JP7087424B2 - 走査露光装置、走査露光装置の製造方法および走査露光装置の制御方法 - Google Patents

走査露光装置、走査露光装置の製造方法および走査露光装置の制御方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7087424B2
JP7087424B2 JP2018020908A JP2018020908A JP7087424B2 JP 7087424 B2 JP7087424 B2 JP 7087424B2 JP 2018020908 A JP2018020908 A JP 2018020908A JP 2018020908 A JP2018020908 A JP 2018020908A JP 7087424 B2 JP7087424 B2 JP 7087424B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
timing
polygon mirror
optical sensor
writing time
time
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018020908A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019139006A (ja
Inventor
宝浩 島津
駿介 蜂谷
佳史 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Brother Industries Ltd
Original Assignee
Brother Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Brother Industries Ltd filed Critical Brother Industries Ltd
Priority to JP2018020908A priority Critical patent/JP7087424B2/ja
Priority to US16/270,873 priority patent/US10642185B2/en
Publication of JP2019139006A publication Critical patent/JP2019139006A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7087424B2 publication Critical patent/JP7087424B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
    • G03G15/043—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Laser Beam Printer (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
  • Color Electrophotography (AREA)

Description

本発明は、走査露光装置、走査露光装置の製造方法および走査露光装置の制御方法に関する。
従来、第１の感光体を露光するための第１ビームを発生する第１のレーザダイオードと、第２の感光体を露光するための第２ビームを発生する第２のレーザダイオードと、第１ビームおよび第２ビームを反射するポリゴンミラーと、ポリゴンミラーにより反射された第１ビームを受光する１つのＢＤセンサとを有する走査露光装置が知られている（特許文献１参照）。この技術では、ＢＤセンサで第１ビームを検知してから第１の書出時間後に第１ビームにより露光を開始し、ＢＤセンサで第１ビームを検知してから第２の書出時間後に第２ビームにより露光を開始している。
特開２０１１－２２４９９９号公報
ところで、従来技術は、第１ビームを検知するＢＤセンサでポリゴンミラーの面ごとの第１ビームの検知間隔を測定し、その結果に基づいて第２の書出時間を生成している。そのため、ＢＤセンサの検知に誤差が生じた場合に、生成される第２の書出時間が変動する可能性がある。第２の書出時間が変動すると、第２の感光体上における第２ビームの書出位置の精度が低下するので、精度の良い露光を行うことができない。
本発明は、以上の背景に鑑みてなされたものであり、精度の良い露光を行うことができる走査露光装置、走査露光装置の製造方法および走査露光装置の制御方法を提供することを目的とする。
前記した目的を達成するため、本発明の走査露光装置は、第１ビームを出射する第１光源と、第２ビームを出射する第２光源と、第１ビームおよび第２ビームを反射するｎ個の反射面を有するポリゴンミラーと、ポリゴンミラーで反射された第１ビームを第１感光体に結像する第１走査光学系と、ポリゴンミラーで反射された第２ビームを第２感光体に結像する第２走査光学系と、ポリゴンミラーで反射された第１ビームを検知する第１光センサと、ポリゴンミラーで反射された第２ビームを検知する第２光センサと、制御部と、を備える。
制御部は、ポリゴンミラーの各反射面に対応して、第１光センサで第１ビームを検知してから第１ビームで露光を開始する時間である第１書出時間、および、第１光センサで第１ビームを検知してから第２ビームで露光を開始する時間である第２書出時間を記憶している。
そして、制御部は、ポリゴンミラーを一定速度で回転させて、回転しているポリゴンミラーの各反射面で第１ビームおよび第２ビームを反射したときに、第１光センサが第１ビームを検知した第１タイミングと、第２光センサが第２ビームを検知した第２タイミングとを取得するタイミング取得処理と、第１タイミングおよび第２タイミングに基づいて、第１書出時間および第２書出時間に対応する各反射面を特定する特定処理と、を実行する。
このような構成によれば、第１光センサが第１ビームを検知した第１タイミングと、第２光センサが第２ビームを検知した第２タイミングとに基づいて反射面を特定するので、反射面を精度良く特定することができる。これにより、第１光センサで書き出しタイミングが検出された第１ビームだけでなく、第１光センサで検出されない第２ビームについても反射面ごとに書出時間を精度良く設定できるので、感光体上における第１ビームおよび第２ビームの書出位置の精度を向上させることができ、精度の良い露光を行うことができる。
前記した走査露光装置において、制御部は、特定処理において、第１タイミングと第２タイミングの時間差に基づいて、第１書出時間および第２書出時間に対応する各反射面を特定し、第１タイミングおよび第２タイミングは、ポリゴンミラーの同一の反射面で反射された、第１ビームを検知したタイミングおよび第２ビームを検知したタイミングである構成とすることができる。
これによれば、反射面ごとの面の精度の違いなどの影響を受けずに反射面を特定することができるので、反射面をより精度良く特定することができる。
前記した走査露光装置において、第１タイミングと第２タイミングの時間差は、第１光センサが第１反射面で反射された第１ビームを検知したタイミングと、第１光センサが第１反射面の次の第２反射面で反射された第１ビームを検知したタイミングとの時間差よりも小さい構成とすることができる。
これによれば、ポリゴンミラーの回転ムラの影響を受けるのを抑制することができるので、反射面をより精度良く特定することができる。
前記した走査露光装置において、制御部は、予め測定された、ポリゴンミラーを一定速度で回転させた場合の、第１光センサが第１ビームを検知したタイミングと、第２光センサが第２ビームを検知したタイミングとの時間差である基準時間差を記憶しており、特定処理において、基準時間差と、第１タイミングと第２タイミングの時間差との相関係数に基づいて、第１書出時間および第２書出時間に対応する各反射面を特定する構成とすることができる。
これによれば、精度の高いマッチングを行うことができるので、反射面をより精度良く特定することができる。また、相関係数を用いることで、基準時間差を決定する際のポリゴンミラーの回転速度と、第１タイミングと第２タイミングを取得する際のポリゴンミラーの回転速度とが異なっていても反射面を特定することができる。
前記した走査露光装置において、制御部は、第１書出時間および第２書出時間に対応する各反射面を識別するための基準面識別子を記憶しており、特定処理において、基準面識別子、および、タイミング取得処理で第１タイミングおよび第２タイミングを取得した各反射面を識別するための取得面識別子を、一の対応パターンで対応させた場合の相関係数である第１相関係数と、基準面識別子と取得面識別子の対応関係を、一の対応パターンに対して、基準面識別子または取得面識別子を１～ｎ－１ずらした対応パターンで対応させた場合の相関係数である第２相関係数～第ｎ相関係数とを計算し、第１相関係数～第ｎ相関係数のうち、最も１に近い相関係数に対応する対応パターンを選択することで、第１書出時間および第２書出時間に対応する各反射面を特定する構成とすることができる。
前記した走査露光装置において、制御部は、特定処理において、第１相関係数～第ｎ相関係数のすべてが０．７未満である場合には、第１書出時間をすべての反射面について同一とし、かつ、第２書出時間をすべての反射面について同一とする構成とすることができる。
前記した走査露光装置において、 第１走査光学系と第２走査光学系は、ポリゴンミラーの回転軸線方向から見て、ポリゴンミラーを間に挟んで互いに反対側に配置された構成とすることができる。
これによれば、第１光センサと第２光センサをポリゴンミラーの回転軸線方向から見てポリゴンミラーを挟んで互いに反対側に配置することができるので、反射面の特定にポリゴンミラーの軸倒れの影響を反映させることができる。これにより、反射面をより精度良く特定することができる。
前記した走査露光装置において、第３ビームを出射する第３光源と、前記回転軸線方向から見て、第１走査光学系と同じ側に配置され、ポリゴンミラーで反射された第３ビームを第３感光体に結像する第３走査光学系と、をさらに備える構成とすることができる。
この場合、制御部は、ポリゴンミラーの各反射面に対応して、第１光センサで第１ビームを検知してから第３ビームで露光を開始する時間である第３書出時間をさらに記憶している構成とすることができる。
これによれば、第１ビームと第２ビームだけでなく、第３ビームについても反射面ごとに書出時間を精度良く設定できるので、感光体上における第１～第３ビームの書出位置の精度を向上させることができる。
前記した走査露光装置において、第１光センサは、第１ビームで第１感光体を露光するために走査する範囲よりも、走査方向の上流側に配置され、第２光センサは、第２ビームで第２感光体を露光するために走査する範囲よりも、走査方向の下流側に配置された構成とすることができる。
これによれば、各反射面上における、第１ビームを反射する位置と、第２ビームを反射する位置とを異ならせることができるので、反射面の特定に面精度や面倒れなどの影響を反映させることができる。これにより、反射面をより精度良く特定することができる。
