JPH0444726B2 - - Google Patents

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JPH0444726B2
JPH0444726B2 JP59125431A JP12543184A JPH0444726B2 JP H0444726 B2 JPH0444726 B2 JP H0444726B2 JP 59125431 A JP59125431 A JP 59125431A JP 12543184 A JP12543184 A JP 12543184A JP H0444726 B2 JPH0444726 B2 JP H0444726B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は特に高解像度の光学的走査文書読取装
置及び光学的走査プリンタに適した光学的走査装
置に係る。
〔従来技術〕
振動鏡や回転鏡の様な機械的走査装置を用いる
レーザ・スキヤナ等の光学スキヤナにおいて、走
査の精度を保証することが重要な技術的課題であ
る。例えば、運動する機械部品を用いる装置にお
いては、機械的振動が生じる。上記の装置におい
ては可動鏡が用いられるのみならず、スキヤナは
ドラム駆動機構でもつて回転するドラム上の媒体
を横切つて走査を行なう。その振動によつてビー
ムが直線路からのブレを生じる。その様なブレを
横切る方向又は交差方向ビーム・エラーと称す
る。
機械的走査を行なうための好ましい装置は回転
多面鏡である。全ての鏡面が正確に対応する配向
状態を有するその様な鏡を作ることは極めて困難
であるので、僅少な鏡面チルト（傾斜）配向ミス
が生じ、ビームは正常な走査線から交差方向（横
断方向）にブレを生じ、ひいては各行の走査スペ
ースにおける抗し難い変動が生じる。
該問題点は従来から認識されており、その解決
策の一例がOptics and Laser Technology
（December1975）p.240のJ.Helmbergeret al.の
論文に示されている。そこに示される回転鏡装置
においては、回転鏡の各鏡面に関して鏡面チル
ト・エラーが判定され、各鏡面が反射を行なつて
いる時にビームに偏向エラー補正を導入する様に
補正機構がプログラムされている。この装置はこ
の様な特定のタイプのエラーに対して明らかに有
効であるが、各鏡面（各走査）に対してただ１つ
の補正値が用いられるだけであつて、その補正は
ダイナミツクではなく、振動の様な他の問題点を
補正できない。交差方向走査エラーの補正の解決
策が米国特許第4203672号明細書に示されている。
しかしながらこの場合も位置補正のために用いら
れるビーム位置検出が各走査毎に１度だけしか行
なわれない点で、本発明と比べてダイナミツクで
はない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の目的は上記従来技術の問題点を解決す
る事にあつて、交差方向ビーム・エラーのダイナ
ミツクな補正を行なう改良された手段を用いる走
査光ビーム装置を提供することにある。
走査動作を行なわせるために多鏡面を用いる場
合の問題の１つは鏡面スキユー（回転多鏡面の軸
まわりの鏡面の回転位置振動）である。通常この
効果は走査動作の開始点及び終了点のタイミング
を取るために用いられる走査開始点及び走査終了
点検出器によつて処理される。走査の速度並びに
走査の開始点及び終了点を判定するためのタイミ
ングを取つたパルスを生じる光学格子を介して得
られる信号によつて走査の速度をダイナミツクに
補正するための装置が従来提案されてきた。この
装置は例えば米国特許第3835249号明細書に開示
されている。
本発明はダイナミツクな走査路の制御と関連し
てダイナミツクな走査同期化を与え、従つて更に
集積化された経済的な方法で同期化を実施する技
術を提供するものである。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点を解決するために、本発明による光
