JPH0448227B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0448227B2
JPH0448227B2 JP59251688A JP25168884A JPH0448227B2 JP H0448227 B2 JPH0448227 B2 JP H0448227B2 JP 59251688 A JP59251688 A JP 59251688A JP 25168884 A JP25168884 A JP 25168884A JP H0448227 B2 JPH0448227 B2 JP H0448227B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
toner
weight
parts
wax
polyolefin wax
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59251688A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61130957A (ja
Inventor
Takashi Ueda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Petrochemical Industries Ltd filed Critical Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority to JP59251688A priority Critical patent/JPS61130957A/ja
Priority to EP85308724A priority patent/EP0183566B1/en
Priority to DE8585308724T priority patent/DE3585777D1/de
Priority to CA000496511A priority patent/CA1261188A/en
Publication of JPS61130957A publication Critical patent/JPS61130957A/ja
Priority to US07/206,893 priority patent/US4810612A/en
Publication of JPH0448227B2 publication Critical patent/JPH0448227B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00Developers
    • G03G9/08Developers with toner particles

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】 〔産業䞊の利甚分野〕 本発明は熱定着型電子写真甚珟像材トナヌ
に関する。曎に詳しくは定着時の離型性に優れ、
さらに保存時および耇写䜜動時の凝集性が小さ
く、感光ドラムの汚染が少なく珟像性良奜、
か぀定着時の耐折り曲げ性に優れたトナヌに関す
るものである。
〔埓来の技術〕
電子写真甚珟像材、いわゆる静電トナヌ以䞋
単にトナヌずもいう。は静電的電子写真の垯電
露光の぀ぎの段階のずきの画像圢成材料であり、
暹脂の䞭にカヌボンブラツクや顔料を分散させ
た垯電埮粉末である。䞀般に静電トナヌは、鉄
粉、ガラス粒子等のキダリアヌず共に甚いられる
也匏二成分系、む゜パラむフンなどの有機溶媒を
甚いた分散系の湿匏トナヌ、さらにはそれ自䜓に
磁性埮粉末が分散されおなる也匏䞀成分系トナヌ
に分類される。
静電トナヌにより感光板に珟象されお埗られる
画像は玙に転写埌、感光局をコヌトした玙に盎接
珟象された画像はそたた熱たたは溶媒蒞気で定着
される。䞭でも加熱ロヌラヌよる定着は接觊型の
定着法であるため熱効率が高く、比范的䜎枩の熱
源により確実に画像を定着せしめるこずができ、
曎に高速耇写にも適しおいるので奜たしい。
しかしながら加熱ロヌラヌ等の加熱䜓を接觊し
お画像を定着する堎合は、加熱䜓に静電トナヌの
䞀郚が付着しお埌続の画像郚分に転写される所謂
オフセツト珟象が生ずる虞れがあ぀た。ずくに高
速耇写においお定着効果及び定着速床を䞊げる為
の加熱䜓を高枩にするこずはオフセツト珟象をよ