前記した走査露光装置において、第１光源および第２光源は、それぞれ複数の発光点を有し、制御部は、複数の発光点のそれぞれに対応して、書出時間のデータを記憶している構成とすることができる。
これによれば、各発光点から出射される各ビームについて、書出時間を精度良く設定できるので、感光体上における各ビームの書出位置の精度を向上させることができる。
また、前記した目的を達成するため、本発明の走査露光装置の製造方法は、第１光源と、第２光源と、ポリゴンミラーと、第１走査光学系と、第２走査光学系と、第１光センサと、第２光センサと、制御部であって、ポリゴンミラーの各反射面に対応して第１書出時間および第２書出時間を記憶しており、タイミング取得処理と、基準時間差、第１タイミングおよび第２タイミングに基づいて、第１書出時間および第２書出時間に対応する各反射面を特定する特定処理と、を実行する制御部と、を備える走査露光装置の製造方法である。
この製造方法は、ポリゴンミラーの各反射面に対応する第１書出時間および第２書出時間を決定し、制御部に記憶させる工程と、ポリゴンミラーの各反射面に対応する第１光センサが第１ビームを検知したタイミングと第第２光センサが第２ビームを検知したタイミングとの時間差である基準時間差、または、基準時間差を算出するためのポリゴンミラーの各反射面に対応する第１光センサが第１ビームを検知したタイミングおよび第２光センサが第２ビームを検知したタイミングを制御部に記憶させる工程と、を有する。
このような方法によれば、専用の設備を用いて、書出時間を精度良く決定することができるとともに、基準時間差を精度良く設定することができる。これにより、反射面をより精度良く特定することができるので、より精度の良い露光を行うことができる。
また、前記した目的を達成するため、本発明の走査露光装置の制御方法は、第１光源と、第２光源と、ポリゴンミラーと、第１走査光学系と、第２走査光学系と、第１光センサと、第２光センサと、ポリゴンミラーの各反射面に対応して第１書出時間および第２書出時間を記憶した記憶部と、を備える走査露光装置の制御方法である。
この制御方法では、タイミング取得処理と、特定処理と、を実行する。
このような方法によれば、感光体上における第１ビームおよび第２ビームの書出位置の精度を向上させることができるので、精度の良い露光を行うことができる。
本発明によれば、精度の良い露光を行うことができる。
一実施形態に係る走査露光装置を備えた画像形成装置の概略構成を示す図である。 走査露光装置の平面図である。 図２のＩ－Ｉ断面図である。 走査露光装置の拡大平面図である。 書出時間データ（ａ）と、タイミングデータ（ｂ）と、取得時間差データ（ｃ）と、面特定データ（ｄ）を説明する図である。 第２ビームが第２光センサで検知された状態を示す図（ａ）と、第１ビームが第１光センサで検知された状態を示す図（ｂ）と、第１ビームで露光を開始する状態を示す図（ｃ）と、第２ビームで露光を開始する状態を示す図（ｄ）である。 対応パターンを説明する図（ａ）～（ｆ）である。 制御部の動作を示すフローチャートである。 制御部の動作を示すフローチャートである。 変形例に係る書出時間データを説明する図である。
以下、発明の一実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。
図１に示すように、画像形成装置としてカラープリンタ２００は、本体筐体２１０内に、シート供給部２２０と、画像形成部２３０と、シート排出部２９０と、制御部３００とを備えている。
シート供給部２２０は、紙などのシートＰを収容する収容トレイ２２１と、収容トレイ２２１からシートＰを画像形成部２３０へ供給する供給機構２２２とを備えている。
画像形成部２３０は、走査露光装置１と、４つのプロセスカートリッジ２５０と、転写ユニット２７０と、定着装置２８０とを備えている。
走査露光装置１は、複数の感光体２５１の表面を露光する装置であり、本体筐体２１０内の上部に設けられている。なお、走査露光装置１やこの走査露光装置１を制御する制御部３００については、後で詳述する。
プロセスカートリッジ２５０は、シート供給部２２０の上方で前後に配列されており、円筒状の感光ドラムである感光体２５１や、図示しない公知の帯電器、現像ローラ２５３、現像剤収容室などを備えて構成されている。各プロセスカートリッジ２５０内には、それぞれブラック、シアン、マゼンタ、イエローの乾式トナーからなる現像剤が収容されている。なお、本明細書および図面において、各感光体２５１などを特定する場合には、ブラック、シアン、マゼンタ、イエローに対応させて、Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙの記号を付することとする。
転写ユニット２７０は、シート供給部２２０と４つのプロセスカートリッジ２５０との間に設けられ、駆動ローラ２７１と、従動ローラ２７２と、搬送ベルト２７３と、転写ローラ２７４とを備えている。
駆動ローラ２７１および従動ローラ２７２は、前後方向に離間して平行に配置され、その間にエンドレスベルトからなる搬送ベルト２７３が張設されている。また、搬送ベルト２７３の内側には、各感光体２５１との間で搬送ベルト２７３を挟持する転写ローラ２７４が、各感光体２５１に対向して４つ配置されている。
定着装置２８０は、４つのプロセスカートリッジ２５０および転写ユニット２７０の後側に配置され、加熱ローラ２８１と、加熱ローラ２８１と対向配置され加熱ローラ２８１を押圧する加圧ローラ２８２とを備えている。
このように構成される画像形成部２３０では、まず、各感光体２５１の表面が、帯電器により一様に帯電された後、走査露光装置１で露光される。これにより、各感光体２５１上に画像データに基づく静電潜像が形成される。その後、現像ローラ２５３によって、現像剤収容室内の現像剤が、感光体２５１上の静電潜像に供給されることで、感光体２５１上に現像剤像が担持される。
次に、搬送ベルト２７３上に供給されたシートＰが各感光体２５１と各転写ローラ２７４との間を通過することで、各感光体２５１上に形成された現像剤像がシートＰ上に転写される。そして、定着装置２８０によりシートＰ上に転写された現像剤像が熱定着されることで、シートＰに画像が形成される。
シート排出部２９０は、シートＰを搬送する複数の搬送ローラ２９１を主に備えている。画像が形成されたシートＰは、搬送ローラ２９１によって搬送され、本体筐体２１０の外部に排出される。
次に、走査露光装置１の構成について詳細に説明する。なお、以下の説明において、「主走査方向」とは、ビームを走査する方向であり、本実施形態では、感光体２５１の回転軸線方向に相当する。また、「副走査方向」とは、像面となる感光体２５１の表面上での主走査方向に直交する方向である。
図２および図３に示すように、走査露光装置１は、１つのケーシング１００と、４つの光源装置２０（２０Ｙ，２０Ｍ，２０Ｃ，２０Ｋ）と、２つの反射鏡７１と、２つの第１シリンドリカルレンズ３０と、１つのポリゴンミラー４０と、１つの第１走査光学系ＳＣ１と、１つの第２走査光学系ＳＣ２と、１つの第３走査光学系ＳＣ３と、１つの第４走査光学系ＳＣ４とを備えている。
光源装置２０Ｙ，２０Ｍ，２０Ｃ，２０Ｋは、ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫを出射する装置であり、走査露光装置１が走査露光する４つの感光体２５１Ｙ，２５１Ｍ，２５１Ｃ，２５１Ｋに対応して４つ設けられている。光源装置２０Ｍと光源装置２０Ｃは、前後方向に並んで配置され、左右方向にビームＢＭ，ＢＣを出射するように構成されている。光源装置２０Ｙと光源装置２０Ｋは、前後方向において互いに向かい合った状態で、出射するビームＢＹ，ＢＫが、光源装置２０Ｍ，２０Ｃが出射するビームＢＭ，ＢＣに対して略直交するように配置されている。本実施形態では、光源装置２０Ｙが「第１光源」に相当し、光源装置２０Ｋが「第２光源」に相当し、光源装置２０Ｍが「第３光源」に相当する。また、光源装置２０Ｃは、第４光源ということができる。
光源装置２０Ｙ～２０Ｋは、それぞれ、半導体レーザＬＤと、カップリングレンズ２１と、フレーム２２とを主に備えている。カップリングレンズ２１は、半導体レーザＬＤから発散して出射されるレーザ光を光ビームに変換するレンズである。なお、カップリングレンズ２１によって変換されて得られた光ビームは、平行光、収束光および発散光のいずれであってもよい。ここで、以下の説明では、光源装置２０Ｙから出射されるビームＢＹを第１ビームＢＹとも称し、光源装置２０Ｋから出射されるビームＢＫを第２ビームＢＫとも称する。また、光源装置２０Ｍから出射されるビームＢＭを第３ビームＢＭとも称し、光源装置２０Ｃから出射されるビームＢＣを第４ビームＢＣとも称する。
反射鏡７１は、光源装置２０ＹからのビームＢＹまたは光源装置２０ＫからのビームＢＫをポリゴンミラー４０に向けて反射する部材であり、光源装置２０Ｍ，２０Ｃとポリゴンミラー４０との間に配置されている。なお、光源装置２０ＭからのビームＢＭと光源装置２０ＣからのビームＢＣは、それぞれ、反射鏡７１の上を通過してポリゴンミラー４０に入射される。
第１シリンドリカルレンズ３０は、ポリゴンミラー４０の面倒れを補正するため、ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫを屈折させて副走査方向に収束し、ポリゴンミラー４０のミラー面４１～４６上で主走査方向に長い線状に結像させるレンズである。この第１シリンドリカルレンズ３０は、反射鏡７１とポリゴンミラー４０との間に配置されている。
なお、反射鏡７１と第１シリンドリカルレンズ３０との間に設けられたケーシング１００の壁１５１には、複数の開口（破線参照）が設けられており、この壁１５１の開口は、通過するビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫの主走査方向および副走査方向の幅を規定している。
ポリゴンミラー４０は、ｎ個の反射面として、回転軸線４０Ａから等距離に設けられた６つのミラー面４１～４６を有している。ポリゴンミラー４０は、各ミラー面４１～４６が回転軸線４０Ａを中心に一定速度で回転することで、第１シリンドリカルレンズ３０を通過したビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫを反射して主走査方向に偏向する。詳しくは、ポリゴンミラー４０は、光源装置２０Ｙから出射される第１ビームＢＹを第１走査光学系ＳＣ１に向けて反射し、光源装置２０Ｋから出射される第２ビームＢＫを第２走査光学系ＳＣ２に向けて反射する。また、ポリゴンミラー４０は、光源装置２０Ｍから出射される第３ビームＢＭを第３走査光学系ＳＣ３に向けて反射し、光源装置２０Ｃから出射される第４ビームＢＣを第４走査光学系ＳＣ４に向けて反射する。ポリゴンミラー４０は、ケーシング１００のほぼ中央で、左右方向において光源装置２０Ｍ，２０Ｃと対向して配置されている。
