JPH045170B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH045170B2
JPH045170B2 JP58188592A JP18859283A JPH045170B2 JP H045170 B2 JPH045170 B2 JP H045170B2 JP 58188592 A JP58188592 A JP 58188592A JP 18859283 A JP18859283 A JP 18859283A JP H045170 B2 JPH045170 B2 JP H045170B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aperture
optical
resolution
microscope
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58188592A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59121310A (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JPS59121310A publication Critical patent/JPS59121310A/ja
Publication of JPH045170B2 publication Critical patent/JPH045170B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q20/00—Monitoring the movement or position of the probe
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y35/00—Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/18—SNOM [Scanning Near-Field Optical Microscopy] or apparatus therefor, e.g. SNOM probes
    • G01Q60/22—Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10—Scanning systems
    • G02B26/103—Scanning systems having movable or deformable optical fibres, light guides or waveguides as scanning elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/262—Optical details of coupling light into, or out of, or between fibre ends, e.g. special fibre end shapes or associated optical elements
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00—Nanotechnology
    • Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
    • Y10S977/86—Scanning probe structure
    • Y10S977/862—Near-field probe

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、開口が検査されるべき物体上を走
査され、受光された光量子の分解能及び焦点深度
を改良するために電子的に処理される光学顕微鏡
に関する。
ここで“近接視野（neam‐field）”という言
葉は、開口が物体から波長よりも短い距離に置か
れる事実を示す。“開口（aperture）”という言葉
は、ここでは1μｍ以下の直径の入射ひとみを形
成する光波ガイドの尖つた先端を表現するのに用
いられる。
従来の走査顕微鏡は必須なものとして、検査さ
れるべき物体上に入射した光源からの放射を収束
する収束手段、放射検出器、焦点と物体との間に
相対的な動きを生じさせる走査手段を有する。
顕微鏡等の現在の光学機械の分解能の究極の限
界は、一波長、即ち500nｍ程度である。２つの
近接した物点は、像において、第１の物点の回折
の第１の最大値が第２の物点の回折の第１の最小
値と一致する場合が解像できる限界であると考え
られている（Lord Rayleigh，Phil.Mag、（５），
８（1879）261）。
照射がインコヒーレントで顕微鏡の開口が円で
ある時、光学顕微鏡が改造することのできる２つ
の物点間の最小の距離Ｙは、約0.61λn・sinΘで
ある。ここでn.sinΘは“開口数”即ち、屈折率ｎ
と物空間内での光線錐の半角Θとの積である。高
分解能を達成する場合、開口数を大きくしなけれ
ばならない（M.Born and E.Wolf，Principles
of Optics，Pergamon Press，London 1959，
P.417f）。今までで達成することのできた最大の
開口数が約1.3…1.4であることを考慮すると、最
高の分解能は0.5λの程度である。
上述の分解能の限界は、光学機械が結像に基づ
いているという仮定から導き出され、そして、対
物レンズの入射ひとみの直径2a及びその対物レ
ンズの物体からの距離ｈの両方が照射に使用され
る波長λに比較して大きい（ａ、ｈ〓λ）ことを
意味する。これまでにおいて製造することのでき
た入射ひとみの最小の直径と比較して、可視光の
波長が短いため、この条件は自然に従来の光学機
械において満足される。
従来技術から、顕微鏡の分解能を増大するため
の多くの試みを知ることができる。米国特許第
3926500号明細書においては、小さな開口を有す
るしぼりが物平面と共役な平面内で回転される。
検査されるべき物体に、開口を通過する光が物平
面内又は対物レンズの焦点範囲の深さ内にある物
平面に近い領域上にのみ鮮明に収束するようにし
ぼりを経て照射される。従つて、前述の領域から
反射された光のみが鮮明な像を形成するのに寄与
できる。物体又はしぼりは光学軸方向に周期的に
移動される時、顕微鏡の焦点深度が幾分延長さ
れ、不都合なことに、検査される表面の実際の粗
さを平均化してしまう。
W.LukoszとM.MarchandによるOptica Acta
10（1963） P.241の論文“Optishe Abbildung
unter Ueberschretung der beugungsbedingten
Aufio¨sungsgrenze”によれば、光学機械に分解
能は走査しぼりピンホールにの格子様配置により
増大させることができる。
米国特許第4198571号明細書は、環状開口に近
接して置かれた円形レンズであつてもよい環状レ
ンズを用いることにより、走査顕微鏡の分解能を
改良することが記載されている。このような構成
の１つの欠点は、レーザなどのような十分に強力
なコヒーレント光の源の使用を必要とする環状体
による重大な倍率の損失である。
上述したいくつかの従来技術では、光学顕微鏡
に用いられる光学要素の特にレンズの大きさによ
り生ずる限界を克服するための努力がなされてい
る。従来技術においては、ミクロン以下の光学開
口のみの結像素子を持たない顕微鏡が提案されて
いない。
この発明は、波長に較べて小さい物体からの距
離ｈ及び入射ひとみの直径2aを持つ開口を用い
ることにより、分解能の限界を解決した光学顕微
鏡を提案する。開口は入射ひとみと対向する照射
された物体上の点の伝達性に依存する強度を持つ
信号を受信する。表面に沿つて走査されると、物
体の伝達性に従つて、強度が変化する。走査の記
録は物体の“像”を表わす。“像”の分解能は従
来の分解能の限界より実質的に低く、大おそλ／
10である。
このような光学顕微鏡の最も重要な要素は、も
ちろん、開口であり、以下にピラミツド形の透明
な結晶から頂点を所望の分解能と等しいか又は小
さい曲率半径を有するように工作して形成された
開口について記述する。
ピラミツド形レンズは、IBM Technical
Disclosure Bulletin Vol.18（1976）P.4174のT.S.
