JP3264824B2 - 光伝搬体プローブと走査型近視野顕微鏡及び光伝搬体プローブの透過孔形成方法 - Google Patents
光伝搬体プローブと走査型近視野顕微鏡及び光伝搬体プローブの透過孔形成方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、走査型プローブ
顕微鏡の１つであり、計測物質の微細領域での光学特性
を計測する走査型近視野顕微鏡に使用する光伝搬体プロ
ーブと走査型近視野顕微鏡及び光伝搬体プローブの開口
形成方法に関する。
顕微鏡の１つであり、計測物質の微細領域での光学特性
を計測する走査型近視野顕微鏡に使用する光伝搬体プロ
ーブと走査型近視野顕微鏡及び光伝搬体プローブの開口
形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】原子間力顕微鏡（以下ＡＦＭと略す）、
走査型トンネル顕微鏡（以下ＳＴＭと略す）に代表され
る走査型プローブ顕微鏡は、試料表面の微細な形状を観
察することができることから広く普及している。
走査型トンネル顕微鏡（以下ＳＴＭと略す）に代表され
る走査型プローブ顕微鏡は、試料表面の微細な形状を観
察することができることから広く普及している。
【０００３】一方、先端が尖鋭化された光媒体からなる
プローブを光の波長以下まで測定試料に近づけることに
よって、試料の光学特性や形状を高分解能で測定しよう
という試みがあり、いくつかの近接場光顕微鏡が提案さ
れている。この一つの装置として、試料に対して垂直に
保持した光ファイバー・プローブの先端を試料表面に対
して水平に振動させ、試料表面とプローブ先端の摩擦に
よって生じる振動の振幅の変化を光ファイバー・プロー
ブ先端から照射され試料を透過したレーザー光の光軸の
ズレとして検出し、試料を微動機構で動かすことによっ
て、プローブ先端と試料表面の間隔を一定に保ち、微動
機構に入力した信号強度から表面形状を検出するととも
に試料の光透過性の測定を行う装置が提案されている。
プローブを光の波長以下まで測定試料に近づけることに
よって、試料の光学特性や形状を高分解能で測定しよう
という試みがあり、いくつかの近接場光顕微鏡が提案さ
れている。この一つの装置として、試料に対して垂直に
保持した光ファイバー・プローブの先端を試料表面に対
して水平に振動させ、試料表面とプローブ先端の摩擦に
よって生じる振動の振幅の変化を光ファイバー・プロー
ブ先端から照射され試料を透過したレーザー光の光軸の
ズレとして検出し、試料を微動機構で動かすことによっ
て、プローブ先端と試料表面の間隔を一定に保ち、微動
機構に入力した信号強度から表面形状を検出するととも
に試料の光透過性の測定を行う装置が提案されている。
【０００４】また、鈎状に成形した光ファイバー・プロ
ーブをＡＦＭのカンチレバーとして使用し、ＡＦＭ動作
させると同時に、光ファイバープローブの先端から試料
にレーザー光を照射し、表面形状を検出するとともに試
料の光学特性の測定を行う走査型近視野原始間力顕微鏡
が提案されている。
ーブをＡＦＭのカンチレバーとして使用し、ＡＦＭ動作
させると同時に、光ファイバープローブの先端から試料
にレーザー光を照射し、表面形状を検出するとともに試
料の光学特性の測定を行う走査型近視野原始間力顕微鏡
が提案されている。
【０００５】これら試料表面の形状と光学特性を同時に
測定する走査型近視野顕微鏡では、透過孔部を除く先端
部に被覆膜を有する光伝搬体プローブを使用している。
図７は従来使用される光伝搬体プローブの構成を示した
断面図である。１は尖鋭化された光伝搬体、５１は被覆
膜で、被覆膜５１は単層で構成され、透過孔部の端面に
おいて、透過孔と同一の平面で構成されている。この光
伝搬体プローブを走査型近視野顕微鏡に搭載した場合、
その分解能は、表面形状については被覆膜を含む光伝搬
体プローブの先端径、光学特性についてはプローブ先端
の透過孔の大きさで、それぞれ制限されている。例え
ば、光伝搬体自体の先端径が１００ｎｍの場合、金属被
覆膜の透過孔部への回り込みがないと仮定して、先端部
周囲を膜厚１００ｎｍの被覆膜で被覆した場合、透過孔
部の径は１００ｎｍとなり、被覆膜を含む光伝搬体プロ
ーブの先端径は約３００ｎｍとなる。
測定する走査型近視野顕微鏡では、透過孔部を除く先端
部に被覆膜を有する光伝搬体プローブを使用している。
図７は従来使用される光伝搬体プローブの構成を示した
断面図である。１は尖鋭化された光伝搬体、５１は被覆
膜で、被覆膜５１は単層で構成され、透過孔部の端面に
おいて、透過孔と同一の平面で構成されている。この光
伝搬体プローブを走査型近視野顕微鏡に搭載した場合、
その分解能は、表面形状については被覆膜を含む光伝搬
体プローブの先端径、光学特性についてはプローブ先端
の透過孔の大きさで、それぞれ制限されている。例え
ば、光伝搬体自体の先端径が１００ｎｍの場合、金属被
覆膜の透過孔部への回り込みがないと仮定して、先端部
周囲を膜厚１００ｎｍの被覆膜で被覆した場合、透過孔
部の径は１００ｎｍとなり、被覆膜を含む光伝搬体プロ
ーブの先端径は約３００ｎｍとなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】表面形状の分解能を向
上させるためには、光伝搬体プローブの先端径を小さく
する必要がある。しかし、被覆膜の膜厚を薄く堆積する
と、透過孔周辺から漏れ光が生じ、光学特性の分解能や
コントラストを低下させる問題があった。
上させるためには、光伝搬体プローブの先端径を小さく
する必要がある。しかし、被覆膜の膜厚を薄く堆積する
と、透過孔周辺から漏れ光が生じ、光学特性の分解能や
コントラストを低下させる問題があった。
【０００７】一方、漏れ光を生じさせないために被覆膜
を厚く堆積すると、表面形状の分解能が低下する問題
や、透過孔が埋没し、透過孔からの出射光量が減少して
光学特性の分解能やコントラストを低下させる問題があ
った。図７に示した従来例による光伝搬体プローブの構
成では、波長５００ｎｍ周辺の領域で、被覆膜５１をア
ルミニウムとした場合、理想的には５０ｎｍ程度の膜厚
で被覆可能であるが、実際には膜質の劣化やピンホール
の発生を考慮して１００ｎｍ程度の膜厚が必要である。
この場合、光伝搬体プローブの先端径は少なくとも２０
０ｎｍ以上となる。
を厚く堆積すると、表面形状の分解能が低下する問題
や、透過孔が埋没し、透過孔からの出射光量が減少して
光学特性の分解能やコントラストを低下させる問題があ
った。図７に示した従来例による光伝搬体プローブの構
成では、波長５００ｎｍ周辺の領域で、被覆膜５１をア
ルミニウムとした場合、理想的には５０ｎｍ程度の膜厚
で被覆可能であるが、実際には膜質の劣化やピンホール
の発生を考慮して１００ｎｍ程度の膜厚が必要である。
