory)、EEPROM(Electrically Erasa
bleand Programmable Read Only Memory )、またはフ
ラッシュEEPROMなどは、マイクロコンピュータシ
ステムのプログラム/データ記憶用に広く使用されてい
る。これらの半導体記憶装置は、メモリセル内に蓄えら
れた電荷量の多少により情報を記憶しているため、信頼
性の高い素子の開発には、プログラム時に書き込まれる
電荷量を正しく測定できることが望ましい。また、シス
テムの信頼性を高めるためにも、書き込んだ後の電荷量
を測定できることが望ましい。
【0003】更に、近年の高集積半導体記憶装置では、
セルの微細化が進んでいるため、セルトランジスタはプ
ロセスのバラツキや各種の汚染に敏感になっており、書
き込み後のセル状態だけでなく、消去後のセルの状態を
詳しく測定することも重要となっている。
【0004】
【従来の技術】図5乃至図8により、従来のEPROM
におけるセル状態検出について説明する。
【0005】図5に、EPROMにおけるセルとその周
辺回路の概略図を示す。同図において、20はロウデコ
ーダ回路、30はセンス回路、40は情報を記憶するセ
ルが配設されたセルマトリクス、50はコラムゲート回
路である。コラムゲート回路50においてTYO〜TYNは
コラムゲートランジスタ、セルマトリクス40において
T00〜TMNはセルトランジスタであり、これらはすべて
Nチャネルトランジスタである。ロウデコーダ回路20
の出力X0 〜XM は、セルトランジスタT00〜TMNのゲ
ートに接続され、図示しないコラムデコーダ回路の出力
がコラムゲートトランジスタのゲートY0 〜YN に接続
されている。
【0006】上記構成において、図示しないロウアドレ
ス入力回路により選択されたロウデコーダ入力(X0 〜
XM の一つ)と、図示しないコラムアドレス入力回路に
より選択されたコラムデコーダの出力(Y0 〜YNの一
つ)とにより選択されたビット線(B0 〜BN の一つ)
の交点にあるセル(T00〜TMNの一つ)を流れる電流
が、センス回路30によって検出され、出力回路(図示
せず)によってセル情報として出力される。
【0007】図6に、上記EPROMのセル構造の概念
図を示す。セルは二重ポリシリコンゲートトランジスタ
であり、同図に示すように、上部ゲート(コントロール
ゲート、以下「CG」という)100はロウデコーダ回
路20の出力に接続されている。下部ゲート(フローテ
ィングゲート、以下「FG」という)110は他の回路
と電気的に絶縁され電荷蓄積層として動作する。CG1
00にVCC(5V)が印加されると、FG110は、C
G100との間に形成される容量により電位が上昇し、
FG110に電荷が蓄積されていない状態(消去状態)
では、約3V程度になる。FG110に電荷が蓄積され
ている状態(書き込み状態)では、蓄積された電荷量に
応じてFG110の電位が決まり、電荷(電子)が多い
ほどFG110の電位は低くなる。
【0008】図7に、上記EPROMセルのゲート電位
とセル電流の関係図を示す。同図において、(1)はF
G110電位とセル電流の関係を示し、(2)、(3)
はCG100の電位とセル電流の関係を示しているが、
(2)はFG110に蓄積された電荷が少ない場合を、
(3)はFG110に蓄積された電荷が多い場合を示し
いてる。セルトランジスタに流れる電流はFG110の
電位によって決まるため、FG110の電位とセル電流
の関係は、FG110に蓄積された電荷量には依存しな
い。一方、CG100の電位とセル電流の関係において
は、同一のCG100電位に対するFG110の電位
は、FG110に蓄積されている電荷量に依存するた
め、同一CG100の電位に対するセル電流は、電荷が
少ない時のセル電流の方が、多い時のセル電流より多く
なる。
【0009】セル電流がセンス回路30によって定まる
センス電流より多い場合には、センス回路30はセルが
消去状態にあると判断し、少ない場合は書き込み状態に
あると判断する。従って、通常の動作状態ではセル電流
とセンス電流の大小の比較の結果が出力されるのみであ
り、セルの詳しい状態は不明である。セルの詳しい状態
を知るためには、CG100の電位を変化させることで
セル電流を変化させ、出力が変化するCG100の電位
(セル電流がセンス電流に一致するCGの電位)を求め
る必要がある。
【0010】図5に示す回路においては、CG100の
電位(ロウデコーダ回路20の出力X0 〜XM )はロウ
デコーダ回路20の電源VCCによってきまっている。C
G100の電位を変化させるためにVCCの電位を変化さ
せた場合、VCCはセンス回路30にも同時に入力されて
いるため、VCCを変化させるとセンス回路30の特性
