JP4036911B2 - マルチビーム走査装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明はマルチビーム走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
個別に発光制御される複数の発光源を有する光源装置からの複数の光ビームを同一の偏向手段により偏向させ、同一の走査結像光学系により被走査面に複数の光スポットとして集光させ、上記複数の光スポットにより被走査面を同時走査するマルチビーム走査装置が提案されている（特開昭５６−４２２４８号公報）。
【０００３】
マルチビーム走査装置において良好な走査を実現するには、同時走査される隣接走査線間の距離、即ち走査線ピッチが精度良く設定される必要がある。走査ピッチに狂いがあると、走査により書き込まれる画像の濃度が副走査方向に周期的に変動する濃度むらを生じ、記録画像の像質を劣化させる。
【０００４】
走査線ピッチは、例えば、マルチビーム走査装置を組み込んだ画像形成装置の出荷時に適正なピッチに調整する必要があるし、出荷された後においても、画像形成装置の機械的振動等により経時的に変化する可能性があり、そのように走査線ピッチに狂いを生じた場合には、随時の設定調整が必要となる。
【０００５】
また、近来、走査線ピッチを変更することにより、記録密度の切り換えを行なうことも意図されており、このような場合には、記録密度の切り換えに応じて走査線ピッチを精度良く設定しなおす必要がある。
【０００６】
走査線ピッチを調整するにせよ設定するにせよ、これを正確に行なうには、走査線ピッチの正確な検出が必要である。走査線ピッチを検出する方法は、例えば、特開平７−７２３９９号公報に記載された方法等、種々の方法が知られているが、精度や能率の面で問題なしとしない。
【０００７】
また、走査線ピッチの調整・制御に関しては、特開昭６１−２４５１７４号公報や、Ｔｈｅ ９ｔｈ ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ｃｏｎｇｒｅｓｓ ｏｎ ａｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ ｎｏｎ−ｉｎｐａｃｔ ｐｒｉｎｔｉｎｎｇ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ／Ｊａｐａｎ ｈａｒｄｃｏｐｙ ７９３ Ｐ２２２に掲載の論文：Ｄｕａｌ ｂｅａｍ ｄｉｏｄｅ ｌａｓｅｒ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｓｙｓｔｅｍ ｆｏｒ ｈｉｇｈ ｓｐｅｅｄ ｌａｓｅｒ ｂｅａｍ ｐｒｉｎｔｅｒ等に記載された方法が知られているが、精度等に関して種々の問題がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
この発明は、走査線ピッチ検出手段を持つ新規なマルチビーム走査装置の実現を課題とする。
【０００９】
この発明はまた、走査線ピッチ検出手段とピッチ調整手段とを有するマルチビーム走査装置の実現を課題とする。
【００１０】
この発明はさらに、走査線ピッチ検出手段とピッチ調整手段とピッチ調整制御手段とを有するマルチビーム走査装置の実現を課題とする。
【００１１】
また、この発明は、専用の同期光検出手段を用いること無く同期検知信号を得られるようにすることによりマルチビーム走査装置のコンパクト化を実現することを課題とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明のマルチビーム走査装置は「個別に発光制御される複数の発光源を有する光源装置からの複数の光ビームを同一の偏向手段により偏向させ、同一の走査結像光学系により被走査面に複数の光スポットとして集光させ、上記複数の光スポットにより被走査面を同時走査するマルチビーム走査装置であって、上記光源装置から射出される上記光ビームは、進行方向に互いに角度が異なり、上記複数の発光源の一つから射出される光ビームを上記光源装置の光軸とし、上記光ビームの少なくとも一つを上記光軸から主走査方向にずらすことにより、被走査面を同時走査する上記複数の光スポットのうち少なくとも二つの光スポットを主走査方向に互いに離隔させるとともに、上記互いに離隔された光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして、上記偏向手段における同一の偏向反射面で走査された同一走査内で検出する走査線ピッチ検出手段を有し、上記走査線ピッチ検出手段 が、被走査面と等価な検出領域に、長手方向を副走査方向に対応させて設けられた細帯状の第１の光センサと、上記検出領域における走査方向下流側に、上記第１の光センサに対して長手方向を所定角傾けて設けられた細帯状の第２の光センサとを有する、光ビーム検出部と、これら第１および第２の光センサから出力される光ビーム検出信号に基づき、各光スポットが第１および第２の光センサ間の距離を通過する通過時間を検出し、上記第２の光センサの第１の光センサに対する傾き角と、上記検出された通過時間とに基づき、隣合った２つの光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして演算する制御部とを有し、上記光源装置を、上記光軸のまわりに回転させることにより、走査線ピッチを調整するピッチ調整手段を有することを特徴とするマルチビーム走査装置」である。
【００１３】
