JPS60120316A - 光ビ−ム走査装置 - Google Patents

光ビ−ム走査装置

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は特に高解像度の光学的走査文書読取袋［従来技
術］ 振動鏡や回転鏡の様な機械的走査装置を用いるレーザ・
スキャナ等の光学スキャナにおいて、走査の精度を保証
することが重要な技術的課題である。例えば、運動する
機械部品を用いる装置においては、機械的振動が生じる
。上記の装置においては可動鏡が用いられるのみならず
、スキャナはドラム駆動機構でもって回転するドラム上
の媒体を横切って走査を行なう。その振動によってビー
ムが直線路からのブレを生じる。その様なブレを横方向
ビーム・エラーと称する。
機械的走査を行なうための好ましい装置は回転多面鏡で
ある。全ての鏡面が正確に対応する配向状態を有するそ
の様な鏡を作ることは極めて困難であるので、僅少な鏡
面チルト（傾斜）配向ミスが生じ、ビームは正常な走査
線から横方向（横断方向）にブレを生じ、ひいては各行
の走査スペースにおける抗し難い変動が生じる。
該問題点は従来から認識されており、その解決策の一例
が０ｐｔｉｃｓ　ａｎｄ　Ｌａ５ｅｒ　Ｔｅｃｈｎｏｌ
ｏｇｙ　（Ｄｅｃｅｍｂｅｒ　１９７５　）　ｐ　、　
２４０のＪ、　Ｈｅｌｍｂｅｒｇａｒｅｔ　ａｌ、の論
文に示されている。そこに示される回転鏡装置において
は、回転鏡の各鏡面に関して鏡面チルト・エラーが判定
され、各鏡面が反射を行なっている時にビームに偏向エ
ラー補正を導入する様に補正機構がプログラムされてい
る。この装置はこの様な特定のタイプのエラーに対して
明らかに有効であるが、各鏡面（各走査）に対してただ
１つの補正値が用いられるだけであって、その補正はダ
イナミックではなく、振動の様な他の問題点を補正でき
ない。横方向走査エラーの補正の解決策が米国特許第４
２０３６７２号明細書に示されている。しかしながらこ
の場合も位置補正のために用いられるビーム位置検出が
各走査毎に１度だけしか行なわれない点で、本発明と比
べてダイナミックではない。
［発明が解決しようとする問題点］ 本発明の目的は上記従来技術の問題点を解決する事にあ
って、横方向ビーム・エラーのダイナミックな補正を行
なう改良された手段を用いる走査光ビーム装置を提供す
ることにある。
走査動作を行なわせるために多鏡面を用いる場合の問題
の１つは鏡面スキュー（回転多鏡面の軸まわりの鏡面の
回転位置振動）である。通常この効果は走査動作の開始
点及び終了点のタイミングを取るために用いられる走査
開始点及び走査終了点検出器によって処理される。走査
の速度並びに走査の開始点及び終了点を判定するための
タイミングを取ったパルスを生じる光学格子を介して得
られる信号によって走査の速度をダイナミックに補正す
るための装置が従来提案されてきた。この装置は例えば
米国特許第３８３５２．４９号明細書に開示されている
。
本発明はダイナミックな走査路の制御と関連してダイナ
ミックな走査同期化を与え、従って更に集積化された経
済的な方法で同期化を実施する技術を提供ものである。
［問題点を解決するための手段］ 上記問題点を解決するために、光ビーム走査装置が用い
られるが、この装置は（イ）所望の走査路３− に近接した走査路を有する走査光ビームを生じる主走査
用の手段と、（ロ）走査ビームの実際の位置及び走査ビ
ームの所望の位置の間の逐次的な差をほぼ全走査路にわ
たって測定し、エラー信号を生じる光応答エラー感知手
段と、（ハ）実際のビーム位置におけるエラーを減じる
ために上記エラー感知手段に接続された、上記エラー信
号に応答して走査中に走査ビームの位置をダイナミック
に補正する様に動作する副走査手段とから成り立ってい
る。
［実施例］ 第１図及び第２図は本発明に係る装置の夫々側面から見
た図及び底面から見た図である。第１図及び第２図にお
いて、１０は光源（レーザを用いるのが好ましい）、１
１はレンズ、１２は回転多面鏡、１４は結像用の光学系
並びに１６は走査される像を担持する回転ドラムである
。
１８は光分割器であってこれによって放射エネルギーの
一部が副ビーム２０（グラティキュー用マスク２２上に
結像される）へ偏向される。グラ４− テイキュール（ｇｒａｔｉｃｕｌｅ）マスク２２を通過
した光は光検出器２４によって検出される。グラテイキ
ュール・マスク（以下マスクという）２２の光学的特性