ビーム走査装置には、各走査ラインの走査過程中
に走査ビームのブレを動的に補償するための全又
は半閉ループ制御による特定の補正装置を設けた
点に特徴がある。この補正装置は、走査ビームを
実質的に分割して得られた副走査ビームを利用し
ており；所望走査方向の光ビームに対しては平均
して実質的に均一な光学特性を呈するが交差方向
では平均して実質的に差異のある光学特性を呈す
る光学的パターンのマスクを含む検光手段を上記
副走査ビームの走査路の所定位置に配置し；副走
査ビームによる上記マスク上のパターンの走査に
応答して上区検光手段が走査ビームの交差方向に
おける逐次的な偏位を表わすエラー信号を発生
し、このエラー信号に応答して該偏位を減少させ
るよう走査ビームの交差方向を、各走査ラインの
走査過程中、動的に補正する手段を設けた閉ルー
プ制御系から構成されている。
マスクは、光学系に関して被走査面と等価関係
の位置、即ち副走査ビームを結像する共役像面に
配置されているので、被走査面における走査ビー
ムの交差方向の偏位、即ちブレ、が副走査ビーム
によるマスク面の走査に完全に反映される。マス
ク・パターンの例としては、透明領域と不透明領
域の境界が鋸歯状に規則的に配列されているパタ
ーンとか、光学的な濃度の大きい部分と小さい部
分が規則的に配列されているパターンが挙げられ
るが、これらのパターンに限定されるものではな
いことは勿論である。
〔実施例〕
第１図及び第２図は本発明に係る装置の夫々側
面から見た図及び底面から見た図である。第１図
及び第２図において、１０は光源（レーザを用い
るのが好ましい）、１１はレンズ、１２は回転多
面鏡、１４は結像用の光学系並びに１６は走査さ
れる像を担持する回転ドラムである。
１８は光分割器であつてこれによつて放射エネ
ルギーの一部が副ビーム２０（グラフテイキユー
ルマスク２２上に結像される）へ偏向される。グ
ラテイキユール（graticule）マスク２２を通過
した光は光検出器２４によつて検出される。グラ
テイキユール・マスク（以下マスクという）２２
の光学的特性の故に、光検出器２４によつて受信
した光学信号は走査ビームの交差方向のブレに応
答して変動する。検出器におけるこの信号の変動
は、補正装置３０へ供給される生成した補正信号
を生じる。復調装置２８へ、第２図の回路２６を
介して搬送される。装置３０は例えば電磁的に作
動する偏向装置であつて、レンズ１１を介してレ
ーザ１０から光ビームが透過する際に光ビームの
方向に横方向の補正を加えるために走査方向と平
行な軸まわりにプリズム３２を回転する様に接続
されている。回転プリズムを含む素子の組合せ体
を以下において副走査手段を称する。
第１図及び第２図の結像系は主ビーム及び副ビ
ームに共通であつて、該系は走査されるドラム１
６の表面に対応する面に主ビームの像を結像する
様に働らき、マスク２２は副ビームを結像する共
役像面に配置される。
マスク２２（光学的な濃度の大きい部分と小さ
い部分が規則的に配列されたパターンを含む）の
設計により、光検出器２４によつて検出される信
号は走査の速度ないし同期化と走査の方向を横切
る様に走査ビームを配置することを制御するため
に使用しうる一連のパルスである。走査機能の同
期化は回路２６から信号を受取り、クロツク・パ
ルス源３６からクロツク・パルスを受取る比較回
路３４を含む回路によつて行なう。比較回路３４
は上記２つの入力の比較に応答して補正信号を発
生する様に働らく。補正信号は位相補正装置即ち
同期化装置４０へ線３８を介して接続される。装
置４０は走査方向に垂直な軸まわりのプリズム４
２の回転によつて走査の位相補正を行なう様に動
作する。
走査速度及び走査ビームの位置は各走査におい
て光源１０からの光ビームの変調と正確に同期化
させる事が非常に重要である。第１図及び第２図
には図示してないが、本発明の装置は印刷に用い
ることも予定されており、光源１０からの放射を
変調させる何らかの手段が用いられることがあ
