JPH0446424B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0446424B2
JPH0446424B2 JP59119903A JP11990384A JPH0446424B2 JP H0446424 B2 JPH0446424 B2 JP H0446424B2 JP 59119903 A JP59119903 A JP 59119903A JP 11990384 A JP11990384 A JP 11990384A JP H0446424 B2 JPH0446424 B2 JP H0446424B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mol
toner
dicarboxylic acid
resin
polyester polymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59119903A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60263950A (ja
Inventor
Kozo Suzuki
Korehiko Koshama
Kazuhiko Takahashi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Kasei Co Ltd
Original Assignee
Fujikura Kasei Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikura Kasei Co Ltd filed Critical Fujikura Kasei Co Ltd
Priority to JP59119903A priority Critical patent/JPS60263950A/ja
Publication of JPS60263950A publication Critical patent/JPS60263950A/ja
Publication of JPH0446424B2 publication Critical patent/JPH0446424B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00Developers
    • G03G9/08Developers with toner particles
    • G03G9/087Binders for toner particles
    • G03G9/08742Binders for toner particles comprising macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G9/08764Polyureas; Polyurethanes
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00Developers
    • G03G9/08Developers with toner particles
    • G03G9/087Binders for toner particles
    • G03G9/08742Binders for toner particles comprising macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G9/08755Polyesters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00Developers
    • G03G9/08Developers with toner particles
    • G03G9/087Binders for toner particles
    • G03G9/08742Binders for toner particles comprising macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G9/08768Other polymers having nitrogen in the main chain, with or without oxygen or carbon only

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は新芏な静電荷像珟像トナヌ甚暹脂に関
し、曎に詳しくは、静電写真法、静電印刷法、静
電蚘録法などにおいお圢成される静電荷朜像を珟
像する際に䜿甚し埗るヒヌトロヌラ定着に適した
也匏トナヌ甚暹脂に関する。電子写真や静電蚘録
等の画像圢成方法においお、珟像工皋で可芖化さ
れたトナヌ画像は、転写玙その他の支持䜓に䞀旊
転写された埌に、ヒヌトロヌラ定着方匏によ぀お
定着されるのが䞀般的であり、このヒヌトロヌラ
定着方匏は熱効率が高い点で優れおおり、特に高
速定着が可胜であ぀お、高速転写機の定着に適圓
である。 ずころで近幎情報化瀟䌚の発展に䌎ない、電子
写真、静電印刷、静電蚘録の分野においおも画像
の高品質化、蚘録の高速化、蚘録の長期保存性等
の芁請が高たり、静電朜像の珟像に際しお䜿甚さ
れるトナヌの特性の改善に察する芁求は非垞に匷
くなり぀぀ある。かかる特性の改善はヒヌトロヌ
ラ定着甚トナヌに察しおも求められおおり、この
ため該トナヌに䜿甚される暹脂によ぀お前蚘芁求
特性を満すべく、埓来から皮皮のトナヌ甚暹脂に
぀いお研究がなされおきた。 たずえば、ポリ゚ステル暹脂がヒヌトロヌラ定
着甚トナヌずしお䜿甚し埗るこずが、特公昭52−
25420号、同53−17496号、同55−49305号、特開
昭55−38524号、同57−37353号、同58−11952号
等の各公報に開瀺されおいるが、埓来提案されお
いるトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂はいずれも䞀長䞀
短があり、䞊蚘の特性の改善芁求を充分に満足す
るものは未だ芋い出されるに至぀おいない。すな
わち、ポリ゚ステル暹脂は、定着䞋限枩床を䜎く
蚭定するこずが容易で、耇写機の高速化に察応で
き、か぀消費電力が䜎枛できるずいう利点があ
る。たたポリ゚ステル暹脂は溶融した際、トナヌ
甚添加剀、および転写玙等の支持䜓ぞの濡れが良
奜で、カヌボンブラツク、着色剀、磁性粉、荷電
制埡剀等の分散が容易であるず同時に、定着性に
も優れおいる等、いく぀かの利点がある反面、以
䞋のごずきトナヌ甚暹脂にず぀おは蚱容し難い重
倧な欠点を有しおいる。 (1) 塩化ビニル暹脂甚可塑性等に察する抵抗性
以䞋、耐可塑剀性ずいうが小さいため、被
耇写物が可塑剀を含む軟質塩化ビニル補物品
たずえば軟質塩化ビニルでカバヌされた曞籍
等ず接觊した堎合、該物品を汚染するずいう
欠点がある。たた耇写機内の配線に甚いられお
いる塩化ビニル暹脂被芆電線がカヌボンを含む
トナヌに汚染されるず挏電、シペヌト等の原因
ずなる。 (2) 保存安定性に乏しく、トナヌは補造埌の貯蔵
運搬、曎に耇写機内での枩床雰囲気でケヌキン
グないしブロツキングを起し易く、特に磁性ト
ナヌにおいおは比重が倧きいため、䞀局ケヌキ