の故に、光検出器２４によって受信した光学信号は走査
ビームの横方向のブレに応答して変動する。検出器にお
けるこの信号の変動は、補正装置３０へ供給される生成
した補正信号を生じる。復調装置２８へ、第２図の回路
２６を介して搬送される。装置３０は例えば電磁的に作
動する偏向装置であって、レンズ１１を介してレーザ１
０から光ビームが透過する際に光ビームの方向に横方向
の補正を加えるために走査方向と平行な軸まわりにプリ
ズム３２を回転する様に接続されている。回転プリズム
を含む素子の組合せ体を以下において副走査手段と称す
る。
第１図及び第２図の結像系は主ビーム及び副ビームに共
通であって、該系は走査されるドラム１６の表面に対応
する面に主ビームの像を結像する様に働らき、マスク２
２は副ビームを結像する共役像面に配置される。
マスク２２（光学的な濃度の大きい部分と小さい部分が
規則的に配列されたパターンを含む）の設計により、光
検出器２４によって検出される信号は走査の速度ないし
同期化と走査の方向を横切る様に走査ビームを配置する
こととを制御するために使用しうる一連のパルスである
。走査機能の同期化は回路２６から信号を受取り、クロ
ック・パルス源３６からクロック・パルスを受取る比較
回路３４を含む回路によって行なう。比較回路３４は上
記２つの入力の比較に応答して補正信号を発生する様に
働らく。補正信号は位相補正装置即ち同期化装置４０へ
線３８を介して接続される。
装置４０は走査方向に垂直な軸まわりのプリズム４２の
回転によって走査の位相補正を行なう様に動作する。
走査速度及び走査ビームの位置は各走査において光源１
０からの光ビームの変調と正確に同期化させる事が非常
に重要である。第１図及び第２図には図示してないが、
本発明の装置は印刷に用いることも予定されており、光
源１０からの放射を変調させる何らかの手段が用いられ
ることがある。
走査速度を物理的に変調させるのではなく、比較回路３
４の制御の下に変調データ速度を変えてもよい。もしも
光学読取装置としてこの走査ビーム装置を用いるならば
、読取機能との同期を維持しなければならない。この場
合、読取データ速度は走査速度の物理的変更によるので
はなく、回路３４によって制御しうる。
変調の即ち読取機能の同期化は以下において情報転送の
同期化と称する。
光源１０．多面鏡１２及び結像光学系１４を含む系は所
望の走査路に近接した走査路を有する走査光ビームを生
じる主走査装置として特徴付けることができる。マスク
２２、光検出器２４及び変調装置２８の組合せ体は光応
答エラー感知手段として特徴付けることができる。回転
プリズム３２及びこのプリズムのための電磁変向モータ
３０の組合せは走査中に走査ビームの位置をダイナミッ
クに補正するための副走査手段として特徴付けることが
できる。
７− 結像光学系１４は単純なレンズではなく、例えば米国特
許第３８３５２４９号明細書に示される様な複雑な構造
の光学系である。第１図において、マスク２２はドラム
１６の表面における像の面に対応する副ビームの共役結
合面に配置されている。
光応答素子２４は相当大型である。これは全走査路にま
たがって副走査の走査ビームをさえぎらなければならな
いからである。
しかしながら、マスク２２を透過した光を小型の光応答
デバイスに集光するために例えば放物面鏡の様な種々の
装置を用いうろことはいうもでもない。
ビーム分割器１８は所望の比率で主ビームを透過し、副
ビームを偏向する反射鏡を用いてもよい。
第２図において、ビーム分割器１８は図示してなりλ。
第３図はマスク２２の拡大図である。４６は光が焦結さ
れたスポットを示す。スポットは矢印４８で示す様にマ
スク２２の中央線に沿って走査される。スポットがマス
クに沿って走査される場合８− に画素の横方向位置にエラーがないならば、その画素は
マスクの不透明領域の立上り端部及び立下り端部の各々
の中央点を横切って進む。不透明領域は傾斜部で示され
ており、マスクの残部は実質的に透明である。
走査スポットの位置が図面において上方へ（走査方向を
横切って）変位すると、マスクの透明部分を透明するビ
ームのパルスはパルス間の間隔に関してより長いパルス
となる。もしも下方に変位すると、パルスはより短くな
る。照明信号のこの変化が検出されて、走査におけるダ
イナミックな補正を行なう。第３図のマスクのパターン
は鋸歯状のパターンである。
第４図は第３図のマスクの変形例を示す。第４図のパタ
