JPH0465855A - 半導体製造装置 - Google Patents

半導体製造装置

Info

Publication number
JPH0465855A
JPH0465855A JP17894390A JP17894390A JPH0465855A JP H0465855 A JPH0465855 A JP H0465855A JP 17894390 A JP17894390 A JP 17894390A JP 17894390 A JP17894390 A JP 17894390A JP H0465855 A JPH0465855 A JP H0465855A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
boat
attitude
post
motor
semiconductor manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP17894390A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2935060B2 (ja
Inventor
Hiroyuki Nishiuchi
西内 弘幸
Fumihide Ikeda
文秀 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kokusai Electric Corp filed Critical Kokusai Electric Corp
Priority to JP17894390A priority Critical patent/JP2935060B2/ja
Publication of JPH0465855A publication Critical patent/JPH0465855A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2935060B2 publication Critical patent/JP2935060B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、半導体製造装置に用いられるボートの設置姿
勢の適否を検出するボート設置姿勢検出装置に関するも
のである。
[従来の技術] 半導体素子の製造プロセスの1つにCVD処理がある。
これは、所要枚数のシワコンウェーハをCVD拡散装置
内で加熱し、化学気相堆積(CVD)させるものである
このCVD拡散装置としてウェーハを水平姿勢で多段に
保持し処理を行う、縦型CVD拡散装置がある。
処理中、円板形状のウェーハ1は第4図に示すホード2
によって支持される6 該ボート2は石英製であり、上下の保持板3によって3
又は4本の柱4か垂直に支持され、該柱4には所要ピッ
チで講32か刻設され、該講32にウェーハ1が装填さ
れ保持される様になっている。
第5図に於いて縮型CVD拡散装置について略述する。
12は拡散炉、17はロード・アンロードエレベータ、
18は移載用エレベータ、19はカセットストッカ、2
0は操作パネル、21は縦型CVD装置本体を示す。
前記ロード・アンロードエレベータ17ハボート2を載
置し、該ボート2はロード・アンロードエレベータ17
の昇降によって、拡散炉12へ装入、取出しされる様に
なっている。
移載用エレベータ18はハンドリンクユニット22を具
備しており、送りモータ23の駆動により、該ハンドリ
ンクユニット22を昇降させる様になっている2又、カ
セットストッカ19は所要段数(鎖側では4段)、複数
列(鎖側では2列)、のカセット収納ラック24を備え
、該カセット収納ラック24はラック横行モータ25に
より水平方向に移動される櫟になっている。
該カセット収納ラック24には予めウェーハが装填され
たカセット(図示せず)が収納されており、CVD処理
を行う準備として、前記ハンドリングユニット22はカ
セット収納ラック24のカセットよりウェーハ1を取出
し、前記ボート2へ移載する。ボート2への移載は移載
用エレベータ18によってステップ送りすることで、ホ
ード2の各段ヘウェーハ1を装填してゆく。
所要数のウェーハ1をボート2に移載すると、該ボート
2をロード・アンロードエレベータ17によって拡散炉
12内へ装入する。
拡散炉12内での処理が終ると、前記ハンドリングユニ
ット22、移載用エレベータ18の協働により、ボート
2のウェーハ1を前記カセットストッカ19のカセット
へ再移載する。
上記した機に、カセット内のウェーハを取出し、正確に
ボート2に移載するには、ボート2か装置に対して正し
い姿勢で設置されていなければならない。
従来、ボート2を設置した後のボート2の設置姿勢の適
否は、ウェーハ又はウェーハ相当品を用いて、前記ハン
ドリングユニット22を動作させ、ウェーハ又はウェー
ハ相当品がボート2の溝に適正に装填されるか否かを、
作業者か目視によって判断し、この目視の判断に基づき
ボート2の姿勢を修正する等していた。更に、修正が完
了するとボート2とバレントリングユニット22との関
係を制御装置に入力していた。
[発明が解決しようとする課題] ところか、ボート2の設置作業は、ウェーハ処理プロセ
スを何バッチか行った後にボート2を交換した後、或は
ボート2は反応生成物か付着するので適宜時洗浄、又は
新しいものと交換した後、その都度行われるものである
。従って、前述した櫟に作業者姿勢の適否を判断するや
り方では、手数が掛かり、且姿勢合せの精度、能率は作
業者の熟練度に大きく左右される4ボート2は使用され
ることにより変形を生じることがあるが、作業者の目視
による判断では、微妙な変形が許容できるものであるか
どうか、又許容できる場合でも姿勢合せは更に困難とな
る。
而して、ボート2の設置姿勢が適性でない場合、ボート
2とハンドリングユニット22との相互関係が正確に移
載動作の制御に反映されなければ、ウェーハとボートと
が接触、衝突してウェーハ或はボートの破損を招来し、
ウェーハの移載を行えないと共にランニングコストの高
騰にもつながる。
本発明は斯かる実情に鑑みてなしたらのであり、ボート
の設置姿勢を正確に検出できるボート設置姿勢検出装置
を提供しようとするものである。
[課題を解決する為の手段] 本発明は、ウェーハを水平姿勢で多段に保持するボート
を有する半導体製造装置に於いて、設置されたボートに
対し反射型超音波センサを相対移動可能に取付け、ボー
トをウェーハ平面に対して垂直方向に相対移動させた場
合のボートと超音波センサとの距離を計測しボート設置
姿勢を検出する様構成したことを特徴とするものである
[作  用コ ボートを超音波センサに対して相対移動させてボートと