この場合、光伝搬体プローブの先端径は少なくとも２０
０ｎｍ以上となる。
【０００８】さらに、被覆膜の外側に保護膜を追加堆積
する場合や、磁性膜などの機能性膜を追加堆積する場
合、上記の被覆膜を厚く堆積する場合と同様の問題が生
じる。本発明の目的は、走査型近視野顕微鏡において、
表面形状の高分解能化と、光学特性の高分解能化を両立
するための、光伝搬体プローブと光伝搬体プローブの透
過孔形成方法を提供することにある。
する場合や、磁性膜などの機能性膜を追加堆積する場
合、上記の被覆膜を厚く堆積する場合と同様の問題が生
じる。本発明の目的は、走査型近視野顕微鏡において、
表面形状の高分解能化と、光学特性の高分解能化を両立
するための、光伝搬体プローブと光伝搬体プローブの透
過孔形成方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するため、端部に光を透過する透過孔を有する光伝
搬体からなり、透過孔部が尖鋭な先端部となるように構
成され、透過孔部を除く先端部に被覆膜を有する光伝搬
体プローブは、被覆膜を、透過孔部端において、透過孔
部から外周に向かって漸次後退する曲面とした。
解決するため、端部に光を透過する透過孔を有する光伝
搬体からなり、透過孔部が尖鋭な先端部となるように構
成され、透過孔部を除く先端部に被覆膜を有する光伝搬
体プローブは、被覆膜を、透過孔部端において、透過孔
部から外周に向かって漸次後退する曲面とした。
【００１０】また、被覆膜を、透過孔部を形成している
第１の被覆膜と、第１の被覆膜の外側にあって、先端部
近傍でテーパー状となる第２の被覆膜で構成した。一
方、端部に光を透過する透過孔を有する光伝搬体からな
り、透過孔部が尖鋭な先端部となるように構成され、透
過孔部を除く先端部に被覆膜を有する光伝搬体プローブ
の透過孔形成方法は、光伝搬体の先端部の方向と平行な
方向に長さを有する蒸発源を用いて、真空蒸着により金
属膜被覆を堆積する工程とした。
第１の被覆膜と、第１の被覆膜の外側にあって、先端部
近傍でテーパー状となる第２の被覆膜で構成した。一
方、端部に光を透過する透過孔を有する光伝搬体からな
り、透過孔部が尖鋭な先端部となるように構成され、透
過孔部を除く先端部に被覆膜を有する光伝搬体プローブ
の透過孔形成方法は、光伝搬体の先端部の方向と平行な
方向に長さを有する蒸発源を用いて、真空蒸着により金
属膜被覆を堆積する工程とした。
【００１１】また、光伝搬体プローブの透過孔形成方法
は、光伝搬体の先端部の方向と平行な方向に少なくとも
２個以上配置された蒸発源から真空蒸着により金属膜被
覆を堆積する工程とした。さらに、光伝搬体プローブの
透過孔形成方法は、光伝搬体の側方から第１の被覆膜を
堆積する工程と、第１の被覆膜の堆積方向より先端に向
かって後方から第２の被覆膜を堆積する工程とした。
は、光伝搬体の先端部の方向と平行な方向に少なくとも
２個以上配置された蒸発源から真空蒸着により金属膜被
覆を堆積する工程とした。さらに、光伝搬体プローブの
透過孔形成方法は、光伝搬体の側方から第１の被覆膜を
堆積する工程と、第１の被覆膜の堆積方向より先端に向
かって後方から第２の被覆膜を堆積する工程とした。
【００１２】
【実施例】以下に本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は本発明の第１実施例を示す光伝搬体
プローブの構成を表した断面図である。
て説明する。図１は本発明の第１実施例を示す光伝搬体
プローブの構成を表した断面図である。
【００１３】１は光伝搬体である光ファイバー、４は金
属膜被覆で、光ファイバー１は尖鋭化され、先端５の透
過孔部を除く部分は金属膜被覆４で被覆された構成であ
る。金属膜被覆４は、透過孔部から外周に向かって漸次
後退する曲面とした。光ファイバー１としては、様々な
コア径、クラッド径のシングルモードファイバー及びマ
ルチモードファイバー、さらに偏波面保存ファイバーな
どを用いることが可能である。他の光伝搬体としてはキ
ャピラリーを用いることもできる。金属膜被覆４の材料
としては、金、白金、アルミニウム、クロム、ニッケル
等の光を反射する材料が用いられる。
属膜被覆で、光ファイバー１は尖鋭化され、先端５の透
過孔部を除く部分は金属膜被覆４で被覆された構成であ
る。金属膜被覆４は、透過孔部から外周に向かって漸次
後退する曲面とした。光ファイバー１としては、様々な
コア径、クラッド径のシングルモードファイバー及びマ
ルチモードファイバー、さらに偏波面保存ファイバーな
どを用いることが可能である。他の光伝搬体としてはキ
ャピラリーを用いることもできる。金属膜被覆４の材料
としては、金、白金、アルミニウム、クロム、ニッケル
等の光を反射する材料が用いられる。
【００１４】上記のような光伝搬体プローブの構成によ
れば、透過孔端部の金属膜被覆を曲面にすることによ
り、金属膜被覆の厚さが測定する表面形状に与える影響
を小さくすることができ、容易に金属膜被覆の膜厚を厚
くすることができる。従って、透過孔周辺の漏れ光を防
止できるとともに、透過孔の埋没を防止することがで
き、表面形状の高分解能化と、光学特性の高分解能化を
両立させることができる。
れば、透過孔端部の金属膜被覆を曲面にすることによ
り、金属膜被覆の厚さが測定する表面形状に与える影響
を小さくすることができ、容易に金属膜被覆の膜厚を厚
くすることができる。従って、透過孔周辺の漏れ光を防
止できるとともに、透過孔の埋没を防止することがで
き、表面形状の高分解能化と、光学特性の高分解能化を
両立させることができる。
【００１５】上記のような光伝搬体プローブの構成は、
先端部分が直線状の光伝搬体プローブ及び先端部分が鈎
状の光伝搬体プローブにおいて実施可能である。図２は
本発明の第２実施例を示す光伝搬体プローブの構成を表
した断面図である。
先端部分が直線状の光伝搬体プローブ及び先端部分が鈎
状の光伝搬体プローブにおいて実施可能である。図２は
本発明の第２実施例を示す光伝搬体プローブの構成を表
した断面図である。
【００１６】１は光伝搬体である光ファイバー、２は第
１の被覆膜、３は第２の被覆膜で、光ファイバー１は尖
鋭化され、先端５の透過孔部を除く部分は第１の被覆膜
２で被覆され、第１の被覆膜２の外側に先端部近傍でテ
ーパー状となる第２の被覆膜３が設置された構成であ
る。第１の被覆膜２の材料としては、金、白金、アルミ
ニウム、クロム、ニッケル等の光を反射する材料が用い
られる。第２の被覆膜３の材料としては、第１の被覆膜
と同一の材料、または堆積方向に異方性を有する薄膜堆
積手段で堆積可能な他の金属材料、非金属材料が用いら
れる。
１の被覆膜、３は第２の被覆膜で、光ファイバー１は尖
鋭化され、先端５の透過孔部を除く部分は第１の被覆膜
２で被覆され、第１の被覆膜２の外側に先端部近傍でテ