ーンはマスクの一部を拡大して示したものである。一実
施例においては、このマスクは副ビームの全走査路にま
たがるに十分な長さを有している。一実施例においてそ
の長さは約３８Ｇ（１５インチ）であり、２．５４Ｇ（
１インチ）あたり５個のマスク要素があり、よってマス
ク全体で７５個の要素が存在する。
第４図において、所望の走査路を中央線５０で示す。第
４図におけるマスク要素は完全に相互の要素から分離さ
れている。グラテイキュール・マスクは走査路５０を横
切る傾度を有する光学的濃度（ｇｒａｄｅｄ　００）を
有するものといってもよい。第４図において各要素の光
学濃度はその上部において小さく、各要素はより細い部
分５２を有し、その下部にはより高い濃度を呈する幅の
広い部分５４を有している。これは第３図の場合にもあ
てはまる。第４図において、細い部分５２と広い部分５
４の間に傾斜部５６があり、所望の走査路５０がその傾
斜路を部分している。第３図及び第４図において不透明
領域及び透明領域を割り当てることによって得られる傾
斜を有する光学濃度を示したが、他の態様の傾度を有す
る光学濃度を用いうろことはいうまでもない。
第４図のグラテイキュール・パターンの利点の１つは、
走査が左から右へ行なわれる場合、走査ビームが最初に
当る各要素の先端部５８がほぼ真直ぐな端部であるので
、走査のタイミングを取るため並びに走査位相及び走査
ビームの変調との間の相関のために、走査位相エラー調
整用の安定した信号が得られる点にある。
第５−１図、第５−２図、第５−３図、第５−５図は、
第４図のマスク・パターン上の副ビームの走査によって
エラー信号が生じる事例を説明する図である。第５−１
図は高い位置を横断した場合（ＳＣＡＮ　ＨＩＧＨ）の
エラー信号を、第５−２図は、低い位置を横断した場合
（ＳＣＡＮＬＯＷ）のエラー信号を、第５−３図は横断
エラーが無い場合（ＳＣＡＮ　Ｃ０ＲＲＥＣＴ）に発生
される信号の波形を示す。第５−４図はシステム・クロ
ックによって得られる走査における位相エラーを決定す
るための及びシステム・クロックと走査ビームを同期さ
せるためのパルス信号波形を示す。これは走査ビームに
よる情報の転送を同期させるために必要である。
第５−５図はグラテイキュール・マスクの走査によって
得られる信号と第５−４図のシステム・１１− クロック信号の比較によって生じる位相エラー信号の波
形を示している。
第４図において、線６０は第４図の左側において最初か
ら所望の走査路５０から横断方向に上方に変位した走査
路を示す。同様に線６２は下方に変位した走査路である
。
第５−１図の高位置走査路号パターンは第４図の走査路
６０の場合に生じる。第４図に示される様に、高位置走
査路６０の場合、マスクを通る光は第１の要素の部分５
２の細い幅に対応する短い期間においてのみさえぎられ
第５−１図の波形における低い信号６４を生じる。光は
次の要素に当って信号６６を生じる時点までさえぎられ
ない。
しかしながら、装置は敏速に高位置横断エラーを補正す
る。第３の要素と走査線６０との交差点においてビーム
がさえぎられた状態（遮断）が、第３要素の傾斜部５６
の中央点までの期間６８の間継続する。これはＯ横断エ
ラーを示す。残部の複数回のビームの遮断は夫々等期間
であって、これは０横断エラーの継続状態を示す。実用
装置にお＝１２＝ いては、まず補正のオーバ・シュートがあり、続いて逆
の補正が行なわれる。この補正の方式は補正のメカニズ
ム及び電子制御ループの両者によって決定される。
低位置走査路６２の場合、第５−２図の７０において示
す様に、走査ビームは第１の要素においてその全幅にま
たがって遮断される。走外線６２が第２要素と交差する
場合、走査ビームの遮断は第５−２図の７２において示
すように、その要素のほとんど全幅にまたがって継続す
る。しかしながら、再び装置は敏速に補正を行なう。第
３の要素における走査ビームの遮断は第５−２図の７４
において示すように継続する。この状態は標準期間継続
する。これはＯエラーを示す。
第５−３図に示す様に、走査が正しい（横断エラーがゼ
ロ）場合、全ての走査ビームの遮断は、第５−１図及び
第５−２図における６Ｂ及び７４に示す期間に対応する
標準ゼロ・エラー期間である。
マスクを走査することによって発生される信号遮断によ
って生じる“キャリヤ”　（ｃａｒｒｉｅｒ）が横方向
変位エラーによって位相変調されると考えてもよい。各
マスク・パターンの要素の小さい傾斜部分５６の奏する