Fitzgerald による論文“Self‐Image and
Enlarging Lens”に示されている。このレンズ
は、写真フイルム（例えばマイクロフイツシユ）
に記録されている像を拡大しつや消しされた底面
に表示するために用いられる。このレンズは、大
きな大きさを持つことを別として、単に頂点を切
断するだけ以上のことを要するため、顕微鏡への
応用には用いることはできない。即ち、開口の境
界の輪郭を正確に描くために装置を設けなければ
ならず、また、この論文に示されるような寸法は
顕微鏡の応用には必要でない。
従つて、この発明は光源と、制御可能な距離で
検査される物体との間に相対的に走査されるよう
配置された開口と、この開口に光学的に接続され
た光検出器とを有する光学近接視野走査顕微鏡に
関する。この顕微鏡の特徴は、開口が透明物体上
を覆う不透明物体の層に形成されていて、開口の
直径が検査される物体を照射するために用いられ
る光の波長に比較して小さいことである。好まし
い実施例においては、顕微鏡は開口と光検出器と
の間に配された光学フイルタを有する。別の実施
例においては、光源が開口を介して標本（物体）
を照射するように配されており、一方、透過され
た又は反射された光は開口の外の検出器により集
められる。
以下、この発明を図示の実施例に基いて説明す
る。
第１図は、この発明の第１実施例による光学近
接視野走査顕微鏡の要素の一般的な配置を示す。
説明の便宜上、全ての要素はそれらの実際の比率
とは無関係に描かれている。枠１が台２に固定さ
れており、台２は図示しない通常の手段により
Ｘ／Ｙ運動を行うように配された支持体３を通常
の方法により支持している。支持体３は、透明で
下から透照されてもよく、検査される物体４を支
持している。枠１からは腕５が延びていて、物体
４からの開口７の距離を調節するための垂直調節
装置６を支持している。距離は、センサ８と図示
しない通常の調節手段とにより制御される。開口
７に取りつけられているのは光学フイルタ９で、
光学フイルタ９は光ガイド１０を経てホトマルチ
プライヤ（増倍型光電管）又は同様のものを有し
ていてもよい光検出器１１に接続されている。光
学フイルタ９は必須なものではないが、不要な放
射を判別するのに役立つ。
開口７と検査されるべき物体４との間の走査変
位は、対向する表面に取付けられた電極に加えら
れる適当な電圧に応答して伸長又は縮小する既知
のピエゾ−電気変換器の働きにより、支持体３を
台２に対して、即ち、開口７に対して動かすこと
により容易に達成することができる。これらのピ
エゾ−電気結晶体の伸長／縮小は加えられる電圧
に比例しているため、マイクロメータよりも小さ
い再現可能な変位を達成することができる。
開口の垂直調節は、好ましくは通常の粗及び微
調節に分割される。粗調節はラツク・アンド・ピ
ニオン集合体により作成してもよく、一方、微調
節は別のビエゾ−電気変換器を使用してもよい。
表面に沿つて走査される時、開口７を経て伝達
される光は物体４により伝達される光強度によつ
て変化する。達成される分解能は約ｈ＋ａであ
る。距離ｈは好ましくは2a以下である。従つて、
２×20nｍλ／10である。
第２図には前述の実施例の反転型と見なされる
他の実施例が示されている。この実施例では、検
査されるべき物体４への照射は、当該技術におい
て知られている。例えば半導体レーザを有する適
当な光源１２と組合せられた開口７を通じて行な
われる。物体４から反射された光は、物体４に並
置して配された１又は複数のセンサ１３により制
御される。明らかに、この反対の配置は、前述の
実施例と同様の特性を有し、さらにある条件下で
はより多くの利点を持つだろう。特に、物体への
光の強度はこの場合はかなり低いすることができ
る。
光検出器の物体の下に置くことにより、この反
対型配置を代りに伝達形式で用いることができ
る。
前述したように、この発明による顕微鏡の決定
的な要素は開口７である。第３図は、ピラミツド
形の透明な結晶１４が接続された光学フイルタ９
の下端を示す。光学フイルタ９は、たとえば、約
200×200μｍの断面の有する。一方、結晶１４は
説明のために20nｍと仮定されている所望の分解
能と等しい、又はそれよりも小さい曲率半径rcを
持つ切子面１６により形成される鋭どい先端１５
を持つように選ばれている。
結晶１４は、典型的に約200nｍの厚さを持つ
金属被膜１７（一定の比率では描かれていない）
を有する。この厚さは、実際的な不透明に対して
十分な厚さであると考えられる。先端１５におい
て、結晶１４の頂点１８及び金属被膜１７を例え
ばイオン切削により除去して、100nｍ以下例え
ば20nｍの一辺ａを有する実質的に正方形の領域