超音波センサとの距離を計測すると、距離の変動によっ
て、ボートの傾き等ボートの設置姿勢か検出される。
[実 施 例] 以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を説明する。
尚、第1図中、第5図中で示したものと同一のものには
同符号を付し、その説明の詳細は省略する。
図中、5は制御装置、6は操作部である。
前記ボート2は、ロード・アンロードエレベータ17の
昇降台7に載置固定され、該昇降台7は昇降モータ13
によって回転されるスクリューロッド8に螺合している
。又、該昇降モータ31にはロータリエンコーダ9が取
付けられている。
前記ロード・アンロードエレベータ17の固定部、前記
ボート2のいずれか1つの柱4に対して2個の反射式超
音波センサ10,11を取付ける。
該2個の超音波センサio、i1は第2図に示す様に、
同一水平面上に配置され且両超音波センサ1o、iiの
音軸か前記柱4の軸心上で合致する様にしておく。
該超音波センサ10,11は、第2図に示される様に圧
電素子超音波発信部26と圧電素子超音波受信部27及
びパルス送信回路28、パルス受信回路29、制御回路
30かへ成り、超音波発信部26から前記柱4に対して
発信した超音波か該柱4で反射され、超音波受信部27
で受信される遺の時間を計測することで距疏の測定を行
うものである。
前記制御部5は、主制御部13、モータ制御器14、モ
ータ駆動部15、ボート姿勢検出部16を有している。
前記ロータリーエンコータ9からの信号、及び超音波セ
ンサ10,11からの信号は、ボート姿勢検出部16に
入力される様にする。
以下、作用について説明する。
前記昇降台7にボート2を設置する。
操作部6を介してボート2か最下位置となる様指示する
主制御部13から信号か発せられ、モータ制御部14、
モータ駆動部15を介してボート2が最下位置となる迄
、昇降モータ31が回転される。
ホード2の最下位置で、ロータリエンコータ9からの信
号をカウントするカウンタ(図示せず)かりセットされ
る。
次に、ボート2の設置姿勢の検出が開始される。
モータ制御部13、モータ駆動部15を介して昇降モー
タ31が、ボート2の上昇方向に回転される。
ボート2の上昇に伴い、前記ロータリエンコータ9から
の信号が刻々とボート姿勢検出部16に入力され、又超
音波センサ10,11からの信号も該ボート姿勢検出部
16に入力される。
該ボート姿勢検出部16では前記ロータリエンコーダ9
からのカウント、所定のカウント数毎に超音波センサ1
0,11からの信号を取込む。
この操作により、柱4の軸心方向に沿う所定間毎の柱の
軸心位置を演算により求めることができる。
柱4の全長に亘る柱の軸心位置の検出により、柱4即ち
、ボート2の設置姿勢を演算に求めることかできる。
又、柱4の姿勢検出の過程で柱4の湾曲状態ら求め得る
ことは勿論である。
上記一連の検出動作については、予めシーゲンスプログ
ラムを作成して、主制御部13へ入力しておき、該シー
ゲンスプログラムに従って、検出動作を行わせてもよい
而して、求められたボート2の姿勢については、その検
出結果か操作部6に表示される6該操作部6は、設置姿
勢を数値により表示し、或は設置状態か許容範囲にある
か否かを表示し、或いはその相方を表示等する。
作業者は、操作部6で表示された、ボート2の姿勢検出
結果に基づき、ボート姿勢を修正し、或はボート設置の
作業を完了する6 尚、上記実施例では、演算を容易にする為超音波センサ
10,11の音軸を直交させたが、必すしも直交させる
必要はないことは言う迄もなく、更に精度上無視できる
範囲で上下方向に位置をずらせて設けてもよい、又、超
音波センサは1個、或は3個以上であってもよい。
更に又、ボート2の2以上の柱について姿勢を検出する
櫟にすればボート自体の歪みについても検出することか
できる。
又、上記実施例ではロード・アンロードエレベータ17
を利用したが、移載用エレベータ18を利用することも
可能である。即ち、ボート2を固定しておき移載mエレ
ベータ78の昇降部に超音波センサ10,11を取付け
、移載用エレベータ8を動作させ、超音波センサ10,
11をボート2に対して昇降させてもよい。
[発明の効果] 以上述べた如く本発明によれは、下記の優れた効果を発
揮する。
■ 作業者かウェーハの移載動作を行なわせ試行錯誤し
てボートの設置姿勢を決定する必要がないので確実に精
度よく、且迅速にボートの取置作業を完了し得る。
■ ボートの設置作業は、作業者の熟練度に拘らず高精
度で行える。
■ ボートの設置を常に適正に行えるので、ウェーハ、
ボートの破拶を防止し得、ランニンクコストの低下を図
り得ると共に稼動率を向上させ得る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を示すブロック図、第2図
は超音波センサを示すブロック図、第3図はボートの柱
と超音波センサとの関係を示す説明図、第4図はボート
の斜視図、第5図は縦型CVD拡散装置の1例を示す概
略斜視図である。 1はウェーハ、2はボート、4は柱、9はロータリエン
コーダ、10.11は超音波センサ、16はボート姿勢
検出部、31は昇降モータを示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)ウェーハを水平姿勢で多段に保持するボートを有す
    る半導体製造装置に於いて、設置されたボートに対し反
    射型超音波センサを相対移動可能に取付け、ボートをウ
    ェーハ平面に対して垂直方向に相対移動させた場合のボ
    ートと超音波センサとの距離を計測しボート設置姿勢を
    検出する様構成したことを特徴とする半導体製造装置に
    於けるボート設置姿勢検出装置。
JP17894390A 1990-07-06 1990-07-06 半導体製造装置 Expired - Lifetime JP2935060B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17894390A JP2935060B2 (ja) 1990-07-06 1990-07-06 半導体製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17894390A JP2935060B2 (ja) 1990-07-06 1990-07-06 半導体製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0465855A true JPH0465855A (ja) 1992-03-02
JP2935060B2 JP2935060B2 (ja) 1999-08-16