ーパー状となる第２の被覆膜３が設置された構成であ
る。第１の被覆膜２の材料としては、金、白金、アルミ
ニウム、クロム、ニッケル等の光を反射する材料が用い
られる。第２の被覆膜３の材料としては、第１の被覆膜
と同一の材料、または堆積方向に異方性を有する薄膜堆
積手段で堆積可能な他の金属材料、非金属材料が用いら
れる。
【００１７】これら第１の被覆膜２と第２の被覆膜３の
材料の組み合わせは、プローブの使用目的により選択す
ることができる。通常は第１の被覆膜２、第２の被覆膜
３ともに同一の材料とし、アルミニウム、金など高反射
率を有する材料を用いる。また、第１の金属膜として単
波長域で高反射率を有するアルミニウムを用いた場合、
あるいは高温多湿環境や薬品などによる酸化や腐食の問
題がある場合、第２の被覆膜３としては金、白金などの
貴金属材料を用いればアルミニウムの保護膜として機能
させることができる。第２の被覆膜３を保護膜としての
み機能させる場合は、非金属材料を用いることもでき
る。さらに、光伝搬体プローブを走査型磁気力顕微鏡に
搭載して使用する場合、第１の被覆膜２として高反射率
を有するアルミニウムや金などの材料を用い、第２の被
覆膜３としてクロム、ニッケルなどの磁性材料や磁性合
金材料を用いる。
材料の組み合わせは、プローブの使用目的により選択す
ることができる。通常は第１の被覆膜２、第２の被覆膜
３ともに同一の材料とし、アルミニウム、金など高反射
率を有する材料を用いる。また、第１の金属膜として単
波長域で高反射率を有するアルミニウムを用いた場合、
あるいは高温多湿環境や薬品などによる酸化や腐食の問
題がある場合、第２の被覆膜３としては金、白金などの
貴金属材料を用いればアルミニウムの保護膜として機能
させることができる。第２の被覆膜３を保護膜としての
み機能させる場合は、非金属材料を用いることもでき
る。さらに、光伝搬体プローブを走査型磁気力顕微鏡に
搭載して使用する場合、第１の被覆膜２として高反射率
を有するアルミニウムや金などの材料を用い、第２の被
覆膜３としてクロム、ニッケルなどの磁性材料や磁性合
金材料を用いる。
【００１８】図２のような光伝搬体プローブの構成によ
れば、光伝搬体プローブの被覆膜を含む先端径を小さく
することができ、さらに透過孔周辺の漏れ光や透過孔の
埋没を防止することができる。従って、表面形状の高分
解能化と、光学特性の高分解能化を両立させることがで
きる。また、被覆膜をむ先端径を大きくすることなく、
光伝搬体プローブに保護膜や機能性膜を付加することが
できる。
れば、光伝搬体プローブの被覆膜を含む先端径を小さく
することができ、さらに透過孔周辺の漏れ光や透過孔の
埋没を防止することができる。従って、表面形状の高分
解能化と、光学特性の高分解能化を両立させることがで
きる。また、被覆膜をむ先端径を大きくすることなく、
光伝搬体プローブに保護膜や機能性膜を付加することが
できる。
【００１９】上記のような光伝搬体プローブの構成は、
先端部分が直線状の光伝搬体プローブ及び先端部分が鈎
状の光伝搬体プローブにおいて実施可能である。図３
は、図２の実施例で示した光伝搬体プローブの透過孔形
成方法を表した工程図である。
先端部分が直線状の光伝搬体プローブ及び先端部分が鈎
状の光伝搬体プローブにおいて実施可能である。図３
は、図２の実施例で示した光伝搬体プローブの透過孔形
成方法を表した工程図である。
【００２０】図３（Ａ）は、光ファイバー１を尖鋭化す
る工程を表したものであり、尖鋭化した光ファイバーを
表している。光ファイバー１の末端から１ｃｍから１０
ｃｍ程度、合成樹脂の被覆を取り除き、表面を清浄にし
た後尖鋭化する。尖鋭化の方法は、加熱手段により加熱
しながら張力を付加して引張破断する方法や化学エッチ
ングによる方法が用いられる。引張破断の方法におい
て、加熱の手段としては、炭酸ガスレーザー光を集光し
て当てる方法や、コイル状に巻いた白金線の中央に光フ
ァイバー１を通し、白金線に電流を流して加熱する方法
を用いることができる。また、化学エッチングによる方
法は、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合溶液に
光ファイバー１を浸漬して、コアとクラッドのエッチン
グ速度の差を利用する方法や、フッ化水素酸と有機溶媒
の２層液に光ファイバー１を浸漬して、２層界面のメニ
スカスを利用して尖鋭化する方法が用いられる。
る工程を表したものであり、尖鋭化した光ファイバーを
表している。光ファイバー１の末端から１ｃｍから１０
ｃｍ程度、合成樹脂の被覆を取り除き、表面を清浄にし
た後尖鋭化する。尖鋭化の方法は、加熱手段により加熱
しながら張力を付加して引張破断する方法や化学エッチ
ングによる方法が用いられる。引張破断の方法におい
て、加熱の手段としては、炭酸ガスレーザー光を集光し
て当てる方法や、コイル状に巻いた白金線の中央に光フ
ァイバー１を通し、白金線に電流を流して加熱する方法
を用いることができる。また、化学エッチングによる方
法は、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合溶液に
光ファイバー１を浸漬して、コアとクラッドのエッチン
グ速度の差を利用する方法や、フッ化水素酸と有機溶媒
の２層液に光ファイバー１を浸漬して、２層界面のメニ
スカスを利用して尖鋭化する方法が用いられる。
【００２１】鈎状の光伝搬体プローブを作製する場合
は、尖鋭化した後、光ファイバーの尖鋭化した先端から
０．１ｍｍから２ｍｍの部分に炭酸ガスレーザーのレー
ザー光をあて、変形させる前の角度を０度としたとき、
６０度から９０度程度の鈎状の形状に変形させる。この
とき、レーザー光の当たる側がその裏側に対して、熱の
吸収量が多いため、軟化にともなう表面張力により、光
ファイバー先端はレーザー光の当たる方向に折れ曲がっ
ていく。この曲がり角度の調整は、曲がり具合を確認し
ながらレーザー光の出力をコントロールすることによっ
て行うことが可能である。
は、尖鋭化した後、光ファイバーの尖鋭化した先端から
０．１ｍｍから２ｍｍの部分に炭酸ガスレーザーのレー
ザー光をあて、変形させる前の角度を０度としたとき、
６０度から９０度程度の鈎状の形状に変形させる。この
とき、レーザー光の当たる側がその裏側に対して、熱の
吸収量が多いため、軟化にともなう表面張力により、光
ファイバー先端はレーザー光の当たる方向に折れ曲がっ
ていく。この曲がり角度の調整は、曲がり具合を確認し
ながらレーザー光の出力をコントロールすることによっ
て行うことが可能である。
【００２２】さらに、「光てこ」用の反射面を形成する
場合は、鈎状に成形した後、機械研磨により鈎状部の背
面に反射面を形成して用いる。図３（Ｂ）は、図３
（Ａ）に示した工程で成形した光ファイバーの、透過孔
部を除く先端部に第１の被覆膜２を堆積する工程を表し