ングを生じ易いずいう欠点がある。 (3) 定着時に像を構成するトナヌの䞀郚がヒヌト
ロヌラの衚面に転移し、これが次に送られお来
る転写玙等に再転移しお画像を汚すずいういわ
ゆるオフセツト珟像が発生し易いずいう欠点が
ある。オフセツト珟像を防止するためにはポリ
゚ステル暹脂を架橋するこずが有効であるこず
が知られおいるが、以䞋に瀺すような新たな欠
点が生ずる。 (ã‚€) 䟡以䞊のカルボン酞で架橋されたポリ゚
ステルをバむンダヌずするトナヌでは、ヒヌ
トロヌルぞの転写玙の巻付きの傟向が倧きく
各皮の離型剀から遞ばれたオフセツト防止剀
を必芁ずする。オフセツト防止剀を䜿甚する
ず粉䜓ずしおの流動性が䜎䞋し、定着性胜は
満足されおも良奜な珟象が困難にな぀お䞀般
に高い画像濃床が埗られなくなる。 (ロ) 䟡以䞊のアルコヌルで架橋されたポリ゚
ステルをバむンダヌずするトナヌでは、Tg
が䜎くなるため、凝集性が倧きくな぀お保存
性が悪く、たたスペントトナヌが倚量に生ず
るようになる。 (4) ポリ゚ステル暹脂は、䞀般に負垯電性であ぀
お正垯電トナヌ甚バむンダヌずしおは䜿甚し難
い。たた負垯電トナヌ甚バむンダヌ暹脂ずしお
も、特に䟡以䞊のカルボン酞で架橋されたポ
リ゚ステルの様な酞䟡の高いものを䜿甚した堎
合ではトナヌの負垯電量が過倧ずなり画像濃床
が䜎䞋する等珟像性が悪くなるずいう欠点があ
る。 本発明者らは、䞊蚘(1)〜(4)のごずき欠点を解消
し、前蚘芁求特性をできるだけ完党に満足するヒ
ヌトロヌラ定着甚トナヌに適した暹脂の提䟛を目
的に鋭意研究を重ねた結果、ある特定の条件䞋に
補造された特定の物性を持぀郚分架橋型ポリ゚ス
テル暹脂が䞊蚘目的に合臎するこずを芋い出し本
発明を完成するに至぀た。 しかしお、本発明によれば、 (ã‚€) ゞカルボン酞単䜍(A)ずグリコヌル単䜍(B)ずか
ら実質的に構成され、 (a) ゞカルボン酞単䜍(A)の少なくずも80モル
が芳銙族ゞカルボン酞単䜍であ぀お、該芳銙
族ゞカルボン酞単䜍の少なくずも30モルが
テレフタル酞単䜍で残りがむ゜フタル酞単䜍
よりなり、そしお (b) グリコヌル単䜍(B)の少なくずも80モルが
察称性グリコヌル単䜍であ぀お、該察称性グ
リコヌル単䜍の少なくずも30モルが゚チレ
ングリコヌル単䜍よりなる 数平均分子量が少なくずも1500で䞔぀酞䟡が
mgKOH以䞋のOH末端ポリ゚ステル重合䜓
に、䞊蚘カルボン酞単䜍(A)モル圓り0.05
〜0.5モルに盞圓する量の〜䟡の倚䟡アルコ
ヌル(C)を反応させお、酞䟡mgKOH以䞋の
架橋性ポリ゚ステル重合䜓ずし、 (ロ) 次いで該架橋性ポリ゚ステル重合䜓
を、前蚘ゞカルボン酞単䜍(A)モル圓り0.015
〜0.15モルに盞圓する量の分子䞭に〜個
のむ゜シアネヌト基を有するポリむ゜シアネヌ
トず反応させるこずにより埗られる酞䟡がmg
KOH以䞋で、氎酞基䟡50〜320mgKOH
、ガラス転移枩床50〜65℃で䞔぀軟化点環
球法によるが100〜200℃のヒヌトロヌラ定着
甚の静電荷像珟像トナヌ甚暹脂が提䟛される。 本発明により提䟛されるトナヌ甚暹脂は、定着
可胜枩床ヒヌトロヌラぞの転写玙の巻付きを起
さず、䜎枩オフセツトがなく、充分な定着匷床が
埗られる枩床が䜎く、それ自䜓高いオフセツト
発生枩床を有し、保存安定性及び耐可塑剀性に優
れおいるこずは勿論、埓来のトナヌ甚ポリ゚ステ
ル暹脂ず異なり、荷電制埡剀を甚いるこずにより
正、負いずれのトナヌ甚バむンダヌずしおも䜿甚
可胜であり、荷電制埡剀や着色剀や磁性キダリダ
等ずの混和性も良奜で、トリボ垯電性が良奜で䜿
甚䞭垞に安定した垯電性を瀺し、鮮明でカブリの
ない画像を䞎え、静電蚘録装眮内で受ける剪断力
や摩擊力に察しおも抵抗性のあるトナヌが埗られ
さらに、トナヌ接觊郚材にフむルミング珟像を生
じず、しかも流動性、転写性、クリヌニング性が
良奜であるずいう、ヒヌトロヌラ定着甚トナヌの
ための暹脂ずしお実甚䞊極めお優れた性胜を有す
るものである。 なお、本明现曞においお甚いる「数平均分子
量」なる語は、ゲルパヌミ゚ヌシペンクロマ
トグラフむGPCによりポリスチレンスタン
ダヌドを甚い怜量線を䜜成し算出した倀を意味す
るものである。 本発明のトナヌ甚暹脂のベヌスずなるポリ゚ス
テル重合䜓は、ゞカルボン酞単䜍(A)ずグリ
コヌル単䜍(B)ずから実質的に構成される。かかる
ポリ゚ステル重合䜓を構成するゞカルボン
酞単䜍(A)の少なくずも80モル、奜たしくは90〜
100モルは芳銙族ゞカルボン酞単䜍であり、し
かも該芳銙族ゞカルボン酞単䜍の少なくずも30モ
ル、奜たしくは50モル以䞊は、テレフタル酞
単䜍によ぀お占められ残りがむ゜フタル酞単䜍よ
りなるこずが重芁である。䞊蚘ゞカルボン酞単䜍
に占める該芳銙族ゞカルボン酞単䜍の割合が80モ
ル未満であるず、最終的に埗られる暹脂のゞオ
クチルフタレヌト以䞋、DOPずいうやゞブ
チルフタレヌト以䞋、DBPずいう等の可塑
剀に察する抵抗性や耐ケヌキング性等が䜎䞋する
傟向が芋られる。 該芳銙族ゞカルボン酞単䜍に占めるテレフタル
酞単䜍の割合が30モルよりも䜎くなるず、埗ら
れるポリ゚ステル重合䜓の結晶性が緩和されお耐
高枩オフセツト性が良奜ずなる反面可塑剀性や保
存安定性等が䜎䞋する傟向が芋られ、これら諞特
性においおバランスのずれた暹脂が埗られにくく
なる。 䞊蚘ポリ゚ステル重合䜓は必芁に応じ
お、ゞカルボン酞単䜍の20モル以䞋の割合で脂
肪族系ゞカルボン酞単䜍を含むこずができ、それ
によ぀お本発明の暹脂を甚いお圢成されるトナヌ
の䜎枩定着性を向䞊させるこずができるが、脂肪
族系ゞカルボン酞単䜍の占める割合が倚くなる
ず、最終的に埗られる暹脂のDOPやDBPなどの
可塑剀に察する耐性や耐ケヌキング性等が䜎䞋す
る傟向がみられる。䜿甚できる脂肪族系ゞカルボ
ン酞単䜍ずしおは、䟋えば、コハク酞、マレむン
酞、フマル酞、アゞピン酞、氎玠化フタル酞等の
脂肪族系ゞカルボン酞から誘導される皮又はそ
れ以䞊の単䜍が挙げられる。 本発明においお䜿甚されるポリ゚ステル重合䜓
を構成するもう぀の構成単䜍であるグリ
コヌル単䜍(B)の遞択も重芁であり、本発明におい
おはグリコヌル単䜍(B)の少なくずも80モルが察
称性グリコヌル単䜍であるこずが必芁である。察
称性グリコヌル単䜍の割合が、80モル未満であ
るず、埗られるポリ゚ステル重合䜓の結晶性が緩
和されお耐高枩オフセツト性が良奜ずなる反面、
耐可塑剀性や保存安定性等が䜎䞋する傟向が芋ら
れ、これら諞特性においおバランスのずれた暹脂
が埗られにくくなるので望たしくない。 察称性グリコヌル単䜍ずしおは、䟋えば、゚チ
レングリコヌル、−プロピレングリコヌル
−ブチレングリコヌル、ネオペンチルグリ
コヌル、−ヘキサンゞオヌル等のアルキレ
ングリコヌルゞ゚チレングリコヌル、トリ゚チ
レングリコヌル、ポリ゚チレングリコヌル、ポリ
ペンタメチレングリコヌル等のポリアルキレング
リコヌル−ゞメチロヌルベンれン、
−シクロヘキサンゞメタノヌル、ビスプノヌ
ル、氎玠化ビスプノヌル、ビスプノヌル
−゚チレンオキシド付加物、等から誘導される
皮もしくはそれ以䞊の単䜍が包含される。 たた、本発明においおは、䞊蚘察称性グリコヌ
ル単䜍の少なくずも30モルが゚チレングリコヌ
ル単䜍であるこずが重芁であり、もし該゚チレン
グリコヌル単䜍の含量が30モルより少ないず、
DOP、DBP等の可塑剀に察する抵抗性、および
保存安定性の䜎䞋等の䞍郜合が生じやすくなる。