る。走査速度を物理的に変調させるのではなく、
比較回路３４の制御の下に変調データ速度を変え
てもよい。もしも光学読取装置としてこの走査ビ
ーム装置を用いるならば、読取機能との同期を維
持しなければならない。この場合、読取データ速
度は走査速度の物理的変更によるのではなく、回
路３４によつて制御しうる。
変調の即ち読取機能の同期化は以下において情
報転送の同期化と称する。
光源１０、多面鏡１２及び結像光学系１４を含
む所望の走査路に近接した走査路を有する走査光
ビームを生じる主走査装置として特徴付けること
ができる。マスク２２、光検出器２４及び変調装
置２８の組合せ体は光応答エラー感知手段として
特徴付けることができる。回転プリズム３２及び
このプリズムのための電磁変向モータ３０の組合
せは走査中に走査ビームの位置をダイナミツクに
補正するための副走査手段として特徴付けること
ができる。
結像光学系１４は単純なレンズではなく、例え
ば米国特許第3835249号明細書に示される様な複
雑な構造の光学系である。第１図において、マス
ク２２はドラム１６の表面における像の面に対応
する副ビームの共役結合面に配置されている。光
応答素子２４は相当大型である。これは全走査路
にまたがつて副走査の走査ビームをさえぎらなけ
ればならないからである。
しかしながら、マスク２２を透過した光を小型
の光応答デバイスに集光するために例えば放物面
鏡の様な種々の装置を用いうることはいうまでも
ない。
ビーム分割器１８は所望の比率で主ビームを透
過し、副ビームを偏向する反射鏡を用いてもよ
い。第２図において、ビーム分割器１８は図して
ない。
第３図はマスク２２の拡大図である。４６は光
が焦結されたスポツトを示す。スポツトは矢印４
８で示す様にマスク２２の中央線に沿つて走査さ
れる。スポツトがマスクに沿つて走査される場合
に画素の交差方向位置にエラーがないならば、そ
の画素はマスクの不透明領域の立上り端部及び立
下り端部の各々の中央点を横切つて進む。不透明
領域は斜線影で示されており、マスクの残部は実
質的に透明である。
走査スポツトの位置が図面において上方へ（走
査方向を横切つて）変位すると、マスクの透明部
分を透明するビームのパルスはパルス間の間隔に
関してより長いパルスとなる。もしも下方に変位
すると、パルスはより短くなる。照明信号のこの
変化が検出されて、走査におけるダイナミツクな
補正を行なう。第３図のマスクのパターンは鋸歯
状のパターンである。
第４図は第３図のマスクの変形例を示す。第４
図のパターンはマスクの一部を拡大して示したも
のである。一実施例においては、このマスクは副
ビームの全走査路にまたがるに十分な長さを有し
ている。一実施例においてその長さは約38cm（15
インチ）であり、2.54cm（１インチ）あたり５個
のマスク要素があり、よつてマスク全体で75個の
要素が存在する。
第４図において、所望の走査路を中央線５０で
示す。第４図におけるマスク要素は完全に相互の
要素から分離されている。グラテイキユール・マ
スクは走査部５０を横切る傾度を有する光学的濃
度（graded OD）を有するものといつてもよい。
第４図において各要素の光学濃度はその上部にお
いて小さく、各要素はより細い部分５２を有し、
その下部にはより高い濃度を呈する幅の広い部分
５４を有している。これは第３図の場合にもあて
はまる。第４図において、細い部分５２と広い部
分５４の間に傾斜部５６があり、所望の走査路５
０がその傾斜路を二分している。第３図及び第４
図において不透明領域及び透明領域を割り当てる
ことによつて得られる傾斜を有する光学濃度を示
したが、他の態様の傾度を有する光学濃度を用い
うることはいうまでもない。
第４図のグラテイキユール・パターンの利点の
１つは、走査が左から右へ行なわれる場合、走査
ビームが最初に当る各要素の先端部５８がほぼ真
直ぐな端部であるので、走査のタイミングを取る
ため並びに走査位相及び走査ビームの変調との間
の相関のために、走査位相エラー調整用の安定し
た信号が得られる点にある。
