JP4868923B2 - 光走査装置および画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、複数の発光点を有する光源を用いて露光を行う画像形成装置に関するものである。

一般に電子写真方式の画像形成装置は、レーザダイオードから放出されたビームを、回転駆動しているポリゴンミラーにより反射させることで感光体を走査する。ポリゴンミラーの各面はミラーになっており、面ごとにレーザ光をそれぞれ反射させて感光体上にライン（走査線）を描く。このとき、各面の傾きが回転軸に対して等しければ、各面により描かれたラインのラインピッチは一定となる。

しかし、加工精度上のバラツキにより、回転軸に対する各面の傾きは厳密には一致しない。そのため、各面により描かれるラインピッチはポリゴンミラーの面数に応じた周期でもってばらつきが生じる。その結果、例えば、等間隔の複数の横線からなる画像データを使用したとしても、形成された画像における各横線のピッチは不一致となる。

従来、このような副走査方向のピッチむらを補正する技術が提案されている。特許文献１によれば、隣接した２本のラインに対応する主光源と副光源との間の光量比率を変化させることにより、副走査方向の画素ずれを高精度に補正する技術が提案されている。

特許文献２、特許文献３、特許文献４によれば、レーザ端面とポリゴンミラーとの間に設けられたプリズムによって、面倒れをキャンセルする方向に光路を変更する技術も提案されている。
特開２００５−２３４５１０号公報 特開昭６３−０５０８０９号公報 特開平５−２０８５２３号公報 特開平９−１５９９４８号公報

しかしながら、特許文献１の技術によれば、主光源からのビームによるスポットと副光源からのビームによるスポットとは感光体上で一致しない。すなわち、スポットの形状が８の字のようになる。そのため、特許文献１の技術により形成されるドットのサイズは、１つの光源で形成されるドットのサイズよりも大きくなってしまう。よって、特許文献１の技術では、高精細な画像を形成したり、ドット一つ一つの再現性を高めたり、よりシャープな潜像を形成することが難しい。

また、特許文献２、３、４に記載の各技術は、プリズムなどの追加の光学部品およびそれに付随する駆動回路などが必須となるため、製造コストが高くなりやすく、かつ、組み立て時の調整時間も長くなりやすい。

そこで、本発明は、このような課題および他の課題のうち、少なくとも１つを解決することを目的とする。なお、他の課題については明細書の全体を通して理解できよう。

本発明は、
回転する感光体に静電潜像を形成するために画像データに基づく光ビームを射出する複数の発光点を有し、前記複数の発光点から射出される複数の前記光ビームが前記感光体上において前記感光体の回転方向の異なる位置を画素のピッチ範囲内で照射するように前記複数の発光点が配列された光源と、
複数の鏡面を有し、前記光源から射出される前記光ビームが前記感光体上を所定の方向に移動するように前記光ビームを前記鏡面によって偏向する回転多面鏡と、
前記回転多面鏡によって偏向された光ビームの検出に応じて同期信号を生成する検出手段と、
前記回転多面鏡の回転中において前記光源から射出された前記光ビームを偏向する鏡面を特定する特定手段と、
前記回転多面鏡が有する前記複数の鏡面それぞれの面倒れ量によって生じる前記感光体の回転方向における前記画素のピッチの変動を低減するために、前記鏡面に対応した発光点を選択する選択データを記憶する記憶手段と、
前記特定手段によって特定された前記鏡面に対応した前記選択データに基づいて前記複数の発光点の中から前記画像データに基づく光ビームを射出させる発光点を選択し、選択した発光点から前記光ビームが射出されるように前記光源を駆動する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記選択した発光点から射出された前記光ビームの検出に応じて前記検出手段によって生成される前記同期信号に基づいて、前記選択した発光点からの前記画像データに基づく光ビームの射出タイミングを制御することを特徴とする光走査装置を提供する。

前記特定手段は、前記回転多面鏡のいずれか１つの鏡面に対応する位置に設けられた磁石と、前記磁石が回転してきたことを検出したことに応じて検出信号を出力するホール素子とを備え、
前記特定手段は、前記ホール素子から前記検出信号が出力されたタイミングと前記回転多面鏡の回転周期とから前記回転多面鏡のいずれの鏡面が前記光ビームを偏向するかを特定することを特徴とする。