(センス電流)も変化してしまい、VCCの変化(ΔVC
C)と同一のセル電流を流すためのCG100の電位の
変化(ΔVCG)とが、必ずしも同一にならないという欠
点が生じる。
【0011】図8に、上記の欠点を改善するセル状態検
出回路を備えたEPROMの概略図を示す。同図におい
て、図5に示したものと同一のものには同一記号を付
し、その説明を援用する。図8に示す構成において図5
と異なるところは、点線内に示す回路を新たに付け加え
た部分であり、点線内に示す回路10はロウデコーダ回
路20の電源切替え回路である。電源切替え回路10は
セル状態検出回路を形成するもので、T0 、T1 は、N
チャネルディプリーショントランジスタであり、電源切
替え用トランジスタとして構成したものである。
【0012】図8におけるセル状態の検出動作を以下に
説明する。電源切替え回路10において、通常の動作時
には、電源切替え用トランジスタT0 のゲート信号Rは
“H”、電源切替え用トランジスタT1 のゲート信号M
は“L”とされ、その結果、ロウデコーダ回路20の内
部電源(VINT )はVCCとなる。この場合のセルの読出
し動作は、図5に示す回路の場合と同じであるため詳細
は省略する。これに対してセル状態検出時には、電源切
替え用トランジスタT0 のゲート信号Rは“L”、電源
切替え用トランジスタT1 のゲート信号Mは“H”とさ
れ、その結果、ロウデコーダ回路20の内部電源(VIN
T )はVPPとなり、ロウデコーダ回路20の“H”レベ
ルはVPPとなる。
【0013】上記構成とすることにより、セルのゲート
(CG)に加える電圧と、センス回路30の電源電圧V
CCとは独立に変化させることができることになる。従っ
て、電源電圧VCCを一定に保ったまま電源切替え回路1
0に供給する電源VPPの電圧を変化させ、センス回路3
0の出力が変化する点を求めれば、VPPの変化(ΔVP
P)とCG100電位の変化(ΔVCG)は同一となるた
め、正確なセル状態の検出を可能にしていた。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図8に
示した従来のセル状態検出回路においては、電源切替え
用トランジシスタにNチャネルディプリーショントラン
ジスタを使用しているため、電源切替え回路10に供給
されるVPP電圧がVCC電圧より高い場合にはVINT は正
しくVPPとなるが、VPP電圧がVCC電圧より低い場合、
より正確には、電源切替え用トランジシスタT0 の閾値
電圧をVth0 (Vth0 >0)とした場合、VINT が−V
th0 以下になると、電源切替え用トランジスタT0 が導
通するためVINT からVCCへ電流が流れてしまい、VIN
T の値が正しく決まらないという問題が生じていた。
【0015】従って、図8に示した従来の回路において
は、書き込まれたセルの状態は正しく測定できるが、消
去後のセルの状態は正しく測定できないという欠点を有
していた。
【0016】本発明は、以上の点に鑑み、セル状態検出
において消去後のセルの状態も正しい測定が可能となる
導体記憶装置を提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】図1に、本発明の原理構
成図を示す。同図において、図5および図8と同一のも
のには同一の符号を付し、その説明を援用する。
【0018】 上記目的を達成するための本発明の手段
は、情報記憶用のセルトランジスタを含む複数のセルを
配列したメモリセルアレイであるセルマトリクス40
と、セルトランジスタのゲートを選択するロウデコーダ
20と、前記セルトランジスタを流れる電流を検出して
記憶されている情報を判定するセンス回路30と、を有
する書き替え可能な半導体記憶装置であって、消去後の
セル状態検出時に、前記ロウデコーダ20の出力電圧を
電源電圧以上の電圧値に切り替える電圧切替え手段1
と、同じく消去後のセル状態検出時に、前記センス回路
30における前記セルトランジスタに対するロードの電
流供給能力が通常動作時より高くなるように切り替える
ロード切替え手段(T2)と、を備えて構成する。
【0019】
【作用】本発明では、消去後のセル状態検出時にはセン
ス回路のセンス電流を通常の読出し状態より、例えば大
きく設定するようにして、解決しようとするものであ
る。すなわち、セル状態検出時に、電圧切替え手段1に
よりローデコーダ20の出力電圧が切り替えられ、これ
によりセルマトリクス40の選択されたセルトランジス
タのゲート電圧が変えられ、その時のセンス回路30の
読み出し結果によりセル状態が判定される。この時、電
圧切替え手段1により切換えられた電圧が、情報を消去
後のセル状態検出時のように不安定になる場合には、ロ
ード切替え手段2によりセンス回路30におけるロード