利点は、所望の走査路からの非常に僅少な偏り（ブレ）
によって大きな補正信号が得られ、本装置が所望の正確
な走査路を維持するのに非常に敏感である点にある。し
かしながら、もしもブレが傾斜部５６を超えるならば、
細い部分５２あるいは広い部分５４は右方向において強
い補正信号を生じる。第４図におけるマスク要素の形状
は複数の好ましいタイプのマスク要素の成る特別な事例
を示す。そのタイプの要素は、要素の１方の側部から他
方の側部へかけて測定した場合に幅における不均一な変
化率を呈する様な形状にされる。横断位置における変位
に対する装置の感度を助長するために最大の変化率が所
望の走査路を横切る中央部分（第４図の小さい傾度を呈
する部分５６に対応する）において生じる様に設計され
る。
所望の通路はかならずしも第４図の５０に示す様な直線
である必要はない。第６図の５０Ａに示す様な曲線であ
ってもよい。マスク要素は所望の走査路を画定する様に
配置される。例えば第６図において、マスク要素は曲線
路５０Ａを画定する曲線に沿って配置される。
前述の様に、第５−４図は所望の通路５０に沿う走査の
速度を制御するための位相エラー補正信号を決定するた
めに用いる一連のクロック・パルスを示す。第５−５図
の波形図は第２図の比較回路において発生される位相エ
ラー信号である。第５−５図における各位相エラー・パ
ルスは第５−４図の対応するクロック信号パルスの立上
りに応答したパルスを立上らせ、第４図の対応するマス
ク要素の次の前端部５８から生じた信号によって位相エ
ラー・パルスを成端させることによって決まる。もしも
走査の位相の同期がクロックに関して正確でないならば
、位相エラー・パルスの幅が変化し、これに対応して走
査の位相が第２図の比較回路３４、装Ｗ４０及び４２に
よって補正される。代替的な同期化方法は、走査の位相
を調整す１５− る代りに比較回路３４からの出力によってクロック位相
を調整することである。
第７図はヘリウム・ネオン・レーザ光源を用い、多面鏡
１２によって反射された後の走査ビームの光路内に配置
した音響光学変調器８０を有する第１図及び第２図の装
置の変形例を示している。音響光学変調器８０は常時は
未変肩の偏向されないビーム８２を通過させるように働
らく。このビームは鏡１８Ａに入射され、マスク２２を
通過して光偏向器２４へ指向される。光学変調器は、変
調された主ビーム８４によってドラムの表面へのプリン
ト情報の転送のためにビーム・エネルギの一部を変調す
る様に働らく。この構成は音響光学変調器においてエネ
ルギが分割されるのでビーム分割器を用いる必要がない
という利点を有する。
音響光学変調器８０への信号は、電圧制御発振器８１か
らゲート９０及び増幅器８３を介して与える。プリント
変調信号（線９を介してゲート９０に与えられる）は、
主ビームの所望の１′オン２″及び“オフ”動作を行な
わせる様にゲート９０の１６− 動作を制御する。電圧制御発振器８１に対する電圧を制
御するために電圧制御回路８８を用いる。
第１図及び第２図の実施例における様に、第７図の実施
例は横断変位エラー検出回路２８と、機械変位モータ３
０及び該モータによって回路されるプリズム３２Ａより
なる補正成分とを含む。横断変位エラー補正の代替手段
として電圧制御回路８日への破線で示す接続線８６を介
して電圧制御発振器８１への電圧入力を変調する様にエ
ラー検出回路２８からエラー補正信号が与えられてもよ
い。
接続８６が用いられる場合、成分３０．３２Ａは用いな
くてよい。この構成の利点は、上記２つの成分を用いる
事なく音響光学変調器によって非常に高速度でビームの
横断エラー補正を実施できる点にある。しかしながら１
つの問題がある。それは、非偏向副ビーム８２が接素線
８２を介して与えられる信号に応答して音響光学変調器
によって補正されないので、横断エラー補正がもはや閉
ループ・サーボでないことである。しかしながら適当な
設計によって閉ループ技法でなくとも非常に満足すべき
結果が得られる。ただし、第８図に示す様な閉ループを
用いることが好ましい。
前述の様に、第１図及び第２図の実施例における問題点
の１つはマスク２２を透過した全ての光を集合させる感
光性の検出器２４を用いることである。大型の光検出器
を用いるのは自由度を欠く。
小型の光検出器を用いたい場合、放物面鏡あるいは光″
パイプ″の様な全ての放射エネルギを集合させる他の光
学装置を用いることが必要となる。