第１走査光学系ＳＣ１は、ポリゴンミラー４０で反射された第１ビームＢＹを感光体２５１Ｙに結像する光学系であり、１つのｆθレンズ５０と、１つの第２シリンドリカルレンズ６０（６０Ｙ）と、複数の反射鏡７４（７４Ｙ），７５（７５Ｙ）とを備えている。第２走査光学系ＳＣ２は、ポリゴンミラー４０で反射された第２ビームＢＫを感光体２５１Ｋに結像する光学系であり、１つのｆθレンズ５０と、１つの第２シリンドリカルレンズ６０（６０Ｋ）と、複数の反射鏡７４（７４Ｋ），７５（７５Ｋ）とを備えている。
第３走査光学系ＳＣ３は、ポリゴンミラー４０で反射された第３ビームＢＭを感光体２５１Ｍに結像する光学系であり、１つのｆθレンズ５０と、１つの第２シリンドリカルレンズ６０（６０Ｍ）と、複数の反射鏡７２（７２Ｍ），７３（７３Ｍ）とを備えている。第４走査光学系ＳＣ４は、ポリゴンミラー４０で反射された第４ビームＢＣを感光体２５１Ｃに結像する光学系であり、１つのｆθレンズ５０と、１つの第２シリンドリカルレンズ６０（６０Ｃ）と、複数の反射鏡７２（７２Ｃ），７３（７３Ｃ）とを備えている。
ここで、以下の説明では、感光体２５１Ｙを第１感光体２５１Ｙとも称し、感光体２５１Ｋを第２感光体２５１Ｋとも称し、感光体２５１Ｍを第３感光体２５１Ｍとも称し、感光体２５１Ｃを第４感光体２５１Ｃとも称する。
ｆθレンズ５０は、ポリゴンミラー４０によって等角速度で走査されたビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫを感光体２５１の表面に収束するとともに、感光体２５１の表面で主走査方向に等速度で走査するように変換するレンズであり、ポリゴンミラー４０の前後に１つずつ、合計２つ設けられている。なお、ポリゴンミラー４０の前側に設けられたｆθレンズ５０は、第１走査光学系ＳＣ１と第３走査光学系ＳＣ３で共通の部材であり、ポリゴンミラー４０の後側に設けられたｆθレンズ５０は、第２走査光学系ＳＣ２と第４走査光学系ＳＣ４で共通の部材である。
第２シリンドリカルレンズ６０は、ポリゴンミラー４０の面倒れを補正するため、ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫを屈折させて副走査方向に収束し、感光体２５１の表面上に結像させるレンズである。この第２シリンドリカルレンズ６０（６０Ｙ～６０Ｋ）は、４つの光源装置２０Ｙ～２０Ｋに対応して４つ設けられている。第２シリンドリカルレンズ６０Ｍ，６０Ｃは、ｆθレンズ５０の上方に配置され、第２シリンドリカルレンズ６０Ｙ，６０Ｋは、ｆθレンズ５０とケーシング１００の側壁１２０との間で、側壁１２０と対向して配置されている。
反射鏡７２～７５は、ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫを反射する部材であり、例えば、ガラス板の表面にアルミニウムなどの反射率が高い材料を蒸着することにより形成されている。
反射鏡７２（７２Ｍ，７２Ｃ）は、ｆθレンズ５０と第２シリンドリカルレンズ６０Ｙ，６０Ｋとの間に配置されており、ｆθレンズ５０を通過したビームＢＭ，ＢＣを第２シリンドリカルレンズ６０Ｍ，６０Ｃに向けて反射する。また、反射鏡７３（７３Ｍ，７３Ｃ）は、ｆθレンズ５０の上方に配置されており、第２シリンドリカルレンズ６０Ｍ，６０Ｃを通過したビームＢＭ，ＢＣを感光体２５１Ｍ，２５１Ｃの表面に向けて反射する。
反射鏡７４（７４Ｙ，７４Ｋ）は、第２シリンドリカルレンズ６０Ｙ，６０Ｋとケーシング１００の側壁１２０との間で、側壁１２０に沿うように配置されており、第２シリンドリカルレンズ６０Ｙ，６０Ｋを通過したビームＢＹ，ＢＫを反射鏡７５に向けて反射する。また、反射鏡７５（７５Ｙ，７５Ｋ）は、第２シリンドリカルレンズ６０Ｙ，６０Ｋの上方に配置されており、反射鏡７４で反射されたビームＢＹ，ＢＫを感光体２５１Ｙ，２５１Ｋの表面に向けて反射する。
第１走査光学系ＳＣ１と第２走査光学系ＳＣ２は、ポリゴンミラー４０の回転軸線４０Ａが延びる方向（以下、「回転軸線方向」という。）から見て、ポリゴンミラー４０を間に挟んで互いに反対側に配置されている。具体的には、第１走査光学系ＳＣ１は、ポリゴンミラー４０の前側に配置され、第２走査光学系ＳＣ２は、ポリゴンミラー４０の後側に配置されている。
第３走査光学系ＳＣ３は、回転軸線方向から見て、第１走査光学系ＳＣ１と同じ側である、ポリゴンミラー４０の前側に配置されている。また、第４走査光学系ＳＣ４は、回転軸線方向から見て、第２走査光学系ＳＣ２と同じ側である、ポリゴンミラー４０の後側に配置されている。
ケーシング１００は、光源装置２０やポリゴンミラー４０、第２シリンドリカルレンズ６０、反射鏡７１～７５などを収容する部材である。このケーシング１００は、支持壁１１０と、支持壁１１０の前後方向の両端部から上方に突出する側壁１２０とを主に有している。
支持壁１１０は、ケーシング１００の下側の壁であり、光源装置２０やポリゴンミラー４０、ｆθレンズ５０、第２シリンドリカルレンズ６０Ｙ，６０Ｋ、反射鏡７２，７４などを支持している。この支持壁１１０には、反射鏡７３，７５で反射して感光体２５１の表面に向かうビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫをそれぞれ通過させる４つの露光口１１１～１１４が前後方向に並んで形成されている。
このように構成される走査露光装置１では、図２に示すように、光源装置２０Ｍ，２０Ｃから出射されたビームＢＭ，ＢＣは、第１シリンドリカルレンズ３０を通過して、ポリゴンミラー４０で反射されて主走査方向に偏向される。また、光源装置２０Ｙ，２０Ｋから出射されたビームＢＹ，ＢＫは、反射鏡７１で反射されて進路をポリゴンミラー４０に向けた後、第１シリンドリカルレンズ３０を通過して、ポリゴンミラー４０で反射されて主走査方向に偏向される。
そして、図３に示すように、ポリゴンミラー４０で反射されたビームＢＭ，ＢＣは、ｆθレンズ５０を通過し、反射鏡７２で反射され、第２シリンドリカルレンズ６０を通過した後、反射鏡７３で反射されて感光体２５１Ｍ，２５１Ｃの表面を走査露光する。また、ポリゴンミラー４０で反射されたビームＢＹ，ＢＫは、ｆθレンズ５０および第２シリンドリカルレンズ６０を通過し、反射鏡７４で反射された後、反射鏡７５で反射されて感光体２５１Ｙ，２５１Ｋの表面を走査露光する。
図２に示すように、走査露光装置１は、第１光センサＢＤ１と、第２光センサＢＤ２とをさらに備えている。
図４に示すように、第１光センサＢＤ１は、ポリゴンミラー４０で反射された第１ビームＢＹを検知するセンサであり、受光素子８１と、受光素子８１が組み付けられる回路基板８２とを主に備えている。第１光センサＢＤ１は、ケーシング１００の前側の側壁１２０に形成される開口１２１を塞ぐように、側壁１２０に対して外側から取り付けられており、これにより、受光素子８１が検知面をケーシング１００の内側に向けた状態で配置されている。
第１光センサＢＤ１は、受光素子８１が第１ビームＢＹを検知したときに信号を制御部３００に出力する。制御部３００は、第１光センサＢＤ１から信号を受信したことに基づいて、各光源装置２０から露光用のビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫを出射するタイミングを決定する。
なお、反射鏡７４Ｙは、その長手方向の端部が第１ビームＢＹを透過可能に構成されている。具体的に、ガラス板の表面に反射率が高い材料を蒸着することにより形成された反射鏡７４Ｙは、第１光センサＢＤ１に対応した部分に、図４にドットをつけて示したミラー層ＭＬが形成されていない。これにより、第１ビームＢＹが反射鏡７４Ｙの端部を通過して受光素子８１で検知可能となっている。第１光センサＢＤ１は、ミラー層ＭＬに対して第１ビームＢＹの走査方向における上流側に配置されている。言い換えると、第１光センサＢＤ１は、第１ビームＢＹで第１感光体２５１Ｙを露光するために走査する範囲よりも、走査方向の上流側に配置されている。
図２に示すように、第２光センサＢＤ２は、ポリゴンミラー４０で反射された第２ビームＢＫを検知するセンサであり、第１光センサＢＤ１と同様の構造となっている。また、第２光センサＢＤ２は、後側の側壁１２０の適所に、第１光センサＢＤ１と同様の方法で取り付けられている。第２光センサＢＤ２は、図示しない受光素子が第２ビームＢＫを検知したときに信号を制御部３００に出力する。
第２光センサＢＤ２は、反射鏡７４Ｋのミラー層ＭＬ（図示略）に対して第２ビームＢＫの走査方向における下流側に配置されている。言い換えると、第２光センサＢＤ２は、第２ビームＢＫで第２感光体２５１Ｋを露光するために走査する範囲よりも、走査方向の下流側に配置されている。
以下の説明では、第１光センサＢＤ１が第１ビームＢＹを検知した時刻を第１タイミングＴ１とし、第２光センサＢＤ２が第２ビームＢＫを検知した時刻を第２タイミングＴ２とする。
図１に示すように、制御部３００は、本体筐体２１０に設けられ、主に、ＣＰＵと、ＲＡＭおよびＲＯＭなどを有する記憶部３１０と、入出力回路とを備えている。制御部３００は、走査露光装置１に接続されており、走査露光装置１の前述した各光センサＢＤ１，ＢＤ２からの信号や、記憶部３１０に記憶されたプログラムやデータに基づいて、走査露光装置１の各光源装置２０やポリゴンミラー４０のモータなどを制御するように構成されている。
記憶部３１０は、ポリゴンミラー４０の各ミラー面４１～４６に対応して、ミラー面４１～４６ごとに、第１書出時間ＴＹ、第２書出時間ＴＫ、第３書出時間ＴＭ、および、第４書出時間ＴＣを記憶している。また、記憶部３１０は、ミラー面４１～４６ごとに、基準時間差ｘを記憶している。
詳しくは、図５（ａ）に示すように、記憶部３１０は、６つのミラー面４１～４６に対応する基準面識別子としての基準面番号Ｆ１～Ｆ６と、各基準面番号Ｆ１～Ｆ６に対応づけられた、基準時間差ｘ（ｘ１～ｘ６）、第１書出時間ＴＹ（ＴＹ１～ＴＹ６）、第２書出時間ＴＫ（ＴＫ１～ＴＫ６）、第３書出時間ＴＭ（ＴＭ１～ＴＭ６）、および、第４書出時間ＴＣ（ＴＣ１～ＴＣ６）とを含む書出時間データを記憶している。
基準面番号Ｆ１～Ｆ６は、書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣに対応する各ミラー面４１～４６を識別するための識別子である。書出時間データは、走査露光装置１の製造時に記憶部３１０に記憶される。
ここで、走査露光装置１の製造方法について説明する。本実施形態では、走査露光装置１の製造工程のうち、特に、制御部３００の記憶部３１０に書出時間データを記憶させる工程について詳細に説明する。書出時間データは、予め測定された、ポリゴンミラー４０を一定速度で回転させた場合の測定データから決定され、記憶される。