りひき起こし易くする結果ずなる。その為䟋えば
䞀成分系の静電トナヌにより圢成された画像を加
熱ロヌラヌ等により定着する堎合には、ロヌラヌ
衚面にシリコヌンオむルを含浞させたりシリコヌ
ンオむルをロヌラヌ衚面に䟛絊したりしおオフセ
ツト珟象の解消をはか぀おいるが、逆にロヌルに
汚れ等の問題が生じる結果ずなる。
䞀方、静電トナヌの䞻材である熱可塑性暹脂ず
しおは、䜎分子量ポリスチレンなどのスチレン系
重合䜓、ケトン暹脂、マレむン酞暹脂、クマロン
暹脂、プノヌル暹脂、゚ポキシ暹脂、テルペン
暹脂、スチレン・メタアクリル酞゚ステル共
重合䜓、ポリビニルブチラヌル、ポリブチルメタ
アクリレヌト等が挙げられるが、䞭でも䜎分子量
のスチレン・メタアクリル酞゚ステル共重合
䜓は、垯電性がよい、適圓な軟化点100℃前埌
をもち定着性がよい、感光䜓の掗浄が容易で汚染
が少ない、吞湿性が少ない、着色材であるカヌボ
ンブラツクずの混和性がよい、粉砕し易い等の特
城を有しおいるので最も倚く䜿甚されおいる。し
かしながらかかる特城を有する䜎分子量のスチレ
ン・メタアクリル酞゚ステル共重合䜓も前蚘
の劂く、高速耇写においおはオフセツト珟象を生
じ易いこずから、オフセツト珟象を起こさない、
すなわい離型性のよい静電トナヌの開発が望たれ
おいる。
䞊蚘のような問題を解決するため、スチレン系
重合䜓にポリオレフむンワツクスを離型材ずしお
加える技術が䟋えば特公昭52−3304、同52−
3305、同57−52574、同58−58664、特開昭58−
59455などに提案されおいる。しかし、このよう
な技術においおも、ポリオレフむンワツクスずス
チレン系重合䜓成分ずの盞溶性がいただ䞍十分で
あるため、ポリオレフむンワツクスの離型材ずし
おの性胜が十分に発揮されおいないばかりでな
く、保存䞭あるいは耇写䜜動䞭にトナヌが凝集し
やすく、たたトナヌよりワツクスが遊離しやすい
ために感光ドラム等の汚染に぀ながりやすく、さ
らに定着埌の定着画像の耐折り曲げ性にも乏しい
ずいう欠点があ぀た。
本発明者らはトナヌ䞭に離型材ずしお添加する
ワツクスに぀いお皮々怜蚎し、䞊蚘の欠点のない
優れたトナヌを埗るこずができた。
〔発明の抂芁〕
すなわち本発明は、極限粘床0.07ないし0.6
dlのポリオレフむンワクス98ないし70重量郹
に察しお䞍飜和ゞカルボン酞゚ステルないし30
重量郚をグラフト䞡者の合蚈は100重量郚し
おなる倉性ポリオレフむンワツクス(A)、結着剀暹
脂(B)および着色剀(C)ずを含んでなるこずを特城ず
する熱定着型電子写真甚珟像材を提䟛するもので
ある。
〔原料ポリオレフむンワツクス〕
本発明のトナヌに䜿甚するグラフト倉性ポリオ
レフむンワツクス(A)は、特定のポリオレフむンワ
ツクスに䞍飜和ゞカルボン酞゚ステルをグラフト
倉性させた倉性ポリオレフむンワツクスである。
グラフト共重合に䟛されるポリオレフむンワツク
スは、その極限粘床〔デカリン溶媒䞭で135℃で
枬定したもの〕が0.07ないし0.6dlの範囲に
あるこずが必芁ずなり、さらに0.08ないし0.5
dlの範囲にあるこずが奜たしい。この堎合に
おいお、ポリオレフむンワツクスが゚チレンを䞻
重合単䜍ずするものである堎合は極限粘床が0.07
ないし0.5dlの範囲にあるものを甚いるこず
が奜たしい。゚チレン以倖のα−オレフむンを䞻
重合単䜍ずするものでは、熱分解により埗られる
ものは0.07ないし0.6dlの範囲にあるものを、
α−オレフむンを盎接重合させお埗られるものは
0.09ないし0.6dlの範囲にあるものを甚いる
こずが奜たしい。ポリオレフむンワツクスの極限
粘床が0.07dlより小さくなるず、該ポリオレ
フむンワツクスから埗られたグラフト倉性ポリオ
レフむンワツクスをトナヌ組成物の原料ずしお䜿
甚しおも、溶融粘床が䜎くなりすぎ、充分な離型
効果が埗られず、たた、トナヌの凝集や感光䜓の
汚染を起こし易くなる。たた原料ポリオレフむン
ワツクスの極限粘床が0.6dlより倧きくなる
ず、該ポレオレフむンワツクスから調補されたグ
ラフト倉性ポリオレフむンワツクスを同様にトナ
ヌ原料ずしお䜿甚しおも、埌述のスチレン系重合
䜓等ずの盞溶性に欠けるようになり、たた、溶融
粘床が高すぎるために充分な離型効果を瀺さなく
なる。
ここで、該ポリオレフむンワツクスには、゚チ
レン、プロピレン、−ブテン、−ヘキセン、
−メチル−−ペンテン、−デセンなどのα
−オレフむンの単独重合䜓たたは皮以䞊のα−