「光源装置」としては、複数の半導体レーザ発光源をモノリシックにアレイ配列させた半導体レーザアレイや、後述する２個の半導体レーザを組み合わせたものを有効に利用できる。
【００１４】
「同一の偏向手段」は、光源装置から放射される複数の光ビームを一括して偏向させる。この偏向手段としては、ポリゴンミラーや、回転単面鏡、回転２面鏡を用いるもの等を利用できる。
【００１５】
「同一の走査結像光学系」は、一括して偏向された複数の光ビームを被走査面上に複数の光スポットとして集光させる。このような走査結像光学系としては、ｆθレンズを始め、ｆθレンズと像面湾曲補正用あるいは面倒れ補正用の長尺レンズ（シリンダレンズやトロイダルレンズあるいは特殊な面形状の特殊トロイダルレンズ等）の組合せとして実現できる。また、光源装置から偏向手段に向かう複数の光ビームを偏向手段の偏向反射面位置に「線像」として結像させ、走査結像光学系をアナモフィックに構成して、偏向反射面位置と被走査面位置とを副走査方向において共役な関係としてもよい。
【００１６】
マルチビーム走査装置の光学系には、光学系のレイアウトに応じて、光ビームの光路を屈曲させる「光路屈曲用のミラー」を適宜に配備することができる。
要するに光源装置を除く光学系の構成としては、従来から知られたシングルビーム走査装置の光学系に類似のものを適宜利用できる。なお、被走査面位置には通常、光導電性の感光体の感光面が配備されるので、光スポットは実態的には感光体の感光面を走査することになる。
【００１７】
ここで、以下の説明のために「主走査方向」および「副走査方向」の意味に就き説明する。
周知の如く、「主走査方向」は、被走査面上において光スポットが走査を行なう方向であり、副走査方向は光スポットの走査に相対的に感光体の感光面が移動する方向である。この明細書においては、これらの方向をさらに一般化する。
即ち、偏向手段により理想的に偏向された光ビームを考え、この光ビームに直交する任意の平面内で光ビームの移動により走査される方向を、一般的に主走査方向とよび、上記面内で、被走査面上の副走査方向と平行的に対応する方向を一般的に副走査方向と称する。
【００１８】
また、光源装置の発光源から偏向手段に至る光路上においても上記主走査方向に対応する方向を「主走査方向」と呼び、上記副走査方向と対応する方向を「副走査方向」と称する。上述の「線像」は主走査方向に長く結像する。
【００１９】
請求項１記載のマルチビーム走査装置は「被走査面上において隣接する光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして検出する走査線ピッチ検出手段」を有する。
「走査線ピッチ検出手段」は、光ビーム検出部と、制御部とによって構成することができる。
「光ビーム検出部」は、被走査面と等価な検出領域（走査結像光学系の作用により、被走査面上に於けると同様に複数の光スポットが集光形成される）に、長手方向を副走査方向に対応させて設けられた「細帯状の第１の光センサ」と、検出領域における走査方向下流側に、第１の光センサに対して長手方向を所定角傾けて設けられた「細帯状の第２の光センサ」とを有する。
【００２０】
「細帯状の光センサ」は、細幅の長い受光部を有する光センサで、第１の光センサはその長手方向を副走査方向に平行させて配備され、第２の光センサは、その長さ方向を副走査方向から傾けることにより、第１の光センサと所定の角をなすようにする。光センサとしては、他にＣＣＤリニアセンサを用いることも可能である。
【００２１】
「制御部」は、第１および第２の光センサから出力される光ビーム検出信号に基づき、各光スポットが第１および第２の光センサ間の距離を通過する通過時間を検出し、第２の光センサの第１の光センサに対する傾き角と、上記検出された通過時間とに基づき、隣合った２つの光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして演算する。
【００２２】
上記制御部は、より具体的には、基準クロック発生回路と、遅延クロック発生回路と、ビーム間隔計測回路と、信号位相検出回路と、副走査ピッチ演算回路とを有することができる（請求項２）。
【００２３】
「基準クロック発生回路」は、基準クロックを発生する。基準クロックは計時の基準となるクロックである。
「遅延クロック発生回路」は、基準クロックに対して所定の微少時間ずつ遅延した１連の遅延クロック（基準クロックと同周波数である）を発生させる。
「ビーム間隔計測回路」は、各光スポットが光ビーム検出部の第１および第２の光センサにより発生する光ビーム検出信号に基づき、各光スポットが第１および第２の光センサ間の距離を通過する通過時間間隔を上記基準クロックを基準として計測する。
【００２４】
「位置信号位相検出回路」は、各光スポットによる光ビーム検出信号と同位相の遅延クロックを検出する。
「副走査ピッチ演算回路」は、光ビーム検出信号と同位相の遅延クロックと基準クロックとの位相のずれを時間差として演算し、演算された各時間差により光スポットごとの通過時間間隔を補正して、各光スポットごとの通過時間を得、この通過時間と、第２の光センサの第１の光センサに対する傾き角とにより、隣合った２つの光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして演算する。
【００２５】
請求項２記載のマルチビーム走査装置において、複数の遅延クロック中で「第１の光センサからの光ビーム検出信号と同位相の遅延クロック」を選択して、各光スポットに対する書込みクロック信号とすることができる（請求項３）。この書込みクロック信号を用いることにより、各光ビームによる書き出し位置を正確に調整することができる。