能力を通常動作時より実効的に、例えば大きくする。す
なわちセンス電流を通常動作時の読出し状態とは変えて
判定が行われる。これにより、情報を消去後のセル状態
の測定が可能となる。
【0020】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例を説
明する。 第1の実施例 図2に、本発明第1の実施例のEPROMの概略図を示
す。
【0021】同図において、図5および図8と同一のも
のには同一の符号を付して、その説明を援用する。本実
施例では、図2に示すように、電圧切替え手段として、
図8に示した構成と同じ電源切替え回路10が構成さ
れ、ロード切替え手段として、センス回路30にロード
トランジスタT2 が付加されて構成されている。ロード
トランジスタT2 は、消去状態のセル状態検出動作時に
導通し、センス電流を通常時より増加させる。
【0022】図2に示す回路動作を以下に説明する。電
源切替え回路10では、通常の動作時には、ゲート信号
Rは“H”、ゲート信号Mは“L”とされ、その結果、
ロウデコーダ回路20の内部電源(VINT )はVCCにさ
れる。また、ロードトランジスタT2 のゲート信号M´
も“L”レベルにされていて、ロードトランジスタT2
は非導通であるから、センス回路30のセンス電流はセ
ルの消去後の状態、および書き込み後の状態から決めら
れる通常動作時における最適状態にある。
【0023】そして、情報を書き込み後のセル状態検出
時には、電源切替え回路10では、ゲート信号Rは
“L”、ゲート信号Mは“H”とされ、その結果、ロウ
デコーダ回路20の内部電源(VINT )はVPPとなり、
ロウデコーダ回路20の“H”レベルはVPPにされる。
このとき、ロードトランジスタT2 のゲート信号M´は
同じく“L”にされている。この状態におけるセル状態
検出は、図8で説明した動作と同じである。なお、この
ときゲート信号M´が“H”であっても、センス回路3
0のセンス電流が増加するため、出力を変化させるのに
必要なVPPの値は、ゲート信号M´が“L”の時よりも
高くなるが、VPP電圧の差(ΔVPP)とCG電圧の差
(ΔVCG)は同一であり本質的な差はない。
【0024】そして、情報を消去後のセル状態検出時に
は、電源切替え回路10では、同じくゲート信号Rは
“L”、ゲート信号Mは“H”とされ、その結果、ロウ
デコーダ回路20の内部電源(VINT )はVPPとなり、
ロウデコーダ回路20の“H”レベルはVPPにされる。
このとき、ロードトランジスタT2 のゲート信号M´は
“H”にされる。これにより、ロードトランジスタT2
が導通することで、センス回路30のセンス電流が増加
するため、セル電流がセンス電流に対応した大きな値と
なるCG電圧(VPP)で初めて出力が変化する。即ち、
消去後のセルの状態をVPPに比較的高い電圧を加えた状
態で検出することができる。
【0025】図3に、上記第1の実施例の詳細な構成図
を示す。同図において、図2、図5、および図8と同一
のものには同一の符号を付し、その説明を援用する。図
3に示すように、センス回路30には通常動作時に使用
されるロードトランジスタT3 と、セルの状態を検出す
る検出回路35が備えられている。検出回路35はデー
タバス線BUSのレベルからセルの状態を検出する。検
出回路35の出力を変化させるデータバス線BUSのレ
ベルを与えるロードトランジスタT3 の電流がセンス電
流である。
【0026】情報を消去後のセルの状態を検出する場合
には、ロード切替え手段として備えられたロードトラン
ジスタT2 が導通するため、センス回路30のロードは
ロードトランジスタT2 とロードトランジスタT3 を合
わせたものとなる。従って、データバス線BUSを、検
出回路35の出力を変化させるレベルにするためには、
大きなセル電流が必要となり、CG電圧は通常動作時よ
り高いレベルが必要となる。
【0027】第2の実施例 図4に、本発明第2の実施例のEPROMの構成図を示
す。図4において、図3に示した第1の実施例と同一の
ものは同一の符号を付して、その説明を省略する。本実
施例では、図4に示すように、情報蓄積用のメモリセル
アレイ40の他に、レファレンスセルTRXを設けるとと
もに、レファレンスセルTRXに対して、コラムゲートト
ランジスタTRYおよびロードトランジシスタT4 が接続
されいてる。なお、この回路においては、コラムゲート
トランジスタTRYは、コラムゲート回路50のコラムゲ
ートトランジスタTY0〜TYNと、レファレンスセルTRX
は、セルマトリクス40のセルトランジスタT00〜TMN
と同一ディメンションであるが、ロードトランジスタT
4 はロードトランジスタT3 の略2倍のディメンション