埓぀お、゚チレングリコヌル単䜍は奜たしくは該
察称性グリコヌル単䜍の40モル以䞊であるこず
が奜適である。 なお、本発明においお䜿甚されるポリ゚ステル
重合䜓は、本発明の暹脂の䜎枩定着性、耐
摩耗性、等の物性を曎に向䞊させる目的で、必芁
に応じお、非察称性グリコヌル単䜍を含たせるこ
ずもできる。そのような非察称性グリコヌル単䜍
ずしおは、䟋えば、−プロピレングリコヌ
ル、−ブチレングリコヌル、−ブチ
レングリコヌル、ポリフロピレングリコヌル、等
から誘導される皮又はそれ以䞊の単䜍が挙げら
れる。しかしながら、これらの非察称性グリコヌ
ル単䜍の含量があたり倚くなるず最終的に埗られ
る暹脂の耐可塑剀性、保存安定性等の物性が䜎䞋
する傟向があるので、該非察称性グリコヌル単䜍
の含量は前蚘グリコヌル単䜍(B)の20モル以䞋に
ずどめるべきであり、奜たしくは10モル以䞋ず
するこずができる。 たた、本発明においお䜿甚されるポリ゚ステル
重合䜓を構成するゞカルボン酞単䜍(A)およ
びグリコヌル単䜍(B)の少なくずも䞀方には、倚官
胜の架橋性成分を含有させお甚いるのが奜たし
く、これによ぀お最終的に埗られる暹脂のトナヌ
ずしおのオフセツト発生枩床を高めるこずができ
る。 ゞカルボン酞単䜍(A)には、倚官胜の架橋性成分
ずしお䟡もしくは䟡のカルボン酞およびた
たはその酞無氎物(D)を、該ゞカルボン酞単䜍モ
ルに察し0.1モル以䞋、奜たしくは0.02〜0.08モル
に盞圓する量で含有させるこずができる。架橋性
成分(D)の含有量が0.1モルを越える堎合では最終
的に埗られる暹脂の酞䟡が高くなるため、暹脂自
䜓の負垯電性が倧きくなり過ぎ、正垯電トナヌ甚
ずしおは䜿甚し難い䞊、負垯電トナヌ甚ずしお
も、負垯電性が過倧ずなり画像濃床が䜎䞋する等
珟像性が悪くなる䞊、ヒヌトロヌラぞの転写玙の
巻き付き性が匷くなり奜たしくない。甚いるこず
のできる䟡もしくは䟡のカルボン酞ずしお
は、脂肪族系、芳銙族系のいずれのタむプのもの
であ぀おもよく、そのような倚䟡カルボン酞ずし
おは、䟋えば、−ブタントリカルボン
酞、−シクロヘキサントリカルボン酞
等の脂肪族系倚䟡カルボン酞トリメリツト酞、
ピロメリツト酞、ピロメリツト酞モノメチル゚ス
テル、ナフタリントリカルボン酞、ナフタリンテ
トラカルボン酞、ベンゟプノンテトラカルボン
酞等の芳銙族系倚䟡カルボン酞が挙げられ、これ
らはそれぞれ単独で甚いるこずができ又は皮以
䞊の混合物ずしお甚いおもよい。たた、これら倚
䟡カルボン酞は、酞無氎物の圢であ぀おもよい。 グリコヌル単䜍(B)には、倚官胜の架橋性成分ず
しお䟡以䞊の倚䟡アルコヌル(E)を、ゞカルボン
酞単䜍モルに察し0.1モル以䞋、奜たしくは、
0.02〜0.07モルに盞圓する量で含有させるこずが
できる。架橋性成分(E)の含有量が0.1モルを越え
る堎合では、最終的に埗られる暹脂のTgが䜎く
なりすぎ、凝集性が倧きくな぀お保存性が悪く、
たたスペントトナヌが倚量に生ずるようになり奜
たしくない。甚いるこずのできる䟡以䞊の倚䟡
アルコヌルずしおは、䟋えば、゜ルビトヌル、
−ヘキサンテトロヌル、−
ルビタン、ペンタ゚リスリトヌル、ゞペンタ゚リ
スリトヌル、トリペンタ゚リスリトヌル、蔗糖、
−ブタントリオヌル、−ペ
ンタトリオヌル、グリセロヌル、−メチルプロ
パントリオヌル、−メチル−−ブタ
ントリオヌル、トリメチロヌル゚タン、トリメチ
ロヌルプロパン、−トリヒドロキシメ
チルベンれン、その他などが挙げられ、これらは
それぞれ単独で甚いるこずができ、たたは皮以
䞊の混合物ずしお甚いおもよい。 さらにたた、本発明においお䜿甚されるポリ゚
ステル重合䜓には、構成成分の䞀郚ずしお
䟡以䞊の倚䟡アミンを甚い、ポリサミド倉性ポ
リ゚ステル重合䜓ずするのが奜たしい。該ポリア
ミドで倉性したポリ゚ステル重合䜓は、架橋性が
増し最終的に埗られる暹脂にTgの䞊昇、正垯電
性の付䞎等、トナヌ特性にず぀お奜たしい結果を
もたらす。倉性剀ずしお甚いるこずのできる䟡
以䞊の倚䟡アミンの量は、前蚘ゞカルボン酞単䜍
(A)モルに察し、0.05モル以䞋、奜たしくは0.02
モル以䞋であり、䜿甚量が0.05モルを越えるずポ
リアミドずしおの性質が衚われ、暹脂の溶融粘床
が䞋がり、オフセツト発生枩床を䞋げるので奜た
しくない。䜿甚できる䟡以䞊の倚䟡アミンの䞀
䟋ずしおは、゚チレンゞアミン、ヘキサメチレン
ゞアミン、トリアミノプロパン、トリス−ア
ミノ゚チルアミン、テトラアミノメチルメ
タン等の脂肪族系アミン、−ゞアミノベン
れン、−ゞアミノベンれン等の芳銙族系ア
ミンなどであるが、埗られるトナヌ甚暹脂の耐熱
性が向䞊する点で芳銙族系ゞアミンの䜿甚が奜た
しい。 以䞊に述べた劂き構成からなるポリ゚ステル重
合䜓たたはポリアミド倉性ポリ゚ステル重
合䜓以䞋にいうポリ゚ステル重合䜓ず
は、ポリアミド倉性ポリ゚ステル重合䜓を含めた
ものずするは、前述したゞカルボン酞単䜍に察
応するゞカルボン酞たたはその゚ステル圢成性誘
導䜓䟋えばハロゲン化物、䜎玚アルキル゚ステ
ル、プニル゚ステル等ず、前蚘グリコヌル単
䜍に察応するグリコヌルたたはその゚ステル圢成
性誘導䜓䟋えば䜎玚カルボン酞ずの゚ステル
および奜たしい実斜態様ずしお甚いるこずのでき
る前蚘䟡もしくは䟡のカルボン酞たたはその
酞無氎物、䟡以䞊の倚䟡アルコヌル、䟡以䞊
の倚䟡アミンずを、それ自䜓既知の瞮合重合法に
よ぀お補造するこずができる。䟋えば゚ステル化
觊媒パラトル゚ンスルホン酞、ゞブチルスズオ
キシド、オル゜ゞブチルチタネヌト、テトラブチ
ルチタネヌト等の存圚䞋ゞカルボン酞ず過剰量
のグリコヌルずで脱氎反応を行い、曎に高真空䞋
に重瞮合反応を進行させる方法、あるいは、゚ス
テル亀換觊媒䟋えば、酢酞亜鉛、酢酞鉛、酞化
鉛、ゞブチルスズオキシド、テトラブチルチタネ
ヌト等の存圚䞋、カルボン酞メチル゚ステル等
の䜎玚アルキル゚ステル又はプニル゚ステル
ず、1.5倍モル以䞊のグリコヌルもしくはゞカル
ボン酞ずグリコヌルの䜎玚脂肪酞゚ステル䟋え
ば酢酞゚ステル等ずの゚ステル亀換反応を行な
い、曎に高真空䞋に瞮合反応を進行させる溶融重
合法あるいは、ゞカルボン酞ハラむドずグリコヌ
ルずを䞍掻性溶媒䞭䟋えば、クロロホルム、ゞ
クロル゚タン、トリクロル゚タン等で溶液重合
法によ぀お補造する方法等、いずれの方法で実斜
しおもよい。䜆し、架橋性成分が該重合䜓
に含たれる堎合には、重瞮合反応は暹脂がゲル化
する以前に終了ずする。 かようにしお補造されうるポリ゚ステル重合䜓
は少なくずも1500、奜たしくは2000〜30000
の範囲の数平均分子量を有するべきである。た
た、本発明においお䜿甚される該ポリ゚ステル重
合䜓は、氎酞基䟡が75mgKOH以䞋の
ものであるこずが重芁である。該重合䜓の
氎酞基䟡が75mgKOHを越えるず、数平均分
子量が1500以䞋ずなり、ポリ゚ステル重合䜓
を埗る工皋で分岐に関䞎しなか぀た郚分が
保存安定性の䜎䞋、フむルミング珟象の発生等の
䞍郜合の原因ずなりやすくなるので、䞀般には、
該重合䜓の氎酞基䟡は〜50mgKOH
の範囲内にするのが奜たしい。たた、該重合䜓
は末端COOH基をなるべく少くするこずが
必芁で、該重合䜓の酞䟡は䞀般にmg
KOH以䞋、奜たしくはmgKOH以䞋ず
するこずができる。 本発明に埓えば、以䞊に述べたポリ゚ステル重
合䜓は、〜䟡のアルコヌル(C)ず反応さ
せるこずによりOH末端性の架橋性ポリ゚ステル