詳しくは、本実施形態の製造方法は、ポリゴンミラー４０の各ミラー面４１～４６に対応する書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣを決定して記憶部３１０に記憶させる第１記憶工程と、各ミラー面４１～４６に対応する基準時間差ｘを決定して記憶部３１０に記憶させる第２記憶工程とを主に有している。本実施形態では、この第１記憶工程と第２記憶工程とを略同時に実行している。
具体的には、まず、走査露光装置１を組み立てる。次に、図３に示すように、走査露光装置１を、各感光体２５１に対応する位置に、それぞれ、感光体２５１の代わりに、二点鎖線で示す光センサＢＤＹ，ＢＤＭ，ＢＤＣ，ＢＤＫが配置された測定装置に配置する。光センサＢＤＹは、第１ビームＢＹを検知するセンサであり、光センサＢＤＫは、第２ビームＢＫを検知するセンサであり、光センサＢＤＭは、第３ビームＢＭを検知するセンサであり、光センサＢＤＣは、第４ビームＢＣを検知するセンサである。
各光センサＢＤＹ，ＢＤＫ，ＢＤＭ，ＢＤＣは、シートＰの画像を形成可能な領域の主走査方向における一方の端に対応する位置に配置されている。すなわち、光センサＢＤＹ，ＢＤＫ，ＢＤＭ，ＢＤＣは、第１光センサＢＤ１が第１ビームＢＹを検知した第１タイミングＴ１から、書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣが経過して露光を開始する位置に配置されている。
次に、ポリゴンミラー４０を一定速度で、所定の回転回数または所定の時間、回転させる。そして、ポリゴンミラー４０の回転が安定した（例えば、ポリゴンミラー４０を２０回転以上回転させた）ところで、ポリゴンミラー４０が一回転する間に以下のデータを測定する。
すなわち、まず、図６（ａ）に示すように、第２ビームＢＫを反射する位置に移動してきたミラー面４１で第２ビームＢＫを反射したときに、第２光センサＢＤ２が第２ビームＢＫを検知した時刻としての第２タイミングＴ２を測定する。
次に、図６（ｂ）に示すように、第１ビームＢＹを反射する位置に移動したミラー面４１で第１ビームＢＹを反射したときに、第１光センサＢＤ１が第１ビームＢＹを検知した時刻としての第１タイミングＴ１を測定する。
また、図６（ｃ）および図３に示すように、ミラー面４１で反射された第１ビームＢＹを光センサＢＤＹが検知した時刻としてのタイミングＴＳＹを測定するとともに、ミラー面４１で反射された第３ビームＢＭを光センサＢＤＭが検知した時刻としてのタイミングＴＳＭを測定する。
また、図６（ｄ）および図３に示すように、ビームＢＣ，ＢＫを反射する位置に移動してきたミラー面４３で反射された第４ビームＢＣを光センサＢＤＣが検知した時刻としてのタイミングＴＳＣを測定するとともに、ミラー面４３で反射された第２ビームＢＫを光センサＢＤＫが検知した時刻としてのタイミングＴＳＫを測定する。
ここで、ミラー面４３は、ミラー面４１で反射された第１ビームＢＹを第１光センサＢＤ１が検知してから、第２ビームＢＫを光センサＢＤＫが検知するまでの時間が最も短くなる位置のミラー面である。すなわち、そのような位置にあるミラー面を用いて、タイミングＴＳＣ，ＴＳＫを測定する。
そして、第１タイミングＴ１から、第１ビームＢＹを光センサＢＤＹが検知したタイミングＴＳＹまでの時間を第１書出時間ＴＹ１に決定する。第１書出時間ＴＹ１は、ミラー面４１で反射された第１ビームＢＹを第１光センサＢＤ１で検知してから、ミラー面４１で反射される第１ビームＢＹで第１感光体２５１Ｙの露光を開始する時間である。
また、第１タイミングＴ１から、第２ビームＢＫを光センサＢＤＫが検知したタイミングＴＳＫまでの時間を第２書出時間ＴＫ１に決定する。第２書出時間ＴＫ１は、ミラー面４１で反射された第１ビームＢＹを第１光センサＢＤ１で検知してから、ミラー面４３で反射される第２ビームＢＫで第２感光体２５１Ｋの露光を開始する時間である。
また、第１タイミングＴ１から、第３ビームＢＭを光センサＢＤＭが検知したタイミングＴＳＭまでの時間を第３書出時間ＴＭ１に決定する。第３書出時間ＴＭ１は、ミラー面４１で反射された第１ビームＢＹを第１光センサＢＤ１で検知してから、ミラー面４１で反射される第３ビームＢＭで第３感光体２５１Ｍの露光を開始する時間である。
また、第１タイミングＴ１から、第４ビームＢＣを光センサＢＤＣが検知したタイミングＴＳＣまでの時間を第４書出時間ＴＣ１に決定する。第４書出時間ＴＣ１は、ミラー面４１で反射された第１ビームＢＹを第１光センサＢＤ１で検知してから、ミラー面４３で反射される第４ビームＢＣで第４感光体２５１Ｃの露光を開始する時間である。
また、第１タイミングＴ１と第２タイミングＴ２との時間差である基準時間差ｘ１を、例えば、第１タイミングＴ１から第２タイミングＴ２を引いた値として算出して決定する。言い換えると、基準時間差ｘ１は、ミラー面４１で第２ビームＢＫを反射したときに、第２光センサＢＤ２が第２ビームＢＫを検知した第２タイミングＴ２から、ミラー面４１で第１ビームＢＹを反射したときに、第１光センサＢＤ１が第１ビームＢＹを検知した第１タイミングＴ１までの時間である。
そして、決定した書出時間ＴＹ１，ＴＫ１，ＴＭ１，ＴＣ１および基準時間差ｘ１を、基準面番号Ｆ１とともに、書出時間データとして記憶部３１０に記憶させる。
なお、第１タイミングＴ１と第２タイミングＴ２の時間差は、ポリゴンミラー４０が一回転する間に、例えば、第１光センサＢＤ１が第１反射面としてのミラー面４１で反射された第１ビームＢＹを検知したタイミングと、第１光センサＢＤ１が第１反射面の次の第２反射面としてのミラー面４２で反射された第１ビームＢＹを検知したタイミングとの時間差ｚよりも小さくなっている。すなわち、第１タイミングＴ１と第２タイミングＴ２の時間差である基準時間差ｘや後述する取得時間差ｙは、時間差ｚよりも短い時間である。
本実施形態の製造方法では、このような各タイミングの測定と、書出時間および基準時間差の決定を、ミラー面４１の回転方向上流側のミラー面４２～４６について順次行う。なお、タイミングＴＳＣ，ＴＳＫを測定するためのミラー面は、ミラー面４２についてはミラー面４４であり、ミラー面４３についてはミラー面４５であり、ミラー面４４についてはミラー面４６であり、ミラー面４５についてはミラー面４１であり、ミラー面４６についてはミラー面４２である。
そして、ミラー面４２を用いて決定した書出時間ＴＹ２，ＴＫ２，ＴＭ２，ＴＣ２および基準時間差ｘ２を、基準面番号Ｆ２とともに、書出時間データとして記憶部３１０に記憶させる。ミラー面４３～４５を用いた場合も同様である。そして、ミラー面４６を用いて決定した書出時間ＴＹ６，ＴＫ６，ＴＭ６，ＴＣ６および基準時間差ｘ６を、基準面番号Ｆ６とともに、書出時間データとして記憶部３１０に記憶させる。書出時間データの記憶が終了したら、ポリゴンミラー４０の回転を停止させる。
なお、本実施形態では、理解を容易とするために、基準面番号Ｆ１のミラー面をミラー面４１としたが、基準面番号Ｆ１のミラー面は、最初に書出時間および基準時間差を決定した任意のミラー面であればよい。
また、タイミングの測定は、走査露光装置１をカラープリンタ２００の本体筐体２１０に取り付けた状態で行ってもよい。また、第１記憶工程と第２記憶工程は、同時ではなく、別々に行ってもよい。また、記憶部３１０に記憶させる書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣや基準時間差ｘは、複数求めた基準時間差や書出時間の平均値であってもよい。なお、本発明において、書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣは、時間そのものでなくてもよく、書出時間を決定するためのデータであればよい。
次に、制御部３００が実行する処理について説明する。
制御部３００は、走査露光装置１を制御する場合、タイミング取得処理と、特定処理と、露光処理とを主に実行する。本実施形態において、制御部３００は、画像形成開始の指示や画像データなどを含む印刷ジョブが入力されてシートＰへの画像形成を開始する場合に、タイミング取得処理、特定処理および露光処理を実行する。
タイミング取得処理は、ポリゴンミラー４０を一定速度で回転させて、回転しているポリゴンミラー４０の各ミラー面４１～４６で第１ビームＢＹおよび第２ビームＢＫを反射したときに、第１光センサＢＤ１が第１ビームＢＹを検知した第１タイミングＴ１と、第２光センサＢＤ２が第２ビームＢＫを検知した第２タイミングＴ２とを取得する処理である。
詳しくは、制御部３００は、タイミング取得処理において、まず、ポリゴンミラー４０を一定速度で、所定の回転回数または所定の時間、回転させる。そして、ポリゴンミラー４０の回転が安定した（例えば、ポリゴンミラー４０を２０回転以上回転させた）ところで、ポリゴンミラー４０が一回転する間に以下のデータを取得する。
すなわち、制御部３００は、図６（ａ）に示す、第２ビームＢＫを反射する位置に移動してきた任意のミラー面で第２ビームＢＫを反射したときに、第２光センサＢＤ２が第２ビームＢＫを検知した時刻としての第２タイミングＴ２（Ｔ２１）を取得して記憶部３１０に記憶する。
また、制御部３００は、図６（ｂ）に示す、第１ビームＢＹを反射する位置に移動した同一のミラー面で第１ビームＢＹを反射したときに、第１光センサＢＤ１が第１ビームＢＹを検知した時刻としての第１タイミングＴ１（Ｔ１１）を取得して記憶部３１０に記憶する。
そして、制御部３００は、取得した第１タイミングＴ１１と第２タイミングＴ２１を、取得面識別子としての取得面番号Ａ１とともに、図５（ｂ）に示すようなタイミングデータとして記憶部３１０に記憶する。
制御部３００は、このような処理を前記したミラー面の回転方向上流側のミラー面について順次行う。そして、取得した、第１タイミングＴ１２と第２タイミングＴ２２を取得面番号Ａ２とともに記憶し、第１タイミングＴ１３と第２タイミングＴ２３を取得面番号Ａ３とともに記憶し、第１タイミングＴ１４と第２タイミングＴ２４を取得面番号Ａ４とともに記憶し、第１タイミングＴ１５と第２タイミングＴ２５を取得面番号Ａ５とともに記憶し、第１タイミングＴ１６と第２タイミングＴ２６を取得面番号Ａ６とともに記憶する。
取得面番号Ａ１～Ａ６は、タイミング取得処理で第１タイミングＴ１および第２タイミングＴ２を取得した各ミラー面を識別するための識別子である。
本実施形態において、１組の第１タイミングＴ１と第２タイミングＴ２は、ポリゴンミラー４０の同一のミラー面から取得されたタイミングである。詳しくは、１組の第１タイミングＴ１および第２タイミングＴ２は、ポリゴンミラー４０の同一のミラー面で反射された、第１ビームＢＹを第１光センサＢＤ１で検知したタイミング、および、第２ビームＢＫを第２光センサＢＤ２で検知したタイミングである。
特定処理は、タイミング取得処理で取得した第１タイミングＴ１および第２タイミングＴ２に基づいて、書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣに対応する各ミラー面を特定する処理である。詳しくは、制御部３００は、特定処理において、第１タイミングＴ１と第２タイミングＴ２の時間差である取得時間差ｙに基づいて、取得面番号Ａ１～Ａ６のミラー面が、基準面番号Ｆ１～Ｆ６のミラー面４１～４６のどれに対応するかを特定する。より詳しくは、制御部３００は、基準時間差ｘと、取得時間差ｙとの相関係数ｒに基づいて、ミラー面を特定する。