にわたつて結晶１４を露呈する。領域１９は光に
対して透明であり、顕微鏡の入射ひとみとして用
いられる。領域１９に大変に近い所は、金属被膜
１７が光軸方向に200nｍよりも薄く、従つて、
いくらかの透過性を有するがこれは第４図のグラ
フに示すように、光軸からの距離と共に急速に減
少する。金属中への光の透過深さは、適当に良好
な反射をもつもの（例えばAl）に対しては大よ
そ12nｍであるから、有効な開口面積はa2よりも
僅かに大きくなるであろう。開口を製造する際、
イオン切削工程（又は他の工程）を入射ひとみが
所望の大きさに達した時に停止できるように、光
の伝達が監視される。
結晶から製造される開口に代わるものとして、
光学ガラスフアイバから製造されるものがある。
モノモード・ガラス・フアイバは、伝達されるべ
き光の波長の大きさ程度の直径を持つコアと、全
反射を発生できるようにコアよりも小さい屈折率
を有しコアを取り囲むクラツデイングとを有す
る。上述の顕微鏡の目的のために、ガラス・フア
イバの一端面は金属等の不透明膜で被覆されても
よく、そして例えば電子ビームでもつてその被膜
にコアを露呈するために同軸孔が開けられる。上
述のように形成された光学フアイバでは、ピラミ
ツド形結晶から製造された開口と本質的に同じ特
性を有する開口が得られる。
波長λに比較して小さいけれども、入射ひとみ
は有限の伝達を有する。伝達が大よそ伝導球の反
射に等しいというBabinnetの原理と組合せられ
たMie散乱の理論から半定量的な概算が可能であ
る。半径ａ（ａ＜λ）の開口の伝達性はTa＝４／
３・（2πa／λ）4であり、そして“伝達断面積”は
Qa＝a2π・Taである。半径が20nｍで、波長が
500nｍであると仮定すると、Taは約0.5％でQaは
約６、７・10-14cm2である。開口を通る光束はφa
＝QaI(i)であり、もし、入射照射に対して控え目
な値φ＝10W／cm2を用いると、Qa＝６×10-13W
である。これは２×1016フオトン／秒に相当し、
今日のホトマルチプライヤにとつて容易に検出可
能な量である。伝達断面積Qaがa6に比例する点
から見ると、半径を半分にすると単に３×103フ
オトン／秒の光束が得られる。
物体表面の可能な粗さの観点からすると、表面
からの開口の距離は高分解能を持つて監視されな
ければならない。この目的のために種々の技術を
使用してもよい。
(1) 約5nｍの高分解能を有する通常の“Taly−
step”装置による機械的走査。
(2) 1nｍ以下の分解能を持つ差分干渉コントラ
スト顕微鏡（ノマルスキ法）。
(3) 減衰全反射法：消滅しやすい波が物体上の空
間で指数関数的に減衰し、物体表面からの距離
の敏感な測定を与える。検出器は開口それ自身
又は好ましくは分離されたより大きな検出素子
である。
(4) 開口（金属化された表面）と物体又は支持体
との間の容量の測定。
10乃至50nｍ範囲内の作業距離で1nｍの分解能
が可能である。上記の技術(1)は最低限のものであ
ると考えられ、技術(2)及び(4)は確実なものと考え
られ、技術(3)は必要な分解能を与えるであろう。
物体４と開口７との間のＸ／Ｙ座標軸に沿つた
相互変位は、支持体３を例えばステツプ方式で動
かすことにより、達成することができる。有用な
移動支持体がヨーロツパ特許公開（特許出願
81106 229.8）“ナノメータ範囲内の変位が可能な
電気的移動支持体”に記載されている。
この発明による光学近接視野走査顕微鏡と従来
の顕微鏡とを比較して見ると、この発明の光学近
接視野走査顕微鏡は分解能が光学顕微鏡よりも５
倍以上大きいが、電子顕微鏡の分解能には達して
いない。電子顕微鏡に対して優れている所は、こ
の発明の光学近接視野走査顕微鏡は通常の光学機
械と同様に空気中又は液体中で動作することがで
きる。これはまた、光学スペクトラル情報を与え
る。従つて、この発明の顕微鏡は次のような分野
の応用に適している。マイクロエレクトロニク
ス、表面科学、薄膜技術、生物学等である。第５
図において、２０が光学近接視野顕微鏡の横方向
と縦方向の分解能を示しており、２１が人間の眼
の分解能を示している。２２が通常の光学顕微鏡
の分解能を示しており、２３が電子顕微鏡の分解
能を示しており、２４が最近開発された米国特許
第4343993号記載のトンネリング走査顕微鏡の分
解能である。
【図面の簡単な説明】
第１図はこの発明による光学近接視野顕微鏡の
一実施例を示す概略図、第２図はこの実施例によ
る光学近接視野走査顕微鏡の反転型を示す概略
図、第３図は第１及び第２図の顕微鏡に用いられ
る開口の拡大図、第４図は第３図の開口の不透明
層を通過する光の強度の減衰を示すグラフ図、第
５図は種々のタイプの顕微鏡の分解能を比較して