た断面図である。第１の被覆膜２の堆積方法としては真
空蒸着、スパッタなど異方性を有する薄膜堆積法が用い
られ、膜厚は２０ｎｍから１０００ｎｍの範囲で選択さ
れる。堆積方向は図３（Ｂ）中に矢印で示したとおり、
先端の後方であり、角度Ａが、２０度から９０度の範囲
で選択される。被覆膜堆積中は光ファイバー１を、先端
部の中心軸６の周りに回転させる。光ファイバー１を先
端部の中心軸と平行な軸７の周りに回転させた場合、光
ファイバー１の回転の偏心量が、成膜距離と比較して十
分に小さい場合、光ファイバー１を先端部の中心軸６の
周りに回転さる場合と同様の作用が得られる。回転させ
ない場合は、先端部の中心軸６の周りに少なくとも２方
向以上に分けて堆積させる。
場合は、鈎状に成形した後、機械研磨により鈎状部の背
面に反射面を形成して用いる。図３（Ｂ）は、図３
（Ａ）に示した工程で成形した光ファイバーの、透過孔
部を除く先端部に第１の被覆膜２を堆積する工程を表し
た断面図である。第１の被覆膜２の堆積方法としては真
空蒸着、スパッタなど異方性を有する薄膜堆積法が用い
られ、膜厚は２０ｎｍから１０００ｎｍの範囲で選択さ
れる。堆積方向は図３（Ｂ）中に矢印で示したとおり、
先端の後方であり、角度Ａが、２０度から９０度の範囲
で選択される。被覆膜堆積中は光ファイバー１を、先端
部の中心軸６の周りに回転させる。光ファイバー１を先
端部の中心軸と平行な軸７の周りに回転させた場合、光
ファイバー１の回転の偏心量が、成膜距離と比較して十
分に小さい場合、光ファイバー１を先端部の中心軸６の
周りに回転さる場合と同様の作用が得られる。回転させ
ない場合は、先端部の中心軸６の周りに少なくとも２方
向以上に分けて堆積させる。
【００２３】図３（Ｃ）は、第１の被覆膜２の外側に先
端部近傍でテーパー状となる第２の被覆膜３を堆積する
工程を表した断面図である。第２の被覆膜３の堆積方法
としては第１の被覆膜を堆積する場合と同様に、真空蒸
着、スパッタなど異方性を有する薄膜堆積法が用いら
れ、膜厚は２０ｎｍから１０００ｎｍの範囲で選択され
る。堆積方向は図３（Ｃ）中に矢印で示したとおり、先
端の後方であり、角度Ｂは、図２（Ｂ）に示した角度Ａ
よりも小さくする。被覆膜堆積中は光ファイバー１を、
先端部の中心軸６の周りに回転させる。光ファイバー１
を先端部の中心軸と平行な軸７の周りに回転させる場
合、光ファイバー１の回転の偏心量が、成膜距離と比較
して十分に小さければ、光ファイバー１を先端部の中心
軸６の周りに回転さる場合と同様の作用が得られる。回
転させない場合は、先端部の中心軸６の周りに少なくと
も２方向以上に分けて逐次堆積させる。
端部近傍でテーパー状となる第２の被覆膜３を堆積する
工程を表した断面図である。第２の被覆膜３の堆積方法
としては第１の被覆膜を堆積する場合と同様に、真空蒸
着、スパッタなど異方性を有する薄膜堆積法が用いら
れ、膜厚は２０ｎｍから１０００ｎｍの範囲で選択され
る。堆積方向は図３（Ｃ）中に矢印で示したとおり、先
端の後方であり、角度Ｂは、図２（Ｂ）に示した角度Ａ
よりも小さくする。被覆膜堆積中は光ファイバー１を、
先端部の中心軸６の周りに回転させる。光ファイバー１
を先端部の中心軸と平行な軸７の周りに回転させる場
合、光ファイバー１の回転の偏心量が、成膜距離と比較
して十分に小さければ、光ファイバー１を先端部の中心
軸６の周りに回転さる場合と同様の作用が得られる。回
転させない場合は、先端部の中心軸６の周りに少なくと
も２方向以上に分けて逐次堆積させる。
【００２４】図３のような光伝搬体プローブの透過孔形
成方法によれば、被覆膜を、透過孔部を形成している第
１の被覆膜と、第１の被覆膜の外側にあって、先端部近
傍でテーパー状となる第２の被覆膜とで構成することが
できる。図４は、図１の実施例で示した光伝搬体プロー
ブの透過孔形成方法を表した図である。透過孔形成のた
めの真空蒸着工程における真空蒸着装置内部の配置を表
した図である。
成方法によれば、被覆膜を、透過孔部を形成している第
１の被覆膜と、第１の被覆膜の外側にあって、先端部近
傍でテーパー状となる第２の被覆膜とで構成することが
できる。図４は、図１の実施例で示した光伝搬体プロー
ブの透過孔形成方法を表した図である。透過孔形成のた
めの真空蒸着工程における真空蒸着装置内部の配置を表
した図である。
【００２５】図３（Ａ）で説明した方法と同様の方法
で、尖鋭化した光ファイバー１の先端部の方向に対し、
平行な方向に有限の長さを有する蒸着ボート３１を設置
する。この時、蒸着ボート３１の端は光ファイバー１の
先端を越えない位置に配置する。光ファイバー１を先端
部の中心軸６の周りに回転させながら、蒸着ボート３１
を通電加熱して蒸着を行う。光ファイバー１の先端部に
着目すると、蒸着角度は図４中の角度Ｃから角度Ｄの範
囲で角度範囲を持って金属膜被覆が蒸着される。従っ
て、図１の実施例で示したような、透過孔端部で透過孔
部から外周に向かって漸次後退する曲面を有する金属膜
被覆を形成することができる。
で、尖鋭化した光ファイバー１の先端部の方向に対し、
平行な方向に有限の長さを有する蒸着ボート３１を設置
する。この時、蒸着ボート３１の端は光ファイバー１の
先端を越えない位置に配置する。光ファイバー１を先端
部の中心軸６の周りに回転させながら、蒸着ボート３１
を通電加熱して蒸着を行う。光ファイバー１の先端部に
着目すると、蒸着角度は図４中の角度Ｃから角度Ｄの範
囲で角度範囲を持って金属膜被覆が蒸着される。従っ
て、図１の実施例で示したような、透過孔端部で透過孔
部から外周に向かって漸次後退する曲面を有する金属膜
被覆を形成することができる。
【００２６】光ファイバー１を先端部の中心軸と平行な
軸７の周りに回転させた場合、光ファイバー１の回転の
偏心量が、蒸着ボート３１と光ファイバー１の距離と比
較して十分に小さければ、光ファイバー１を先端部の中
心軸６の周りに回転さる場合と同様の作用が得られる。
また、回転させない場合は、先端部の中心軸６周りに少
なくとも２方向以上に分けて逐次堆積させる。
軸７の周りに回転させた場合、光ファイバー１の回転の
偏心量が、蒸着ボート３１と光ファイバー１の距離と比
較して十分に小さければ、光ファイバー１を先端部の中
心軸６の周りに回転さる場合と同様の作用が得られる。
また、回転させない場合は、先端部の中心軸６周りに少
なくとも２方向以上に分けて逐次堆積させる。
【００２７】蒸着ボート３１は、蒸着する材料によって
選択されるが、セラミクス、タングステン、アルミナな
どを使用する。図５は、図１の実施例で示した光伝搬体
プローブの透過孔形成方法を表した図である。透過孔形
成のための真空蒸着工程における真空蒸着装置内部の配
置を表した図である。
選択されるが、セラミクス、タングステン、アルミナな