【００２６】
上記請求項１または２または３に記載されたマルチビーム走査装置は、光源装置を光軸に平行な軸のまわりに回転させることにより、走査線ピッチを調整する「ピッチ調整手段」を有することができる。
【００２７】
請求項４記載のマルチビーム走査装置は、上記請求項１記載のマルチビーム走査装置において、走査線ピッチ検出手段が、受光手段と、演算手段を有する。
「受光手段」は、被走査面の近傍（走査を妨げない程度の近傍）に配備されるが、「主走査方向の受光面幅が副走査方向にリニアに変化」する。
「演算手段」は、各光ビームが受光手段の受光面を主走査方向に通過する通過時間を検出し、光スポットの走査速度と、検出された通過時間と、受光面の形状とに応じて走査線ピッチを演算する。
【００２８】
請求項４記載のマルチビーム走査装置における演算手段は、より具体的には、前処理回路と、カウンタ手段と、ラッチ手段と、遅延回路と、ビットコンパレータ手段とを有することができる（請求項５）。
「前処理回路」は、受光手段の出力を増幅し、２値化する。
「カウンタ手段」は、前処理回路により前処理されたデジタル信号を、所定のクロック信号により計数する。
「ラッチ手段」は、カウンタ手段が計数した各光スポットの通過時間をラッチする。
「遅延回路」は、前処理回路の出力を入力され、その立ち下がり時間を基準とした所定の遅延時間で、ラッチ手段へのカウンタ手段の出力をラッチするトリガ信号とカウンタ手段をクリアするクリア信号とを発する。
「ビットコンパレータ手段」は、ラッチ手段の出力に基づき、隣接する光スポットの通過時間の差を演算する。
【００２９】
請求項６記載のマルチビーム走査装置は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、走査線ピッチ検出手段が、以下の如き遮光部材と、受光手段と、演算手段を有することを特徴とする。
「受光手段」は遮光部材と受光素子とを有し、被走査面の近傍に配備される。
【００３０】
「遮光部材」は、互いに非平行に主走査方向に併設された第１および第２のスリットを有する。
【００３１】
「受光素子」は、遮光部材の第１および第２のスリットを通過した光ビームを受光する。
「演算手段」は、各光ビームが第１および第２のスリットの間を主走査方向に通過する通過時間を検出し、光スポットの走査速度と、検出された通過時間と、遮光部材における第１および第２のスリットの態位とに応じて、走査線ピッチを演算する。
【００３２】
請求項６記載のマルチビーム走査装置における演算手段は、前処理回路と、カウンタ手段と、ラッチ手段と、遅延回路と、ビットコンパレータ手段とを有することができる。
「前処理手段」は、受光手段の出力を増幅したのち微分し、微分信号の０交叉点を検出する。
【００３３】
上記カウンタ手段、ラッチ手段、遅延回路、ビットコンパレータ手段は請求項５記載のマルチビーム走査装置におけると同様のものであり、前処理回路により前処理されたデジタル信号に対し、請求項５記載のものと同様の処理を行なう。
請求項８記載のマルチビーム走査装置は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、走査線ピッチ検出手段が、以下の如き受光手段と演算手段とを有する点を特徴とする。
【００３４】
「受光手段」は、被走査面の近傍に配備され、分割ラインが互いに非平行になるように主走査方向に併設された第１および第２の２分割光センサにより構成される。「２分割光センサ」は、細帯状の受光面が長手方向の分割線により縦割りに２分割されたものであり、分割された各受光部（細長い形状である）から独立して出力信号が発せられる。
【００３５】
「演算手段」は、各光ビームが第１および第２の２分割光センサの間を主走査方向に通過する通過時間を検出し、光スポットの走査速度と、検出された通過時間と、第１および第２の２分割光センサの分割ラインの態位とに応じて、走査線ピッチを演算する。
【００３６】
この場合の「演算手段」は、以下の如き前処理回路と、カウンタ手段と、ラッチ手段と、遅延回路と、ビットコンパレータ手段とを有することができる（請求項９）。
「前処理回路」は、受光手段における各２分割光センサの各受光部からの出力の差を増幅し、増幅された出力差の０交叉点を検出し、各２分割光センサに対応する０交差点の信号に対しイクスクルーシブオア論理処理を行なう。
【００３７】
カウンタ手段、ラッチ手段、遅延回路、ビットコンパレータ手段は請求項５記載のマルチビーム走査装置におけると同様のものであり、前処理回路により前処理されたデジタル信号に対し請求項５記載のものと同様の処理を行なう。
【００３８】
請求項１０記載のマルチビーム走査装置は以下の如き特徴を有する。即ち、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、光源装置からは「偏光状態が互いに異なる２本の光ビーム」が放射される。そして、走査線ピッチ検出手段は、光ビーム分離手段と、２つの受光手段と、演算手段とを有する。
「光ビーム分離手段」は、上記２本の光ビームを、偏光状態に従って互いに分離する。
「２つの受光手段」は、分離された各ビームを受光する。
「演算手段」は、各受光手段の出力に基づき走査線ピッチを演算する。
【００３９】
上記２つの受光手段は、請求項４または６または８記載の受光手段であり、演算手段は、請求項４または６または８記載の演算手段に、上記２つの受光手段の出力を時間的に前後して入力するように構成されたものである。
【００４０】