示すグラフ図である。 １……枠、２……台、３……支持体、４……物
体、５……腕、６……垂直調節装置、７……開
口、８……センサ、９……光学フイルタ、１０…
…光ガイド、１１……光検出器、１４……結晶。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 検査される物体に対して制御可能な距離に置
    かれ前記物体との間で相対的に走査可能に配され
    た開口と、この開口に光学的に接続された光検出
    器と、光源とを有する光学近接視野走査顕微鏡に
    おいて、前記開口が、透明体を覆う不透明層に設
    けられて検査される前記物体を照射するのに用い
    られる光の波長に比較して小さな直径を持ち、前
    記距離が、前記波長に比較して小さいことを特徴
    とする光学近接視野走査顕微鏡。
JP58188592A 1982-12-27 1983-10-11 光学近接視野走査顕微鏡 Granted JPS59121310A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP82111974.0 1982-12-27
EP82111974A EP0112401B1 (en) 1982-12-27 1982-12-27 Optical near-field scanning microscope

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59121310A JPS59121310A (ja) 1984-07-13
JPH045170B2 true JPH045170B2 (ja) 1992-01-30

Family

ID=8189426

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58188592A Granted JPS59121310A (ja) 1982-12-27 1983-10-11 光学近接視野走査顕微鏡

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4604520A (ja)
EP (1) EP0112401B1 (ja)
JP (1) JPS59121310A (ja)
CA (1) CA1243231A (ja)
DE (1) DE3276138D1 (ja)

Families Citing this family (102)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3276917D1 (en) * 1982-12-27 1987-09-10 Ibm Light waveguide with a submicron aperture, method for manufacturing the waveguide and application of the waveguide in an optical memory
SE455736B (sv) * 1984-03-15 1988-08-01 Sarastro Ab Forfaringssett och anordning for mikrofotometrering och efterfoljande bildsammanstellning
DE3477271D1 (en) * 1984-12-28 1989-04-20 Ibm Waveguide for an optical near-field microscope
DE3571567D1 (en) * 1985-04-02 1989-08-24 Ibm Apparatus for manufacturing surface structures in the nanometer range
US4747698A (en) * 1986-04-30 1988-05-31 International Business Machines Corp. Scanning thermal profiler
EP0283256A3 (en) * 1987-03-18 1990-02-07 Tektronix Inc. Scanning optical microscope
DE3772563D1 (de) * 1987-06-22 1991-10-02 Ibm Verfahren zur oberflaechenuntersuchung mit nanometer- und pikosekundenaufloesung sowie laserabgetastetes rastertunnelmikroskop zur durchfuehrung des verfahrens.