どを使用する。図５は、図１の実施例で示した光伝搬体
プローブの透過孔形成方法を表した図である。透過孔形
成のための真空蒸着工程における真空蒸着装置内部の配
置を表した図である。
【００２８】図４示した透過孔形成方法とは蒸発源の配
置が異なる。尖鋭化した光ファイバー１の先端部の方向
に対し、平行な方向に２個の蒸発源３２を設置する。こ
の時、１個目の蒸発源３２は光ファイバー１の先端を越
えない位置に配置する。光ファイバー１を先端部の中心
軸６の周りに回転させながら、蒸発源３２を加熱して蒸
着を行う。光ファイバー１の先端部に着目すると、蒸着
角度は図５中の角度Ｅと角度Ｆの２方向から同時に金属
膜被覆が蒸着される。従って、図１の実施例で示したよ
うな、透過孔端部で透過孔部から外周に向かって漸次後
退する曲面を有する金属膜被覆を形成することができ
る。
置が異なる。尖鋭化した光ファイバー１の先端部の方向
に対し、平行な方向に２個の蒸発源３２を設置する。こ
の時、１個目の蒸発源３２は光ファイバー１の先端を越
えない位置に配置する。光ファイバー１を先端部の中心
軸６の周りに回転させながら、蒸発源３２を加熱して蒸
着を行う。光ファイバー１の先端部に着目すると、蒸着
角度は図５中の角度Ｅと角度Ｆの２方向から同時に金属
膜被覆が蒸着される。従って、図１の実施例で示したよ
うな、透過孔端部で透過孔部から外周に向かって漸次後
退する曲面を有する金属膜被覆を形成することができ
る。
【００２９】光ファイバー１を先端部の中心軸と平行な
軸７の周りに回転させた場合、光ファイバー１の回転の
偏心量が、蒸着ボート３２と光ファイバー１の距離と比
較して十分に小さければ、光ファイバー１を先端部の中
心軸６の周りに回転さる場合と同様の作用が得られる。
また、回転させない場合は、先端部の中心軸６の周りに
少なくとも２方向以上に分けて逐次堆積させる。
軸７の周りに回転させた場合、光ファイバー１の回転の
偏心量が、蒸着ボート３２と光ファイバー１の距離と比
較して十分に小さければ、光ファイバー１を先端部の中
心軸６の周りに回転さる場合と同様の作用が得られる。
また、回転させない場合は、先端部の中心軸６の周りに
少なくとも２方向以上に分けて逐次堆積させる。
【００３０】図５では蒸発源３２を２個配置する蒸着方
法を示したが、２個以上の蒸発源を配置しても同様の作
用が得られる。蒸発源３２は、タングステン、アルミナ
などの抵抗加熱用蒸発源や電子ビーム蒸発源などが用い
られる。
法を示したが、２個以上の蒸発源を配置しても同様の作
用が得られる。蒸発源３２は、タングステン、アルミナ
などの抵抗加熱用蒸発源や電子ビーム蒸発源などが用い
られる。
【００３１】図６は、本発明の光伝搬体プローブを用い
た走査型近視野顕微鏡の構成を示す図である。本発明に
よる光伝搬体プローブ２０を、振動手段であるバイモル
フ２１に設置し、光伝搬体プローブ２０の先端を試料２
３に対して垂直に振動させ、プローブ２０の先端と試料
２３の表面の間に作用する原子間力あるいはその他の相
互作用に関わる力をプローブ２０の振動特性の変化とし
て変位検出手段２２で検出する。光伝搬体プローブ２０
の先端と試料２３の表面の間隔を一定保つように制御手
段２５で制御しながら、ＸＹＺ移動機構２４により試料
を走査して表面形状を測定する。同時に、光学特性測定
用光源２６の光を光伝搬体プローブ２０に導入し、プロ
ーブ２０先端の透過孔から試料２３に照射し、光学特性
測定光検出手段２７で検出することによって微小領域の
光学特性の測定を行う。
た走査型近視野顕微鏡の構成を示す図である。本発明に
よる光伝搬体プローブ２０を、振動手段であるバイモル
フ２１に設置し、光伝搬体プローブ２０の先端を試料２
３に対して垂直に振動させ、プローブ２０の先端と試料
２３の表面の間に作用する原子間力あるいはその他の相
互作用に関わる力をプローブ２０の振動特性の変化とし
て変位検出手段２２で検出する。光伝搬体プローブ２０
の先端と試料２３の表面の間隔を一定保つように制御手
段２５で制御しながら、ＸＹＺ移動機構２４により試料
を走査して表面形状を測定する。同時に、光学特性測定
用光源２６の光を光伝搬体プローブ２０に導入し、プロ
ーブ２０先端の透過孔から試料２３に照射し、光学特性
測定光検出手段２７で検出することによって微小領域の
光学特性の測定を行う。
【００３２】図６は試料２３の裏面で測定光を検出する
透過型の構成を示したが、試料表面で測定光を検出する
反射型の構成や、光伝搬体プローブ２０で光を検出する
構成も可能である。また、図６は鈎状の光伝搬体プロー
ブを用いた実施例であるが、直線状の光伝搬体プローブ
を用い、プローブ先端を試料２３の表面に対して水平に
振動させる構成とすれば、プローブ先端と試料表面の間
に働くずり力を利用して、プローブの先端と試料表面の
間隔を一定保つように走査する走査型近視野顕微鏡を実
現することができる。
透過型の構成を示したが、試料表面で測定光を検出する
反射型の構成や、光伝搬体プローブ２０で光を検出する
構成も可能である。また、図６は鈎状の光伝搬体プロー
ブを用いた実施例であるが、直線状の光伝搬体プローブ
を用い、プローブ先端を試料２３の表面に対して水平に
振動させる構成とすれば、プローブ先端と試料表面の間
に働くずり力を利用して、プローブの先端と試料表面の
間隔を一定保つように走査する走査型近視野顕微鏡を実
現することができる。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による光伝
搬体プローブの構成では、透過孔端部の金属膜被覆を曲
面にすることにより、被覆膜の厚さが測定する表面形状
に与える影響を小さくして、金属膜被覆の膜厚を厚くす
ることができる。従って、表面形状の分解能を向上させ
ることが可能である。また、透過孔周辺の漏れ光や透過
孔の埋没を防止することができ、光学特性の分解能及び
コントラストを向上させることが可能である。
搬体プローブの構成では、透過孔端部の金属膜被覆を曲
面にすることにより、被覆膜の厚さが測定する表面形状
に与える影響を小さくして、金属膜被覆の膜厚を厚くす
ることができる。従って、表面形状の分解能を向上させ
ることが可能である。また、透過孔周辺の漏れ光や透過
孔の埋没を防止することができ、光学特性の分解能及び
コントラストを向上させることが可能である。
【００３４】また、本発明による光伝搬体プローブの構
成では被覆膜を第１の被覆膜と第２の被覆膜とで構成す
ることにより、光伝搬体プローブの金属膜被覆を含む先
端径を小さくすることができ、表面形状の分解能を向上
させることが可能である。さらに、透過孔より後方では
金属膜被覆の膜厚が厚くなるため、透過孔周辺の漏れ光
や透過孔の埋没を防止することができ、光学特性の分解
能及びコントラストを向上させることが可能である。
成では被覆膜を第１の被覆膜と第２の被覆膜とで構成す