第８図の実施例において、非変調ビーム８２は障壁部９
６へ指向されるだけである。音響光学変調器８０にはド
ラム１６に送るべき信号を変調するための２種類の制御
周波数信号が与えられる。
これらの信号は電圧制御発振器８１Ａによって与えられ
る。増幅器８３によって増幅した２つの変調周波数信号
は音響光学変調器８０において２つの異なる偏向角を有
する分離した変調ビーム９８及び１００を生じる様に作
用する。ビーム９８はドラム１６へ指向される主ビーム
として用いる。
ビーム１６はマスク２２Ａへ指向させる副ビームとして
用いる。
この実施例において、グラテイキュール・マスク２２Ａ
は先に透明な領域として例示した領域が反射性の領域で
あって、不透明領域として示した領域が低反射率の領域
である様な逆反射体でできている。よってビームのエネ
ルギはビーム１００と同じ通路に沿って選択的に反射し
戻され、ビーム分割器１０２によってフォトダイオード
光応答検出器２４Ａ（横方向エラー検出回路２８への信
号を生じる）へ指向される。同じ光学系及び回転多面鏡
１２を介してエネルギを反射し戻すことよって、鏡１２
の走査によって拡散したビームのエネルギがビーム分割
器に再度集中されるとともに光ダイオード２４Ａに集中
される。
第８図の装置の大きな利点の１つは、ビーム９８及び１
００の両者の方向を偏向し、補正する様に発振器８１Ａ
によって発させられる２種の周波数信号を調整する様に
、回路２８からの横断エラー信号が電圧制御発振器８１
Ａを制御する点にあ１９− る。即ち、音響光学変調器は、閉ループ機能を備えた装
置におけるダイナミックな横方向ビーム補正装置として
用いることができる。副ビーム位置が調整されるので、
エラー信号が減少し、過度の補正が回避できる。摂動に
対する応答を最適化するためにサーボ制御理論に関する
通常の任意の技法を適用することができる。
第９図は第１図及び第２図の実施例の変形例を示す。固
体ガリウム砒素レーザを用いる。主ビーム及び副ビーム
用に別個の２つの光源を用いる。
主ビーム用のレーザＩＯＢ及び副ビーム用の１０Ｃは異
なる波長で動作する。反射手段１０４によって２つのビ
ームを結合する。一体となった２つのビームは光学系を
通してビーム分割器１８Ｃまで同じ通路をたどる。ビー
ム分割器１８Ｃは波長選択フィルタであって、主ビーム
を通し、副ビームを反射してマスク２２を介して光応答
デバイス２４へ指向させる。プリント・データ信号によ
って直接ガリウム砒素レーザを変調することができる。
従って、第８図の音響光学変調器８０は用い２０− ない。
第１０図は第１図及び第２図の装置の他の変形例を示し
ている。これもまたガリウム砒素レーザ１０Ｄを用いて
いる。レーザＩＯＤはデュアル・レーザであって、実質
的に同じ通路にわたって平行に進行する別個のビームを
放出する様に動作しうる。これらのビームは光検出器２
４ヘマスク２２を介して副ビームを反射することを可能
ならしめるように僅かな間隔をおいて分離されている。
第１１図は第１図及び第２図の実施例の他の変形例を示
している。主副面ビームはほぼ同し光路を進行するが、
相互に反対を向いている。主ビームの主光源はガリウム
砒素レーザＩＯＢである。
しかしながら、副ビームは全マスク２２を照明する光源
１０Ｅによって得る。マスク２２全体の像が反射鏡１８
Ａによって反射され、レンズ光学系１４を通り、その像
が回転多面鏡１２を用いてフォトダイオード２４Ｅを横
切って走査される。図に示す様に、主副面ビームはほぼ
同じ光路をたどる様に相互に密接して配置される。ただ
し、各光路の両端においてわずかに分離される。レンズ
１０８として示す様に、マスクの走査した像要素をフォ
トダイオード２４Ｅに焦光するために付加的な光学素子
を用いてもよい。
フォトダイオード２４Ｅを横切って照明されたマスク２
２の像を走査する結果は前述した装置におけるマスクの
走査と同じである。その理由は、走査の横方向変位によ
って、この横方向の偏りを補正する補正信号を生じるよ
うにマスクからフォトダイオードにおいて受取られる信
号が変位するからである。
第７図、第９図、第１０図及び第１１図の実施例の各々
の大きな利点は、制御されたプリントのために主ビーム
にどの様な変調が存在しても、常に副ビームが補正機能
を呈する様に用いられる点にある。一方、第１図及び第
８図の実施例をプリントに用いる場合、プリントされる
べきでないスペースに関して主ビームが遮断変調される