本発明によれば、簡易な構成で、ポリゴンミラーの面倒れに起因するピッチムラを補正し、かつドットひとつひとつの再現性の高い高精細な画像を提供することが可能となる。

以下に本発明の一実施形態を示す。もちろん以下で説明される個別の実施形態は、本発明の上位概念、中位概念および下位概念など種々の概念を理解するために役立つであろう。また、本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲によって確定されるのであって、以下の個別の実施形態によって限定されるわけではない。

［第１の実施形態］
図１は、実施形態に係る画像形成装置の概略断面図である。画像形成装置１００は、モノクロまたはフルカラーの画像を形成する装置である。例えば、画像形成装置１００は、印刷装置、画像出力装置、プリンタ、複写機、複合機またはファクシミリとして実現される。

露光装置１０１は、一様に帯電されたドラム上の感光体１０２上を光ビームによって走査する光学走査装置である。これにより、感光性を有する感光体１０２上には、画像信号に対応する静電潜像が形成される。また、静電潜像は、現像装置によって、現像剤（例：トナー）の像に変換される。定着装置１０３は、感光体１０２から現像剤の像が転写された記録媒体Ｓに対して現像剤の像を定着させる。記録媒体Ｓは、用紙、シート、転写材などと呼ばれることもある。

図２は、実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。露光装置１０１は、レーザユニット２００、回転多面鏡（ポリゴンミラー）２１０、ポリゴンモータ２１１、ｆθレンズ２１２、折り返しミラー２１３、反射ミラー２１４、ビーム検出センサ２１５を有する。

レーザユニット２００は、レーザ駆動部２０１、半導体レーザ２０２およびコリメータレンズ２０３を有する。半導体レーザ２０２は、レーザ駆動部２０１により駆動されるとレーザ光を射出する光源パッケージである。レーザ光は、ビームと呼ばれることもある。コリメータレンズ２０３は、半導体レーザ２０２から射出されたレーザ光を所定のビーム径に変換する。レーザ駆動部２０１は、本体制御部２２０により制御される。本体制御部２２０は、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭを含み、画像形成プロセスに関する種々の制御を実行する。

ポリゴンミラー２１０は、所定のビーム径となったレーザ光を回転しながら偏向する回転多面鏡である。ポリゴンミラー２１０は、複数の鏡面（走査面または反射面と呼ばれることもある。）を備えている。ポリゴンモータ２１１は、ポリゴンミラー２１０を回転させるためのモータである。ｆθレンズ２１２は、ポリゴンミラー２１０により反射されたレーザ光を結像するための光学部品である。折り返しミラー２１３は、ｆθレンズ２１２を通過したレーザ光を感光体１０２の表面に導くための光学部品である。

反射ミラー２１３は、レーザ光をビーム検出センサ２１５へと導くための光学部品である。ビーム検出センサ２１５は、反射ミラー２１４により反射されたレーザ光を検出し、ビーム検出信号（ＢＤ信号）を本体制御部２２０に出力する。ビーム検出信号は、主走査方向の１ラインごとに出力される。

本体制御部２２０は、ビーム検出信号が出力される周期を検知し、その周期が所定の周期となるようにポリゴンモータ２１１に加速信号、減速信号を出力することによりポリゴンミラーの回転を制御する。ポリゴンモータ２１１は、本体制御部２２０の制御に基づきポリゴンミラー２１０を駆動する。

図３は、面倒れがない場合のレーザ光の照射位置（スポット位置）と、面倒れがある場合のレーザ光の照射位置を示す図である。この例では、ポリゴンミラーが６つの鏡面（ＡないしＦ）を有しているものとする。図中の各直線は、各鏡面の理想的な照射位置を表している。