ることにより、光伝搬体プローブの金属膜被覆を含む先
端径を小さくすることができ、表面形状の分解能を向上
させることが可能である。さらに、透過孔より後方では
金属膜被覆の膜厚が厚くなるため、透過孔周辺の漏れ光
や透過孔の埋没を防止することができ、光学特性の分解
能及びコントラストを向上させることが可能である。
【００３５】一方、上記のような光伝搬体プローブの透
過孔形成方法によれば、被覆膜を、透過孔端部で曲面と
したり、透過孔部を形成している第１の金属膜被覆と、
第１の金属膜被覆の外側にあって、先端部近傍でテーパ
ー状となる第２の金属膜被覆とで構成することができ、
容易に本発明による光伝搬体プローブの透過孔を形成す
ることが可能である。
過孔形成方法によれば、被覆膜を、透過孔端部で曲面と
したり、透過孔部を形成している第１の金属膜被覆と、
第１の金属膜被覆の外側にあって、先端部近傍でテーパ
ー状となる第２の金属膜被覆とで構成することができ、
容易に本発明による光伝搬体プローブの透過孔を形成す
ることが可能である。
【図１】本発明の第１実施例を示す光伝搬体プローブの
構成を表した断面図である。
構成を表した断面図である。
【図２】本発明の第２実施例を示す光伝搬体プローブの
構成を表した断面図である。
構成を表した断面図である。
【図３】本発明の光伝搬体プローブの透過孔形成方法を
表した工程図である。
表した工程図である。
【図４】本発明の光伝搬体プローブの透過孔形成方法を
表した図である。
表した図である。
【図５】本発明の光伝搬体プローブの透過孔形成方法を
表した図である。
表した図である。
【図６】本発明の光伝搬体プローブを用いた走査型近視
野顕微鏡の構成図である。
野顕微鏡の構成図である。
【図７】従来の光伝搬体プローブの構成を示した断面図
である。
である。
１ 光ファイバー ２ 第１の被覆膜 ３ 第２の被覆膜 ４ 金属膜被覆 ５ 先端 ６ 先端部の中心軸 ７ 中心軸と平行な回転軸 ２０ 光伝搬体プローブ ２１ バイモルフ ２２ 変位検出手段 ２３ 測定試料 ２４ ＸＹＺ移動機構 ２５ 制御手段 ２６ 光学特性測定用光源 ３１ 蒸着ボート ３２ 蒸発源 ２７ 光学特性測定光検出手段 ５１ 従来の被覆膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−261039（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−260459（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−61912（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−91710（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−264905（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−260458（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−260808（ＪＰ，Ａ) 国際公開95／33207（ＷＯ，Ａ１) 大津元一，“フォトン走査トンネル顕 微鏡”，パリティ，日本，丸善株式会 社，1994年11月１日，Ｖｏｌ．９，Ｎ ｏ．11，ｐｐ．60−65 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 13/10 - 13/24 G12B 21/00 - 21/24 G01B 7/34 G01B 11/30 G01B 21/30 H01J 37/28 G02B 21/00 G01N 21/27 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (12)
- 【請求項１】 端部に光を透過する透過孔を有する光伝
搬体からなり、透過孔部が尖鋭な先端部となるように構
成され、透過孔部を除く先端部に被覆膜を有する光伝搬
体プローブの透過孔形成方法であって、前記光伝搬体の
先端部の方向と平行な方向に長さを有する蒸発源を用い
て、前記透過孔部周辺から後方にかけて、先端部の中心
軸からの角度が、所定の角度からこれより小さい角度ま
での角度範囲を持った蒸着角度で真空蒸着を行うことに
より、金属膜被覆を前記透過孔部周辺からプロ−ブ本体
方向に徐々に曲線状に厚さを増して堆積する工程よりな
ることを特徴とする光伝搬体プローブの透過孔形成方
法。 - 【請求項２】 端部に光を透過する透過孔を有する光伝
搬体からなり、透過孔部が尖鋭な先端部となるように構
成され、透過孔部を除く先端部に被覆膜を有する光伝搬
体プローブの透過孔形成方法であって、前記光伝搬体の
先端部の方向と平行な方向に少なくとも２個以上配置さ
れた蒸発源から、先端部の中心軸からの角度が、それぞ
れ前方の角度より後方の角度が小さくなる蒸着角度で真
空蒸着を行うことにより前記金属膜被覆を、前記透過孔
部周辺から、プロ−ブ本体方向に徐々に曲線状に厚さを
増して堆積する工程よりなることを特徴とする光伝搬体
プローブの透過孔形成方法。 - 【請求項３】 端部に光を透過する透過孔を有する光伝
搬体からなり、透過孔部が尖鋭な先端部となるように構
成され、透過孔部を除く先端部に被覆膜を有する光伝搬
体プローブの透過孔形成方法であって、前記光伝搬体の
側方から所定の角度で第１の被覆膜を堆積する工程と、
前記第１の被覆膜の堆積方向より先端に向かって後方か
ら前記第１の被覆膜を堆積する工程の角度よりも小さい
角度で第２の被覆膜を堆積する工程よりなり、前記透過
孔部周辺から、プロ−ブ本体方向に徐々に曲線状に厚さ
を増して堆積することを特徴とする光伝搬体プローブの
透過孔形成方法。 - 【請求項４】 前記金属膜被覆あるいは前記被覆膜を堆
積する工程において、前記光伝搬体プローブを、先端部
の中心軸周りに回転させることを特徴とする請求項１か
ら３のいずれか一項に記載の光伝搬体プローブの透過孔
形成方法。 - 【請求項５】 前記金属膜被覆あるいは前記被覆膜を堆
積する工程において、前記光伝搬体プローブを、先端部
の中心軸と平行な軸周りに回転させることを特徴とする
請求項１から３のいずれか一項に記載の光伝搬体プロー
ブの透過孔形成方法。 - 【請求項６】 前記金属膜被覆あるいは前記被覆膜を堆
積する工程において、前記光伝搬体プローブの先端部の
中心軸と平行な軸周りに、少なくとも２方向以上から逐
次被覆膜を堆積させることを特徴とする請求項１から３
のいずれか一項に記載の光伝搬体プローブの透過孔形成
方法。 - 【請求項７】 請求項１から６のいずれか一項に記載の
光伝搬体プローブの透過孔形成方法による光伝搬体プロ
ーブであり、端部に光を透過する透過孔を有する光伝搬