になっている。また、レファレンスセルTRXは常に消去
状態で動作する。
【0028】上記構成とする本実施例のEPROMで
は、情報の読み出しにおいて、1本のデータバス線のレ
ベルによりセルの状態を読み出すのでなく、データバス
線DBUSのレベルとレファレンスバス線RBUSのレ
ベルを比較することでセルの状態を読み出すようにされ
ている。すなわち、消去状態のセルを読出す場合には、
セルマトリクス40の情報蓄積用セル(T00〜TMN)を
流れる電流と、レファレンスセルTRXを流れる電流は略
同一であるが、ロードトランジスタT3 ,T4 の能力が
異なるため、データバス線DBUSのレベルはレファレ
ンスバス線RBUSのレベルより低くなる。これを検出
回路36で検出して消去状態と判定するようになされて
いる。また、書き込み状態のセルを読み出す場合には、
セルのフローティングゲートに電荷が蓄積しいてるた
め、情報蓄積用セル(T00〜TMN)を流れる電流はレフ
ァレンスセルTRXを流れる電流よりかなり小さくなり、
データバス線DBUSのレベルはレファレンスバス線R
BUSのレベルより高くなる。これを検出して書き込み
状態と認識するようになされている。
【0029】本実施例において、情報を消去後のセル状
態を検出する場合には、電源切替え回路10のゲート信
号Rを“L”、ゲート信号Mを“H”にされ、これによ
りローデコーダ回路20の内部電源(VINT )はVPPと
なり、ロウデコーダ回路20の“H”レベルはVPPにさ
れる。同時に、ロードトランジスタT2 のゲート信号M
´は“H”にされ、ロードトランジスタT2 は導通状態
にされる。これによりロードトランジスタの能力が実効
的に増加し、データバス線DBUSのレベルをレファレ
ンスバス線RBUSのレベルより低くするためには、よ
り高いCG電圧(VPP電圧)が必要となる。従って、C
G電圧の高い状態で、消去後のセル状態の検出が可能に
なる。
【0030】なお、上記第2の実施例においては、情報
を消去後のセル状態検出時に、セルマトリクス40の情
報蓄積用セルに接続されたロードを増加させているが、
同様の効果は、(1)レファレンスセルTRXに接続され
ているロードトランジスタT4 の能力を減少させる。
(2)レファレンスセルTRXの能力を実効的に増加させ
る、ことでも実現される。
【0031】例えば、上記(1)の場合には、ロードト
ランジスタT2 に代わりに、ロードトランジスタT4 の
ロード能力を減少させるロード切替え手段として、図4
に点線で示すように、ロードトランジスタT4 と並列に
接続されるロードトランジスタT5 を設けることにより
達成される。この場合、ロードトランジスタT5 のゲー
ト信号R1は、通常動作時には“H”レベルにされ、情
報を消去後のセル状態検出時には“L”レベルにされ
て、ロードトランジスタT4 のロード能力は通常動作時
よりも実効的に減少する。また、上記(2)の場合に
は、ロードトランジスタT2 の代わりに、レファレンス
セルTRXの能力を実効的に増加させるレファレンス切替
え手段として、図4に点線で示すように、レファレンス
セルTRXと並列に接続されるレファレンストランジスタ
T6 を設けることにより達成される。この場合、レファ
レンストランジスタT6 のゲート信号R2は、通常動作
時には“L”レベルにされ、情報を消去後のセル状態検
出時には“H”レベルにされて、レファレンスセルTRX
の能力は通常時よりも実効的に増加する。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体記
憶装置によれば、書き込み状態のセルだけでなく消去状
態のセルの詳細な測定が可能となるため、高品質の素子
の開発や、書き込み可能な半導体記憶装置を使ったシス
テムの信頼性向上に寄与するところが大である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理構成図である。
【図2】本発明第1の実施例のEPROMの概略図であ
る。
【図3】第1の実施例の詳細な構成図である。
【図4】本発明第2の実施例の構成図である。
【図5】EPROMにおけるセルとその周辺回路の概略
図である。
【図6】EPROMのセル構造の概念図である。
【図7】ゲート電圧とセル電流の関係図である。
【図8】従来のセル状態検出回路を備えたEPROMの
概略図である。
【符号の説明】