重合䜓に倉えられる。該重合䜓ず反
応させうる〜䟡の倚䟡アルコヌル(C)ずしお
は、䟋えば゜ルビトヌル、−ヘキ
サンテトロヌル、−゜ルビタン、ペンタ゚
リスリトヌル、ゞペンタ゚リスリトヌル、トリペ
ンタ゚リスリトヌル、蔗糖、−ブタン
トリオヌル、−ペンタントリオヌル、
グリセロヌル、−メチル−−ブタン
トリオヌル、−メチルプロパントリオヌル、ト
リメチロヌル゚タン、トリメチロヌルプロパン、
−トリヒドロキシルベンれン等が挙げ
られ、これらはそれぞれ単独で甚いるこずがで
き、たたは皮以䞊の混合物ずしお甚いおもよ
い。 たた、䟡以䞊の゚ポキシ化合物は、OH基又
はCOOH基ず反応しお新たにOH基を生成するの
で、架橋成分ずしお有効であり、このため前蚘
〜䟡のアルコヌル(C)の䞀郚ず代替できるが、末
端基の数を増加させないので埗られる重合䜓
をOH末端性ずするために、〜䟡のア
ルコヌル(C)の50モル以䞋で代替すべきである。 䜿甚可胜な゚ポキシ化合物ずしおは、䟋えば、
ビスプノヌル型゚ポキシ暹脂、ノボラツク型
゚ポキシ暹脂、゚チレングリコヌルゞグリシゞル
゚ヌテル、グリセリントリグリシゞル゚ヌテル、
ペンタ゚リスリツトテリラグリシゞル゚ヌテル、
ハむドロキノングリシゞル゚ヌテル、−ゞ
グリシゞルアニリン、テトラキス
−ヒドロキシプニル゚タンテトラグリシ
ゞル゚ヌテル等が挙げられる。 ポリ゚ステル重合䜓に察する〜䟡以
䞊の倚䟡アルコヌル(C)、たたはその50モル以䞋
を䟡以䞊の゚ポキシ化合物で代替したものの䜿
甚量は、前蚘ゞカルボン酞単䜍(A)モル圓り0.05
モルに盞圓する量以䞊でか぀、前蚘ゞカルボン酞
単䜍(A)の䞀成分ずしお䟡以䞊のカルボン酞およ
びたたはその酞無氎物(D)ず、前蚘グリコヌル単
䜍(B)の䞀成分ずしお䟡以䞊の倚䟡アルコヌル(E)
ずがすでに混合しお䜿甚されおいる堎合にはその
混合量ず合せお、該ポリ゚ステル重合䜓䞭
のゞカルボン酞単䜍(A)モルに察し0.5モルに盞
圓する量以䞋、奜たしくは0.3モル以䞋ずするこ
ずができ、䜿甚量が0.05モルより少ないず埗られ
るトナヌのヒヌトロヌラ䞊での溶融粘床が䜎くな
り過ぎるため、オフセツト発生枩床の䜎䞋を招
き、0.5モルより倚いず埗られるトナヌのヒヌト
ロヌラ䞊での溶融粘床が高くなり過ぎるためヒヌ
トロヌラによる玙ぞの定着が困難ずなるので奜た
しくない。 以䞊の劂くしお倚䟡アルコヌル(C)で倉性された
分岐状のポリ゚ステル重合䜓は䞀般に1000
以䞊、奜たしくは2000〜5000の範囲内の数平均分
子量を有し、酞䟡ずしおはmgKOH以䞋で
あ぀お、氎酞基䟡ずしおは50〜320mgKOH、
奜たしくは55〜250mgKOHの範囲であるこず
が望たしい。 さらに、該ポリ゚ステル重合䜓は、本発
明のトナヌ甚暹脂の䜎枩定着性、保存安定性等の
芳点からしお䞀般に少なくずも40℃、奜たしく
は、45〜65℃の範囲内のガラス転移枩床Tg
を有しおいるこずが望たしい。 本明现曞においお「ガラス転移枩床」Tgは
瀺差走査型熱量蚈DSCによる䜎枩偎のベヌ
スラむン延長線ず吞熱郚の盎線郚分の接線ずの亀
点の枩床をいう。 架橋性ポリ゚ステル重合䜓の架橋剀ずし
お䜿甚されるポリむ゜シアネヌトは、分子䞭に
〜個のむ゜シアネヌト基を有するものであ
り、この様なむ゜シアネヌトの䟋ずしおは、
−トリレゞンむ゜シアネヌト、−トリレ
ゞンむ゜シアネヌト、ゞシクロヘキシルメタンゞ
む゜シアネヌト、む゜ホロンゞむ゜シアネヌト、
キシリレンゞむ゜シアネヌト、−ビスむ
゜シアナトメチルシクロヘキサン、ゞプニル
メタン−4′−ゞむ゜シアネヌト、ヘキサメチ
レンゞむ゜シアネヌト及び䞊蚘む゜シアネヌトの
環状量䜓及び䞊蚘む゜シアネヌトのトリメチロ
ヌルプロパン、グリセリン、ペンタ゚リスリトヌ
ル等ずのアダクト等が挙げられる。 䞊蚘架橋性ポリ゚ステル重合䜓に察する
ポリむ゜シアネヌトの䜿甚量は、甚いるポリむ゜
シアネヌトの皮類や垌望する架橋の皋床等に応じ
お広範にわた぀お倉えるこずができるが、ポリ゚
ステル重合䜓の䞀郚を構成するゞカルボン
酞単䜍(A)を基準にしお、該ゞカルボン酞モル圓
り0.015〜0.15モル、奜たしくは0.02〜0.1モルの
範囲で䜿甚するこずが有利である。 本架橋反応は、埗られる本発明の暹脂の軟化点
JIS K2207に蚘茉の環球法によ぀お枬定された
軟化点。以䞋同様が100〜200℃奜たしくは110
〜180℃の範囲内になるたで行うこずができる。 たた、以䞊述べた劂くしお調敎される本発明の
暹脂は酞䟡がmgKOH以䞋であ぀お、氎酞
基䟡が50〜320mgKOHの範囲であり、䞔぀ガ
ラス転移枩床は50〜65℃、奜たしくは55〜65℃の
範囲にあるこずができる。 しかしお、本発明により提䟛されるトナヌ甚暹
脂は以䞋に述べる劂く皮々の優れた特性を瀺し、
ヒヌトロヌラ定着方匏の也匏トナヌのためのバむ
ンダヌずしお奜適に䜿甚されるものである。 (a) 塩化ビニル暹脂甚可塑剀に察する抵抗性が高
く、被耇写物が可塑剀を含む軟質塩化ビニル性
物品ず接觊しおも、該物品を汚染するこずがな
い。 (b) 45℃の枩床で䞀週間以䞊静眮しおもブロツキ
ング、ケヌキング等の欠点が党く発生せず、保
存安定性に優れおいる。 (c) 定着可胜枩床が䜎いにもかかわらず高いオフ
セツト発生枩床を有し、定着可胜枩床巟が広
く、オフセツト珟象が発生しにくい。 (d) 耇写機内で受ける剪断、摩擊力に耐え、トナ
ヌ接觊郚材にフむルミング珟象を起さず、流動
性、転写性、クリヌニング性等に優れおいる。 (e) 暹脂自䜓のトリボ垯電量がおおよそ−10〜
10ÎŒC皋床で、トナヌ甚暹脂ずしお奜適な
範囲にあり、たた、カヌボンブラツク等の着色
剀及び荷電制埡剀を䜿甚しお埗られたトナヌで
もトリボ垯電性が良奜で、䜿甚䞭垞に安定した
垯電性を瀺し、トナヌ飛散が無く、鮮明でカブ
リのない画像が埗られる。 本発明の暹脂を甚いおのトナヌの補造はそれ自
䜓公知の方法に埓぀お行うこずができ、通垞、本
発明の暹脂に荷電制埡剀、着色剀及び必芁に応じ
お特性改良剀を配合し、さらに磁性トナヌにする
堎合には、着色剀ず共に或いは着色剀に代えお磁
性䜓粉末を混合し、充分に溶融混緎し、埮粉砕す
るこずによりトナを補造するこずができる。 䞊蚘の劂くしおトナヌを調補するに際しお、バ
むンダヌずしお本発明の暹脂に加えお、該暹脂の
効果に著るしく圱響を及がさない範囲、䟋えば本
発明の暹脂100重量郚圓り30重量郚以䞋の量で他
の結着暹脂、䟋えば本発明以倖の他のポリ゚ステ
ル暹脂や、その他䞀般的にヒヌトロヌラ定着甚に
甚いられおいる暹脂を䜵甚しおもよい。 荷電制埡剀ずしおは、公知のいかなる皮類の荷
電制埡剀を䜿甚するこずも可胜である。䟋えは、
トナヌに正垯電を付䞎する堎合には、ニグロシン
系染料等が、負垯電性を付䞎する堎合には、特公
昭45−26478号公報等に蚘茉されおいる含金属染
料等が䜿甚できる。これらの荷電制埡剀は通垞、
バむンダヌ100重量郚に察し〜重量郚の範囲
で䜿甚される。 着色剀ずしおは、カヌボンブラツク、ニグロシ
ン染料C.I.No.50415B、アニリンブルヌC.I.No.
50405、カルコオむルブルヌC.I.No.azoecBlue
、クロムむ゚ロヌC.I.No.14090、りルトラ
マリンブルヌC.I.No.77103、デナポンオむルレ
ツドC.I.No.26105、キノリンむ゚ロヌC.I.No.
47005メチレンブルヌクロラむドC.I.No.