図から分るように、面倒れが存在しないか、または面倒れを無視できる理想的なポリゴンミラーのレーザ照射位置は、各鏡面により形成されたラインの間隔が一定となる。

一方で、面倒れが存在するか、または面倒れを無視できない一般的なポリゴンミラーのレーザ照射位置は、各鏡面により形成されたラインの間隔が一定とならない。図によれば、Ａ面およびＥ面は、ポリゴンミラーの回転軸に対して傾いていないようであるが、その他の面は、いずれも回転軸から傾斜していることが分る。もちろん、各ラインの副走査方向における間隔（副走査ピッチ間隔）が一定にならない。よって、複数の鏡面のうち、光源からのビームを偏向することになる現在の鏡面に適した発光点を選択することで、ピッチムラを軽減することが必要となる。

図４は、実施形態に係る半導体レーザの一例を示す図である。本実施形態の半導体レーザ２０２は、複数の発光点４０１ないし４０５を有している。各発光点は、単一の半導体レーザであることはいうまでもない。複数の発光点４０１ないし４０５から射出される各ビームにより感光体１０２上にはそれぞれスポットが形成される。本実施形態によれば、各発光点のスポットの間隔ｄは、画像形成装置１００の解像度よりも狭くなるように、発光点４０１ないし４０５が配置されている。また、各発光点は、それぞれ１ラインを形成するものとする。上述したように、複数の発光点を同時に用いて単一のラインを形成しようとすると、スポット径が広がってしまい、ドットの再現性が低下する可能性がある。そのため、本実施形態では、同時に複数の発光点を点灯させることはない。

図５は、実施形態に係る半導体レーザの各発光点とスポットとの関係を示す図である。スポット５０１ないし５０５は、それぞれ発光点４０１ないし４０５に対応している。直線５１１ないし５１５は、それぞれ発光点４０１ないし４０５により形成される走査ラインを表している。図から分るように、各スポットの間隔ｄは、それぞれ１／４画素となっている。そのため、本実施形態によれば、＋１／２画素、＋１／４画素、−１／４画素、−１／２画素といった範囲で、面倒れ量を低減することが可能となる。

図３によれば、鏡面Ａの面倒れ量は±０画素（上方を＋方向とする）であった。よって、鏡面Ａに対しては、レーザ駆動部２０１が、発光点４０３からレーザ光を射出させればよい。鏡面Ｂの面倒れ量は＋１／４画素であるため、レーザ駆動部２０１が、発光点４０４からレーザ光を射出させれば、面倒れ量を低減できる。鏡面Ｃの面倒れ量は−１／４画素であるため、レーザ駆動部２０１は、発光点４０２からレーザ光を射出させればよい。鏡面Ｄの面倒れ量は＋１／２画素であるため、レーザ駆動部２０１は、発光点４０５からレーザ光を射出させればよい。鏡面Ｅの面倒れ量は±０であるため、レーザ駆動部２０１は、発光点４０３からレーザ光を射出させればよい。鏡面Ｆのとき面倒れ量は＋１／４であるため、レーザ駆動部２０１は、発光点４０４からレーザ光を射出させればよい。もし、いずれかの鏡面の面倒れ量が＋１／２であれば、レーザ駆動部２０１は、発光点４０５からレーザ光を射出させればよいことはいうまでもない。

このように、面倒れ量を低減するのに適した発光点を選択することで、副走査方向のラインのピッチが一定となる画像を形成することができる。なお、本実施形態では１ラインに対する発光点の数が５つであるため、±１／２画素の範囲でピッチムラを補正できるが、レーザ本数をさらに増やせば補正精度や補正範囲も増すことになろう。

図６は、実施形態に係るレーザ駆動部の一例を示す回路図である。本実施形態では、５つの発光点を択一的に選択するための５ビットのＳＥＬＥＣＴ（選択）信号６０１ないし６０５が使用される。例えば、選択信号が“００００１”であれば、発光点４０１が選択される。選択信号が“０００１０”であれば、発光点４０２が選択される。選択信号が“００１００”であれば、発光点４０３が選択される。選択信号が“０１０００”であれば、発光点４０４が選択される。選択信号が“１００００”であれば、発光点４０５が選択される。

