JPH0460469B2 - - Google Patents

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JPH0460469B2
JPH0460469B2 JP23786084A JP23786084A JPH0460469B2 JP H0460469 B2 JPH0460469 B2 JP H0460469B2 JP 23786084 A JP23786084 A JP 23786084A JP 23786084 A JP23786084 A JP 23786084A JP H0460469 B2 JPH0460469 B2 JP H0460469B2
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JP
Japan
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secondary amine
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derivative
reaction
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JP23786084A
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JPS61118371A (ja
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Yoshio Inoe
Riichi Tani
Harumi Tatsu
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Nippon Mektron KK
Original Assignee
Nippon Mektron KK
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規ピラゾロン誘導体およびその製
造法に関する。更に詳しくは、新規な4−トリフ
ルオロメチル−5−ジ置換アミノ−4−ピラゾリ
ン−3−オンまたはその1−置換体に関する。 〔従来の技術〕 ある種の含フツ素有機化合物が、フツ素原子団
固有の性質、即ち電気陰性度が最も大きく、かつ
原子半径が水素に次いで小さいという性質に起因
すると思われる特異な生理活性を示すことから最
近特に注目されている。 ところで、含フツ素共重合体の重要な原料の一
種であるヘキサフルオロプロペン製造時の副生物
であるオクタフルオロイソブテンは、毒性が強い
ばかりではなく、その有効な利用方法が見出され
ないため、その廃棄処分に困つているのが現状で
ある。 本出願人は先に、オクタフルオロイソブテンが
その毒性故にそのままの形では保存されず、一般
に低級アルコール、例えばメタノール、エタノー
ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−
ブタノールなどのアルコール付加物の形で保存さ
れていることを積極的に利用し、このアルコール
付加物〔〕自体を出発原料として、あるいは好
ましくはアルコール付加物を塩基と接触させるこ
とにより容易に得られるそれの脱フツ化水素物
〔〕を出発原料として、いくつかの有用な新規
ピリジン誘導体に導くことに成功した。 (CF32C=CF2+ROH―→(CF32CHCF2OR〔
〕 (CF32CHCF2OR塩基 ―――→ (CF32C=CFOR 〔〕 得られたいくつかの新規ピリミジン誘導体の例
は、次の如くである。 (特開昭59−104364号公報) (開昭59−104366号公報) (特開昭59−196872号公報) (特開昭60−184062号公報、同60−184067号公
報) 〔発明の課題および構成〕 本発明者らは、ヘキサフルオロイソブテンまた
はそのアルコール付加物の新たな用途を求めて更
に検討の結果、上記の如きピリミジン誘導体ばか
りではなく、ピラゾロン誘導体を得ることにも成
功した。 従つて、本発明は新規ピラゾロン誘導体に係
り、この新規ピラゾロン誘導体は、一般式 (ここで、Rは水素原子、アルキル基、アリル
基、アリール基またはアラルキル基であり、
NR′2は2級アミン残基である)で表わされる。 本発明はまた、かかるピラゾロン誘導体の製造
法に係り、ピラゾロン誘導体の製造は、一般式 (CF32CHCONHNHR 〔〕 (ここで、Rは水素原子、アルキル基、アリル
基、アリール基またはアラルキル基である)で表
わされるヒドラジド誘導体に2級アミンを反応さ
せることにより行われる。 ピラゾロン誘導体合成の出発物質となるヒドラ
ジド誘導体〔)は、オクタフルオロイソブチル
低級アルキルエーテルとヒドラジン類とから合成
される。ヒドラジン類としては、一般式 H2NNHR 〔〕 (ここで、Rは水素原子、アルキル基、アリル
基、アリール基またはアラルキル基である)で表
わされる化合物、例えばヒドラジン、フエニルヒ
ドラジン、p−ニトロフエニルヒドラジン、N−
メチルヒドラジン、N−ブチルヒドラジンあるい
はこれらの無機塩などが用いられる。 この反応は、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、テトラヒドロフランなどの極性溶媒中で、ト
リエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、トリエタノールアミンなどの触媒を用
いて、約−10〜+40℃の温度で行われる。用いら
れた触媒、例えばトリエチルアミンは、次のよう
に反応に関与するものである。 得られたヒドラジド誘導体〔〕は2級アミン