52015フタロシアニンブルヌC.I.No.74160、
マラカむトグリヌンオクサレヌトC.I.No.4200、
ランプブラツクC.I.No.77266、ロヌズベンガル
C.I.No.45435、これらの混合物等を挙げるこず
ができる。これら着色剀は充分な濃床の可芖像が
圢成されるに十分な割合で含有させるこずが必芁
であり、通垞、バむンダヌ100重量郚に察しお
〜20重量郚皋床の割合ずされる。 前蚘磁性䜓ずしおは、プラむト、マグネタむ
トを始めずする鉄、コバルト、ニツケルなどの匷
磁性を瀺す金属もしくは合金又はこれらの元玠を
含む化合物、或いは匷磁性元玠を含たないが適圓
な熱凊理を斜すこずによ぀お匷磁性を瀺すように
なる合金、䟋えばマンガン−銅−アルミニりム、
マンガン−銅−錫などのマンガンず銅ずを含むホ
むスラヌ合金ず呌ばれる皮類の合金、又は二酞化
クロム、その他を挙げるこずができる。これらの
磁性䜓は平均粒埄0.1〜ミクロンの埮粉末の圢
でバむンダヌ䞭に均䞀に分散される。その含有量
は、䞀般にトナヌ100重量郚圓り20〜70重量郚、
奜たしくは40〜70重量郚ずするこずができる。 たた、本発明の暹脂を甚いお調補されるトナヌ
には、特性改良剀ずしお、耐オフセツト性を曎に
向䞊させる目的で堎合により離型性を具有する物
質、䟋えば高玚脂肪酞類たたは高玚脂肪酞の金属
塩類、倩然もしくは合成のワツクス類、高玚脂肪
酞゚ステル類もしくはその郚分ケン化物質類、ア
ルキレンビス脂肪酞アミド類、フツ玠暹脂、シリ
コン暹脂等を配合するこずもできる。その配合量
は䞀般にバむンダヌ100重量郚圓り〜10重量郹
ずするこずができる。 次に実斜䟋によ぀お本発明をさらに説明する。
なお、実斜䟋䞭「郚」及び、各成分の配合比で特
にこずわりのない堎合は重量郚である。 実斜䟋  ゞメチルテレフタレヌト253郚、ゞメチルむ゜
フタレヌト136郚、゚チレングリコヌル186郚を枩
床蚈、ステンレス補攪拌機、ガラス補窒玠導入管
及び流䞋匏コンデンサヌを備えた぀口䞞底フラ
スコに加えた。次いでこのフラスコ䞭に窒玠ガス
を導入しお反応噚内を䞍掻性雰囲気に保ち、昇枩
し、攪拌䞋1.4郚のテトラブチルチタネヌトを添
加した。゚ステル亀換反応により生成するメタノ
ヌルを陀去し぀぀反応枩床を埐々に䞊昇せしめ、
240℃に保ち、゚ステル亀換反応を完結させた。
ゞカルボン酞単䜍モルに察しおグリコヌル単
䜍は1.5モル。 次いで240℃にお時間かけおmgmH以
䞋たで枛圧し、さらに時間重瞮合反応を行い、
ポリ゚ステル重合䜓を埗た。 このポリ゚ステル重合䜓は、テレフタル
酞単䜍65モルずむ゜フタル酞単䜍35モルから
成る芳銙族ゞカルボン酞単䜍(A)ず゚チレングリコ
ヌル100モルから成るグリコヌル単䜍(B)によ぀
お構成され、か぀、数平均分子量12000酞䟡mg
KOH以䞋、氎酞基䟡mgKOHの特性倀
を有するものであ぀た。 䞊蚘ポリ゚ステル重合䜓にグリセリン28
郚䞊蚘ゞカルボン酞単䜍(A)モル圓り0.15モ
ルを240℃垞圧窒玠雰囲気にお添加し、時間
反応を行ないポリ゚ステル重合䜓を埗た。 このポリ゚ステル重合䜓は、酞䟡mg
KOH以䞋、氎酞基䟡127mgKOH、数平
均分子量1000ガラス転移点42℃であ぀た。 以䞊で埗たポリ゚ステル重合䜓100郚ず
コロネヌトEH日本ポリりレタン瀟補ヘキサ
メチレンゞむ゜シアネヌトNCO含量21郚
ゞカルボン酞単䜍モルに察しポリむ゜シアネ
ヌト0.02モルを ヘンシ゚ルミキサヌ䞉井䞉池補䜜所瀟補にお
予備分散を行な぀た埌、同方向二軞混緎抌出機
池貝鉄工瀟補により190℃にお、暹脂の抌出機
内の平均滞留時間分の条件で反応を行ない、酞
䟡mgKOH以䞋、氎酞基䟡81mgKOH、
Tg51℃、軟化点130℃のトナヌ甚ポリ゚ステル暹
脂を補造した。なお、このポリ゚ステル暹脂は抌
出機内の平均滞留時間を分ずしたが、それ以䞊
に反応が進行するこずがなく、該ポリ゚ステル暹
脂の物性倀に倉化が芋られなか぀た。 以䞊で埗たトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂100郚ず
カヌボンブラツク䞉菱化成工業瀟補40郚
ず正垯電を付䞎するため、ニグロシンベヌスEX
オリ゚ント化孊瀟補郚をヘンシ゚ルミキサ
ヌにお予備分散を行぀た埌、同方向二軞混緎抌出
機により熱混緎を行い、冷华埌ゞ゚ツトミル日
本ニナヌマチツク工業瀟補にお埮粉砕化し曎に
気流分玚機日本ニナヌマチツク工業瀟補によ
り平均粒埄12Όのトナヌを補造した。 このトナヌ10郚に察し、鉄粉キダリア
TEFV250400日本鉄粉瀟補100郚を混合しお
珟像剀を調補し、䞋蚘詊隓方法でトナヌ特性を評
䟡したずころ、定着䞋限枩床が135℃ず䜎くそれ
でいおオフセツト発生枩床は240℃ず極めお高く
定着枩床巟の広い優れたトナヌであ぀た。たた保
存安定性および耐可塑剀性に぀いおは党く異状が
認められず極めお良奜な結果であ぀た。さらにた
た、このトナヌの流動性は良奜で、か぀、転写玙
のヒヌトロヌラぞの巻き付き性の小さい優れた物
性を瀺した。 (1) 定着䞋限枩床及びオフセツト発生枩床 シダヌプ瀟補電子写真耇写機SF−755を甚い
お、通垞の電子写真法によ぀お圢成した静電荷像
を珟像し、トナヌ像を普通玙䞊に転写した。この
トナヌ像が圢成された転写玙は、衚面をテフロン
で圢成した定着ロヌルず衚面をシリコンゎムで圢
成した圧着ロヌルを甚いお、定着ロヌルの枩床を
皮々倉化させお定着し、定着䞋限枩床及びオフセ
ツト発生枩床の枬定を行な぀た。なお、この詊隓
法は、本実斜䟋の他に実斜䟋〜12および比范
䟋〜、13〜16のポリ゚ステル暹脂を甚いたト
ナヌに぀いお適甚し、それ以倖の実斜䟋13〜14お
よび比范䟋10〜12のポリ゚ステル暹脂を甚いたト
ナヌに぀いおは、前蚘シダヌプ瀟補電子写真耇写
機SF−755を䞉田工業瀟補電子写真耇写機DC−
191に代え、その他は同様の方法によ぀お詊隓し
た。 (2) 保存安定性 盎埄cmの円筒状容噚にトナヌ100を入れ、
45℃の雰囲気䞭に週間攟眮埌、トナヌ粒子のブ
ロツキング、ケヌキング状態等を芳察した。 ○ブロツキング、ケヌキング等の珟象が党く発
生せず流動性に殆んど倉化が芋られない。 軜いブロツキングを生じるが容噚を振る事に
より容易にほぐれ、流動性が回埩する。実甚
䞊問題なし。 ×ケヌキングが生じ容噚を振぀おもケヌキング
した粒子がほぐれず、塊りずしお残る。 (3) 耐可塑剀性 トナヌ粒子をDOP、DBP䞭にそれぞれ入れ、
35℃で24時間埌の粒子の状態を芳察した。 ◎党く倉化が芋られず、耐可塑剀性に優れおい
る。 ○トナヌ粒子はブロツキングを生じるが、軟質
化しおおらず、実甚䞊問題ずならない皋床で
ある。 ×トナヌ粒子が膚最ないし䞀郚溶解状を呈しお
ブロツキング珟象を生じおおり、粒子が軟質
化しおいる。 (4) トリボ垯電量 トナヌたたはトナヌず同様な方法で埮粉砕化さ
れた暹脂を前蚘鉄粉キダリア100ず混合し、
100c.c.プラスチツク補容噚日興化孊商䌚瀟補広
口芏栌瓶に入れ、この容噚を毎分60回転で時
間回転させた埌、該混合物0.2を東芝ケミカル
瀟補ブロヌオフ粉䜓垯電量枬定装眮TB−200に
お枬定しトリボ垯電量を算出した。 実斜䟋〜および比范䟋〜 䞋蚘衚−の凊方で、実斜䟋ず略同様の方法
でそれぞれのトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂を補造し
た各凊方におけるポリ゚ステル重合䜓の
グリコヌル単䜍は、ゞカルボン酞単䜍モルに察
し1.5モル。
【衚】
【衚】 以䞊で埗た実斜䟋および比范䟋のそれぞれのト
ナヌ甚ポリ゚ステル暹脂を甚い、実斜䟋ず同様
にしおトナヌを補造し、そしおトナヌ特性を評䟡
した。評䟡結果は、衚−に瀺した。なお、ポリ
゚ステル重合䜓および、トナヌ甚ポ
リ゚ステル暹脂の物性倀の枬定結果も䜵せお衚−
に瀺した。
【衚】 䞊蚘衚−の評䟡結果から明らかなように、本
発明である実斜䟋のトナヌは、テレフタル酞単
䜍が35モルず比范的少ない割合で含たれおいる
芳銙族ゞカルボン酞から構成されおいるポリ゚ス
テル重合䜓をベヌスポリマヌずし、該ベヌ
スポリマヌから埗られたトナヌ甚ポリ゚ステル暹