上記請求項４〜１０の任意の１に記載のマルチビーム走査装置において、受光手段の受光信号により同期検知信号を得るようにでき（請求項１１）、請求項４〜１１の任意の１に記載のマルチビーム走査装置は「光源装置を光軸に平行な軸のまわりに回転させることにより、走査線ピッチを調整するピッチ調整手段」を有することができる。
【００４１】
請求項１２記載のマルチビーム走査装置は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、走査線ピッチ検出手段が、以下の如き、リニアセンサと重心位置演算手段とを有する。
「リニアセンサ」は、長手方向を副走査方向に対応させて検出領域に設けられる。
「重心位置演算手段」は、リニアセンサの出力に基づき、リニアセンサが受光した光スポットの重心位置を演算する。
【００４２】
そして、重心位置演算手段で演算された重心位置のデータが、走査線ピッチ検出のための「光スポット位置データ」とされる。
請求項１２記載のマルチビーム走査装置は、走査線ピッチ調整のために光源装置を光軸の周りに回転調整可能とし、光スポット位置データに基づき走査線ピッチを算出するピッチ算出部を有することが出来る（請求項２６）。
【００４３】
請求項１３記載のマルチビーム走査装置は、走査線ピッチ検出手段と、ピッチ調整手段と、ピッチ調整制御手段とを有する。
「走査線ピッチ検出手段」は、被走査面上において隣接する光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして検出する。
「ピッチ調整手段」は、走査線ピッチを、光源装置の光軸まわりの回転により調整する。
「ピッチ調整制御手段」は、走査線ピッチ検出手段による検出結果に基づきピッチ調整手段を制御して所望の走査線ピッチを実現する。
走査線ピッチ検出手段としては、上に説明した種々のものを用いることができる。
【００４４】
請求項１３記載のマルチビーム走査装置における「走査線ピッチ検出手段」として、請求項１２記載のものを用い、ピッチ調整制御手段が「光源装置の各発光源を時系列に順次発光させて、各ビームごとに光スポット位置検出を走査線ピッチ検出手段により検出し、検出された位置データに基づき、走査線ピッチを算出する機能」を有するように構成することができる（請求項１４）。
【００４５】
上記請求項１３または１４記載のマルチビーム走査装置において、ピッチ調整制御手段は「検出される走査線ピッチと光源装置の回転角度との換算式に基づき、光源装置の回転角度量を決定するピッチ・回転角度変換手段」を有することができる（請求項１５）。
【００４６】
請求項１３または１４または１５記載のマルチビーム走査装置において、偏向手段として「ポリゴンミラーを用いるもの」を用いる場合には、ピッチ調整制御手段が「光源装置の各発光源を時系列に順次発光させて得られる各光ビームの偏向を、同一の偏向反射面で行なわせるタイミング制御手段」を有するようにすることができる（請求項１６）。
【００４７】
上記請求項１４記載のマルチビーム走査装置においては、ピッチ調整制御手段が、主走査ピッチ算出手段と、回転角度量算出手段を有することができる（請求項１７）。
「主走査ピッチ算出手段」は、ピッチ検出手段のリニアセンサを各光スポットが通過するときの出力間隔から「主走査ピッチ」を算出する。
「回転角度量算出手段」は、算出された主走査ピッチと、ピッチ検出手段により検出された走査線ピッチとに基づき、光源装置の回転角度量を算出する。
【００４８】
上記請求項１２または１４または１５または１６または１７記載のマルチビーム走査装置において、走査線ピッチ検出手段のリニアセンサの出力信号により同期検知信号を得るようにできる（請求項１８）。
【００４９】
請求項１９記載のマルチビーム走査装置は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、走査線ピッチ検出手段が、ビーム位置検出手段と、位置検出用結像光学素子とを有する。
「ビーム位置検出手段」は、走査領域外に配備され、偏向された各光ビームの副走査方向の位置を検出する手段であり、リニアセンサや位置センサを利用できる。
「位置検出用結像光学素子」は、複数の光ビームをビーム位置検出手段に結像させる光学素子であり、その副走査方向における結像倍率が、被走査面に対する走査結像光学系の副走査方向の結像倍率よりも大きく設定されている。
【００５０】
この場合、偏向された複数の光ビームを被走査面上に集光させる同一の走査結像光学系の主走査方向の所定の側の端部近傍に、他の部分に比して正のパワーの小さい部分を設け、この部分を通過した各光ビームがビーム位置検出手段に結像するように「位置検出用結像光学系を上記走査結像光学系の一部として構成」することができる（請求項２０）。
【００５１】
あるいはまた、請求項１９記載のマルチビーム走査装置において、偏向された複数の光ビームを被走査面上に集光させる同一の走査結像光学系を、複数枚のレンズを有するように構成し、これら複数枚のレンズの一部のレンズであって「偏向手段側にあるもの」の副走査方向のパワーが、走査結像光学系全体としての副走査方向の正のパワーよりも弱くなるようにすることにより、上記一部のレンズを位置検出用結像光学系となし、この位置検出用結像光学系を通過した各光ビームを、走査結像光学系における残りのレンズを透過させることなくビーム位置検出手段に導いて結像させるようにしても良い（請求項２１）。
この場合において、走査結像光学系がｆθレンズと、面倒れ補正用の長尺レンズとを有するようにし、「ｆθレンズを位置検出用結像光学系とする」ことができる（請求項２２）。
【００５２】