第５−１図、第５−２図、第５−３図、第５−
５図は、第４図のマスク・パターン上の副ビーム
の走査によつてエラー信号が生じる事例を説明す
る図である。第５−１図は高い位置を横断した場
合（SCAN HIGH）のエラー信号を、第５−２
図は、低い位置を横断した場合（SCAN LOW）
のエラー信号を、第５−３図は横断エラーが無い
場合（SCAN CORRECT）に発生される信号の
波形を示す。第５−４図はシステム・クロツクに
よつて得られる走査における位相エラーを決定す
るための及びシステム・クロツクと走査ビームを
同期させるためのパルス信号波形を示す。これは
走査ビームによる情報の転送を同期させるために
必要である。
第５−５図はグラテイキユール・マスクの走査
によつて得られる信号と第５−４図のシステム・
クロツク信号の比較によつて生じる位相エラー信
号の波形を示している。
第４図において、線６０は第４図の左側におい
て最初から所望の走査路５０から横断方向に上方
に変位した走査路を示す。同様に線６２は下方に
変位した走査路である。
第５−１図の高位値走査信号パターンは第４図
の走査路６０の場合に生じる。第４図に示される
様に、高位置走査路６０の場合、マスクを通る光
は第１の要素の部分５２の細い幅に対応する短い
期間においてのみさえぎられ第５−１図の波形に
おける低い信号６４を生じる。光は次の要素に当
つて信号６６を生じる時点までさえぎられない。
しかしながら、装置は敏速に高位置横断エラーを
補正する。第３の要素と走査線６０との交差点に
おいてビームがさえぎられた状態（遮断）が、第
３要素の傾斜部５６の中央点までの期間６８の間
継続する。これはＯ横断エラーを示す。残部の複
数回のビームの遮断は夫々等期間であつて、これ
はＯ横断エラーの継続状態を示す。実用装置にお
いては、まず補正のオーバ・シユートがあり、続
いて逆の補正が行なわれる。この補正の方式は補
正のメカニズム及び電子制御ループの両者によつ
て決定される。
低位置走査路６２の場合、第５−２図の７０に
おいて示す様に、走査ビームは第１の要素におい
てその全幅にまたがつて遮断される。走外線６２
が第２要素と交差する場合、走査ビームの遮断は
第５−２図の７２において示すように、その要素
のほとんど全幅にまたがつて継続する。しかしな
がら、再び装置は敏速に補正を行なう。第３の要
素における走査ビームの遮断は第５−２図の７４
において示すように継続する。この状態は標準期
間継続する。これは０エラーを示す。
第５−３図に示す様に、走査が正しい（横断エ
ラーがゼロ）場合、全ての走査ビームの遮断は、
第５−１図及び第５−２図における６８及び７４
に示す期間に対応する標準ゼロ・エラー期間であ
る。
マスクを走査することによつて発生される信号
遮断によつて生じる“キヤリヤ”（carrier）が横
方向変位エラーによつて位相変調されると考えて
もよい。各マスク・パターンの要素の小さい傾斜
部分５６の奏する利点は、所望の走査路からの非
常に僅少な偏り（ブレ）によつて大きな補正信号
が得られ、本装置が所望の正確な走査路を維持す
るのに非常に敏感である点にある。しかしなが
ら、もしもブレが傾斜部５６を超えるならば、細
い部分５２あるいは広い部分５４は右方向におい
て強い補正信号を生じる。第４図におけるマスク
要素の形状は複数の好ましいタイプのマスク要素
の或る特別な事例を示す。そのタイプの要素は、
要素の１方の側部から他方の側部へかけて測定し
た場合に幅における不均一な変化率を呈する様な
形状にされる。横断位置における変位に対する装
置の感度を助長するために最大の変化率が所望の
走査路を横切る中央部分（第４図の小さい傾度を
呈する部分５６に対応する）において生じる様に
設計される。
所望の通路はかならずしも第４図の５０に示す
様な直線である必要はない。第６図の５０Ａに示
す様な曲線であつてもよい。マスク要素は所望の
走査路を画定する様に配置される。例えば第６図
において、マスク要素は曲線路５０ktを画定する
曲線に沿つて配置される。