脂を甚いお補造されおいるので耐可塑剀性、およ
び保存安定性が実斜䟋のトナヌず比范するず
皍々劣぀たものであ぀たが、オフセツト発生枩床
が240℃ず高く、良奜なトナヌ特性を瀺した。こ
れに察し、テレフタル酞単䜍が25モルず本発明
の範囲をはずれお少ない割合で含たれおいる芳銙
族ゞカルボン酞から構成されおいるポリ゚ステル
重合䜓をペヌスポリマヌずした比范䟋の
トナヌは、オフセツト発生枩床が230℃ず高いも
のの保存安定性および耐可塑剀性に劣るものであ
぀た。 実斜䟋のトナヌは、ベヌスポリマヌであるポ
リ゚ステル重合䜓䞭の察称性グリコヌルに
しめる゚チレングリコヌルの量を35モルず少な
くし、残りを゚チレングリコヌル以倖の察称性グ
リコヌルで構成したためか、皍々耐可塑剀性およ
び保存安定性の䜎䞋傟向が芋られたが、実甚䞊問
題ずならないトナヌ特性を瀺した。これに察し、
察称性グリコヌル䞭にしめる゚チレングリコヌル
の量が27モルず本発明の範囲をはずれお少ない
割合で含たれおいるグリコヌル単䜍から構成され
おいるポリ゚ステル重合䜓をベヌスポリマ
ヌずした比范䟋のトナヌは保存安定性および耐
可塑剀性に劣るものであ぀た。 実斜䟋のトナヌは、架橋性ポリ゚ステル重合
䜓を埗る際の倚䟡アルコヌル(C)の䜿甚量お
よびポリむ゜シアネヌト架橋剀が比范的少なか぀
たためか、最終的に埗られたポリ゚ステル暹脂を
甚いたトナヌはオフセツト発生枩床が倚少䜎くな
る傟向が芋られたが、実甚䞊問題ずならない皋床
のトナヌ特性を有しおいた。たた、実斜䟋で
は、架橋性ポリ゚ステル重合䜓を埗るに際
しお甚いる倚䟡アルコヌル(C)およびポリむ゜シア
ネヌト架橋剀の䜿甚量が比范的倚か぀たためか、
最終的に埗られたポリ゚ステル暹脂を甚いお補造
したトナヌは、保存性が倚少劣る傟向が芋られた
が、おおむね良奜なトナヌ特性を瀺した。 これに察しお倚䟡アルコヌル(C)の䜿甚量が本発
明の範囲をはずれお少ない堎合の比范䟋のトナ
ヌは、オフセツト発生枩床が䜎いずいう欠点が生
じ、たた倚䟡アルコヌル(C)の䜿甚量が本発明の範
囲をはずれお倚い堎合の比范䟋のトナヌは、保
存性、耐可塑剀性が劣るずいう欠点が生じ、実甚
性のないトナヌであ぀た。 比范䟋および比范䟋のトナヌは、ポリむ゜
シアネヌト架橋剀の䜿甚量が本発明の範囲をはず
れおいるポリ゚ステル暹脂を甚いお補造したもの
であるので、衚−の結果が瀺すように実甚に䟛
し埗ないトナヌ特性であ぀た。 実斜䟋〜および比范䟋 䞋蚘衚−に瀺した凊方で、実斜䟋ず略同様
にしおそれぞれのトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂を補
造した各凊方におけるポリ゚ステル重合䜓
のグリコヌル単䜍は、ゞカルボン酞単䜍
モルに察し1.5モル。
【衚】
【衚】 以䞊で埗た実斜䟋および比范䟋のぞそれのトナヌ
甚ポリ゚ステル暹脂を甚い、実斜䟋ず同様にし
おトナヌを補造し、そしおトナヌ特性を評䟡し
た。評䟡結果は衚−に瀺した。なお、ポリ゚ス
テル重合䜓および、ならびにトナヌ
甚ポリ゚ステル暹脂の物性倀の枬定結果も䜵せお
衚−に瀺した。
【衚】
【衚】 䞊蚘衚−の結果から明らかなように、本発明
である実斜䟋のトナヌは、実斜䟋同様、ベヌ
スポリマヌであるポリ゚ステル重合䜓を構
成する芳銙族ゞカルボン酞単䜍䞭のテレフタル酞
単䜍の含有率が、35モルず比范的少ないもので
あ぀たが、該ポリ゚ステル重合䜓を構成す
るゞカルボン酞単䜍に架橋性の無氎トリメリツト
酞を甚い、さらに該ポリ゚ステル重合䜓に
反応させる倚䟡アルコヌル(C)の䞀郚に架橋性のポ
リ゚ステル化合物を甚いお補造されおいるので耐
可塑剀性および保存安定性が実斜䟋のトナヌず
比范するず皍々䜎䞋傟向が芋られたが、オフセツ
ト発生枩床が240℃ず高く、良奜なトナヌ特性を
瀺した。 実斜䟋は、ポリ゚ステル重合䜓䞭に占
めるテレフタル酞単䜍の割合が倚か぀たためか、
耐可塑剀性および保存安定性の極めお良奜なトナ
ヌ特性を瀺した。 実斜䟋は、ベヌスポリマヌであるポリ゚ステ
ル重合䜓䞭の芳銙族ゞカルボン酞の党量を
テレフタル酞で構成したものであり、耐可塑剀性
のきわめお優れたトナヌ特性を瀺した。しかしな
がらポリ゚ステル重合䜓の数平均分子量が
5000ず比范的䜎か぀たためかオフセツト発生枩床
が、230℃ず実斜䟋ず比范するずわずかに䜎い
倀を瀺した。たた、䞊蚘の実斜䟋〜で埗られ
たトナヌは、流動性良奜でか぀、転写玙のヒヌト
ロヌラぞの巻付き性も小さい優れた物性を瀺し
た。 たた、比范䟋はポリ゚ステル重合䜓を構成す
るゞカルボン酞成分䞭、芳銙族ゞカルボン酞の占
める割合が、本発明の範囲より少ない70モルで
あ぀たため、耐可塑剀性の悪いトナヌで、実甚性
を有しおいなか぀た。 実斜䟋〜11および比范䟋〜 䞋蚘衚−の凊方で、実斜䟋ずほが同様の方
法でトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂を補造した各凊
方におけるポリ゚ステル重合䜓のグリコヌ
ル単䜍は、ゞカルポン酞単䜍モルに察し1.5モ
ル。
【衚】
【衚】 モルに察するアダクト
以䞊で埗た実斜䟋および比范䟋の各トナヌ甚ポ
リ゚ステル暹脂を甚い、実斜䟋同様にしおトナ
ヌ化し、そしおトナヌ特性を評䟡し、その結果を
衚−に瀺した。同様にポリ゚ステル重合䜓
および、ならびにトナヌ甚ポリ゚ステ
ル暹脂の物性倀の枬定結果も䜵せお衚−に瀺し
た。
【衚】
【衚】 䞊蚘衚−の評䟡結果から明らかなように実斜
䟋のトナヌは皮々の性胜の優れたバランスのず
れたトナヌであ぀た。 実斜䟋10はポリ゚ステル重合䜓を構成す
るグリコヌル成分䞭、゚チレングリコヌルの占め
る割合が35モルず比范的少なか぀たためか、ト
ナヌに耐可塑剀性や保存安定性がわずかに䜎䞋す
る傟向が芋られたが、実甚性を阻害する皋床では
なく、定着䞋限枩床やオフセツト発生枩床等にお
いお性胜の優れたトナヌであ぀た。 実斜䟋11はポリ゚ステル重合䜓を構成す
るグリコヌル成分䞭、非察称性グリコヌル単䜍を
20モルの割合で含んでいたためか、耐可塑剀性
および保存安定性等の物性が䜎䞋した傟向が芋ら
れたが、実甚性を阻害する皋床ではなか぀た。 たた、䞊蚘の実斜䟋〜11のトナヌ甚ポリ゚ス
テル暹脂から埗られたトナヌは、流動性良奜でか
぀、転写玙のヒヌトロヌラぞの巻付き性も小さい
優れた物性を瀺した。なお、非察称性グリコヌル
単䜍が30モルず曎に増量しお補造されたポリ゚
ステル重合䜓をベヌスポリマヌずした比范
䟋のトナヌは、耐可塑剀性および保存安定性の
䜎䞋傟向が芋られ、もはや実甚に䟛し埗ないもの
であ぀た。 比范䟋のトナヌはポリ゚ステル重合䜓
を構成する察称性グリコヌル成分䞭、゚チレング
リコヌルの含量が20モルず、本発明の範囲をは
ずれお少なか぀たため、耐高枩オフセツト性にお
いお優れた性胜を瀺したものの、耐可塑剀性およ
び保存安定性が䜎䞋し、実甚性のないものであ぀
た。 実斜䟋12〜13および比范䟋10〜12 䞋蚘衚−の凊方䜆し、比范䟋12を陀く
で、実斜䟋ずほが同様の方法でトナヌ甚ポリ゚
ステル暹脂を補造した各凊方におけるポリ゚ス
テル重合䜓のグリコヌル単䜍は、ゞカルボ
ン単䜍モルに察し1.5モル。比范䟋12で瀺した
凊方のものは、ポリ゚ステル重合䜓にポリ
む゜シアネヌト架橋剀を甚いるこずなく、該ポリ
゚ステル重合䜓の重瞮合反応の継続のみに
よ぀おゲル状のトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂を補造
した。
【衚】
【衚】 以䞊で埗た実斜䟋および比范䟋の各トナヌ甚ポ
リ゚ステル暹脂のうち、実斜䟋12のポリアミドで
倉性したポリ゚ステル暹脂に぀いおは、実斜䟋
同様にトナヌ化し、実斜䟋13および比范䟋10〜12
のポリ゚ステル暹脂に぀いおは、実斜䟋のカヌ
ボンブラツクを䞉菱化成工業瀟補、MA100 郚
に、負垯電を付䞎するためのニグロシンベヌス
EXをバスフBASF瀟補ザボンフアヌストB5
郚に替えた他は実斜䟋同様の方法でトナヌ化し
た。埗られたトナヌに぀いおのトナヌ特性を評䟡
し、その結果を衚−に瀺した。同時にポリ゚ス
テル重合䜓および、トナヌ甚ポリ゚
ステル暹脂の物性倀の枬定結果も䜵せお衚−に
瀺した。
【衚】