体からなり、透過孔部が尖鋭な先端部となるように構成
され、透過孔部を除く先端部に金属膜被覆あるいは被覆
膜を有する光伝搬体プローブにおいて、 前記金属膜被覆あるいは前記被覆膜が、前記透過孔部周
辺から、プロ−ブ本体方向に徐々に曲線状に厚さを増し
ていることを特徴とする光伝搬体プローブ。 - 【請求項８】 請求項１から６のいずれか一項に記載の
光伝搬体プローブの透過孔形成方法による光伝搬体プロ
ーブであり、端部に光を透過する透過孔を有する光伝搬
体からなり、透過孔部が尖鋭な先端部となるように構成
され、透過孔部を除く先端部に被覆膜を有する光伝搬体
プローブにおいて、 前記被覆膜が、透過孔部を形成している第１の被覆膜
と、前記第１の被覆膜の外側にあって、先端部近傍でテ
ーパー状の厚みを有する第２の被覆膜よりなることを特
徴とする光伝搬体プローブ。 - 【請求項９】 前記第１の被覆膜と前記第２の被覆膜
は、同一材料の被覆膜であることを特徴とする請求項８
記載の光伝搬体プローブ。 - 【請求項１０】 前記第１の被覆膜と前記第２の被覆膜
は、同一材料の金属被覆膜であることを特徴とする請求
項８記載の光伝搬体プローブ。 - 【請求項１１】 前記第１の被覆膜と前記第２の被覆膜
は、異なる材料の被覆膜であり、前記第１の被覆膜は金
属被覆膜で、前記第２の被覆膜は非金属被覆であること
を特徴とする請求項８記載の光伝搬体プローブ。 - 【請求項１２】 光伝搬体プローブの先端部と測定すべ
き試料あるいは媒体表面との間隔を、前記光伝搬体プロ
ーブ先端部と前記表面との間に原子間力あるいはその他
の相互作用に関わる力が作用する動作距離内に近づけた
状態で、２次元的な走査手段によって前記試料表面を走
査するとともに、制御手段によって前記表面の形状に沿
って前記光伝搬体プローブを制御し、前記表面の微小領
域に対して、光照射あるいは光検出を行い、試料形状と
２次元光学情報を同時に測定する走査型近視野顕微鏡に
おいて、前記光伝搬体プローブの先端と前記表面を相対
的に水平方向あるいは垂直方向に振動させる振動手段
と、前記光伝搬体プローブの変位を検出する変位検出手
段と、前記検出手段が出力する検出信号に基づいて前記
光伝搬体プローブの先端部と前記表面の間隔を一定に保
つための制御手段を有するとともに、少なくとも請求項
７から１１のいずれか一項に記載の光伝搬体プローブを
有することを特徴とする走査型近視野顕微鏡。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08979596A JP3264824B2 (ja) | 1996-04-11 | 1996-04-11 | 光伝搬体プローブと走査型近視野顕微鏡及び光伝搬体プローブの透過孔形成方法 |
| US08/821,532 US6104030A (en) | 1996-04-11 | 1997-03-21 | Optical probe having tapered wave guide and scanning near-field optical microscope utilizing optical probe |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08979596A JP3264824B2 (ja) | 1996-04-11 | 1996-04-11 | 光伝搬体プローブと走査型近視野顕微鏡及び光伝搬体プローブの透過孔形成方法 |
| US08/821,532 US6104030A (en) | 1996-04-11 | 1997-03-21 | Optical probe having tapered wave guide and scanning near-field optical microscope utilizing optical probe |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09281123A JPH09281123A (ja) | 1997-10-31 |
| JP3264824B2 true JP3264824B2 (ja) | 2002-03-11 |
Family
ID=26431208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08979596A Expired - Lifetime JP3264824B2 (ja) | 1996-04-11 | 1996-04-11 | 光伝搬体プローブと走査型近視野顕微鏡及び光伝搬体プローブの透過孔形成方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6104030A (ja) |
| JP (1) | JP3264824B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| EP0962759B1 (en) * | 1998-06-02 | 2003-08-20 | International Business Machines Corporation | Method and device for identification of a substance through surface interactions |
| JP2000221131A (ja) * | 1999-02-02 | 2000-08-11 | Agency Of Ind Science & Technol | 開口径可変型近接場プローブ |
| JP2000326300A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-11-28 | Seiko Instruments Inc | 近視野光ヘッドおよびその製造方法とそれを用いた光記録再生装置 |
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| US6405584B1 (en) * | 1999-10-05 | 2002-06-18 | Agere Systems Guardian Corp. | Probe for scanning probe microscopy and related methods |
| JP3942785B2 (ja) * | 2000-01-26 | 2007-07-11 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 光ファイバープローブおよび微小開口付カンチレバーと、それらの開口形成方法 |