請求項１９〜２２の任意の１に記載のマルチビーム走査装置は、光源装置回転機構と、駆動手段と、演算手段と、回転制御手段とを有することができる（請求項２３）。
「光源装置回転機構」は、光源装置を光軸のまわりに回転させる。
「駆動手段」は、光源装置回転機構を回転駆動する。
「演算手段」は、ビーム位置検出手段の出力に基づき、走査線ピッチを算出する。
「回転制御手段」は、演算手段の算出結果に基づき駆動手段を制御する。
【００５３】
これら請求項１〜２３の任意の１に記載のマルチビーム走査装置において、光源装置が「第１および第２の半導体レーザと、第１および第２のコリメートレンズと、第１および第２のアパーチュアと、一方の半導体レーザからの光ビームの偏光面を９０度旋回させる１／２波長板と、上記第１および第２の半導体レーザからの光ビームを、両光ビームの偏光状態を利用して合成するビーム合成プリズムとを有し、第１または第２の半導体レーザを、対応するコリメートレンズの光軸から微少距離ずらすことにより、２つの光ビームの射出方向を互いに微小角異ならせる」ように構成することができる（請求項２４）。
【００５４】
また、上記請求項１９〜２４記載のマルチビーム走査装置において、ビーム位置検出手段の出力信号により同期検知信号を得るようにすることができる（請求項２５）。
【００５５】
請求項３、請求項１１、請求項１８、請求項２５記載の発明のように、走査線ピッチ検出手段を利用して光スポットによる書き出し位置を揃える場合には、光ビーム検出部や受光手段、ビーム位置検出手段等を、走査領域の書き出し側に配備して、走査領域へ向かう光ビームを検出する必要があるが、走査線ピッチ検出のみを目的とするのであれば、走査終了後のビームを検出して走査線ピッチ検出を行なってもよい。
【００５６】
【発明の実施の形態】
図１において、個別に発光制御される複数の発光源を有する光源装置１からの複数の光ビームは、「同一の偏向手段」を構成するポリゴンミラー３（ポリゴンミラー３を駆動するモータは図示を省略されている。以下の図においても同様である）により偏向され、「同一の走査結像光学系」をなすアナモフィックなｆθレンズ４により光導電性の感光体５の感光面上に複数の光スポットとして集光され、実体的な被走査面をなす感光体周面を同時走査する。
【００５７】
図１において、符号２は副走査方向にのみ正のパワーを持つシリンダレンズを示す。光源装置１からの複数の光ビームはシリンダレンズ２により、それぞれ副走査方向へのみ集光され、偏向手段３の偏向反射面の近傍に主走査方向に長い線像として結像される。
ｆθレンズ４は上記偏向反射面と被走査面との間を副走査方向に関して共役な関係とする（それ故アナモフィックである）。従って、図１のマルチビーム走査装置はポリゴンミラー３における「面倒れ」を補正する機能を持つ。
【００５８】
光源装置１から放射される複数の光ビームはそれぞれ平行ビームとしてもよく、弱い発散性もしくは弱い収束性の光ビームとしてもよい。以下では説明の具体性のため、光源装置１から放射される光ビームは平行光束であるとし、放射される光ビーム数は２本であるとする。光源装置１の具体的な構成の例は後述するが、さしあたっては２個の半導体レーザを発光源として有し、これら発光源からの光をコリメートして合成する機能を持ち、光源装置の光軸まわりの回転により走査線ピッチを調整・変更できるものであるとする。
【００５９】
図１において、符号８は偏向された光ビームの光路を被走査面側へ屈曲させる光路屈曲用のミラーを示し、符号９は、マルチビーム走査光学系を収納するハウジング（図示されず）から、光ビームを感光体５側へ射出させるための窓を密閉するカバーガラスを示している。
【００６０】
ポリゴンミラー３により一括偏向された２本の光ビームは、ｆθレンズ４に入射し、走査領域の走査に先立ち、ミラー６１に反射され、「光ビーム検出部」をなす光ビーム検出装置６に入射する。
光ビーム検出装置６は図３に示すように、２つの光センサＰＤ１，ＰＤ２および増幅器ＡＭＰ１，ＡＭＰ２を有する。光センサＰＤ１，ＰＤ２は、図に示されたように「細帯状の受光部」を持つ。
第１の光センサＰＤ１は、受光部の長手方向を副走査方向（図の上下方向）に対応させて配備され、第２の光センサＰＤ２は受光部の長手方向を第１の光センサＰＤ１に対して所定角傾けて設けられる。
第１の光センサＰＤ１と第２の光センサＰＤ２とは「被走査面と等価な検出領域」に受光面が位置するように配備され、光センサＰＤ２の配備位置は光センサＰＤ１の「走査方向下流側（図３の右方）」である。検出領域は被走査面と等価であるので、２本の光ビームは被走査面に集光するのと同様に検出領域に集光してそれぞれ光スポットを形成する。
【００６１】
図４に示すように、２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２は主走査方向へ移動しつつ第１および第２の光センサＰＤ１，ＰＤ２を横切る。これに伴い、図３に示すように、光センサＰＤ１，ＰＤ２からの出力は増幅器ＡＭＰ１，ＡＭＰ２でそれぞれ増幅されて「光ビーム検出信号」となる。
【００６２】
図１において、光ビーム検出装置６から発せられる各光ビーム検出信号は制御部７に入力される。制御部７は、図２に示すように、基準クロック発生回路７１と、遅延クロック発生回路７２と、ビーム間隔計測回路７４，７５と、位置信号位相検出回路７３と、副走査ピッチ演算回路７６とを有する。
【００６３】
基準クロック発生回路７１は、書き込むべき記録データの送出タイミングの基準となる基準クロックを発生する。この基準クロックの周期は走査線ピッチ検出における計時の時間単位となる。