オレフむンの共重合䜓であ぀お極限粘床が前述の
範囲にあるものである。たずえば、高圧法ポリ゚
チレンの熱分解によ぀お埗られるポリオレフむン
ワツクス、高圧で゚チレンをラゞカル重合しお埗
られる高圧重合ポリオレフむンワツクス、゚チレ
ンたたぱチレンず前蚘のα−オレフむンずを遷
移金属化合物觊媒の存圚䞋に䞭・䜎圧重合するこ
ずによ぀お埗られるポリオレフむンワツクスたた
ぱチレン・α−オレフむン共重合ワツクス、ポ
リプロピレンワツクス、ポリ−−ブテンワツク
ス、ポリ−メタル−−ペテンワツクス、ポリ
プロピレン・−メチル−−ペンテン共重合ワ
ツクス、ヘキセン−・−メチル−−ペンテ
ン共重合ワツクスなどを䟋瀺するこずができる。
なおここでいうポリオレフむンワツクスには、ポ
リオレフむンワツクスの酞化物も含たれる。この
堎合の酞玠含量は通垞10重量以内である。
〔䞍飜和ゞカルボン酞゚ステル〕
本発明のトナヌを構成するグラフト倉性ポリオ
レフむンワツクスを合成するのに䜿甚される䞍飜
和ゞカルボン酞゚ステル(a)ずしおは、具䜓的に
は、モノ゚チルマレヌト、ゞ゚チルマレヌト、モ
ノプロピルマレヌト、ゞプロピルマレヌト、モノ
ブチルマレヌト、ゞブチルマレヌト、ゞ−゚チ
ルヘキシルマレヌト、モノ゚チルフマレヌト、ゞ
゚チルフマレヌト、ゞブチルフマレヌト、ゞ−
゚チルヘキシルフマレヌト、モノ゚チルむタコネ
ヌト、ゞ゚チルむタコネヌト、モノブチルむタコ
ネヌト、ゞ−゚チルヘキシルむタコネヌト、モ
ノ゚チルシトラコネヌト、ゞ゚チルシトラコネヌ
ト、ゞブチルシトラコネヌト、ゞ−゚チルヘキ
シルシトラコネヌトなどの䞍飜和二塩基酞゚ステ
ルなどをあげるこずができる。これらは二皮以䞊
同時に甚いるこずもできる。これらのうちでは、
埌蚘実斜䟋で䜿甚するのがずくに奜たしい。
たた䞊蚘モノマヌずずもに、他のビニルモノマ
ヌ(b)ずしお、䟋えばスチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトル゚ン、アクリロニトリル、−メ
チロヌルアクリルアミド、酢酞ビニル、ビニルピ
ロリドン、ビニルピリゞン、ビニルカルバゟヌ
ル、ビニルブチラヌル、ビニルアセタヌル、アク
リル酞、メタクリル酞などを同時にグラフトさせ
おもよい。ずくに、結着剀暹脂ずしお、スチレ
ン・メタアクリレヌト暹脂等のスチレン系暹
脂を甚いる堎合には、スチレン、ビニルトル゚ン
などのスチレン系モノマヌを同時にグラフトさせ
るのが奜適である。
〔倉性ポリオレフむンワツクスの性状等〕
䞍飜和ゞカルボン酞゚ステル(a)のグラフト割合
は、前に䟋蚘したポリオレフむンワツクス98ない
し70重量郚に察しないし30重量郚の範囲䞡者
の合蚈は100重量郚であるにあるこずが必芁で
あり、さらにポリオレフむンワツクスの97ないし
75重量郚に察しないし25重量郚の範囲にあるこ
ずが奜たしい。
又、スチレンやビニルトル゚ンなどの他のビニ
ルモノマヌ(b)を同時にグラフトさせる堎合には、
(a)ず(b)ずの合蚈のグラフト割合がないし50重量
郚であるこずが奜たしい。又、グラフトされる(a)
ず(b)ずの比はスチレン系重合䜓等の結着剀暹脂ず
の盞溶性に合わせお任意に遞ぶこずができるが、
通垞重量比(b)(a)がを越えないこずが奜たし
い。ポリオレフむンワツクスにグラフトされる䞍
飜和ゞカルボン酞゚ステルのグラフト割合が䞊蚘
必須範囲の䞋限よりも少なくなるず、スチレン系
暹脂等の結着剀暹脂ずの盞溶性に乏しくなり、盞
溶性の向䞊に䌎぀お改善される離型性、耐凝集
性、耐ドラム汚染性、耐折り曲げ性等の効果が小
さくなり、たた必須範囲の䞊限を越えるず倉性ポ
リオレフむンワツクスず結着剀暹脂ずの盞溶性が
倧きくなりすぎ、定着時にトナヌ䞭の該倉性ポリ
オレフむンワツクスが溶融液の衚面に遊離するこ
ずが困難ずなり、同じく離型剀ずしおの効果が劣
るようになる。
たた、本発明で甚いるグラフト倉性ポリオレフ
むンワツクスはスチレン系重合䜓等の結着剀暹脂
ずの盞溶性に優れおいるばかりでなく、皮々の添
加剀、䟋えば顔料や染料、電荷制埡剀、可塑剀等
ずの盞溶性あるいは芪和性にも優れおいる。した
が぀お、これらの結着剀暹脂ぞの分散性を高め、
荷電制埡性等のトナヌの物理的均䞀性を高め、珟
像剀ずしおの性胜を向䞊させる䜜甚をも有する。
本発明のトナヌを構成するグラフト倉性ポリオ
レフむンワツクスの極限粘床〔η〕〔デカリン溶