具体的に、制御部３００は、まず、ミラー面（取得面番号Ａ１～Ａ６）ごとに、取得時間差ｙを算出する。本実施形態では、取得時間差ｙ（ｙ１～ｙ６）を、一例として、第１タイミングＴ１（Ｔ１１～Ｔ１６）から第２タイミングＴ２（Ｔ２１～Ｔ２６）を引いた値として算出し、取得面番号Ａ１～Ａ６とともに、図５（ｃ）に示すような取得時間差データとして記憶部３１０に記憶する。
なお、制御部３００は、タイミング取得処理でミラー面ごとに第１タイミングＴ１と第２タイミングＴ２の組を複数取得し、特定処理において、各組についての時間差をそれぞれ算出した上で、算出した複数の時間差の平均値を取得時間差ｙとして記憶するように構成されていてもよい。
次に、制御部３００は、図７（ａ）に示すように、取得面番号Ａ１を基準面番号Ｆ１に対応させ、取得面番号Ａ２を基準面番号Ｆ２に対応させ、取得面番号Ａ３を基準面番号Ｆ３に対応させ、取得面番号Ａ４を基準面番号Ｆ４に対応させ、取得面番号Ａ５を基準面番号Ｆ５に対応させ、取得面番号Ａ６を基準面番号Ｆ６に対応させた第１対応パターンを生成して記憶部３１０に記憶する。第１対応パターンは、「一の対応パターン」に相当する。
次に、制御部３００は、基準面番号Ｆ１～Ｆ６と取得面番号Ａ１～Ａ６を、第１対応パターンで対応させた場合の相関係数ｒである第１相関係数ｒ１を計算し、記憶部３１０に記憶する。
相関係数ｒは、一例として、基準時間差ｘ１～ｘ６の平均値をｘave、取得時間差ｙ１～ｙ６の平均値をｙaveとして、以下の式により算出することができる。
ｒ＝Σ（ｘ－ｘave）（ｙ－ｙave）／（Σ（ｘ－ｘave）2・Σ（ｙ－ｙave）2）1/2
なお、図７に示した基準時間差ｘ、取得時間差ｙおよび相関係数ｒの数値はいずれも一例である。
次に、制御部３００は、図７（ｂ）に示すように、基準面番号Ｆ１～Ｆ６と取得面番号Ａ１～Ａ６の対応関係を、第１対応パターンに対して、取得面番号Ａ１～Ａ６を１ずらした対応パターンである第２対応パターンを生成して記憶部３１０に記憶する。第２対応パターンは、取得面番号Ａ１を基準面番号Ｆ２に対応させ、取得面番号Ａ２を基準面番号Ｆ３に対応させ、取得面番号Ａ３を基準面番号Ｆ４に対応させ、取得面番号Ａ４を基準面番号Ｆ５に対応させ、取得面番号Ａ５を基準面番号Ｆ６に対応させ、取得面番号Ａ６を基準面番号Ｆ１に対応させた対応パターンである。
そして、制御部３００は、基準面番号Ｆ１～Ｆ６と取得面番号Ａ１～Ａ６を、第２対応パターンで対応させた場合の相関係数ｒである第２相関係数ｒ２を計算し、記憶部３１０に記憶する。
以下同様にして、制御部３００は、図７（ｃ）に示すように、第１対応パターンに対して、取得面番号Ａ１～Ａ６を２ずらした対応パターンである第３対応パターンを生成し、その場合の相関係数ｒである第３相関係数ｒ３を計算して記憶する。また、制御部３００は、図７（ｄ）に示すように、第１対応パターンに対して、取得面番号Ａ１～Ａ６を３ずらした対応パターンである第４対応パターンを生成し、その場合の相関係数ｒである第４相関係数ｒ４を計算して記憶する。また、制御部３００は、図７（ｅ）に示すように、第１対応パターンに対して、取得面番号Ａ１～Ａ６を４ずらした対応パターンである第５対応パターンを生成し、その場合の相関係数ｒである第５相関係数ｒ５を計算して記憶する。
そして、制御部３００は、図７（ｆ）に示すように、基準面番号Ｆ１～Ｆ６と取得面番号Ａ１～Ａ６の対応関係を、第１対応パターンに対して、取得面番号Ａ１～Ａ６を５ずらした対応パターンである第６対応パターンで対応させ、その場合の相関係数ｒである第６相関係数ｒ６を計算して記憶する。本実施形態では、第６相関係数が「第ｎ相関係数」に相当する。
第１相関係数ｒ１～第６相関係数ｒ６を計算した後、制御部３００は、第１相関係数ｒ１～第６相関係数ｒ６のうち、最も１に近い相関係数ｒに対応する対応パターンを選択することで、取得面番号Ａ１～Ａ６のミラー面と、基準面番号Ｆ１～Ｆ６のミラー面４１～４６との対応関係を特定する。
具体的には、制御部３００は、最も１に近い第６相関係数ｒ６に対応する第６対応パターンを選択し、図５（ｄ）に示すように、取得面番号Ａ２のミラー面を基準面番号Ｆ１のミラー面４１と特定し、取得面番号Ａ３のミラー面を基準面番号Ｆ２のミラー面４２と特定し、取得面番号Ａ４のミラー面を基準面番号Ｆ３のミラー面４３と特定し、取得面番号Ａ５のミラー面を基準面番号Ｆ４のミラー面４４と特定し、取得面番号Ａ６のミラー面を基準面番号Ｆ５のミラー面４５と特定し、取得面番号Ａ１のミラー面を基準面番号Ｆ６のミラー面４６と特定して、面特定データとして記憶部３１０に記憶する。
なお、制御部３００は、第１相関係数ｒ１～第６相関係数ｒ６のすべてが０．７未満である場合には、第１書出時間ＴＹをすべてのミラー面４１～４６について同一とし、第２書出時間ＴＫをすべてのミラー面４１～４６について同一とし、第３書出時間ＴＭをすべてのミラー面４１～４６について同一とし、第４書出時間ＴＣをすべてのミラー面４１～４６について同一とする。一例として、制御部３００は、第１相関係数ｒ１～第６相関係数ｒ６のすべてが０．７未満である場合、すべてのミラー面４１～４６について、第１書出時間ＴＹをＴＹ１～ＴＹ６の平均値とし、第２書出時間ＴＫをＴＫ１～ＴＫ６の平均値とし、第３書出時間ＴＭをＴＭ１～ＴＭ６の平均値とし、第４書出時間ＴＣをＴＣ１～ＴＣ６の平均値として記憶部３１０に記憶する。
露光処理は、シートＰへの画像形成時に、特定処理で特定した各ミラー面４１～４６と、書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣとの対応に基づき、各光源装置２０からビームＢＹ，ＢＫ，ＢＭ，ＢＣを出射して各感光体２５１の露光を行う処理である。
詳しくは、制御部３００は、露光処理において、図５（ｄ）に示す面特定データに基づいて、取得面番号Ａ１～Ａ６を基準面番号Ｆ１～Ｆ６に置き換え、図５（ａ）に示す書出時間データに基づいて、ミラー面４１～４６ごとに書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣを決定し、各感光体２５１の露光を行う。
例えば、制御部３００は、ミラー面４１（取得面番号Ａ２であったミラー面）を利用する場合には、図６（ｂ）に示す第１光センサＢＤ１がミラー面４１で反射された第１ビームＢＹを検知した検知タイミングＴＳから第１書出時間ＴＹ１後に、図６（ｃ）に示すように、ミラー面４１で反射される第１ビームＢＹにより第１感光体２５１Ｙの露光を開始する。また、制御部３００は、検知タイミングＴＳから第３書出時間ＴＭ１後にミラー面４１で反射される第３ビームＢＭにより第３感光体２５１Ｍの露光を開始する。
また、制御部３００は、検知タイミングＴＳから第２書出時間ＴＫ１後に、図６（ｄ）に示すように、ミラー面４３で反射される第２ビームＢＫにより第２感光体２５１Ｋの露光を開始し、検知タイミングＴＳから第４書出時間ＴＣ１後にミラー面４３で反射される第４ビームＢＣにより第４感光体２５１Ｃの露光を開始する。
同様に、制御部３００は、ミラー面４２（取得面番号Ａ３であったミラー面）を利用する場合には、第１光センサＢＤ１がミラー面４２で反射された第１ビームＢＹを検知した検知タイミングＴＳから第１書出時間ＴＹ２後にミラー面４２で反射される第１ビームＢＹにより第１感光体２５１Ｙの露光を開始する。また、検知タイミングＴＳを基準として、第３書出時間ＴＭ２後にミラー面４２で反射される第３ビームＢＭにより第３感光体２５１Ｍの露光を開始し、第２書出時間ＴＫ２後にミラー面４４で反射される第２ビームＢＫにより第２感光体２５１Ｋの露光を開始し、第４書出時間ＴＣ２後にミラー面４４で反射される第４ビームＢＣにより第４感光体２５１Ｃの露光を開始する。
以下、ミラー面４３（取得面番号Ａ４であったミラー面）を利用する場合、ミラー面４４（取得面番号Ａ５であったミラー面）を利用する場合、ミラー面４５（取得面番号Ａ６であったミラー面）を利用する場合、および、ミラー面４６（取得面番号Ａ１であったミラー面）を利用する場合も同様である。
次に、制御部３００の動作（走査露光装置１の制御方法）について説明する。
図８に示すように、制御部３００に印刷ジョブが入力されて、シートＰへの画像形成を開始する場合（Ｓ１０，Ｙｅｓ）、制御部３００は、まず、タイミング取得処理を実行する。
詳しくは、制御部３００は、まず、ポリゴンミラー４０を一定速度で回転させる（Ｓ１１）。そして、ポリゴンミラー４０が所定の回転回数または所定の時間、回転して、ポリゴンミラー４０の回転が安定した場合（Ｓ１２，Ｙｅｓ）、制御部３００は、ポリゴンミラー４０のミラー面ごとに、第１タイミングＴ１（Ｔ１１～Ｔ１６）および第２タイミングＴ２（Ｔ２１～Ｔ２６）を取得する（Ｓ１３）。そして、制御部３００は、取得したタイミングＴ１１～Ｔ１６，Ｔ２１～Ｔ２６を、取得面番号Ａ１～Ａ６とともに、タイミングデータ（図５（ｂ）参照）として記憶部３１０に記憶する（Ｓ１４）。
次に、制御部３００は、特定処理を実行する。詳しくは、制御部３００は、タイミングデータから取得面番号Ａ１～Ａ６に対応するミラー面ごとに取得時間差ｙ（ｙ１～ｙ６）を算出し（Ｓ２１）、算出した取得時間差ｙ１～ｙ６を取得面番号Ａ１～Ａ６とともに、取得時間差データ（図５（ｃ）参照）として記憶部３１０に記憶する（Ｓ２２）。
次に、制御部３００は、第１対応パターン（図７（ａ）参照）を生成して記憶部３１０に記憶し（Ｓ２３）、第１対応パターンで対応させた場合の第１相関係数ｒ１を計算して記憶部３１０に記憶する（Ｓ２４）。なお、ｎの初期値は１である。
次に、制御部３００は、ｎが６（最大値）であるか否かを判定し（Ｓ２５）、ｎが６でない場合（Ｓ２５，Ｎｏ）、ｎに１を加算して（Ｓ２６）、ステップＳ２３に戻る。その後、制御部３００は、第２対応パターン～第６対応パターン（図７（ｂ）～（ｆ）参照）を生成して記憶部３１０に記憶し（Ｓ２３）、第２対応パターン～第６対応パターンで対応させた場合の第２相関係数ｒ２～第６相関係数ｒ６を計算して記憶部３１０に記憶する（Ｓ２４）。
ステップＳ２５において、ｎが６である場合（Ｓ２５，Ｙｅｓ）、図９に示すように、制御部３００は、相関係数ｒ１～ｒ６のすべてが０．７未満であるか否かを判定する（Ｓ２７）。そして、相関係数ｒ１～ｒ６のすべてが０．７未満でない場合（Ｓ２７，Ｎｏ）、制御部３００は、相関係数ｒが最も１に近い対応パターンを選択し（Ｓ２８）、取得面番号Ａ１のミラー面を、対応する基準面番号Ｆ１～Ｆ６のミラー面４１～４６と特定した面特定データ（図５（ｄ）参照）として記憶部３１０に記憶する（Ｓ２９）。
一方、ステップＳ２７において、相関係数ｒ１～ｒ６のすべてが０．７未満である場合（Ｓ２７，Ｙｅｓ）、制御部３００は、すべてのミラー面４１～４６について、第１書出時間ＴＹを同一とし、第２書出時間ＴＫを同一とし、第３書出時間ＴＭを同一とし、第４書出時間ＴＣを同一とする（Ｓ３０）。