この選択信号６０１〜６０５とＤＡＴＡ（データ）信号６０６は、ＡＮＤ回路６１１〜６１５に入力される。ＡＮＤ回路６１１〜６１５の出力は、それぞれスイッチ６２１〜６２５にそれぞれ接続されている。各スイッチ６２１〜６２５は、対応するＡＮＤ回路からの出力に応じて、定電流源６３１〜６３５から流れる電流をＯＮ、ＯＦＦする。例えば、データ信号が“１”で、かつ選択信号が“００００１”であれば、ＡＮＤ回路６１１から“１”が出力される。これにより、スイッチ６２１がＯＮとなり、電流源６３１から発光点４０１に電流が流れ、発光点４０１は、レーザ光を射出する。

図７は、実施形態に係る制御機構を説明するための図である。本体制御部２２０は、上述のデータ信号を発生する画像信号発生部７０１と、各鏡面と選択信号との関係または面倒れ量と選択信号との関係を記憶した記憶した記憶部７０２と、現在の鏡面を検知して特定する面特定部７０３とを備えている。

面特定部７０３は、鏡面ごとに異なる面信号を出力するように構成されている。例えば、１つの鏡面（例：鏡面Ａ）の下部に磁石を取り付け、ポリゴンミラー２１０の下方であって、かつ、レーザ光が入射することになる鏡面に対応した位置にホール素子を取り付ける。すなわち、鏡面Ａがレーザ光を反射する際にのみ、ホール素子から検出信号が出力される。鏡面Ａと他の鏡面との関係は固定されているので、鏡面Ａさえ検出できれば、面特定部７０３は、ポリゴンミラー２１０の回転周期から現在の鏡面を特定できる。

面特定部７０３から出力される面信号は３ビットからなる。例えば、鏡面Ａが検出されたときは、面信号として”０００”が出力される。鏡面Ｂによりレーザ光が反射されるときは、面信号として”００１”が出力される。鏡面Ｃによりレーザ光が反射されるときは、面信号として”０１０”が出力される。鏡面Ｄによりレーザ光が反射されるときは、面信号として”０１１”が出力される。鏡面Ｅによりレーザ光が反射されるときは、面信号として”１００”が出力される。鏡面Ｆによりレーザ光が反射されるときは、面信号として”１０１”が出力される。この面信号に対応して、記憶部７０２は、５ビットのＳＥＬＥＣＴ信号６０１〜６０５を出力する。

図８は、実施形態に係る記憶部の記憶内容の一例を示す図である。面信号は、記憶部７０２の読みだしアドレスとして機能し、読みだしアドレスに対応する選択信号が記憶部７０２から出力される。なお、面信号と選択信号との関係（テーブル）は、例えば、工場出荷時に設定される。すなわち、画像形成装置１００の工場において、ポリゴンミラー２１０の各鏡面の面倒れ量が測定され、測定された面倒れ量を軽減するのに有効となる選択信号（発光点）が決定される。すなわち、鏡面が有する面倒れ量に起因するスポットの位置ズレを低減するのに適した発光点が決定される。そして、各面信号と選択信号との対応関係が記憶部７０２に格納される。なお、選択信号が実質的に面倒れ量に相当することはいうまでもない。

また、記憶部７０２は、鏡面ごとの面倒れ量を記憶し、面信号に応じて面倒れ量を読みだして出力するようにしてもよい。ただし、この場合は、記憶部７０２から読み出された面倒れ量に適した発光点を選択するよう、レーザ駆動部２０１等が構成されていなければならない。例えば、面倒れ量を選択信号に変換するための変換ユニットが本体制御部２２０またはレーザ駆動部２０１に必要となろう。

図９は、実施形態に係る面信号、選択信号、ＢＤ信号およびデータ信号の関係を表す図である。上述したように、ＢＤ信号は、ビーム検出センサ２１５から出力されるビーム検出信号のことである。図から分るように、ＢＤ信号が入力されるごとに、予め定められた順番で選択信号が記憶部７０２から出力される。

図１０は、実施形態に係る制御方法の一例を示すフローチャートである。ステップＳ１００１において、面特定部７０３は、ビームの走査に使用される現在の鏡面を特定する。面特定部７０３は、現在の鏡面を特定可能な信号（例：面信号）を出力する。