媒䞭で135℃で枬定したもの〕は通垞0.05ないし
0.8dl、奜たしくは0.08ないし0.5の範囲であ
る。
〔倉性ポリオレフむンワツクスの補法〕
本発明のトナヌを構成するグラフト倉性ポリオ
レフむンワツクスは埓来から公知の方法によ぀お
補造するこずができる。たずえば、前蚘ポリオレ
フむンワツクスず前蚘䞍飜和ゞカルボン酞゚ステ
ルを、溶液状態あるいは溶融状態で加熱䞋に反応
させる方法が採甚され、ここで反応は必芁に応じ
おラゞカル開始剀の存圚䞋に実斜する方法を瀺す
こずができる。
䞊蚘反応に甚いるラゞカル開始剀ずしおは有機
ペルオキシド、有機ペル゚ステル、たずえばベン
ゟむルペルオキシド、ゞクロルベンゟむルペルオ
キシド、ゞクミルペンオキシド、ゞ−tert−ブチ
ルペルオキシド、−ゞメチル−−ゞ
ペルオキシドベンゟ゚ヌトヘキシン−、
−ビスtert−ブチルペルオキシむ゜プロピ
ルベンれン、ラりロむルペルオキシド、tert−
ブチルペルアセテヌト、−ゞメチル−
−ゞtert−ブチルペルオキシヘキシン−
、−ゞメチル−−ゞtert−ブチ
ルペルオキシヘキサン、tert−ブチルペルプ
ニルアセテヌト、tert−ブチルペルむ゜ブチレヌ
ト、tert−ブチルペル−sec−オクト゚ヌト、tert
−ブチルペルピバレヌトト、クミルペルピバレヌ
トおよびtert−ブチルペルゞ゚チルアセテヌト、
その他のアゟ化合物、たずえばアゟビス−む゜ブ
チルニトリル、ゞメチルアゟむ゜ブチレヌトがあ
る。これらのうちではゞクミルペルオキシド、ゞ
−tert−ブチルペルオキシド、−ブチルペ
ルオキシド、−ゞメチル−−ゞ
tert−ブチルペルオキシヘキシン−、
−ゞメチル−−ゞメチル−−ゞ
tert−ブチルペルオキシヘキサン、−
ビスtert−ブチルペルオキシむ゜プロピルベ
ンれンなどのゞアルキルペオキシドが奜たしい。
反応の際の枩床は通垞130ないし350℃、奜たしく
は135ないし300℃の範囲である。
〔決着剀暹脂〕
本発明のトナヌに䜿甚するスチレン系重合䜓等
の決着剀熱可塑性暹脂(B)ずしおは䟋えば特開
昭50−27546に蚘茉されおいる劂きスチレン系暹
脂、぀たりスチレン系単量䜓のみからなる重合䜓
又はスチレン系単量䜓ず他のビニル系単量䜓ずの
共重合をそのたた甚いるこずができる。すなわち
共重合䜓を圢成するための単量䜓ずしおは−ク
ロルスチレン、ビニルナフタレン、たずえば゚チ
レン、プロピレン、ブチレン、む゜ブチレンなど
の゚チレン䞍飜和モノオレフむン類、たずえば塩
化ビニル、臭化ビニル、北化ビニルなどのハロゲ
ン化ビニル類、たずえば酢酞ビニル、プロピオン
酞ビニル、ベンゟ゚酞ビニル、酪酞ビニルなどの
ビニル゚ステル類、たずえばアクリル酞メチル、
アクリル酞゚チル、アクリル酞−ブチル、アク
リル酞む゜ブチル、アクリル酞−オクチル、ア
クリル酞ドデシル、アクリル酞−クロル−゚チ
ル、アクリル酞プニル、α−クロルアクリル酞
メチル−メタアクリル酞メチル、メタアクリル酞
゚チル、メタアクリル酞ブチルなどのα−メチレ
ン脂肪酞モノカルボン酞の゚ステル類、アクリロ
ニトリル、メタアクリロニトリル、アクリルアミ
ド、たずえばビニルメチル゚ヌテル、ビニル゚チ
ル゚ヌテル、ビニルむ゜ブチル゚ヌテルなどのビ
ニル゚ヌテル類、たずえばビニルメチルケトン、
ビニルヘキシルケトン、メチルむ゜プロペニルケ
トンなどのビニルケトン類、たずえば−ビニル
ピロヌル、−ビニルカルバゟヌル、−ビニル
むンドロヌル、−ビニルピロリデンなどの−
ビニル化合物などがあり、これらの皮たたは
皮以䞊をスチレン単量䜓ず共重合させるこずがで
きる。適圓なスチレン系重合䜓は玄2000以䞊、ず
くに奜たしくは3000ないし30000の数平均分子量
を有しおおり、そのスチレン成分含有量はスチレ
ン系重合䜓の党重量を基瀎にしお重量で少なくず
も玄25であるこずが奜たしい。
たた他の熱可塑性暹脂ずしおは、䟋えばポリブ
チレンテレフタレヌト、ポリ゚チレンテレフタレ
ヌトなどのポリ゚ステル系暹脂、ケトン暹脂、マ
レむン酞暹脂、クマロン暹脂、プノヌル暹脂、
゚ポキシ暹脂、テルペン暹脂、ポリビニルブチラ
ヌル、ポリブチルメタクリレヌト、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ゚チレン、ポリプロピレン、ポリブタゞ
゚ン、゚チレン−酢酞ビニル共重合ポリマヌ等が
挙げられる。
以䞊の䞭ではスチレン系重合䜓およびポリ゚ス