Family

ID=16057359

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17894390A Expired - Lifetime JP2935060B2 (ja) 1990-07-06 1990-07-06 半導体製造装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2935060B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5409348A (en) * 1992-05-15 1995-04-25 Tokyo Electron Limited Substrate transfer method
KR100447995B1 (ko) * 2002-05-21 2004-09-10 동부전자 주식회사 퍼니스 보우트 엘리베이터 레벨링용 수평 보우트
WO2020194414A1 (ja) * 2019-03-22 2020-10-01 株式会社Kokusai Electric 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5409348A (en) * 1992-05-15 1995-04-25 Tokyo Electron Limited Substrate transfer method
KR100447995B1 (ko) * 2002-05-21 2004-09-10 동부전자 주식회사 퍼니스 보우트 엘리베이터 레벨링용 수평 보우트
WO2020194414A1 (ja) * 2019-03-22 2020-10-01 株式会社Kokusai Electric 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体
JPWO2020194414A1 (ja) * 2019-03-22 2020-10-01
CN113614884A (zh) * 2019-03-22 2021-11-05 株式会社国际电气 基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质
CN113614884B (zh) * 2019-03-22 2024-04-12 株式会社国际电气 基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质

Also Published As

Publication number Publication date
JP2935060B2 (ja) 1999-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101145511B1 (ko) 기판 운송 시스템에 대한 고속 로더의 캘리브레이션
US6032083A (en) Substrate transfer apparatus and heat treatment system using the same
KR101245464B1 (ko) 열처리 장치, 열처리 방법 및 기억 매체
KR100723119B1 (ko) 기판 처리 장치 및 그 반송 위치 설정 방법
WO2001033624A1 (fr) Appareil permettant d'eprouver un robot transportant des tranches
JP3530986B2 (ja) 移載アームのティーチング方法及び熱処理装置
JPH0465855A (ja) 半導体製造装置
JP4543833B2 (ja) 懸垂式昇降搬送装置における搬送台車の教示装置
KR20070104635A (ko) 반도체 제조장치
JP4024961B2 (ja) 研削装置における研削ユニットの原点位置セットアップ方法
CN103406664B (zh) 激光处理装置
JP2008028206A (ja) 半導体製造装置およびボート載置台
JPH0656228A (ja) 搬送用ロボットの基準位置自動教示方法
JP3644567B2 (ja) ハンドラのトレイ搬送装置
JP2005285799A (ja) カセット内基板位置検出装置、ならびにそれを用いた基板搬出装置および基板処理装置
JP2012004490A (ja) 基板搬送装置及び基板搬送方法
JPH07245270A (ja) ウェ−ハ取り残し検知システムを有するcvd装置
JPH0771929A (ja) ウェーハ位置検知方法及び縦型拡散・cvd装置
JPH10313038A (ja) 基板処理方法及び同装置
KR102236824B1 (ko) Plp 패널 뒤틀림 검출장치 및 검출방법
CN220099171U (zh) 真空处理设备
JP2587512Y2 (ja) 基板収納状態検出装置
KR100786365B1 (ko) 변위센서를 이용한 웨이퍼 맵핑방법
JPH08222620A (ja) ウェーハ自動移載機の自動ティーチング方法
JP3226944B2 (ja) ボートの設置状態検出方法及び半導体製造装置