ステップＳ１００２において、記憶部７０２は、現在の鏡面に適した発光点を選択するための選択信号（ＳＥＬＥＣＴ信号）をレーザ駆動部２０１に出力する。上述したように、面信号が読みだしアドレスとして入力されると、記憶部７０２は、当該アドレス対応して記憶されている選択信号を出力する。レーザ駆動部２０１は、選択信号に応じて内部のスイッチ６２１−６２５を切り換える。

ステップＳ１００３において、レーザ駆動部２０１は、選択信号に対応する発光点からレーザ光を射出させる。ステップＳ１００４において、本体制御部２２０のＣＰＵが、画像形成を終了させるか否かを判定する。終了しない場合は、ＢＤ信号の検出に応じて、レーザ駆動部２０１は、次の鏡面に適した発光点を選択して発光させる。

本実施形態によれば、簡易な構成で、ポリゴンミラーの面倒れに起因するピッチムラを補正し、かつドットひとつひとつの再現性の高い高精細な画像を提供することが可能となる。すなわち、本発明によれば、従来技術のように、面倒れを除去するための光学部品を追加する必要がない。また、１ドットに対して１つの発光点を利用するため、２つの光源により１つのドットを形成する従来技術に比して、ドットの再現性が向上する。また、これにより、高精細な画像を提供しやすくなる。

とりわけ、レーザ駆動部２０１は、現在の鏡面が有する面倒れ量に起因するスポットの位置ズレを低減するのに適した発光点を選択するため、面倒れに起因する諸問題を緩和できる。

また、面倒れ量と発光点との対応関係を予め記憶部７０２に記憶しておくことで、面倒れ量を算出する手間を省ける。なお、鏡面ごとに好ましい発光点を工場出荷時に決定しておけば、そもそも面倒れ量を決定する必要もなくて、好ましいだろう。

［第２の実施形態］
第１の実施形態では、各鏡面の面倒れ量と、面倒れ量の影響を低減するのに適した発光点との関係を予め決定しておき、走査時に、現在の鏡面に相応しい発光点を使用することを提案した。

しかしながら、稀に、後発的な理由によって、各鏡面の面倒れ量が変化することがある。この場合、工場出荷時に決定された各鏡面と発光点との関係が、少なくとも一部で崩壊してしまう。

そこで、第２の実施形態では、各鏡面の面倒れ量を工場出荷後に測定することで、現在の面倒れ量に適した発光点を選択する方法を提案する。

図１１は、実施形態に係る他の制御機構を説明するための図である。図７と比較すると、面特定部７０３と記憶部７０２に代えて、面倒れ量検出部１１００が採用されている。面倒れ量検出部１１００は、ビーム検出センサ２１５と、ビーム検出センサ２１５から出力されるＢＤ信号を面倒れ量信号（選択信号）に変換する変換部１１０１とを備えている。

また、レーザ駆動部２０１は、図６に示した発光点の選択回路１１０２と、非画像区間検出部１１０３と、面倒れ量検出用の選択信号発生部１１０４と、選択信号切り換え部１１０５とを含む。非画像区間検出部１１０３は、データ信号などに応じて非画像区間を検出し、非画像区間であることを選択信号切り換え部１１０５に通知する。選択信号発生部１１０４は、面倒れ量を測定するために使用される発光点（例：発光点４０３）を選択するための選択信号を切り換え部１１０５に出力する。選択信号切り換え部１１０５は、画像区間においては面倒れ量を低減するのに適した発光点を選択するための選択信号を出力し、一方、非画像区間においては、面倒れ量を測定するために使用される発光点を選択するための選択信号を出力する。

なお、面倒れ量を測定するために使用される発光点は、どの鏡面に対しても同一の発光点が使用されることが望ましい。これは、常に同一の発光点だけを使用すれば、センサ出力信号のパルス幅だけを考慮するだけで、面倒れ量を決定できるからである。ただし、原理的には、毎回異なる発光点を使用して面倒れ量を決定することも可能である。しかしながら、この場合は、現在どの発光点を使用しているかも認識しなければ、面倒れ量を決定できないため、面倒れ量検出部１１００の構成が相対的に複雑となってしまうだろう。

また、面倒れ量を測定するための発光点としては、複数ある発光点のうち、中央の発光点４０３を使用することが望ましい。もし、最下端の発光点４０５を使用したとすると、プラス方向には、＋１／４画素ごとに最大で１画素まで面倒れ量をほせいできるものの、マイナス方向には補正できなくなってしまうからである。