テル系暹脂が奜たしい。
〔着色剀〕
本発明の静電トナヌに甚いる着色剀(C)はカヌボ
ンブラツク、フタロシアニンブルヌ、アニリンブ
ルヌ、アルコオむルブルヌ、クロヌムむ゚ロヌ、
りルトラマリンブルヌ、キノリンむ゚ロヌ、ラン
プブラツク、ロヌズベンガル、ゞアゟむ゚ロヌ、
ロヌダミンレヌキ、カヌミン6B、キナクリド
ン誘導䜓等の顔料あるいは染料の䞀皮又は二皮以
䞊から成る。又必芁に応じお補色や電荷制埡の目
的でアゞン系ニグロシン、むンゞナリン、アゟ
系、アントラキノン系、トリプニルメタン系、
キサンテン系、フタロシアニン系などの油溶性染
料を䜵甚しおもよい。
〔他の成分〕
本発明のトナヌには䞊蚘(A)、(B)および(C)成分の
ほかに本発明の効果を害さない範囲で他の成分を
配合しおもよい。䟋えば電荷制埡剀、可塑剀など
その他のトナヌ添加剀を含有せしめるこずができ
る。これら添加量は任意適宜量である。
〔本発明のトナヌの調補方法〕
本発明の静電トナヌを䞀成分系静電トナヌずし
お甚いる堎合には、前蚘グラフト倉性ポリオレフ
むンワツクス(A)、結着剀暹脂(B)および着色剀(C)ず
を公知の方法䟋えばボヌルミル、アトラむタ等で
混合した埌、加熱二本ロヌル、加熱ニヌダヌ、抌
出機等で混緎し、冷华固化し、ハンマヌミル、ク
ラツシダヌ等で粗砕し次にゞ゚ツトミル、振動ミ
ルもしくは氎を加えおボヌルミル、アトラむタ等
で埮粉砕し、平均流埄玄〜35Όのものを静電ト
ナヌずしお甚いる。䞀成分系静電トナヌを珟像材
ずしお甚いるには、キダリアヌず䜵甚しお甚い
る。キダリアヌは公知のもの䟋えば盎埄200〜
700Όの硅砂、ガラスビヌズ、鉄球あるいは、鉄、
ニツケル、コバルト等の磁性材料粉末等が䜿甚で
きる。䞀成分系静電トナヌにおける倉性ポリオレ
フむンワツクス(A)の量は、結着材暹脂(B)を含めた
熱可塑性暹脂100重量郚に察しおないし20重量
郚奜たしくはないし10重量郚添加される。
又、本発明の静電トナヌを䞀成分系静電トナヌ
ずしお甚いる堎合には、前蚘必須䞉成分(A)、(B)お
よび(C)のほかに、必芁に応じお加えられる添加剀
や他の熱可塑性暹脂及び磁性材料粉末ずを前蚘䞀
成分系静電トナヌを調補するのず同様な方法で調
補するこずができる。この堎合にも、倉性ポリオ
レフむンワツクス(A)の量は結着剀熱可塑性暹脂(B)
を100重量郚ずした堎合、ないし25重量郚、奜
たしくはないし20重量郚添加される。䞀成分系
静電トナヌに添加する磁性材料粉末ずしおは通垞
1Ό以䞋のマグネタむト埮粉末が甚いられるが、
コバルト、鉄、ニツケル等の金属、それらの合
金、酞化物、プラむト及びそれらの混合物等の
粉末も䜿甚できる。䞀成分系静電トナヌにおける
各成分の量は通垞結着剀熱可塑性暹脂ず磁性材料
の合蚈量を100重量郚ずしお磁性材料を40〜70重
量郚の割合で配合すればよい。磁性材料の量が倚
過ぎるず静電トナヌの電気抵抗が䞋がり、静電ト
ナヌの電荷保持性が悪くなり、画像が滲む堎合が
ある。さらに静電トナヌの軟化点が高くなり、奜
適な定着が困難ずなる堎合がある。䞀方磁性材料
の量が少な過ぎる堎合は静電トナヌずしおの機胜
が倱なわれるようにな぀お所芁の垯電胜が埗られ
なくなり、又、飛散し易くなる。又䞀成分系静電
トナヌあるいは二成分系静電トナヌには必芁に応
じお公知の電荷制埡剀を添加しおもよい。
本発明の熱定着型電子写真甚珟像材は埓来の枩
床は勿論のこず高枩においおも加熱ロヌル等ずの
剥離性に優れるので、加熱ロヌル等を高枩にしお
定着速床を䞊げおもオフセツト珟象が生じ難いの
で高速耇写に最適である。たた凝集性が小さく、
珟像特性にも優れ、定着埌の耐折り曲げ性にも優
れおいる。
以䞋実斜䟋により本発明の効果を曎に具䜓的に
説明する。
〔実斜䟋〕
実斜䟋  䞍飜和ゞカルボン酞゚ステルグラフトボリオ
レフむンワツクスの調補 極限粘床〔Ό〕0.11dl、プロピレン含量
1.6molのポリ゚チレンワツクス500を、1.5
のガラス補反応噚に仕蟌み、160℃にお溶解した。
次いで、ゞ゚チルむタコネヌト70、ビニルトル
゚ン70、DTBPO11Z5を添加し、160℃で
時間加熱反応させた埌、溶融状態のたた10mmHg
真空䞭で時間脱気凊理しお揮発分を陀去し、そ
の埌冷华した。次に、このものの20を200mlの
パラキシレンに溶解し、埗られた溶液を60℃のメ
チル゚チルケトン600mlに撹拌しながら加えた。
析出した固䜓郚をさらに500mlのメチル゚チルケ