遅延クロック発生回路７２は、基準クロック発生回路７１で発生された基準クロックの入力を受け、基準クロックに対して所定の微少時間（基準クロックの周期の１／ｎ）ずつ遅延した１連の遅延クロックを発生させる。
【００６４】
図５に、上記基準クロックと遅延クロックＣＫｄ０，．．．ＣＫｄ４，．．ＣＫｄ７，ＣＫｄ８，ＣＫｄ９，ＣＫｄｎ−１を示す。これら遅延クロックは、位置信号位相検出回路７３に向けて出力される。各遅延クロックは基準クロックと同周期である。
位置信号位相検出回路７３には光ビーム検出装置６の各光センサからの光ビーム検出信号が入力され、位置信号位相検出回路７３は入力される２系列の光ビーム検出信号（光センサＰＤ１，ＰＤ２からの出力）と同位相の遅延クロックを検出し、検出された遅延クロックを副走査ピッチ演算回路７６に向けて出力する。
因みに図５に示す例では、光センサＰＤ１からの光ビーム検出信号の立ち上がりタイミングと同位相の遅延クロックとして遅延クロックＣＫｄ４が検出され、光センサＰＤ２からの光ビーム検出信号の立ち上がりタイミングと同位相の遅延クロックとして遅延クロックＣＫｄ９が検出されている。以下の説明は図５に示す場合に準拠して行なう。
【００６５】
光ビーム検出装置６からの各光ビーム検出信号はそれぞれビーム間隔計測回路７４，７５に入力される。ビーム間隔計測回路７４，７５には基準クロック発生回路７１からの基準クロックが入力される。
ビーム間隔計測回路７４は光センサＰＤ１からの光ビーム検出信号に基づき、２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２が順次に光センサＰＤ１を通過するのに要する「通過時間間隔（図５：ＴＣ１）」を基準クロックに基づいて計測する。同様に、ビーム間隔計測回路７５は光センサＰＤ２からの光ビーム検出信号に基づき、２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２が順次に光センサＰＤ２を通過する「通過時間間隔（図５：ＴＣ２）」を基準クロックに基づいて計測する。これら計測された通過時間間隔：ＴＣ１，ＴＣ２は副走査ピッチ演算回路７６に入力される。
【００６６】
副走査ピッチ演算回路７６は位置信号位相検出回路７３から入力される２種の遅延クロックＣＫｄ４，ＣＫｄ９と基準クロックとの位相のずれによる時間差：Ｔｄ１１，Ｔｄ１２，Ｔｄ２１，Ｔｄ２２を演算し、演算された各時間差：Ｔｄ１１等により、光スポットごとの通過時間間隔：ＴＣ１，ＴＣ２を補正し、各光スポットごとの通過時間：ＴＰＤ１，ＴＰＤ２を演算により得、通過時間：ＴＰＤ１，ＴＰＤ２と、第２の光センサＰＤ２の第１の光センサＰＤ１に対する傾き角：θ（図４）と、光スポットＳＰ１，ＳＰ２の走査速度：Ｖとにより、２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２の副走査方向の間隔を走査線ピッチとして演算する。
【００６７】
図４を参照すると、第２の光センサＰＤ２の第１の光センサＰＤ１に対する傾き角：θは、光センサＰＤ１，ＰＤ２の中心線が互いに交叉する交叉角である。
上記各中心線と光スポットＳＰ１，ＳＰ２の中心軌跡との交点を図の如くＡ１，Ａ２，Ｂ１，Ｂ２とすると、時間差：ＴＰＤ２−ＴＰＤ１（＝ＴＨとする）に走査速度：Ｖ（２本の光ビームは一括偏向されるから、光ビームＳＰ１，ＳＰ２に共通である）を乗じたものは「Ａ２〜Ｂ２の距離−Ａ１〜Ｂ１の距離」に等しい。
【００６８】
光スポットＳＰ１の受光面の長さ方向は副走査方向に設定されているから、走査線ピッチをＰＶとすると関係「ＰＶ＝ＴＨ・Ｖ・ｔａｎθ」が成立つ。
また、図５から明らかなように、
ＴＰＤ２＝ＴＣ２＋Ｔｄ２１−Ｔｄ２２、ＴＰＤ１＝ＴＣ１＋Ｔｄ１１−Ｔｄ１２
であるから、上記関係は
ＰＶ＝{(ＴＣ２＋Ｔｄ２１−Ｔｄ２２)−(ＴＣ１＋Ｔｄ１１−Ｔｄ１２)}・Ｖ・ｔａｎθ
と書くことができる。ここで、上記走査線ピッチ：ＰＶをＰＶ＝ＴＶ・Ｖと書くと、ＴＶは、走査線ピッチ：ＰＶを走査速度：Ｖを単位として時間に換算したものであり、このＴＶを用いると、上記関係は、
ＴＶ＝{(ＴＣ２＋Ｔｄ２１−Ｔｄ２２)−(ＴＣ１＋Ｔｄ１１−Ｔｄ１２)}・ｔａｎθ
と書くことができる。
【００６９】
そこで時間：ＴＶを上記式の右辺により演算すると、走査線ピッチ：ＰＶは上記の如く演算された時間：ＴＶと、基準クロックの周波数：ｆ（Ｈｚ）、記録密度：Ｄ（ｄｐｉ）を用いて、演算：ＰＶ＝（２４．５）・ｆ・ＴＶ／Ｄにより算出することができる（上記演算における因子：（２４．５）・ｆ／Ｄは走査速度：Ｖを与える）。この演算は、前述の如く副走査ピッチ演算回路７６により行なわれる。
【００７０】
さて、説明中の実施の形態においては、図２に示すように、制御部７は書込クロック選択回路７８を有する。書込クロック選択回路７８は、複数の遅延クロックから「第１の光センサＰＤ１からの光ビーム検出信号と同位相の遅延クロック（図５における遅延クロックＣＫｄ４，ＣＫｄ９）」を選択して各光スポットに対する書込みクロック信号とする（請求項３）。このようにして、各光スポットの書込み開始のタイミングを互いに揃えることが可能になる。
【００７１】
制御部７はまた、ピッチ間隔制御部７７を有する。即ち、光源装置１は、これを光軸を中心として回転させることができるようになっている。被走査面上における２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２間の距離が所定の大きさとなるように光源装置１が設定されている。