図１２は、実施形態に係る面倒れ量の決定原理を説明するための図である。１２０１は、ビーム検出センサ２１５の光検出領域を示している。ビーム検出センサ２１５は、一般に、画像の主走査方向の書き出しタイミングを決めるために使用されるが、ここでは、面倒れ量を検出するためにも使用されている。なお、画像の主走査方向の書き出しタイミングを検出するためのセンサと、面倒れ量を測定するためのセンサとを別体にしてもよいが、部品点数を減らすためには、両者を同一とすることが望ましいだろう。

走査線１２１１は、面倒れ量が０画素であるときの理想的な走査線（ビームの軌跡）を示している。走査線１２１２は、面倒れ量が−１／４画素であるときのビームの軌跡を示している。走査線１２１２は、面倒れ量が＋１／４画素であるときのビームの軌跡を示している。走査線１２１３は、面倒れ量が−１／２画素であるときのビームの軌跡を示している。走査線１２１４は、面倒れ量が−１／２画素であるときのビームの軌跡を示している。

１２２１は、面倒れ量が０画素であるときのセンサ出力信号を示している。１２２２は、面倒れ量が−１／４画素であるときのセンサ出力信号を示している。１２２３は、面倒れ量が＋１／４画素であるときのセンサ出力信号を示している。１２２４は、面倒れ量が−１／２画素であるときのセンサ出力信号を示している。１２２５は、面倒れ量が＋１／２画素であるときのセンサ出力信号を示している。

図から、光検出領域１２０１をビームが横切る時間（すなわちパルス幅）と面倒れ量とが相関していることを理解できよう。信号変換部１１０１は、センサ出力信号のパルス幅（面倒れ量と相関あり。）に応じた選択信号を出力する。なお、信号変換部１１０１は、レーザ駆動部２０１内に設けられていてもよい。

図１３は、実施形態に係る面倒れ量と選択信号との対応関係を示す図である。上述したように、各発光点のスポット位置は図５に示した通りである。例えば、面倒れ量が＋１／２であれば、補正量が−１／２となる発光点４０５が選択されることが好ましい。なお、変換部１１０１は、面倒れ量と選択信号との対応関係を記録したテーブルをメモリ等に保持していてもよい。

図１４は、実施形態に係るＢＤ信号、選択信号およびデータ信号の関係を表す図である。この図から、面倒れ量を検出するタイミング（すなわち、非画像区間）となると、切り換え部１１０５は、選択信号発生部１１０４からの選択信号「００１００」を選択回路１１０２に入力させる。一方、画像区間では、切り換え部１１０５が、面倒れ量（ＢＤ信号のパルス幅）に応じた選択信号を選択回路１１０２に入力させる。

図１５は、実施形態に係る制御方法の他の例を示すフローチャートである。ステップＳ１５０１において、非画像区間検出部１１０３は、画像データ信号などに基づいて非画像区間か否かを判定し、判定結果を選択信号切り換え部１１０５に出力する。非画像区間であれば、ステップＳ１５０２に進み、画像区間であれば、ステップＳ１５０４に進む。

ステップＳ１５０２において、選択信号切り換え部１１０５は、非画像区間である旨の検出結果を受信すると、選択信号発生部１１０４からの選択信号を選択回路１１０２に出力する。選択回路１１０２は、選択信号に基づいて中央の発光点４０３からレーザ光を射出させる。

ステップＳ１５０３において、面倒れ量検出部１１００は、面倒れ量を決定する。例えば、面倒れ量検出部１１００のビーム検出センサ２１５が、ビームを検出した時間（パルス幅）に応じてセンサ検出信号を変換部１１０１に出力する。

ステップＳ１５０４において、レーザ駆動部２０１は、面倒れ量に応じた発光点を選択する。例えば、変換部１１０１は、センサ検出信号のパルス幅（面倒れ量）に対応する選択信号を切り換え部１１０５に出力する。切り換え部１１０５は、画像区間である場合に、変換部１１０１から入力された選択信号を選択回路１１０２へと出力する。選択回路１１０２は、選択信号に基づいて、面倒れ量を低減するのに適した発光点を選択する。