前述の様に、第５−４図は所望の通路５０に沿
う走査の速度を制御するための位相エラー補正信
号を決定するために用いる一連のクロツク・パル
スを示す。第５−５図の波形図は第２図の比較回
路において発生される位相エラー信号である。第
５−５図における各位相エラー・パルスは第５−
４図の対応するクロツク信号パルスの立上りに応
答したパルスを立上らせ、第４図の対応するマス
ク要素の次の前端部５８から生じた信号によつて
位相エラー・パルスを成端させることによつて決
まる。もしも走査の位相の同期がクロツクに関し
て正確でないならば、位相エラー・パルスの幅が
変化し、これに対応して走査の位相が第２図の比
較回路３４、装置４０及び４２によつて補正され
る。代替的な同期化方法は、走査の位相を調整す
る代りに比較回路３４からの出力によつてクロツ
ク位相を調整することである。
第７図はヘリウム・ネオン・レーザ光源を用
い、多面鏡１２によつて反射された後の走査ビー
ムの光路内に配置した音響光学変調器８０を有す
る第１図及び第２図の装置の変形例を示してい
る。音響光学変調器８０は常時は未変調の偏向さ
れないビーム８２を通過させるように働らく。こ
のビームは鏡１８Ａに入射され、マスク２２を通
過して光偏向器２４へ指向される。光学変調器
は、変調された主ビーム８４によつてドラムの表
面へのプリント情報の転送のためにビーム・エネ
ルギの一部を変調する様に働らく。この構成は音
響光学変調器においてエネルギが分割されるので
ビーム分割器を用いる必要がないという利点を有
する。
音響光学変調器８０への信号は、電圧制御発振
器８１からゲート９０及び増幅器８３を介して与
える。プリント変調信号（線９２を介してゲート
９０に与えられる）は、主ビームの所望の“オ
ン”及び“オフ”動作を行なわせる様にゲート９
０の動作を制御する。電圧制御発振器８１に対す
る電圧を制御するために電圧制御回路８８を用い
る。
第１図及び第２図の実施例における様に、第７
図の実施例は横断変位エラー検出回路２８と、機
械変位モータ３０及び該モータによつて回路され
るプリズム３２Ａよりなる補正成分とを含む。横
断変位エラー補正の代替手段として電圧制御回路
８８への破線で示す接続線８６を介して電圧制御
発振器８１への電圧入力を変調する様にエラー検
出回路２８からエラー補正信号が与えられてもよ
い。
接続８６が用いられる場合、成分３０，３２Ａ
は用いなくてもよい。この構成の利点は、上記２
つの成分を用いる事なく音響光学変調器によつて
非常に高速度でビームの横断エラー補正を実施で
きる点にある。しかしながら１つの問題がある。
それは、非偏向副ビーム８２が接続線８６を介し
て与えられる信号に応答して音響光学変調器によ
つて補正されないので、横断エラー補正が局部的
でありもはや全ループ・サーボでないことであ
る。しかしながら適当な設計によつて閉ループ技
法でなくとも非常に満足すべき結果が得られる。
ただし、第８図に示す様な閉ループを用いること
が好ましい。
前述の様に、第１図及び第２図の実施例におけ
る問題点の１つはマスク２２を透過した全ての光
を集合させる感光性の検出器２４を用いることで
ある。大型の光検出器を用いるのは自由度を欠
く。小型の光検出器を用いたい場合、放物面鏡あ
るいは光“パイプ”の様な全ての放射エネルギを
集合させる他の光学装置を用いることが必要とな
る。
第８図の実施例において、非変調ビーム８２は
障壁部９６へ指向されるだけである。音響光学変
調器８０にはドラム１６に送るべき信号を変調す
るための２種類の制御周波数信号が与えられる。
これらの信号は電圧制御発振器８１Ａによつて与
えられる。増幅器８３によつて増幅した２つの変
調周波数信号は音響光学変調器８０において２つ
の異なる偏向角を有する分離した変調ビーム９８
及び１００を生じる様に作用する。ビーム９８は
ドラム１６へ指向される主ビームとして用いる。
ビーム１００はマスク２２Ａへ指向させる副ビー
ムとして用いる。
この実施例において、グラテイキユール・マス