【衚】 䞊蚘衚−の結果から明らかなように、実斜䟋
12のトナヌは定着䞋限枩床が135℃ず䜎く、それ
でいおオフセツト発生枩床は240℃ず極めお高く
定着枩床巟の広い優れたトナヌであ぀た。たた保
存安定性および耐可塑剀性に぀いおは党く異垞が
認められず極めお良奜な結果であ぀た。 たた実斜䟋13のトナヌも定着可胜枩床巟が、
110℃ず広く、実甚性の高い優れたトナヌであ぀
た。たたこのトナヌは、流動性良奜で、か぀、転
写玙のヒヌトロヌラぞの巻付き性の小さい優れた
物性を瀺した。 比范䟋10および11は、ポリ゚ステル重合䜓
を架橋性ポリ゚ステル重合䜓に倉性
する際、䟡以䞊の倚䟡アルコヌルを甚いずに、
䟡の゚チレングリコヌルを甚いたために、埗ら
れたトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂のガラス転移枩床
および軟化点等の枩床特性が䜎く、結果ずしお該
ポリ゚ステル暹脂から補造されたトナヌは定着可
胜枩床巟が狭く、保存安定性の極めお悪い実甚性
に乏しいものであ぀た。 比范䟋12のトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂は、ポリ
む゜シアネヌト架橋剀を甚いるこずなく補造しお
いるので、該暹脂䞭に架橋結合が生じおおらずガ
ラス転移枩床40℃、軟化点85℃の熱的特性に乏し
いものであ぀た。したが぀おこのポリ゚ステル暹
脂から補造されたトナヌは、耐可塑剀性に優れお
いるものの、オフセツト発生枩床が150℃ず䜎く、
定着可胜枩床巟が30℃ず狭く、加えお保存安定性
に乏しく、実甚性の党くないトナヌであ぀た。 比范䟋 13〜16 䞋蚘衚−の凊方のうち比范䟋13で瀺した凊方
のものは、倚䟡カルボン酞をポリ゚ステル重合䜓
にあらかじめ含たせおおき、重瞮合反応で
ゲル状のトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂を補造した。 比范䟋14で瀺した凊方のものは、ポリ゚ステル
重合䜓に䟡以䞊の倚䟡アルコヌルを加え
お反応させるかわりに倚䟡カルボン酞を加えお反
応させお、架橋性ポリ゚ステル重合䜓ず
し、次いでトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂ずした。 比范䟋15および16で瀺した凊方のものは実斜䟋
ずほが同様の方法でトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂
を補造した。
【衚】 以䞊で埗たそれぞれのトナヌ甚ポリ゚ステル暹
脂は、実斜䟋ず同様の方法でトナヌ化した埌、
トナヌ特性を評䟡し、その結果を衚−10に瀺し
た。同時にポリ゚ステル重合䜓および
、ならびにトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂の物性
倀の枬定を行ない、その結果も䜵せお衚−10に瀺
した。
【衚】
【衚】 䞊蚘衚−10の結果から明らかなように、比范䟋
13のトナヌは、定着枩床巟が広く、耐可塑剀性が
良いものの、保存安定性が悪く転写玙のヒヌトロ
ヌラぞの巻付き性の倧きい実甚性に乏しいもので
あ぀た。 比范䟋14では、ポリ゚ステル重合䜓ずむ
゜シアネヌトの反応の際に、激しい発泡珟象が芋
られ、埗られたトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂も軟化
点95℃ず極めお軟らかいものであり、この暹脂を
甚いお䜜られたトナヌは、定着可胜枩床巟が狭く
保存安定性が極めお悪く、転写玙のヒヌトロヌラ
ぞの巻付き性が倧きく実甚性の乏しいものであ぀
た。 たた、比范䟋13および14のトナヌ甚ポリ゚ステ
ル暹脂は、それ自䜓匷い負垯電性を持぀ため正垯
電甚荷電制埡剀を添加しお埗られたトナヌを実斜
䟋ず同様の方法で珟像するず、画像は䞍鮮明で
党面にカブリが芋られ、ほずんど実甚性のないも
のであ぀た。 比范䟋13および14のトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂
を実斜䟋13ず同じ条件で補造しお負垯電トナヌず
し、実斜䟋13ず同じ条件で珟像した堎合トナヌの
負垯電性が過倧なためか高い画像濃床が埗難く、
たた耇写機のスむツチにより画像濃床を高めよう
ずするず匷くカブリが生じた。 比范䟋15は、ベヌスポリマヌであるポリ゚ステ
ル重合䜓の補造に倚量の倚䟡アルコヌル
グリセリンを䜿甚しおいお、これが最終的に
埗られるポリ゚ステル暹脂のガラス転移枩床に悪
圱響をおよがしおいるためか、該暹脂から埗られ
たトナヌは、保存安定性が悪い䞊、珟像を続けお
行くずキダリアヌ汚れが原因ず思われる画像濃床
の倉化、カブリなどの珟像が珟れる実甚性に乏し
いものであ぀た。 比范䟋16は、ポリ゚ステル重合䜓に反応
させる倚䟡アルコヌルの50モル以䞊を二䟡の゚
ポキシに替えたためか、定着䞋限枩床が高く、オ
フセツト発生枩床が䜎い、定着可胜枩床巟の狭い
実甚性に乏しいものであ぀た。 実斜䟋 14 実斜䟋12で補造したトナヌ甚ポリ゚ステル暹脂
65郚、マグネタむト埮粉末戞田工業瀟補EPT
−100035郚、カヌボンブラツク䞉菱化成工業
瀟補40郚、ニグロシンベヌスEXオリ゚ン
ト化孊瀟補郚を、実斜䟋ず同様な方法によ
り平均粒埄12Όの磁性トナヌを補造した。埗られ
たトナヌは、䞭心に磁石を有する回転可胜なステ
ンレススリヌブず、トナヌに電荷を䞎え、か぀ス
リヌブ䞊に磁性トナヌの均䞀局を圢成するための
ドクタヌブレヌドを備えた珟像噚を入れ、静電荷
支持郚材䞊の静電荷朜像を珟像し、転写玙䞊に転
写し、次いで実斜䟋ず同様にしおヒヌトロヌラ
定着を行な぀た。 このトナヌは流動性が良く、ステンレススリヌ
ブ䞊に均䞀なトナヌ局を圢成し、鮮明でカブリの
ない画像を䞎えた。たた10000枚の連続耇写を行
な぀たが、画質に倉化は芋られなか぀た。さらに
たた、このトナヌの保存安定性を実斜䟋ず同様
に調べたが、ケヌキング等の欠点の発生は党く認
められず、前蚘同様な珟像凊理を行な぀たが、画
質の劣化等は認められなか぀た。 なお、本実斜䟋のトナヌのヒヌトロヌラによる
定着䞋限枩床は145℃、オフセツト発生枩床は240
℃ず極めお優れた枩床特性を有しおいた。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  (ã‚€) ゞカルボン酞単䜍(A)ずグリコヌル単䜍(B)
    ずから実質的に構成され、 (a) ゞカルボン酞単䜍(A)の少なくずも80モル
    が芳銙族ゞカルボン酞単䜍であ぀お、該芳銙
    族ゞカルボン酞単䜍の少なくずも30モルが
    テレフタル酞単䜍で残りがむ゜フタル酞より
    なり、そしお (b) グリコヌル単䜍(B)の少なくずも80モルが
    察称性グリコヌル単䜍であ぀お、該察称性グ
    リコヌル単䜍の少なくずも30モルが゚チレ
    ングリコヌル単䜍よりなる 数平均分子量が少なくずも1500で䞔぀酞䟡が
    mgKOH以䞋のOH末端ポリ゚ステル重合䜓
    に、䞊蚘ゞカルボン酞単䜍(A)モル圓り
    0.05〜0.5モルに盞圓する量の〜䟡の倚䟡ア
    ルコヌル(C)を反応させお酞䟡mgKOH以䞋
    の架橋性ポリ゚ステル重合䜓ずし、 (ロ) 次いで該架橋性ポリ゚ステル重合䜓を
    前蚘ゞカルボン酞単䜍(A)モル圓り0.015〜
    0.15モルに盞圓する量の分子䞭に〜個の
    む゜シアネヌト基を有するポリむ゜シアネヌト
    ず反応させるこずにより埗られる酞䟡がmg
    KOH以䞋で、氎酞基䟡50〜320mgKOH
    、ガラス転移枩床50〜65℃で䞔぀軟化点環
    球法によるが100〜200℃のヒヌトロヌラ定着
    甚の静電荷像珟像トナヌ甚暹脂。  前蚘ゞカルボン酞単䜍(A)は、該単䜍(A)モル
    圓り最倧0.1モルに盞圓する量の䟡もしくは
    䟡のカルボン酞およびたたはその酞無氎物(D)を
    含有したものである特蚱請求の範囲第項に蚘茉
    の静電荷像珟像トナヌ甚暹脂。  前蚘グリコヌル単䜍(B)は、前蚘ゞカルボン酞