ステップＳ１５０５において、レーザ駆動部２０１は、選択された発光点を駆動してレーザ光を射出させる。ステップＳ１５０６において、本体制御部２２０は、画像形成を終了させるか否かを判定する。画像形成を終了しない場合は、ステップＳ１５０１に戻る。

本実施形態によれば、測定された面倒れ量に適した発光点を用いて画像を形成することで、ポリゴンミラーの面倒れに起因するピッチムラを補正し、かつドットひとつひとつの再現性の高い高精細な画像を提供することが可能となる。とりわけ、本実施形態では、工場出荷時に測定された面倒れ量が後発的な理由によって他の値に変化したときであっても、現在の面倒れ量に適した発光点を使用することが可能となる。

［他の実施形態］
上述の実施形態では、露光装置１０１を画像形成装置１００に内蔵するものとして説明したが、他の用途に使用してもよい。この場合、露光装置１０１は、感光体上ではなく、所望の露光面上を走査しながら露光することにあろう。

実施形態に係る画像形成装置の概略断面図である。 実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。 面倒れがない場合のレーザ光の照射位置と、面倒れがある場合のレーザ光の照射位置を示す図である。 実施形態に係る半導体レーザの一例を示す図である。 実施形態に係る半導体レーザの各発光点とスポットとの関係を示す図である。 実施形態に係るレーザ駆動部の一例を示す回路図である。 実施形態に係る制御機構を説明するための図である。 実施形態の記憶部の一例を示す図である。 実施形態に係る面信号、選択信号、ＢＤ信号およびデータ信号の関係を表す図である。 実施形態に係る面倒れ量の決定原理を説明するための図である。 実施形態に係る他の制御機構を説明するための図である。 実施形態に係る制御方法の一例を示すフローチャートである。 実施形態に係る面倒れ量と選択信号との対応関係を示す図である。 実施形態に係るＢＤ信号、選択信号およびデータ信号の関係を表す図である。 実施形態に係る制御方法の他の例を示すフローチャートである。

Claims (3)

1. 回転する感光体に静電潜像を形成するために画像データに基づく光ビームを射出する複数の発光点を有し、前記複数の発光点から射出される複数の前記光ビームが前記感光体上において前記感光体の回転方向の異なる位置を画素のピッチ範囲内で照射するように前記複数の発光点が配列された光源と、
   複数の鏡面を有し、前記光源から射出される前記光ビームが前記感光体上を所定の方向に移動するように前記光ビームを前記鏡面によって偏向する回転多面鏡と、
   前記回転多面鏡によって偏向された光ビームの検出に応じて同期信号を生成する検出手段と、
   前記回転多面鏡の回転中において前記光源から射出された前記光ビームを偏向する鏡面を特定する特定手段と、
   前記回転多面鏡が有する前記複数の鏡面それぞれの面倒れ量によって生じる前記感光体の回転方向における前記画素のピッチの変動を低減するために、前記鏡面に対応した発光点を選択する選択データを記憶する記憶手段と、
   前記特定手段によって特定された前記鏡面に対応した前記選択データに基づいて前記複数の発光点の中から前記画像データに基づく光ビームを射出させる発光点を選択し、選択した発光点から前記光ビームが射出されるように前記光源を駆動する制御手段と、を備え、
   前記制御手段は、前記選択した発光点から射出された前記光ビームの検出に応じて前記検出手段によって生成される前記同期信号に基づいて、前記選択した発光点からの前記画像データに基づく光ビームの射出タイミングを制御することを特徴とする光走査装置。
2. 前記特定手段は、前記回転多面鏡のいずれか１つの鏡面に対応する位置に設けられた磁石と、前記磁石が回転してきたことを検出したことに応じて検出信号を出力するホール素子とを備え、
   前記特定手段は、前記ホール素子から前記検出信号が出力されたタイミングと前記回転多面鏡の回転周期とから前記回転多面鏡のいずれの鏡面が前記光ビームを偏向するかを特定することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
3. 請求項１または２に記載の光走査装置を備える画像形成装置。

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