その後、制御部３００は、シートＰに画像を形成する（Ｓ３１）。このとき、制御部３００は、面特定データ（図５（ｄ）参照）と書出時間データ（図５（ａ）参照）に基づいて、ミラー面４１～４６ごとの書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣを決定し、各光源装置２０から出射されたビームＢＹ，ＢＫ，ＢＭ，ＢＣにより各感光体２５１の露光を行う露光処理を実行する。そして、シートＰへの画像形成が終了した場合（Ｓ３２，Ｙｅｓ）、制御部３００は、一連の動作を終了する。
以上によれば、本実施形態において以下のような効果を得ることができる。
第１光センサＢＤ１が第１ビームＢＹを検知した第１タイミングＴ１と、第２光センサＢＤ２が第２ビームＢＫを検知した第２タイミングＴ２とに基づいてポリゴンミラー４０のミラー面４１～４６を特定するので、ミラー面４１～４６を精度良く特定することができる。これにより、第１光センサＢＤ１で書き出しタイミングが検出された第１ビームＢＹだけでなく、第１光センサＢＤ１で検出されない第２ビームＢＫについてもミラー面４１～４６ごとに書出時間ＴＫを精度良く設定することができる。その結果、感光体２５１Ｙ，２５１Ｋ上における第１ビームＢＹおよび第２ビームＢＫの書出位置の精度を向上させることができるので、精度の良い露光を行うことができる。
また、本実施形態では、第１ビームＢＹと第２ビームＢＫだけでなく、第３ビームＢＭおよび第４ビームＢＣについてもミラー面４１～４６ごとに書出時間ＴＭ，ＴＣを精度良く設定できるので、感光体２５１上におけるすべてのビームＢＹ，ＢＫ，ＢＭ，ＢＣの書出位置の精度を向上させることができる。
また、面特定に用いられる取得時間差ｙを算出するための第１タイミングＴ１および第２タイミングＴ２が同一のミラー面で反射されたタイミングであるので、ミラー面４１～４６ごとの面の精度の違いなどの影響を受けずにミラー面４１～４６を特定することができる。これにより、ミラー面４１～４６をより精度良く特定することができる。
また、取得時間差ｙや基準時間差ｘは、例えば、第１光センサＢＤ１が、ミラー面４１で反射された第１ビームＢＹを検知したタイミングと、ミラー面４２で反射された第１ビームＢＹを検知したタイミングとの時間差ｚよりも短い時間であるので、ポリゴンミラー４０のモータの回転ムラの影響を受けるのを抑制することができる。これにより、ミラー面４１～４６をより精度良く特定することができる。
また、基準時間差ｘと取得時間差ｙとの相関係数ｒに基づいてミラー面４１～４６を特定するので、精度の高いマッチングを行うことができ、ミラー面４１～４６をより精度良く特定することができる。また、相関係数ｒを用いることで、基準時間差ｘを決定する際の第２記憶工程におけるポリゴンミラー４０の回転速度と、タイミング取得処理の際のポリゴンミラー４０の回転速度とが異なっていてもミラー面４１～４６を特定することができる。
また、第１走査光学系ＳＣ１と第２走査光学系ＳＣ２が回転軸線方向から見てポリゴンミラー４０を間に挟んで互いに反対側に配置されていることで、第１光センサＢＤ１と第２光センサＢＤ２を回転軸線方向から見てポリゴンミラー４０を挟んで互いに反対側に配置することができる。これにより、ミラー面４１～４６の特定にポリゴンミラー４０の軸倒れの影響を反映させることができるので、ミラー面４１～４６をより精度良く特定することができる。
また、第１光センサＢＤ１が第１ビームＢＹの走査方向の上流側に配置され、第２光センサＢＤ２が第２ビームＢＫの走査方向の下流側に配置されているので、各ミラー面４１～４６上における、第１ビームＢＹを反射する位置と、第２ビームＢＫを反射する位置とを異ならせることができる。具体的には、図２に示すように、各ミラー面４１～４６の第１ビームＢＹを反射する位置を前側の位置とし、各ミラー面４１～４６の第２ビームＢＫを反射する位置を後側の位置とすることができる。これにより、ミラー面４１～４６の特定に面精度や面倒れなどの影響を反映させることができるので、ミラー面４１～４６をより精度良く特定することができる。
また、本実施形態の製造方法によれば、光センサＢＤＹ，ＢＤＭ，ＢＤＣ，ＢＤＫを備える測定装置のような、専用の設備を用いて、書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣを精度良く決定することができるとともに、基準時間差ｘを精度良く設定することができる。これにより、ミラー面４１～４６をより精度良く特定することができるので、より精度の良い露光を行うことができる。
以上に発明の一実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものではない。具体的な構成については、下記のように発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更が可能である。
例えば、光源装置２０（２０Ｙ，２０Ｍ，２０Ｃ，２０Ｋ）は、それぞれ、複数の発光点を有し、複数のビームを出射する構成であってもよい。一例として、各光源装置２０は、半導体レーザＬＤの代わりに、複数のレーザ光を出射するレーザアレイを備える構成とすることができる。この場合、制御部３００の記憶部３１０は、複数の発光点のそれぞれに対応して、書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣのデータを記憶している。そして、制御部３００は、露光処理において、第１光センサＢＤ１が第１ビームを検知した検知タイミングから、それぞれの書出時間後に対応するビームにより露光を開始するように構成することができる。
具体的には、光源装置２０が、例えば、それぞれ２つの発光点を有する場合、図１０に示すように、制御部３００は、ビームＢＹ１，ＢＹ２，ＢＫ１，ＢＫ２，ＢＭ１，ＢＭ２，ＢＣ１，ＢＣ２ごとに書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣを含む書出時間データを記憶している。
この構成において、制御部３００は、タイミング取得処理で、第１光センサＢＤ１が先行する第１ビームＢＹ１を検知した第１タイミングＴ１と、第２光センサＢＤ２が先行する第２ビームＢＫ１を検知した第２タイミングＴ２とを取得する。そして、制御部３００は、特定処理において、前記実施形態と同様に、タイミングＴ１，Ｔ２に基づいて書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣに対応するポリゴンミラー４０の各ミラー面４１～４６を特定する。
その後、制御部３００は、露光処理において、第１光センサＢＤ１が、先行する第１ビームＢＹ１を検知した検知タイミングＴＳから第１書出時間ＴＹｎ１後に第１ビームＢＹ１により感光体２５１の露光を開始し、検知タイミングＴＳから第１書出時間ＴＹｎ２後に第１ビームＢＹ２により感光体２５１の露光を開始する。
また、制御部３００は、検知タイミングＴＳを基準として、第２書出時間ＴＫｎ１後に第２ビームＢＫ１により感光体２５１の露光を開始し、第２書出時間ＴＫｎ２後に第２ビームＢＫ２により感光体２５１の露光を開始する。また、第３書出時間ＴＭｎ１後に第３ビームＢＭ１により感光体２５１の露光を開始し、第３書出時間ＴＭｎ２後に第３ビームＢＭ２により感光体２５１の露光を開始する。また、第４書出時間ＴＣｎ１後に第４ビームＢＣ１により感光体２５１の露光を開始し、第４書出時間ＴＣｎ２後に第４ビームＢＣ２により感光体２５１の露光を開始する。
このような構成によれば、各発光点から出射される各ビームについて、書出時間ＴＹ，ＴＫ，ＴＭ，ＴＣを精度良く設定できるので、感光体２５１上における各ビームの書出位置の精度を向上させることができる。これにより、精度の良い露光を行うことができる。
また、前記実施形態では、特定処理において、第２対応パターン～第６対応パターンを生成する場合に、第１対応パターンの基準面番号Ｆ１～Ｆ６に対し取得面番号Ａ１～Ａ６をずらした例を説明したが、これに限定されない。例えば、第１対応パターンの取得面番号に対し基準面番号をずらして、第２対応パターン～第６対応パターンを生成してもよい。
また、前記実施形態では、走査露光装置１を製造する際の第２記憶工程において、基準時間差ｘを決定して制御部３００の記憶部３１０に記憶させたが、これに限定されない。例えば、第２記憶工程は、ポリゴンミラーの各反射面に対応する、第１光センサが第１ビームを検知したタイミングと、第２光センサが第２ビームを検知したタイミングとを制御部に記憶させる工程であってもよい。すなわち、第２記憶工程は、専用の設備を用いて測定した、基準時間差を算出するためのタイミングを制御部に記憶させる工程であってもよい。この場合、基準時間差は、制御部が、例えば、特定処理などにおいて、記憶されたタイミングから算出して用いればよい。
また、前記実施形態では、第１タイミングＴ１および第２タイミングＴ２がポリゴンミラー４０の同一のミラー面で反射されたビームを検知したタイミングであったが、これに限定されない。例えば、第１タイミングおよび第２タイミングは、ポリゴンミラーの異なるミラー面で反射されたビームを検知したタイミングであってもよい。
また、前記実施形態では、６個の反射面（ミラー面４１～４６）を有する六角形状のポリゴンミラー４０を例示したが、反射面の数は６個に限定されない。例えば、ポリゴンミラーは、４個の反射面を有する四角形状であってもよいし、８個の反射面を有する八角形状であってもよい。
また、前記実施形態で説明した走査光学系ＳＣ１～ＳＣ４の構成は一例であり、本発明は前記実施形態の構成に限定されるものではない。例えば、走査光学系は、レンズや反射鏡の数、配置などが前記実施形態と異なっていてもよい。
また、前記実施形態では、感光体として感光ドラムを例示したが、これに限定されず、例えば、感光体は、ベルト状の感光体などであってもよい。
また、前記実施形態では、制御部３００がカラープリンタ２００の本体筐体２１０に設けられていたが、これに限定されず、制御部（制御部）は、走査露光装置のケーシングに設けられていてもよい。
また、前記実施形態では、走査露光装置１がカラープリンタ２００に設けられていたが、これに限定されず、例えば、複写機や複合機など、その他の画像形成装置に設けてもよい。
また、前記した実施形態および変形例で説明した各要素は、適宜組み合わせて実施することが可能である。
１ 走査露光装置
２０Ｋ 光源装置
２０Ｍ 光源装置
２０Ｙ 光源装置
４０ ポリゴンミラー
４０Ａ 回転軸線
４１～４６ ミラー面
２５１Ｋ 第２感光体
２５１Ｍ 第３感光体
２５１Ｙ 第１感光体
３００ 制御部
３１０ 記憶部
ＢＤ１ 第１光センサ
ＢＤ２ 第２光センサ
ＢＫ 第２ビーム
ＢＭ 第３ビーム
ＢＹ 第１ビーム
ＳＣ１ 第１走査光学系
ＳＣ２ 第２走査光学系
ＳＣ３ 第３走査光学系