ES2024468B3 (es) * 1987-09-25 1992-03-01 Ibm Sensor para convertir una distancia a optica y ademas a energia electrica, y aparato de exploracion de superficie que usa el mismo
US4863252A (en) * 1988-02-11 1989-09-05 Tracor Northern, Inc. Objective lens positioning system for confocal tandem scanning reflected light microscope
US4917462A (en) * 1988-06-15 1990-04-17 Cornell Research Foundation, Inc. Near field scanning optical microscopy
DE3820518C1 (ja) * 1988-06-16 1990-01-11 Wild Leitz Gmbh, 6330 Wetzlar, De
US5212987A (en) * 1988-06-16 1993-05-25 Hommelwerke Gmbh Acoustic screen scan microscope for the examination of an object in the short-range field of a resonant acoustic oscillator
EP0782027B1 (en) * 1988-07-13 2003-04-16 Optiscan Pty Ltd Scanning microscope
IL87139A0 (en) * 1988-07-17 1989-02-28 Aaron Lewis Nanometer dimension optical device
US5264698A (en) * 1988-07-17 1993-11-23 Raoul Kopelman Nanometer dimension optical device with microimaging and nanoillumination capabilities
US5018865A (en) * 1988-10-21 1991-05-28 Ferrell Thomas L Photon scanning tunneling microscopy
US4947034A (en) * 1989-04-28 1990-08-07 International Business Machines Corporation Apertureless near field optical microscope
DE3916047C2 (de) * 1989-05-17 1998-09-17 Ulrich Dr Fischer Stabförmige Sonde zur berührungslosen Untersuchung von Oberflächenstrukturen im Submikrometerbereich sowie Verfahren zur Herstellung dieser Sonde
JP2799191B2 (ja) * 1989-08-24 1998-09-17 オリンパス光学工業株式会社 細胞内イオンの２次元濃度分布像を形成する方法
FR2651332B1 (fr) * 1989-08-28 1994-05-06 Ardt Microscope en champ proche en reflexion utilisant un guide d'ondes comme sonde de ce champ.
FR2654212A1 (fr) * 1989-11-03 1991-05-10 Ardt Procede d'analyse spectroscopique ponctuelle de la lumiere diffractee ou absorbee par une substance placee dans un champ proche, et microscopes optiques a balayage en champ proche mettant en óoeuvre ce procede.
US5245863A (en) * 1990-07-11 1993-09-21 Olympus Optical Co., Ltd. Atomic probe microscope
US5394741A (en) * 1990-07-11 1995-03-07 Olympus Optical Co., Ltd. Atomic probe microscope
JPH0477605A (ja) * 1990-07-20 1992-03-11 Olympus Optical Co Ltd 走査型トンネル顕微鏡、及び、この顕微鏡に使用されるプローブ
JP2744339B2 (ja) * 1990-08-03 1998-04-28 キヤノン株式会社 情報処理装置及び情報処理方法
US5272330A (en) * 1990-11-19 1993-12-21 At&T Bell Laboratories Near field scanning optical microscope having a tapered waveguide
US5288999A (en) * 1990-11-19 1994-02-22 At&T Bell Laboratories Manufacturing method including near-field optical microscopic examination of a semiconductor wafer
US5286970A (en) * 1990-11-19 1994-02-15 At&T Bell Laboratories Near field optical microscopic examination of a biological specimen
US5288998A (en) * 1990-11-19 1994-02-22 At&T Bell Laboratories Manufacturing method including photoresist processing using a near-field optical probe
US5288997A (en) * 1990-11-19 1994-02-22 At&T Bell Laboratories Manufacturing method, including near-field optical microscopic examination of a magnetic bit pattern
US5168538A (en) * 1991-01-16 1992-12-01 Gillespie Donald E Optical probe employing an impedance matched sub-lambda transmission line
IL97362A0 (en) * 1991-02-26 1992-08-18 Aaron Lewis Method for external excitation of subwavelength light sources that is integrated into feedback methodologies
JP2823970B2 (ja) * 1991-04-05 1998-11-11 浜松ホトニクス株式会社 近接場走査光学顕微鏡
DE69121201D1 (de) * 1991-08-27 1996-09-05 Ibm Verfahren und Gerät zur Erzeugung hochauflösender optischer Bilder
JP2683180B2 (ja) * 1992-04-08 1997-11-26 浜松ホトニクス株式会社 走査型光学顕微鏡
JPH05288995A (ja) * 1992-04-10 1993-11-05 Hamamatsu Photonics Kk 走査型光学顕微鏡
DE4231426A1 (de) * 1992-09-19 1993-04-29 Danzebrink Hans Ulrich Polyederspitze als nahfeldoptischer sensor und optoelektronischer wandler