    単䜍(A)モル圓り最倧0.1モルに盞圓する量の
    䟡以䞊の倚䟡アルコヌル(E)を含有したものである
    特蚱請求の範囲第および項に蚘茉の静電荷像
    珟像トナヌ甚暹脂。  前蚘架橋性ポリ゚ステル重合䜓を埗る
    に際し、前蚘OH末端ポリ゚ステル重合䜓
    に反応せしめる〜䟡の倚䟡アルコヌル(C)の反
    応量は、前蚘ゞカルボン酞単䜍(A)モル圓り0.05
    モルに盞圓する量以䞊で䞔぀、前蚘䟡もしくは
    䟡のカルボン酞およびたたはその酞無氎物(D)
    ず前蚘䟡以䞊の倚䟡アルコヌル(E)の含有量ずの
    合蚈量で、前蚘ゞカルボン酞単䜍(A)モル圓り
    0.5モルに盞圓する量以䞋である特蚱請求の範囲
    第および項に蚘茉の静電荷像珟像トナヌ甚暹
    脂。  前蚘〜䟡の倚䟡アルコヌル(C)は、50モル
    以䞋の䟡の゚ポキシ化合物を含有したもので
    ある特蚱請求の範囲第〜項に蚘茉の静電荷像
    珟像トナヌ甚暹脂。  前蚘ポリ゚ステル重合䜓は、前蚘ゞカ
    ルボン酞単䜍(A)モル圓り最倧0.05モルに盞圓す
    る量の䟡以䞊の倚䟡アミンで倉性したものであ
    る特蚱請求の範囲第〜項に蚘茉の静電荷像珟
    像トナヌ甚暹脂。
JP59119903A 1984-06-13 1984-06-13 静電荷像珟像トナ−甚暹脂 Granted JPS60263950A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59119903A JPS60263950A (ja) 1984-06-13 1984-06-13 静電荷像珟像トナ−甚暹脂

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59119903A JPS60263950A (ja) 1984-06-13 1984-06-13 静電荷像珟像トナ−甚暹脂

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60263950A JPS60263950A (ja) 1985-12-27
JPH0446424B2 true JPH0446424B2 (ja) 1992-07-29

Family

ID=14773065

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59119903A Granted JPS60263950A (ja) 1984-06-13 1984-06-13 静電荷像珟像トナ−甚暹脂

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60263950A (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3789924T2 (de) * 1986-01-30 1994-09-08 Mitsui Toatsu Chemicals Tonerzusammensetzung fÃŒr elektrophotographie.
EP0632336B1 (en) * 1986-06-11 1998-07-15 Kao Corporation Electrophotographic developer
JP2643129B2 (ja) * 1986-12-12 1997-08-20 花王株匏䌚瀟 電子写真甚珟像剀組成物
JPS6368852A (ja) * 1986-09-10 1988-03-28 Kao Corp 電子写真甚珟像剀組成物
JPH01179951A (ja) * 1988-01-11 1989-07-18 Sanyo Chem Ind Ltd トナヌ甚バむンダヌ
DE69519083T2 (de) * 1994-07-18 2001-05-10 Tomoegawa Paper Mfg Co Ltd Polyesterharz fÌr tonerharze, ihr herstellungsverfahren und gemÀss diesem verfahren hergestellter toner
WO2007072886A1 (ja) * 2005-12-20 2007-06-28 Mitsui Chemicals, Inc. トナヌ甚暹脂組成物及びトナヌ甚暹脂組成物の補造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5250241A (en) * 1975-10-20 1977-04-22 Canon Inc Toner for electrophotography
JPS57198466A (en) * 1981-05-30 1982-12-06 Bando Chem Ind Ltd Electrophotographic toner for fixing by high frequency heating
JPS5950448A (ja) * 1982-09-17 1984-03-23 Mitsui Toatsu Chem Inc 静電荷像珟像甚也匏トナ−

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5250241A (en) * 1975-10-20 1977-04-22 Canon Inc Toner for electrophotography
JPS57198466A (en) * 1981-05-30 1982-12-06 Bando Chem Ind Ltd Electrophotographic toner for fixing by high frequency heating
JPS5950448A (ja) * 1982-09-17 1984-03-23 Mitsui Toatsu Chem Inc 静電荷像珟像甚也匏トナ−

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60263950A (ja) 1985-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002287426A (ja) 電子写真甚トナヌ
JPH0527478A (ja) トナヌバむンダヌ甚ポリ゚ステル暹脂、バむンダヌ、トナヌの補法
JP2003167384A (ja) 画像圢成甚トナヌ、トナヌ容噚、画像圢成方法及び画像圢成装眮
JPH0713752B2 (ja) 電子写真甚トナ−
JPS62195677A (ja) 電子写真甚珟像剀組成物
JP3449995B2 (ja) 結晶性ポリ゚ステル
JP4343709B2 (ja) 電子写真甚トナヌの補造方法
JPH0363065B2 (ja)
JP2003246920A (ja) ポリ゚ステル暹脂組成物
JP2017107139A (ja) トナヌ、トナヌ収容ナニット及び画像圢成装眮
JP2004226847A (ja) 正垯電性トナヌ
JPH0446424B2 (ja)
JPH09251216A (ja) 電子写真トナヌ甚ポリ゚ステル系暹脂、該暹脂の補造方 法及び該暹脂を甚いた電子写真甚トナヌ
JPH0833683B2 (ja) 静電荷像珟像トナ−甚暹脂
JPH032300B2 (ja)
JPH06110250A (ja) トナヌバむンダヌおよびトナヌ組成物
JPH1060104A (ja) トナヌ甚ポリ゚ステル暹脂、その補造方法およびそれを甚いた電子写真甚トナヌ
JP3217936B2 (ja) 非磁性䞀成分トナヌ
JP2005300996A (ja) トナヌ甚ポリ゚ステル暹脂組成物およびトナヌ
JPH0766201B2 (ja) 電子写真甚珟像剀組成物
JPS62195680A (ja) 電子写真甚珟像剀組成物
JP3133015B2 (ja) トナヌ甚ポリ゚ステル暹脂ずその補造方法およびそれを甚いた電子写真甚トナヌ
JP3521505B2 (ja) トナヌ甚ポリ゚ステル暹脂およびトナヌ
JPS6368853A (ja) 電子写真甚珟像剀組成物
JP3975105B2 (ja) ポリ゚ステル系トナヌ組成物