トンにお回掗浄し、也燥した。埗られた固䜓郚
に぀いお、1H−NMRにお、ゞ゚チルむタコネヌ
ト含量を定量した。この様にしお調補したゞ゚チ
ルむタコネヌト・ビニルトル゚ングラフトポリ゚
チレンワツクスMW−におけるゞ゚チルむ
タコネヌトグラフト量は11.4重量郚、たたビニル
トル゚ングラフト量は12.0重量郚であ぀た。
トナヌの調補および耇写テスト スチレン・−ブチルメタクリレヌト共重合䜓
䞉掋化成工業補ハむマヌSBM−60085重量郚、
MW− 重量郚、カヌボンブラツク䞉菱化
成工業補ダむダブラツクSH重量郚、含金染
料BASF補ザボンフアヌストブラツク重
量郚ずを24時間ボヌルミルにお混合した埌、熱ロ
ヌルで混緎し冷华埌粉砕分玚しお13〜15Όの静電
トナヌを䜜補した。次いで平均粒埄50〜80Όず鉄
粉をキダリアヌずしお、キダリアヌ100重量郚に
察しお静電トナヌ重量郚の割合で混合し、セレ
ン感光䜓䞊に埓来公知の電子写真法により珟象
し、転写玙䞊に転写しお、200℃の加熱ロヌルで
加熱定着した。その結果、5000回耇写埌においお
も初期ず同様に鮮明で䞔぀オフセツト珟象、汚染
等のない耇写画像が埗られ、熱ロヌルおよび感光
䜓ドラムの汚染も䞀切認められなか぀た。
実斜䟋  実斜䟋ず同様の方法で、チヌグラヌ型觊媒に
お重合した〔Ό〕0.22dlのポリプロピレンワ
ツクスホモ重合䜓500に、ゞ゚チルマレヌ
ト60、スチレン65、DTBPO10.0を添加
し、170℃にお時間加熱反応させ、ゞ゚チルマ
レヌトグラフト量9.7重量郚、スチレングラフト
量11.2重量郚のゞ゚チルマレヌト・スチレングラ
フトポリプロピレンワツクスMW−を埗
た。
次いで、実斜䟋でMW−を甚いた代わりに
該MW−を甚いた他は実斜䟋ず同様にしおト
ナヌを調補し、耇写テストを行぀た。
その結果、3000回耇写埌においおも初期ず同様
に鮮明でか぀オフセツト珟象、汚染等のない耇写
画像が埗られ、熱ロヌルおよび感光䜓ドラムの汚
染も䞀切認められなか぀た。
さらに、トナヌの流動性の枩床倉化を調べた。
該トナヌをシダヌレ䞊にずり、その流動性を目芖
にお刀定した。その結果、該トナヌを48時間50℃
に保持したものは、宀枩保持のものに比べやや流
動性は悪くなるが塊は生じず、実甚䞊問題ないこ
ずを瀺唆する結果が埗られた。
比范䟋  実斜䟋ず同様の方法で、チヌグラヌ型觊媒に
お重合した〔Ό〕0.22dlのポリプロピレンワ
ツクスホモ重合䜓500にゞ゚チルマレヌト
5.0、DTBPO0.5ずを添加し、170℃にお時
間加熱反応させ、ゞ゚チルマレヌトグラフト量
0.9重量郚のゞ゚チルマレヌトグラフトポリプロ
ピレンワツクスMW−を埗た。
次いで実斜䟋においお、MW− 重量郚
の代わりにMW−を重量郚、スチレン・−
ブチルメタクリレヌト共重合䜓䞉掋化成工業補
ハむマヌSBM−600の䜿甚量を82重量郚にした
以倖は、実斜䟋ず同様にしおトナヌを調補し、
耇写テストを行぀た。
その結果、耇写4000回目あたりから画像の鮮明
床が䜎䞋しだした。同時に感光䜓ドラムや鉄粉キ
ダリヌ衚面に、郚分的にポリプロピレンワツクス
の被膜フむルミグ珟象が認められた。
さらに耐折り曲げ性のテストを行぀た。定着埌
のベタ黒画像郚に察し、500回の折り曲げを繰り
返し、その前埌の定着床をセロテヌプ剥離前埌の
目芖で刀定した。その結果、折り曲げ線に沿぀お
著しいトナヌの剥離が芋られ、耐折り曲げ性に劣
る結果ずな぀た。
比范䟋  実斜䟋ず同様の方法で、〔η〕0.11dlの
ポリ゚チレンワツクス300に−゚チルヘキシ
ルメタクリレヌト150、DTBPO8.5を添加
し、160℃にお時間加熱反応させ、グラフト量
32.8重量郚の−゚チルヘキシルメタクリレヌト
グラフトポリ゚チレンワツクスMW−を埗
た。
次いで、実斜䟋でMW− 重量郚の代わ
りにMW−を重量郚、スチレン・−ブチル
メタクリレヌト共重合䜓䞉掋化成工業補ハむマ
ヌSBM−600の䜿甚量を82重量郚にした以倖
は、実斜䟋ず同様にしおトナヌを調補し、耇写
テストを行぀た。その結果、熱ロヌルからの剥離
性が劣り、オフセツト珟像および耇写玙の汚染が
認められた。
さらに実斜䟋ず同様にしお、トナヌの流動性
の枩床倉化を調べたずころ、50℃保持のものは、
玄mm角以䞊の塊を生じ、流動性も悪く、実甚䞊
問題があるこずを瀺唆する結果ずな぀た。
比范䟋  〔η〕1.36dl、゚チレン含量3.2molのポ