時には副ビームが存在しない。従って、横方向ビーム補
正のための第１図及び第８図の実施例の各々の動作は、
それらがプリント変調を行なうことなく単に走査装置と
してのみ用いる場合もしくはプリント動作においてギャ
ップが非常に少い場合に、より信頼性が高い。
上記の本発明の実施例の全てにおいて、走査装置として
多面鏡を用いたが、ビームに走査動作を行なわせるため
に振動ミラー、ホログラフ偏向器もしくは他の偏向手段
を用いうろことまいうまでもない。
第１図のビーム分割器１８、第９図のビーム分割器１８
Ｃ並びに第７図、第８図、第１０図及び第１１図の反射
手段１８Ａは補助的な反射手段である。各側において、
これらの補助的反射手段は走査路のほぼ平行に、しかも
主走査ビームの方向に垂直に軸まわりにチルトされるこ
とはいうまでもない。はとんどの場合、このチルｌ〜の
角度はほぼ４５度である。
［発明の効果コ 本発明の走査及びスポット位置補正装置の動作波周数は
相対的に高い。例えば回転多面鏡１２は２２３ 一２００００ｒｐの速度で回転し、２０個の面を有する
。これによって４０００００走査／分即ち６６６６走査
／秒の走査周波数が呈せられる。７５個の要素を含むマ
スクを用いる場合、５００ＫＨｚの副走査ビーム遮断周
波数が得られる。この高周波動作によって、装置の機械
的振動を正確に補正できる横方向変位の非常に敏速な補
正が保証される。従って走査装置の構造並びに関連装置
をより軽量にし構造体の必要強度のレベルを下げる事か
ぎは、コストの安い製品を作ることができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係るビーム走査装置の側面図、第２図
は第１図の装置を底面から見た図、第３図はグラテイキ
ュール・マスクの一部を示す図、第４図は他のグラテイ
キュール・マスクを示す図、第５−１図ないし第５−５
図は信号波形図、第６図はマスクの各要素が曲線に沿っ
て配置されたグラテイキュール・マスクを示す図、第７
図ないし第１１図はビーム走査装置の変形例を示す図で
ある。 ２４− １０・・・・光源、１２・・・・回転多面鏡、１４・・
・・結像光学系、１６・・・・回転ドラム、１８・・・
・光分割器、２０・・・・副ビーム、２２・・・・グラ
テイキュール・マスク、２４・・・・光検出器、２８・
・・・復調装置、３０・・・・補正装置、３２・・・・
回転プリズム、３４・・・・比較回路、３６・・・・ク
ロック・パルス源、４０・・・・同期化装置、４２・・
・・回転プリズム。 出願人　インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・
コーポレーション 代理人　弁理士　岡　１）　次　生 （外１名）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 走査光ビームを生じる主走査装置と、 走査方向を横切る方向に於ける走査ビームの実際の位置
    及び走査ビームの所望の位置の間の逐次的な差をほぼ全
    走査路にわたって測定し、エラー信号を発生するための
    光応答エラー感知装置と、上記エラー感知装置に接続さ
    れた、上記エラー信号に応答して走査中に測定されたエ
    ラーを減じる様に走査方向を横切る方向に於ける走査ビ
    ームの位置をダイナミックに補正する副走査装置とを有
    する光ビーム走査装置。
JP59125431A 1983-12-01 1984-06-20 光ビ−ム走査装置 Granted JPS60120316A (ja)

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US06/557,491 US4600837A (en) 1983-12-01 1983-12-01 Optical scanning apparatus with dynamic scan path control
US557491 1983-12-01

Publications (2)

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JPS60120316A true JPS60120316A (ja) 1985-06-27
JPH0444726B2 JPH0444726B2 (ja) 1992-07-22

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