1…電圧切替え手段 2…ロード切替え手段 10…電源切替え回路 20…ロウデコーダ回路 30…センス回路 35、36…検出回路 40…セルマトリクス 50…コラムゲート回路 T2 、T3 、T4 、T5 …ロードトランジスタ T6 …レファレンストランジスタ TRX…レファレンスセル TRY…コラムゲートトランジスタ DBUS…データバス線 RBUS…レファレンスバス線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−26900(JP,A) 特開 平3−162796(JP,A) 特開 昭62−88200(JP,A) 特開 昭62−222498(JP,A) 特開 平3−214497(JP,A) 特開 平2−254700(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 16/06

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 情報記憶用のセルトランジスタを含む複
    数のセルを配列したメモリセルアレイ(40)と、前記
    セルトランジスタのゲートを選択するロウデコーダ(2
    0)と、前記セルトランジスタを流れる電流を検出して
    記憶されている情報を判定するセンス回路(30)と、
    を有する書き替え可能な半導体記憶装置であって、消去後の セル状態検出時に、前記ロウデコーダ(20)
    の出力電圧を電源電圧以上の電圧値に切り替える電圧切
    替え手段(1)と、 同じく消去後のセル状態検出時に、前記センス回路(3
    0)における前記セルトランジスタに対するロードの電
    流供給能力が通常動作時より高くなるように切り替える
    ロード切替え手段(T2)と、 を有することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 情報記憶用のセルトランジスタを含む複
    数のセルを配設したメモリセルアレイ(40)と、前記
    セルトランジスタのゲートを選択するロウデコーダ(2
    0)と、情報読み出し時に使用されるレファレンスセル
    (TRX)と、前記セルトランジスタを流れる電流およ
    び前記レファレンスセル(TRX)を流れる電流を比較
    して記憶されている情報を判定するセンス回路(30)
    と、を有する書き替え可能な半導体記憶装置であって、消去後の セル状態検出時に、前記ロウデコーダ(20)
    の出力電圧を電源電圧以上の電圧値に切り替える電圧切
    替え手段(1)と、 同じく消去後のセル状態検出時に、前記センス回路(3
    0)における前記セルトランジスタに対するロードの電
    流供給能力が通常動作時より高くなるように切り替える
    ロード切替え手段(T2)と、 を有することを特徴とする半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 情報記憶用のセルトランジスタを含む複
    数のセルを配設したメモリセルアレイ(40)と、前記
    セルトランジスタのゲートを選択するロウデコーダ(2
    0)と、情報読み出し時に使用されるレファレンスセル
    (TRX)と、前記セルトランジスタを流れる電流およ
    び前記レファレンスセル(TRX)を流れる電流を比較
    して記憶されている情報を判定するセンス回路(30)
    と、を有する書き替え可能な半導体記憶装置であって、 消去後のセル状態検出時に、前記ロウデコーダ(20)
    の出力電圧を電源電圧以上の電圧値に切り替える電圧切
    替え手段(1)と、 同じく消去後のセル状態検出時に、前記センス回路(3
    0)における前記レファレンスセル(TRX)に対する
    ロードの電流供給能力が通常動作時より低くなるように
    切り替えるロード切替え手段(T5)と、 を有することを特徴とする半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 情報記憶用のセルトランジスタを含む複
    数のセルを配設したメモリセルアレイ(40)と、前記
    セルトランジスタのゲートを選択するロウデコーダ(2
    0)と、情報読み出し時に使用されるレファレンスセル
    (TRX)と、前記セルトランジスタを流れる電流およ
    び前記レファレンスセル(TRX)を流れる電流を比較
    して記憶されている情報を判定するセンス回路(30)
    と、を有する書き替え可能な半導体記憶装置であって、 消去後のセル状態検出時に、前記ロウデコーダ(20)
    の出力電圧を電源電圧以上の電圧値に切り替える電圧切
    替え手段(1)と、 同じく消去後のセル状態検出時に、前記レファレンスセ
    ル(TRX)の電流供給能力が通常動作時より高くなる
    ように切り替えるレファレンス切替え手段(T6)と、 を有することを特徴とする半導体記憶装置。
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