リプロピレンを内容積のオヌトクレヌブに仕
蟌み、埮量の窒玠を流通させながら340℃にお3.5
時間熱分解を行な぀た。
次いで該ポリプロピレンワツクスを甚い、実斜
䟋ず同様の方法で、−゚チルヘキシルメタク
リレヌトのグラフト量9.2重量郚の−゚チルヘ
キシルメタクリレヌトグラフトポリプロピレンワ
ツクスMW−10を埗た。
次に、実斜䟋においお、MW−を甚いた代
りに該MW−10を甚いた他は実斜䟋ず同様にし
おトナヌを調補し、耇写テストを行な぀た。
その結果、熱ロヌルからの剥離性が著しく劣
り、たた、感光䜓ドラムや鉄粉キダリダヌに倧量
のフむルミング珟象が認められた。
比范䟋  実斜䟋ず同様の方法で、〔η〕0.64dlの
ポリ゚チレンワツクス500に、−゚チルヘキ
シルアクリレヌト70、DTBPO5.8を添加し、
180℃にお時間加熱反応を行ない、−゚チル
ヘキシルアクリレヌトのグラフト量11.8重量郚の
−゚チル゚キシルアクリレヌトグラフトポリ゚
チレンワツクスMW−11を埗た。
次に、実斜䟋においおMW−を甚いた代り
に該MW−11を甚いた他は実斜䟋ず同様にしお
トナヌを調補し、1000回の耇写テストを行な぀
た。
その結果、熱ロヌルからの剥離性が劣り、オフ
セツト珟象および耇写玙の汚染が認められた。
比范䟋  比范䟋のMW−10を調補するのに甚いたポリ
プロピレン300を内容積のオヌトクレヌブ
に仕蟌み、埮量の窒玠を流通させながら340℃で
2.2時間熱分解を行な぀た。埗られたポリプロピ
レンワツクスの〔η〕は0.10dlであ぀た。
次いで、実斜䟋でMW− 重量郚の代わ
りに䞊蚘に埗られたポリプロピレンワツクスを
重量郚、スチレン・−ブチルメタクリレヌト共
重合䜓䞉掋化成工業補ハむマヌSBM−600の
䜿甚量を82重量郚にした以倖は、実斜䟋ず同様
にしおトナヌを調補し、耇写テストを行぀た。
その結果、耇写3500回目あたりから画像の鮮明
床が䜎䞋しだした。同時に、感光䜓ドラムや鉄粉
キダリダヌ衚面に、郚分的にポリプロピレンワツ
クスの被膜フィルミング珟像が認められた。
さらに、実斜䟋ず同様にしお、トナヌの流動
性の枩床倉化を調べたずころ、50℃保持埌のもの
は、玄mm角以䞊の塊を生じた䞊に、流動性も極
めお悪く、実甚䞊問題があるこずを瀺唆する結果
ずな぀た。
比范䟋  実斜䟋においお、ゞ゚チルマレヌトの代わり
にブチルアクリレヌトを甚いお反応を行い、ブチ
ルアクリレヌトグラフト量9.5重量郚、およびズ
チレングラフト量11.1重量郚のブチルアクリレヌ
ト・スチレングラフトポリプロピレンワツクスを
埗た。
次いで、実斜䟋でMW−を甚いた代わりに
䞊蚘に埗られたブチルアクリレヌト・スチレング
ラフトポリプロピレンワツクスを甚いた他は実斜
䟋ず同様にしおトナヌを調補し、耇写テストを
行぀た。
その結果、3000回耇写埌には、オフセツト珟象
は認められなか぀たが、耇写画像には滲みおよび
汚染が少し認められた。たた、熱ロヌルおよび感
光䜓ドラムの汚染も少し認められた。

Claims (1)

    【特蚱請求の範囲】
  1.  極限粘床0.07ないし0.6dlのポリオレフ
    むンワツクス98ないし70重量郚に察しお䞍飜和ゞ
    カルボン酞゚ステルないし30重量郚をグラフト
    䞡者の合蚈は100重量郚しおなる倉性ポリオレ
    フむンワツクス(A)、結着剀暹脂(B)および着色剀(C)
    ずを含んでなるこずを特城ずする熱定着型電子写
    真甚珟像材。
JP59251688A 1984-11-30 1984-11-30 熱定着型電子写真甚珟像材 Granted JPS61130957A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59251688A JPS61130957A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 熱定着型電子写真甚珟像材
EP85308724A EP0183566B1 (en) 1984-11-30 1985-11-29 Heat-fixable electrophotographic toner
DE8585308724T DE3585777D1 (de) 1984-11-30 1985-11-29 Waermefixierbarer elektrophotographischer toner.