ク２２Ａは先に透明な領域として例示した領域が
反射性の領域であつて、不透明領域として示した
領域が低反射率の領域である様な逆反射体ででき
ている。よつてビームのエネルギはビーム１００
と同じ通路に沿つて選択的に反射し戻され、ビー
ム分割器１０２によつてフオトダイオード光応答
検出器２４Ａ（横方向エラー検出回路２８への信
号を生じる）へ指向される。同じ光学系及び回転
多面鏡１２を介してエネルギを反射し戻すことに
よつて、鏡１２の走査によつて拡散したビームの
エネルギがビーム分割器に再度集中されるととも
に光ダイオード２４Ａに集中される。
第８図の装置の大きな利点の１つは、ビーム９
８及び１００の両者の方向を偏向し、補正する様
に発振器８１Ａによつて発させられる２種の周波
数信号を調整する様に、回路２８からの横断エラ
ー信号が電圧制御発振器８１Ａを制御する点にあ
る。即ち、音響光学変調器は、閉ループ機能を備
えた装置におけるダイナミツクな横方向ビーム補
正装置として用いることができる。副ビーム位置
が調整されるので、エラー信号が減少し、過度の
補正が回避できる。摂動に対する応答を最適化す
るためにサーボ制御理論に関する通常の任意の技
法を適用することができる。
第９図は第１図及び第２図の実施例の変形例を
示す。固体ガリウム砒素レーザを用いる。主ビー
ム及び副ビーム用に別個の２つの光源を用いる。
主ビーム用レーザ１０Ｂ及び副ビーム用の１０Ｃ
は異なる波長で動作する。反射手段１０４によつ
て２つのビームを結合する。一体となつた２つの
ビームは光学系を通してビーム分割器１８Ｃまで
同じ通路をたどる。ビーム分割器１８Ｃは波長選
択フイルタであつて、主ビームを通し、副ビーム
を反射してマスク２２を介して光応答デバイス２
４へ指向させる。プリント・データ信号によつて
直接ガリウム砒素レーザを変調することができ
る。従つて、第８図の音響光学変調器８０は用い
ない。
第１０図は第１図及び第２図の装置の他の変形
例を示している。これもまたガリウム砒素レーザ
１０Ｄを用いている。レーザ１０Ｄはデユアル・
レーザであつて、実質的に同じ通路にわたつて平
行に進行する別個のビームを放出する様に動作し
うる。これらのビームは光検出器２４へマスク２
２を介して副ビームを反射することを可能ならし
めるように僅かな間隔をおいて分離されている。
第１１図は第１図及び第２図の実施例の他の変
形例を示している。主副両ビームはほぼ同し光路
を進行するが、相互に反対を向いている。主ビー
ムの主流源はガリウム砒素レーザ１０Ｂである。
しかしながら、副ビームは全マスク２２を照明す
る光源１０Ｅによつて得る。マスク２２全体の像
が反射鏡１８Ａによつて反射され、レンズ光学系
１４を通り、その像が回転多面鏡１２を用いてフ
オトダイオード２４Ｅを横切つて走査される。図
に示す様に、主副両ビームはほぼ同じ光路をたど
る様に相互に密接して配置される。ただし、各光
路の両端においてわずかに分離される。レンズ１
０８として示す様に、マスクの走査した像要素を
フオトダオード２４Ｅに焦光するために付加的な
光学素子を用いてもよい。
フオトダイオード２４Ｅを横切つて照明された
マスク２２の像を走査する結果は前述した装置に
おけるマスクの走査と同じである。その理由は、
走査の横方向変位によつて、この横方向の偏りを
補正する補正信号を生じるようにマスクからフオ
トダイオードにおいて受取られる信号が変位する
からである。
第７図、第９図、第１０図及び第１１図の実施
例の各々の大きな利点は、制御されたプリントの
ために主ビームにどの様な変調が存在しても、常
に副ビームが補正機能を呈する様に用いられる点
にある。一方、第１図及び第８図の実施例をプリ
ントに用いる場合、プリントされるべきでないス
ペースに関して主ビームが遮断変調される時には
副ビームが存在しない。従つて、横方向ビーム補
正のための第１図及び第８図の実施例の各々の動
作は、それらがプリント変調を行なうことなく単
に走査装置としてのみ用いる場合もしくはプリン
ト動作においてギヤツプが非常に少い場合に、よ