DE69223789T2 (de) * 1992-10-22 1998-06-25 International Business Machines Corp., Armonk, N.Y. Optisches Nahfeldabtastmikroskop
US5418771A (en) * 1993-02-25 1995-05-23 Canon Kabushiki Kaisha Information processing apparatus provided with surface aligning mechanism between probe head substrate and recording medium substrate
US5923430A (en) 1993-06-17 1999-07-13 Ultrapointe Corporation Method for characterizing defects on semiconductor wafers
US5479252A (en) * 1993-06-17 1995-12-26 Ultrapointe Corporation Laser imaging system for inspection and analysis of sub-micron particles
US5410151A (en) * 1993-07-15 1995-04-25 Sumitomo Electric Lightwave Corp. Fiber optic probe and method of making same
US5531343A (en) * 1993-07-15 1996-07-02 At&T Corp. Cylindrical fiber probe devices and methods of making them
US5570441A (en) * 1993-07-15 1996-10-29 At&T Corp. Cylindrical fiber probes and methods of making them
US5389779A (en) * 1993-07-29 1995-02-14 At&T Corp. Method and apparatus for near-field, scanning, optical microscopy by reflective, optical feedback
US5395741A (en) * 1993-12-22 1995-03-07 At&T Corp. Method of making fiber probe devices using patterned reactive ion etching
US5394500A (en) * 1993-12-22 1995-02-28 At&T Corp. Fiber probe device having multiple diameters
US5480046A (en) * 1993-12-22 1996-01-02 At&T Corp. Fiber probe fabrication having a tip with concave sidewalls
GB2289759B (en) * 1994-05-11 1996-05-22 Khaled Karrau Coupled oscillator scanning imager
US6006594A (en) * 1994-05-11 1999-12-28 Dr. Khaled Und Dr. Miles Haines Gesellschaft Burgerlichen Rechts Scanning probe microscope head with signal processing circuit
US6337479B1 (en) 1994-07-28 2002-01-08 Victor B. Kley Object inspection and/or modification system and method
US6265711B1 (en) 1994-07-28 2001-07-24 General Nanotechnology L.L.C. Scanning probe microscope assembly and method for making spectrophotometric near-field optical and scanning measurements
US6339217B1 (en) 1995-07-28 2002-01-15 General Nanotechnology Llc Scanning probe microscope assembly and method for making spectrophotometric, near-field, and scanning probe measurements
WO1996003641A1 (en) * 1994-07-28 1996-02-08 Kley Victor B Scanning probe microscope assembly
US5751683A (en) 1995-07-24 1998-05-12 General Nanotechnology, L.L.C. Nanometer scale data storage device and associated positioning system
US5479024A (en) * 1994-08-11 1995-12-26 The Regents Of The University Of California Method and apparatus for performing near-field optical microscopy
DE9414582U1 (de) * 1994-09-09 1994-11-10 Fischer, Ulrich, Dr., 48159 Münster Mikroskopischer Sender oder Detektor elektromagnetischer Strahlung
US5485536A (en) * 1994-10-13 1996-01-16 Accuphotonics, Inc. Fiber optic probe for near field optical microscopy
US5664036A (en) * 1994-10-13 1997-09-02 Accuphotonics, Inc. High resolution fiber optic probe for near field optical microscopy and method of making same
WO1996030797A1 (de) * 1995-03-30 1996-10-03 Carl Zeiss Jena Gmbh Mikrooptische sonde für rastermikroskope
DE19531465C2 (de) * 1995-03-30 1997-12-18 Zeiss Carl Jena Gmbh Rastersonde für die optische Nahfeldmikroskopie
EP0769158B1 (de) * 1995-05-02 2002-10-02 Wolfgang Bacsa Vorrichtung zur optischen abtastung von objekten auf einer abtastfläche sowie verfahren zu ihrem betrieb
US5663798A (en) * 1995-05-08 1997-09-02 Dr. Khaled Karrai Und Dr. Miles Haines Gesellschaft Burgerlichen Rechts Far-field characterization of sub-wavelength sized apertures
DE19522546C2 (de) * 1995-06-21 1998-02-19 Max Planck Gesellschaft Sonde für die Nahfeld-Mikroskopie
US5808973A (en) * 1995-09-06 1998-09-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Near field recording and reproducing apparatus