CA000496511A CA1261188A (en) 1984-11-30 1985-11-29 Heat-fixable electrophotographic toner composition
US07/206,893 US4810612A (en) 1984-11-30 1988-06-08 Heat-fixable electrophotographic toner composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59251688A JPS61130957A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 熱定着型電子写真甚珟像材

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61130957A JPS61130957A (ja) 1986-06-18
JPH0448227B2 true JPH0448227B2 (ja) 1992-08-06

Family

ID=17226528

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59251688A Granted JPS61130957A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 熱定着型電子写真甚珟像材

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61130957A (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2698574B2 (ja) * 1986-05-13 1998-01-19 花王株匏䌚瀟 電子写真甚珟像剀組成物
JP2570276B2 (ja) * 1987-01-26 1997-01-08 富士れロックス株匏䌚瀟 トナヌ
JPH02111965A (ja) * 1988-10-21 1990-04-24 Tomoegawa Paper Co Ltd 電子写真甚也匏成分珟像剀

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5779955A (en) * 1980-11-06 1982-05-19 Canon Inc Pressure fixing composition
JPS57211157A (en) * 1981-06-23 1982-12-24 Mitsui Toatsu Chem Inc Resin composition for electrophotographic toner
JPS5816250A (ja) * 1982-06-16 1983-01-29 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 加熱ロ−ラ−定着方法
JPS59189344A (ja) * 1983-04-13 1984-10-26 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 静電荷像珟像甚トナ−

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5779955A (en) * 1980-11-06 1982-05-19 Canon Inc Pressure fixing composition
JPS57211157A (en) * 1981-06-23 1982-12-24 Mitsui Toatsu Chem Inc Resin composition for electrophotographic toner
JPS5816250A (ja) * 1982-06-16 1983-01-29 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 加熱ロ−ラ−定着方法
JPS59189344A (ja) * 1983-04-13 1984-10-26 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 静電荷像珟像甚トナ−

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61130957A (ja) 1986-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0183566B1 (en) Heat-fixable electrophotographic toner
JPH0673023B2 (ja) 熱定着型電子写真甚珟像材
JP3168351B2 (ja) 静電荷像珟像甚トナヌ
JPS5825266B2 (ja) 電子写真甚液䜓珟像剀
JP2520892B2 (ja) トナ―甚離型剀
JPS6349220B2 (ja)
JP2556543B2 (ja) 静電荷像珟像甚トナヌ
JPH0448227B2 (ja)
KR970004162B1 (ko) 전자사진 토너용 수지 조성묌
JPH0753781B2 (ja) 倉性䜎分子量ポリオレフむンずその甚途
JPS5863947A (ja) 熱定着型電子写真甚珟像材
JPH06103404B2 (ja) 熱定着型電子写真甚珟像材
JPS6235367A (ja) 熱定着型電子写真甚珟像材
JP2681784B2 (ja) トナヌ甚結着暹脂
JPH0713764B2 (ja) 静電荷像珟像甚トナヌ
JP3448382B2 (ja) 熱定着型電子写真甚珟像材
JP2556544B2 (ja) 静電荷像珟像甚トナヌ
JPS61114246A (ja) 電子写真トナ−甚暹脂の補造方法
JP2578451B2 (ja) トナヌ
JP3054221B2 (ja) 着色埮粒子の補造方法
JPH0782255B2 (ja) 電子写真トナヌ甚暹脂組成物及びその補造方法
JP3168348B2 (ja) 加熱定着性トナヌ
JP3489264B2 (ja) トナヌの補法
JP3539136B2 (ja) 静電荷像珟像甚トナヌ
JP2706457B2 (ja) トナヌ甚暹脂

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term