そこで、光スポットＳＰ１を形成するための光源（半導体レーザ）が光軸上にあるものとすると、光源装置１を光軸のまわりに回転させることにより、図６に示すように、被走査面上の光スポットＳＰ２の位置を「光スポットＳＰ１を中心として回転」させることができる。従って、光スポットＳＰ１，ＳＰ２を結ぶ方向が主走査方向となす角：η１，η２を調整することにより、走査線ピッチ：ＰＶを調整することができる。図６に示されたのは、上記角：η１，η２に応じて走査線ピッチ：ＰＶがピッチ１，ピッチ２に設定される状態を示している。
【００７２】
光源装置１の上記回転は「図示されない光源装置回転機構」で行なわれ、この光源装置回転機構と、図２のピッチ間隔制御部７７とが「光源装置を、光軸に平行な軸のまわりに回転させることにより、走査線ピッチを調整するピッチ調整手段」を構成している（請求項１）。
【００７３】
ピッチ調整に当っては、先ず、前述の如くして走査線ピッチ：ＰＶを検出し、調整すべき走査線ピッチと検出されたピッチ：ＰＶとの差に応じて、光源装置１の回転角を定めて光源装置１の回転を行なえば良い。光源装置を回転させる光源装置回転機構の具体的な例に就いては後述する。
【００７４】
上には、光源装置として発光源が２つの場合を説明したが、光源装置はこれに限らず、半導体レーザアレイ等のように３以上の発光源を持つものでもこの発明を実施できる。例えば、発光源が３つ以上ある場合、それら発光部の内で隣合う２つの発光部による２つの光スポットに就いて、上記の如くして走査線ピッチを検出すれば、他の発光源も同じピッチで設けられているから、全ての光スポットに就き、走査線ピッチを調整することが可能である。
【００７５】
上に説明した実施の形態では、位相のずれ：Ｔｄ１１，Ｔｄ１２，Ｔｄ２１，Ｔｄ２２を副走査ピッチ演算回路７６で演算したが、位置信号位相検出回路７３で演算するようにしてもよい。
【００７６】
図７は、請求項４記載のマルチビーム走査装置の実施の形態を要部のみ示している。
光源装置１Ａから放射される複数の光ビームは、同一の偏向手段であるポリゴンミラー３により一括して偏向され、同一の走査結像光学系であるｆθレンズ４Ａを透過して、光路屈曲用のミラー８を介して被走査面５Ａ上に入射し、ｆθレンズ４Ａの作用により複数の光スポットとして被走査面５Ａ上に集光される。
【００７７】
被走査面５Ａの位置には図示されない感光体が配備され、光スポットが実体的には感光体を走査することは図１の実施の形態と同様である。複数の光ビームは画像信号に応じて変調され、画像信号に従う静電潜像を書き込む。
【００７８】
被走査面５Ａの近傍に受光手段６Ａが配備されている。
受光手段６Ａはフォトダイオード等の受光素子で、図８に示すように三角形状の受光面６１を有する。受光面６１は、その底辺を主走査方向（図の左右方向）と平行にし、上記底辺から頂点Ａに向かう方向が副走査方向となるように「被走査面と等価な位置（光スポットが集光する位置）」に配備されている。このような受光面形状により、受光面６Ａの「主走査方向の受光面幅」は副走査方向にリニアに変化することになる。
【００７９】
受光面形状としては上記三角形状の他「底辺と上辺とが主走査方向に平行な台形形状」としてもよい。受光手段における「主走査方向の受光面幅を副走査方向にリニアに変化させる」ためには、図８に示す例のように、受光素子の受光面自体を三角形もしくは台形形状に形成しても良いが、図９に示す例のように、例えば長方形形状の受光面６１Ａを有する受光素子６Ｂの受光面に、台形形状（三角形状でもよい）の開口部６３Ａを有する遮光部材６３を設けることによって実現してもよい。
【００８０】
実施の形態として、一括して偏向される光ビームが３本であり、これら光ビームが、図８に示すように、主・副走査方向に分離した３つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３のように集光して同時の走査を行なう場合を説明する。
【００８１】
三角形状の受光面６１の頂点Ａで交わる２辺が副走査方向（図の上下方向）となす角を図の如くθ１，θ２とし、頂点Ａから計って光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が受光面６１を横切る高さを、それぞれｙ１，ｙ２，ｙ３、光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が受光面６１を横切る距離をそれぞれ、ｘ１，ｘ２，ｘ３とすると、これらの間に以下の関係が成り立つ。
【００８２】
ｙ１＝ｘ１／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
ｙ２＝ｘ２／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
ｙ３＝ｘ３／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） 。
【００８３】
図８に示すように、光スポットＳＰ１とＳＰ２の副走査方向の間隔（走査線ピッチ）をＰＶ１、光スポットＳＰ２，ＳＰ３の副走査方向の間隔をＰＶ２とすると、これらは以下のように与えられる。
ＰＶ１＝ｙ１−ｙ２＝（ｘ１−ｘ２）／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
ＰＶ２＝ｙ２−ｙ３＝（ｘ２−ｘ３）／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） 。
【００８４】
一括して偏向される複数の光ビームの偏向速度は同一であり、これらは同一の走査光学系であるｆθレンズ４Ａにより集光されるから、光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３は同一の走査速度：ｖｂを有する。