Claims (9)

  1. 第１ビームを出射する第１光源と、
    第２ビームを出射する第２光源と、
    前記第１ビームおよび前記第２ビームを反射するｎ個の反射面を有するポリゴンミラーと、
    前記ポリゴンミラーで反射された前記第１ビームを第１感光体に結像する第１走査光学系と、
    前記ポリゴンミラーで反射された前記第２ビームを第２感光体に結像する第２走査光学系と、
    前記ポリゴンミラーで反射された前記第１ビームを検知する第１光センサと、
    前記ポリゴンミラーで反射された前記第２ビームを検知する第２光センサと、
    制御部と、を備え、
    前記第１走査光学系と前記第２走査光学系は、前記ポリゴンミラーの回転軸線方向から見て、前記ポリゴンミラーを間に挟んで互いに反対側に配置され、
    前記制御部は、
    前記ポリゴンミラーの各反射面に対応して、前記第１光センサで前記第１ビームを検知してから前記第１ビームで露光を開始する時間である第１書出時間、および、前記第１光センサで前記第１ビームを検知してから前記第２ビームで露光を開始する時間である第２書出時間と、
    予め測定された、前記ポリゴンミラーを一定速度で回転させた場合の、前記第１光センサが前記第１ビームを検知したタイミングと、前記第２光センサが前記第２ビームを検知したタイミングとの時間差である基準時間差と、
    前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を識別するための基準面識別子と、
    を記憶しており、
    前記ポリゴンミラーを一定速度で回転させて、回転している前記ポリゴンミラーの各反射面で前記第１ビームおよび前記第２ビームを反射したときに、前記第１光センサが前記第１ビームを検知した第１タイミングと、前記第２光センサが前記第２ビームを検知した第２タイミングとを取得するタイミング取得処理と、
    前記第１タイミングおよび前記第２タイミングに基づいて、前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を特定する特定処理であって、前記基準時間差と、前記第１タイミングと前記第２タイミングの時間差との相関係数に基づいて、前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を特定する特定処理と、を実行し、
    前記特定処理において、
    前記基準面識別子と、前記タイミング取得処理で前記第１タイミングおよび前記第２タイミングを取得した各反射面を識別するための取得面識別子とを、一の対応パターンで対応させた場合の前記相関係数である第１相関係数と、
    前記基準面識別子と前記取得面識別子の対応関係を、前記一の対応パターンに対して、前記基準面識別子または前記取得面識別子を１～ｎ－１ずらした対応パターンで対応させた場合の前記相関係数である第２相関係数～第ｎ相関係数とを計算し、
    前記第１相関係数～前記第ｎ相関係数のうち、最も１に近い相関係数に対応する対応パターンを選択することで、前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を特定することを特徴とする走査露光装置。
  2. 前記制御部は、
    前記特定処理において、前記第１タイミングと前記第２タイミングの時間差に基づいて、前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を特定し、
    前記第１タイミングおよび前記第２タイミングは、前記ポリゴンミラーの同一の反射面で反射された、前記第１ビームを検知したタイミングおよび前記第２ビームを検知したタイミングであることを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
  3. 前記第１タイミングと前記第２タイミングの時間差は、前記第１光センサが第１反射面で反射された前記第１ビームを検知したタイミングと、前記第１光センサが前記第１反射面の次の第２反射面で反射された前記第１ビームを検知したタイミングとの時間差よりも小さいことを特徴とする請求項２に記載の走査露光装置。
  4. 前記制御部は、前記特定処理において、前記第１相関係数～前記第ｎ相関係数のすべてが０．７未満である場合には、前記第１書出時間をすべての反射面について同一とし、かつ、前記第２書出時間をすべての反射面について同一とすることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の走査露光装置。
  5. 第３ビームを出射する第３光源と、
    前記ポリゴンミラーの回転軸線方向から見て、前記第１走査光学系と同じ側に配置され、前記ポリゴンミラーで反射された前記第３ビームを第３感光体に結像する第３走査光学系と、をさらに備え、
    前記制御部は、前記ポリゴンミラーの各反射面に対応して、前記第１光センサで前記第１ビームを検知してから前記第３ビームで露光を開始する時間である第３書出時間をさらに記憶していることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の走査露光装置。
  6. 前記第１光センサは、前記第１ビームで前記第１感光体を露光するために走査する範囲よりも、走査方向の上流側に配置され、
    前記第２光センサは、前記第２ビームで前記第２感光体を露光するために走査する範囲よりも、走査方向の下流側に配置されたことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の走査露光装置。
  7. 前記第１光源および前記第２光源は、それぞれ複数の発光点を有し、
    前記制御部は、前記複数の発光点のそれぞれに対応して、書出時間のデータを記憶していることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の走査露光装置。
  8. 第１ビームを出射する第１光源と、
    第２ビームを出射する第２光源と、
    前記第１ビームおよび前記第２ビームを反射するｎ個の反射面を有するポリゴンミラーと、
    前記ポリゴンミラーで反射された前記第１ビームを第１感光体に結像する第１走査光学系と、
    前記ポリゴンミラーで反射された前記第２ビームを第２感光体に結像する第２走査光学系と、
    前記ポリゴンミラーで反射された前記第１ビームを検知する第１光センサと、
    前記ポリゴンミラーで反射された前記第２ビームを検知する第２光センサと、
    制御部であって、
    前記ポリゴンミラーの各反射面に対応して、前記第１光センサで前記第１ビームを検知してから前記第１ビームで露光を開始する時間である第１書出時間、および、前記第１光センサで前記第１ビームを検知してから前記第２ビームで露光を開始する時間である第２書出時間と、
    予め測定された、前記ポリゴンミラーを一定速度で回転させた場合の、前記第１光センサが前記第１ビームを検知したタイミングと、前記第２光センサが前記第２ビームを検知したタイミングとの時間差である基準時間差と、
    前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を識別するための基準面識別子と、
    を記憶しており、
    前記ポリゴンミラーを一定速度で回転させて、回転している前記ポリゴンミラーの各反射面で前記第１ビームおよび前記第２ビームを反射したときに、前記第１光センサが前記第１ビームを検知した第１タイミングと、前記第２光センサが前記第２ビームを検知した第２タイミングとを取得するタイミング取得処理と、
    基準時間差と、前記第１タイミングおよび前記第２タイミングとに基づいて、前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を特定する特定処理であって、前記基準時間差と、前記第１タイミングと前記第２タイミングの時間差との相関係数に基づいて、前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を特定する特定処理と、を実行し、
    前記特定処理において、
    前記基準面識別子と、前記タイミング取得処理で前記第１タイミングおよび前記第２タイミングを取得した各反射面を識別するための取得面識別子とを、一の対応パターンで対応させた場合の前記相関係数である第１相関係数と、
    前記基準面識別子と前記取得面識別子の対応関係を、前記一の対応パターンに対して、前記基準面識別子または前記取得面識別子を１～ｎ－１ずらした対応パターンで対応させた場合の前記相関係数である第２相関係数～第ｎ相関係数とを計算し、
    前記第１相関係数～前記第ｎ相関係数のうち、最も１に近い相関係数に対応する対応パターンを選択することで、前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を特定する制御部と、を備え、
    前記第１走査光学系と前記第２走査光学系が、前記ポリゴンミラーの回転軸線方向から見て、前記ポリゴンミラーを間に挟んで互いに反対側に配置された走査露光装置の製造方法であって、
    前記ポリゴンミラーの各反射面に対応する前記第１書出時間および前記第２書出時間を決定し、前記制御部に記憶させる工程と、
    前記ポリゴンミラーの各反射面に対応する前記第１光センサが前記第１ビームを検知したタイミングと前記第２光センサが前記第２ビームを検知したタイミングとの時間差である前記基準時間差、または、前記基準時間差を算出するための前記ポリゴンミラーの各反射面に対応する前記第１光センサが前記第１ビームを検知したタイミングおよび前記第２光センサが前記第２ビームを検知したタイミングを前記制御部に記憶させる工程と、を有することを特徴とする走査露光装置の製造方法。
  9. 第１ビームを出射する第１光源と、
    第２ビームを出射する第２光源と、
    前記第１ビームおよび前記第２ビームを反射するｎ個の反射面を有するポリゴンミラーと、
    前記ポリゴンミラーで反射された前記第１ビームを第１感光体に結像する第１走査光学系と、
    前記ポリゴンミラーで反射された前記第２ビームを第２感光体に結像する第２走査光学系と、
    前記ポリゴンミラーで反射された前記第１ビームを検知する第１光センサと、
    前記ポリゴンミラーで反射された前記第２ビームを検知する第２光センサと、
    記憶部であって、
    前記ポリゴンミラーの各反射面に対応して、前記第１光センサで前記第１ビームを検知してから前記第１ビームで露光を開始する時間である第１書出時間、および、前記第１光センサで前記第１ビームを検知してから前記第２ビームで露光を開始する時間である第２書出時間と、
    予め測定された、前記ポリゴンミラーを一定速度で回転させた場合の、前記第１光センサが前記第１ビームを検知したタイミングと、前記第２光センサが前記第２ビームを検知したタイミングとの時間差である基準時間差と、
    前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を識別するための基準面識別子と、
    を記憶した記憶部と、を備え、
    前記第１走査光学系と前記第２走査光学系が、前記ポリゴンミラーの回転軸線方向から見て、前記ポリゴンミラーを間に挟んで互いに反対側に配置された走査露光装置の制御方法であって、
    前記ポリゴンミラーを一定速度で回転させて、回転している前記ポリゴンミラーの各反射面で前記第１ビームおよび前記第２ビームを反射したときに、前記第１光センサが前記第１ビームを検知した第１タイミングと、前記第２光センサが前記第２ビームを検知した第２タイミングとを取得するタイミング取得処理と、
    前記第１タイミングおよび前記第２タイミングに基づいて、前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を特定する特定処理であって、前記基準時間差と、前記第１タイミングと前記第２タイミングの時間差との相関係数に基づいて、前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を特定する特定処理と、を実行し、
    前記特定処理において、
    前記基準面識別子と、前記タイミング取得処理で前記第１タイミングおよび前記第２タイミングを取得した各反射面を識別するための取得面識別子とを、一の対応パターンで対応させた場合の前記相関係数である第１相関係数と、
    前記基準面識別子と前記取得面識別子の対応関係を、前記一の対応パターンに対して、前記基準面識別子または前記取得面識別子を１～ｎ－１ずらした対応パターンで対応させた場合の前記相関係数である第２相関係数～第ｎ相関係数とを計算し、
    前記第１相関係数～前記第ｎ相関係数のうち、最も１に近い相関係数に対応する対応パターンを選択することで、前記第１書出時間および前記第２書出時間に対応する各反射面を特定することを特徴とする走査露光装置の制御方法。
JP2018020908A 2018-02-08 2018-02-08 走査露光装置、走査露光装置の製造方法および走査露光装置の制御方法 Active JP7087424B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018020908A JP7087424B2 (ja) 2018-02-08 2018-02-08 走査露光装置、走査露光装置の製造方法および走査露光装置の制御方法
US16/270,873 US10642185B2 (en) 2018-02-08 2019-02-08 Scanning exposure device, manufacturing method of scanning exposure device and control method of scanning exposure device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018020908A JP7087424B2 (ja) 2018-02-08 2018-02-08 走査露光装置、走査露光装置の製造方法および走査露光装置の制御方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019139006A JP2019139006A (ja) 2019-08-22
JP7087424B2 true JP7087424B2 (ja) 2022-06-21