US5796909A (en) * 1996-02-14 1998-08-18 Islam; Mohammed N. All-fiber, high-sensitivity, near-field optical microscopy instrument employing guided wave light collector and specimen support
JP3260619B2 (ja) * 1996-03-19 2002-02-25 セイコーインスツルメンツ株式会社 光導波路プロ−ブおよび光システム
JP3264824B2 (ja) * 1996-04-11 2002-03-11 セイコーインスツルメンツ株式会社 光伝搬体プローブと走査型近視野顕微鏡及び光伝搬体プローブの透過孔形成方法
US6148114A (en) 1996-11-27 2000-11-14 Ultrapointe Corporation Ring dilation and erosion techniques for digital image processing
US5939709A (en) * 1997-06-19 1999-08-17 Ghislain; Lucien P. Scanning probe optical microscope using a solid immersion lens
US6923044B1 (en) 2001-03-08 2005-08-02 General Nanotechnology Llc Active cantilever for nanomachining and metrology
US6787768B1 (en) 2001-03-08 2004-09-07 General Nanotechnology Llc Method and apparatus for tool and tip design for nanomachining and measurement
US6802646B1 (en) 2001-04-30 2004-10-12 General Nanotechnology Llc Low-friction moving interfaces in micromachines and nanomachines
US6752008B1 (en) 2001-03-08 2004-06-22 General Nanotechnology Llc Method and apparatus for scanning in scanning probe microscopy and presenting results
US7196328B1 (en) 2001-03-08 2007-03-27 General Nanotechnology Llc Nanomachining method and apparatus
GB2338568B (en) * 1998-06-19 2000-12-20 Optiscan Pty Ltd Two photon endoscope or microscope method and apparatus
DE29814974U1 (de) * 1998-08-21 1999-12-30 Witec Wissenschaftliche Instr Kombinationsmikroskop
DE29814972U1 (de) * 1998-08-21 1999-12-30 WITec Wissenschaftliche Instrumente und Technologie GmbH, 89081 Ulm Nahfeldoptische Sonde und nahfeldoptisches Mikroskop
EP1196939A4 (en) 1999-07-01 2002-09-18 Gen Nanotechnology Llc DEVICE AND METHOD FOR EXAMINING AND / OR CHANGING OBJECT
JP3513448B2 (ja) 1999-11-11 2004-03-31 キヤノン株式会社 光プローブ
JP4327993B2 (ja) 2000-05-29 2009-09-09 日本分光株式会社 プローブ開口作製装置、及びそれを用いた近接場光学顕微鏡
WO2002001194A1 (en) * 2000-06-25 2002-01-03 Affymetrix, Inc. Optically active substrates
DE10048129B4 (de) * 2000-09-28 2007-05-16 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren und Anordnung zur Detektion von Degradationsprozessen an Halbleiterbauelementen wie Laserdioden
US6931710B2 (en) 2001-01-30 2005-08-23 General Nanotechnology Llc Manufacturing of micro-objects such as miniature diamond tool tips
US7253407B1 (en) 2001-03-08 2007-08-07 General Nanotechnology Llc Active cantilever for nanomachining and metrology
US7053369B1 (en) * 2001-10-19 2006-05-30 Rave Llc Scan data collection for better overall data accuracy
DE10152609A1 (de) * 2001-10-25 2003-05-08 Max Planck Gesellschaft Optisches Mikroskop mit verstellbarem Objektiv
US6813937B2 (en) 2001-11-28 2004-11-09 General Nanotechnology Llc Method and apparatus for micromachines, microstructures, nanomachines and nanostructures
US6650420B2 (en) * 2002-02-27 2003-11-18 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Nanoscale vibrometric measurement apparatus and method
US20030232427A1 (en) * 2002-06-18 2003-12-18 Montagu Jean I. Optically active substrates for examination of biological materials
WO2004023490A2 (en) 2002-09-09 2004-03-18 General Nanotechnology Llc Fluid delivery for scanning probe microscopy
US7372013B2 (en) * 2004-04-27 2008-05-13 California Institute Of Technology Near field scanning microscope probe and method for fabricating same
US7454095B2 (en) * 2004-04-27 2008-11-18 California Institute Of Technology Integrated plasmon and dielectric waveguides
EP1782432A1 (en) * 2004-05-31 2007-05-09 Givargizov, Mikhail Evgenievich Tip structure for scanning devices, method of its preparation and devices thereon
US7043104B1 (en) 2005-06-14 2006-05-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. High gain optical probe