| FR2827967B1 (fr) * | 2001-07-26 | 2003-10-24 | Essilor Int | Procede d'impression d'une structure stable photoinduite en champ proche,et pointe de fibre optique pour sa mise en oeuvre |
| US6953930B2 (en) * | 2001-08-27 | 2005-10-11 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Conductive transparent probe and probe control apparatus |
| US6903023B2 (en) * | 2002-09-16 | 2005-06-07 | International Business Machines Corporation | In-situ plasma etch for TERA hard mask materials |
| KR100525241B1 (ko) | 2003-10-21 | 2005-10-31 | 삼성전기주식회사 | 전위차를 이용한 광섬유 탐침 및 그를 이용한 광기록 장치 |
| US7054528B2 (en) * | 2004-04-14 | 2006-05-30 | Lucent Technologies Inc. | Plasmon-enhanced tapered optical fibers |
| US20050262923A1 (en) * | 2004-05-27 | 2005-12-01 | Lawrence Kates | Method and apparatus for detecting conditions favorable for growth of fungus |
| WO2006001108A1 (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-05 | Japan Science And Technology Agency | 探針装置 |
| WO2007001321A1 (en) * | 2005-06-16 | 2007-01-04 | Imago Scientific Instruments Corporation | Atom probe electrode treatments |
| JP2008159192A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Tdk Corp | 近接場光発生板、熱アシスト磁気ヘッド、ヘッドジンバルアセンブリ、及び、ハードディスク装置 |
| CN103901233B (zh) * | 2014-04-11 | 2016-06-22 | 华中科技大学 | 具有保偏特性的光纤探针及其制备方法 |
| US20150338627A1 (en) * | 2014-05-22 | 2015-11-26 | Multiprobe, Inc. | Apparatus and method for atomic force, near-field scanning optical microscopy |
| JP2021182113A (ja) * | 2020-05-20 | 2021-11-25 | 株式会社日本マイクロニクス | 光プローブ、光プローブアレイ、光プローブカードおよび光プローブの製造方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3276917D1 (en) * | 1982-12-27 | 1987-09-10 | Ibm | Light waveguide with a submicron aperture, method for manufacturing the waveguide and application of the waveguide in an optical memory |
| EP0112401B1 (en) * | 1982-12-27 | 1987-04-22 | International Business Machines Corporation | Optical near-field scanning microscope |
| DE3477271D1 (en) * | 1984-12-28 | 1989-04-20 | Ibm | Waveguide for an optical near-field microscope |
| FR2652423B1 (fr) * | 1989-09-22 | 1992-05-22 | Ardt Rgle Dev Techn | Procede de microlithographie pour la realisation de structures superficielles submicrometriques sur un substrat du type d'une plaquette de silicium, ainsi qu'un dispositif le mettant en óoeuvre. |
| JP2992141B2 (ja) * | 1991-09-26 | 1999-12-20 | 松下電器産業株式会社 | 走査型トンネル電子顕微鏡用原子間力顕微鏡の探針及び３−チエニル基含有珪素化合物 |
| JP3268797B2 (ja) * | 1991-10-09 | 2002-03-25 | オリンパス光学工業株式会社 | 光導入装置 |
| JP3023048B2 (ja) * | 1994-03-24 | 2000-03-21 | 財団法人神奈川科学技術アカデミー | 光ファイバプローブ及びその製造方法 |
| ATE391289T1 (de) * | 1994-05-31 | 2008-04-15 | Kanagawa Kagaku Gijutsu Akad | Optische faser und deren herstellung |
-
1996
- 1996-04-11 JP JP08979596A patent/JP3264824B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-03-21 US US08/821,532 patent/US6104030A/en not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 大津元一，"フォトン走査トンネル顕微鏡"，パリティ，日本，丸善株式会社，１９９４年１１月１日，Ｖｏｌ．９，Ｎｏ．１１，ｐｐ．６０−６５ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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