Family

ID=67475530

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018020908A Active JP7087424B2 (ja) 2018-02-08 2018-02-08 走査露光装置、走査露光装置の製造方法および走査露光装置の制御方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US10642185B2 (ja)
JP (1) JP7087424B2 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010069626A (ja) 2008-09-16 2010-04-02 Ricoh Co Ltd 画像形成装置およびその制御方法
JP2011148142A (ja) 2010-01-20 2011-08-04 Canon Inc 画像形成装置
US20130021655A1 (en) 2011-07-21 2013-01-24 Samsung Electronics Co., Ltd Electrophotographic image forming apparatus and scanning method thereof
JP2015194562A (ja) 2014-03-31 2015-11-05 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 光走査装置および画像形成装置
JP2016031437A (ja) 2014-07-28 2016-03-07 ブラザー工業株式会社 画像形成装置
JP2016180772A (ja) 2015-03-23 2016-10-13 ブラザー工業株式会社 画像形成装置、光走査装置の制御方法およびプログラム

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003322810A (ja) 2002-05-01 2003-11-14 Ricoh Co Ltd 画素クロック生成装置、光走査装置、画像形成装置、及び主走査ドット位置ずれ補正方法
US6856338B2 (en) 2002-08-23 2005-02-15 Canon Kabushiki Kaisha Image forming apparatus
JP4868923B2 (ja) 2006-04-12 2012-02-01 キヤノン株式会社 光走査装置および画像形成装置
JP2011022499A (ja) 2009-07-17 2011-02-03 Fujifilm Corp オートフォーカスシステム
JP5984573B2 (ja) 2012-08-13 2016-09-06 キヤノン株式会社 光走査装置及び画像形成装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010069626A (ja) 2008-09-16 2010-04-02 Ricoh Co Ltd 画像形成装置およびその制御方法
JP2011148142A (ja) 2010-01-20 2011-08-04 Canon Inc 画像形成装置
US20130021655A1 (en) 2011-07-21 2013-01-24 Samsung Electronics Co., Ltd Electrophotographic image forming apparatus and scanning method thereof
JP2015194562A (ja) 2014-03-31 2015-11-05 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 光走査装置および画像形成装置
JP2016031437A (ja) 2014-07-28 2016-03-07 ブラザー工業株式会社 画像形成装置
JP2016180772A (ja) 2015-03-23 2016-10-13 ブラザー工業株式会社 画像形成装置、光走査装置の制御方法およびプログラム

Also Published As

Publication number Publication date
US20190243276A1 (en) 2019-08-08
JP2019139006A (ja) 2019-08-22
US10642185B2 (en) 2020-05-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9188530B2 (en) Sensor and image-forming apparatus
US9103717B2 (en) Optical sensor and image forming apparatus configured to detect inside diffusely-reflected light
JP6029314B2 (ja) 画像形成装置
US8310738B2 (en) Scanning optical device, image forming device and jitter correction method
JP2006084763A (ja) 光書き込み装置及び画像形成装置
JP2014174132A (ja) 光学センサ及び画像形成装置
JP2010039416A (ja) 画像形成装置
WO2013099668A1 (ja) 光ビーム検出回路、光ビーム走査ユニット及び画像形成装置
JP2015028597A (ja) 画像形成装置
US9535361B2 (en) Image forming apparatus and method of controlling beam scanning device
JP5824850B2 (ja) 光学装置および光学装置の制御方法
JP7087424B2 (ja) 走査露光装置、走査露光装置の製造方法および走査露光装置の制御方法
US9400445B2 (en) Image forming apparatus
JP6031418B2 (ja) 光走査装置及びこれを用いた画像形成装置
US9915890B2 (en) Image forming apparatus configured to scan and controlling method therefor
JP5712709B2 (ja) 光走査装置及び画像形成装置
JP6555548B2 (ja) 銘柄判断装置及び画像形成装置
JP7361552B2 (ja) 光走査装置及び画像形成装置
JP6544530B2 (ja) 画像形成装置
JP5222528B2 (ja) 光濃度センサ及び画像形成装置
JP2006184650A (ja) 走査光学装置及び画像形成装置
JP6520186B2 (ja) 走査光学装置
KR20230004094A (ko) 복수개의 광원을 하나의 동기 검출 센서로 처리하는 레이저 스캐닝 장치
JP6016437B2 (ja) 画像形成装置
JP2017173727A (ja) 光走査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210122

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20211027

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20211130

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220112

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220510

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220523

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7087424

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150