り信頼性が高い。
上記の本発明の実施例の全てにおいて、走査装
置として多面鏡を用いたが、ビームに走査動作を
行なわせるために振動ミラー、ホログラフ偏向器
もしくは他の偏向手段を用いうることはいうまで
もない。
第１図のビーム分割器１８、第９図のビーム分
割器１８Ｃ並びに第７図、第８図、第１０図及び
第１１図の反射手段１８Ａは補助的な反射手段で
ある。各例において、これらの補助的反射手段は
走査路のほぼ平行に、しかも主走査ビームの方向
に垂直に軸まわりにチルトされることはいうまで
もない。ほとんどの場合、このチルトの角度はほ
ぼ45度である。
〔発明の効果〕
本発明の走査及びスポツト位置補正装置の動作
波周数は相対的に高い。例えば回転多面鏡１２は
20000rpmの速度で回転し、20個の面を有する。
これによつて400000走査／分即ち6666走査／秒の
走査周波数が呈せられる。75個の要素を含むマス
クを用いる場合、500KHzの副走査ビーム遮断周
波数が得られる。この高周波動作によつて、装置
の機械的振動を正確に補正できる交差方向変位の
非常に敏速な補正が保証される。従つて走査装置
の構造並びに関連装置をより軽量にし構造体の必
要強度のレベルを下げる事がぎは、コストの安い
製品を作ることができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係るビーム走査装置の側面
図、第２図は第１図の装置を底面から見た図、第
３図はグラテイキユール・マスクの一部を示す
図、第４図は他のグラテイキユール・マスクを示
す図、第５−１図ないし第５−５図は信号波形
図、第６図はマスクの各要素が曲線に沿つて配置
されたグラテイキユール・マスクを示す図、第７
図ないし第１１図はビーム走査装置の変形例を示
す図である。 １０…光源、１２…回転多面鏡、１４…結像光
学系、１６…回転ドラム、１８…光分割器、２０
…副ビーム、２２…グラテイキユール・マスク、
２４…光検出器、２８…復調装置、３０…補正装
置、３２…回転プリズム、３４…比較回路、３６
…クロツク・パルス源、４０…同期化装置、４２
…回転プリズム。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 光ビームを回転走査鏡を含む光学系を介して
    被走査面上の所望走査路に沿つて逐次的に走査す
    るに当り、所望走査方向と交差する方向における
    走査ビームの偏位を動的に補正するように動作す
    る光ビーム走査装置であつて、 走査ビームを実質的に分割して副走査ビームを
    導出し、 所望走査方向の光ビームに対しては平均して実
    質的に均一な光学特性を呈するが交差方向では平
    均して実質的に差異のある光学特性を呈する光学
    的パターンのマスクを含む検光手段を上記副走査
    ビームの走査路の所定位置に配置し、 副走査ビームによる上記マスク上のパターンの
    走査に応答して上記検光手段が走査ビームの交差
    方向における逐次的な偏位を表わすエラー信号を
    発生し、このエラー信号に応答して該偏位を減少
    させるよう走査ビームの交差方向位置を、各走査
    ラインの走査過程中、動的に補正する手段を設け
    た事を特徴とする光ビーム走査装置における閉ル
    ープ制御の補正装置。
JP59125431A 1983-12-01 1984-06-20 光ビ−ム走査装置 Granted JPS60120316A (ja)

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US557491 1983-12-01

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JPS60120316A JPS60120316A (ja) 1985-06-27
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