US7586583B2 (en) 2005-09-15 2009-09-08 Franklin Mark Schellenberg Nanolithography system
US8173965B2 (en) * 2006-09-12 2012-05-08 International Business Machines Corporation Thermally excited near-field source
US7719685B2 (en) 2006-11-30 2010-05-18 Chian Chiu Li Near-field optical apparatus and method using photodetector array
DE102009048710B4 (de) * 2009-10-08 2020-04-02 Leica Microsystems Cms Gmbh Lasersystem für ein Mikroskop und Verfahren zum Betreiben eines Lasersystems für ein Mikroskop
DE102010019525B4 (de) 2010-05-06 2012-06-21 Tutech Innovation Gmbh Nahfeldsensor zur lokalen Messung von dielektrischen Eigenschaften
DE202010013458U1 (de) 2010-09-23 2010-12-30 Eberhard-Karls-Universität Tübingen Sonde für aperturlose Nahfeldmikroskopie und/oder für Ramanspektroskopie
BR102015010352B1 (pt) 2015-05-07 2021-05-04 Instituto Nacional De Metrologia, Qualidade E Tecnologia - Inmetro dispositivo metálico para miscroscopia e espectroscopia óptica de campo próximo e método de fabricação do mesmo

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3187627A (en) * 1960-10-03 1965-06-08 American Optical Corp Microscope and recording optical systems utilizing tapered light conducting fiber bundles
US3307020A (en) * 1962-09-27 1967-02-28 Data Corp High information density data record and readout device
GB1164799A (en) * 1966-01-07 1969-09-24 Vyzk Ustav Matemat Stroju Optical Scanning Device
US3558814A (en) * 1968-03-08 1971-01-26 Zeiss Stiftung Method and apparatus for plotting a specific area of an object under an observation instrument
US3705755A (en) * 1970-08-24 1972-12-12 Stephen Charles Baer Microscopy apparatus
US4240692A (en) * 1975-12-17 1980-12-23 The University Of Chicago Energy transmission
US4070090A (en) * 1976-06-28 1978-01-24 Hametner-Farr Company, Inc. Optical instrument employing a truncated prism having its distal end disposed proximate a planar end of an opaque tubular housing
JPS5793907U (ja) * 1980-11-26 1982-06-09
US4469411A (en) * 1981-08-10 1984-09-04 Clegg John E Quadrant conical-lens microscope

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PHILOSOPHICAL MAGAZINE AND JOURNAL OF SCIENCE=1928 *

Also Published As

Publication number Publication date
DE3276138D1 (en) 1987-05-27
CA1243231A (en) 1988-10-18
JPS59121310A (ja) 1984-07-13
EP0112401A1 (en) 1984-07-04
EP0112401B1 (en) 1987-04-22
US4604520A (en) 1986-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH045170B2 (ja)
US5004307A (en) Near field and solid immersion optical microscope
US5291012A (en) High resolution optical microscope and irradiation spot beam-forming mask
Mansfield et al. Solid immersion microscope
US4198571A (en) Scanning microscopes
US6614598B1 (en) Microlensing particles and applications
JPH0438326B2 (ja)
US8424111B2 (en) Near-field optical microscope, near-field optical probe, and sample observation method
KR100262878B1 (ko) 근접시야 광학현미경 및 그 측정방법
DE60035250T2 (de) Optische Nahfeldsonde und optisches Scanning-Nahfeld-Mikroskop
JP2002512697A (ja) 固体界浸レンズを用いた走査プローブ光学顕微鏡
US5828459A (en) Apparatus and method for scanning laser microscopy
US20190293916A1 (en) Objective lens attachment
JP7025280B2 (ja) メタレンズユニット、半導体故障解析装置、及び半導体故障解析方法
CN117434627A (zh) 用于保持微球体的膜
Courjon et al. Imaging of submicron index variations by scanning optical tunneling
US6753970B1 (en) Transducer for generating optical contrasts
JP3021872B2 (ja) カンチレバー、原子間力顕微鏡
JP4585053B2 (ja) 散乱型近接場顕微鏡
US5764364A (en) Scattered-light laser microscope
JPH0954101A (ja) 走査型近接場光学顕微鏡
Murray et al. Evanescent‐wave microscopy: A simple optical configuration
Kino et al. Solid immersion lens photon tunneling microscope
JP2005207935A (ja) 近接場光学顕微鏡
JP3022648B2 (ja) 走査型プローブ顕微鏡