と反応させることにより、目的とする新規ピラゾ
ロン誘導体〔〕を与えるが、2級アミンとして
は、例えばジエチルアミン、ジプロピルアミン、
ジブチルアミン、ジフエニルアミン、N−メチル
アニリン、ピペリジン、モルホリン、ピロリジ
ン、ピロール、イミダゾールなどが用いられる。
従つて、得られるピラゾロン誘導体の5−ジ置換
アミノ基は、2級アミンが上記例の如く環状基を
形成している場合には、N原子の結合としてはジ
置換されてはいるが、置換基としては1個であ
る。 この反応は、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、スルホラン、ジメチルスルホキシ
ド、テトラヒドロフランなどの極性溶媒中で、約
−10〜+40℃の温度で行われる。 反応生成物は、前記一般式〔〕で表わされる
が、次のような互変異性体〔′〕としても存在
し得る。 〔発明の効果〕 オクタフルオロイソブテンの有効利用法の一つ
として、新規なピラゾロン誘導体が合成された。
この化合物は、化学的中間体などとして有効に利
用することができる。 また、ヒドラジド誘導体とアミンとの反応も、
2級アミンに固有の反応であり、1級アミンまた
は3級アミンとの反応ではタール状の物質が得ら
れるにすぎない。 〔実施例〕 次に、実施例について本発明を説明する。 実施例 1 オオタフルオロイソブチルメチルエーテル1.16
g(5ミリモル)を乾燥ジメチルホルムアミド
100mlに溶かし、これを氷浴で冷却しながらトリ
エチルアミン1.01g(10ミリモル)を加え、90分
間撹拌した後、塩酸フエニルヒドラジン1.09g
(7.5ミリモル)を加え、更に室温で1時間撹拌し
てから水中に注いだ。析出した固体状物質を吸引
ロ過して集め、水洗、乾燥させると1.09g(収率
77%)の粗製物が得られ、これをクロロホルムで
再結晶して精製した。得られた2−トリフルオロ
メチル−3,3,3−トリフルオロプロパンフエ
ニルヒドラジドは、次のような特性値を有してい
る。 融点(℃) 161〜16219 F NMR(CF3) −14.3(d) JCF3-H(Hz) 7.5 質量スペクトル 286 塩化カルシウム管を付けた冷却器および磁気撹
拌子を備えた容量100mlの三口フラスコに、上記
フエニルヒドラジド誘導体7.15g(25ミリモル)
を仕込み、乾燥ジメチルホルムアミド70ml中に溶
解させた。これに、各種の2級アミン(100ミリ
モル)を、滴下ロートから滴下した。反応混合物
は、滴下時にわずかに発熱するが、更に室温で4
時間撹拌した後、水中に注いだ。析出した固体状
物質を吸収ロ過し、水洗した後、クロロホルムか
ら再結晶した。得られた1−フエニル−4−トリ
フルオロメチル−5−ジ置換アミノ−4−ピラゾ
リン−3−オンの収率および特性値は、次の表1
に示される。なお、19F NMRは、トリフルオロ
酢酸を外部標準とした化学シフトで、高磁場方向
を負で表わした。
【表】 実施例 2 実施例1において、塩酸フエニルヒドラジンの
代りに、等モル量の塩酸ヒドラジンを用いて、2
−トリフルオロメチル−3,3,3−トリフルオ
ロプロパンヒドラジドの合成(収率73%)を行な
つた。その特性値は、次の如くである。 融点(℃) >25019 F NMR(CF3) −14.2(d) JCF3-H(Hz) 7.5 質量スペクトル 210 このヒドラジド誘導体を用いての4−トリフル
オロメチル−5−ジ置換アミノ−4−ピラゾリン
−3−オンの合成が実施例1と同様にして行わ
れ、その収率および特性値は次の表2に示され
る。
【表】 実施例 3 実施例1において、塩酸フエニルヒドラジンの
代りに、等モル量の塩酸p−ニトロフエニルヒド
ラジンを用いて、2−トリフルオロメチル−3,
3,3−トリフルオロプロパン−p−ニトロフエ
ニルヒドラジドの合成(収率98%)を行なつた。
その特性値は、次の如くである。 融点(℃) >250(分解)19 F NMR(CF3) −14.4(d) JCF3-H(Hz) 7.5 質量スペクトル 331 このp−ニトロフエニルヒドラジド誘導体を用
いての1−(p−ニトロフエニル)−4−トリフル
オロメチル−5−ジエチルアミノ−4−ピラゾリ
ン−3−オンの合成(収率70%)を行なつた。そ
の特性値は、次の如くである。 融点(℃) 209〜21019 F NMR −23.6 質量スペクトル 344

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (ここで、Rは水素原子、アルキル基、アリル
    基、アリール基またはアラルキル基であり、
    NR′2は2級アミン残基である)で表わされる新
    規ピラゾロン誘導体。 2 一般式 (CF32CHCONHNHR 〔〕 (ここで、Rは水素原子、アルキル基、アリル
    基、アリール基またはアラルキル基である)で表
    わされるヒドラジド誘導体に2級アミンを反応さ
    せることを特徴とする一般式 (ここで、Rは前記定義と同じであり、NR′2
    は2級アミン残基である)で表わされる新規ピラ
    ゾロン誘導体の製造法。
JP23786084A 1984-11-12 1984-11-12 新規ピラゾロン誘導体およびその製造法 Granted JPS61118371A (ja)

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WO2023068200A1 (ja) 2021-10-19 2023-04-27 ユニマテック株式会社 含フッ素ピラゾール化合物およびその製造方法

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