光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が受光手段６Ａの受光面を走査すると、受光手段６Ａから、図１０に示すように、互いに異なる時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３の受光パルス（周知の処理で２値化されている）が発せられる。時間：ｔ１は光スポットＳＰ１が受光面６１を横切る「通過時間」であり、時間：ｔ２，ｔ３はそれぞれ光スポットＳＰ２，ＳＰ３が受光面６１を横切る「通過時間」である。
【００８５】
走査速度：ｖｂを用いると、図８の受光面幅：ｘ１，ｘ２，ｘ３は、ｘ１＝ｔ１・ｖｂ，ｘ２＝ｔ２・ｖｂ，ｘ３＝ｔ３・ｖｂであるから、走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２は上記通過時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３を用いて以下のように表される。
ＰＶ１＝（ｔ１−ｔ２）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） （６Ａ）
ＰＶ２＝（ｔ２−ｔ３）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） （６Ｂ）。
【００８６】
走査速度：ｖｂは、走査結像光学系(ｆθレンズ４Ａ)の焦点距離（走査結像光学系がアナモフィックであるときは主走査方向の焦点距離）：Ｆ(ｍｍ)、ポリゴンミラー３による偏向光ビームの最大ふれ角(４π／偏向反射面数)：θＰＬ、被走査面５Ａに位置する感光体の感光面の移動速度（副走査方向）：ｖ(ｍ／ｓ)、記録密度：ＲＤ(ｄｐｉ)、一括偏向される光ビームの数：ｎｂを用いて、一般に、
ｖｂ（ｍ／ｓ）＝Ｆ・θＰＬ・ｖ・ＲＤ／ｎｂ／２４．５ （６Ｃ）
で与えられる。Ｆ，θＰＬ，ｖ，ＲＤ，ｎｂはマルチビーム走査装置の設計条件として定まるから、結局、上記通過時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３が検出されれば、走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２を上記式（６Ａ），（６Ｂ），（６Ｃ）によって演算算出できることになる。この演算は「演算手段」により行なわれる。図７に示す実施の形態においては演算部７Ａが演算手段である。
【００８７】
図１１は演算部７Ａの要部を示すブロック図である。
受光手段６Ａからの出力は増幅器１１０により増幅されたのち２値化回路１２０によりデジタル信号に変換されて出力信号Ｖｓとなる。増幅器１１０と２値化回路１２０は「前処理回路」を構成する（請求項５）。
【００８８】
デジタル化された出力信号Ｖｓはデジタルカウンタ１３０のイネーブル入力端子１３１に入力されるとともに遅延回路１４０に入力される一方、同期検知信号として用いられ（請求項１１）、位相同期回路１０００を経て「書込クロック信号」となる。
【００８９】
デジタルカウンタ１３０のクロック入力端子１３２にはクロック信号ＣＫが入力される。デジタルカウンタ１３０とクロック信号ＣＫを発生するクロック発生器（図示されず）は「カウンタ手段」を構成する。
【００９０】
出力信号Ｖｓはデジタルカウンタ１３０をイネーブルにし、デジタルカウンタ１３０はクロック信号ＣＫのパルスを計数してカウント信号ＣＴを出力する。遅延回路１４０はデジタルカウンタ１３０の出力をラッチするトリガ信号ＴＲ１，ＴＲ２，ＴＲ３と、デジタルカウンタ１３０をクリアするクリア信号ＣＲを発生する。トリガ信号ＴＲ１，ＴＲ２，ＴＲ３とクリア信号ＣＲは、信号Ｖｓの立ち下がりを基準に発生される。
【００９１】
カウント信号ＣＴは「カウンタ手段が計数した各光スポットの通過時間をラッチするラッチ手段」を構成するラッチ回路１５１，１５２，１５３に、それぞれトリガ信号ＴＲ１，ＴＲ２，ＴＲ３の各立ち上がりによりラッチされ、ラッチ出力：Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３は「ビットコンパレータ手段」を構成するビットコンパレータ１６１，１６２に入力される。
【００９２】
以下、図１２に示すタイミングチャートに基づいて説明する。受光手段６Ａは光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３を順次に受光して受光信号を発し、これが前述の前処理回路（増幅器１１０と２値化回路１２０）により前処理されると、図１２の一番上に示す出力信号Ｖｓとなる。出力信号Ｖｓは「光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が受光手段６Ａの受光部を通過する通過時間」である受光時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３を「信号持続時間」として有する。
【００９３】
２値化回路１２０から最初に出力される出力信号Ｖｓ（信号継続時間：ｔ１）は、光スポットＳＰ１の受光信号を前処理した信号で、光スポットＳＰ１による書込みの同期検知信号として用いられる。
【００９４】
デジタルカウンタ１３０は、受光信号の信号継続時間：ｔ１をクロック信号を単位としてカウントする（図１２のカウント数：Ｎｃ１）。デジタルカウンタ１３０の出力であるカウント信号ＣＴは、ラッチ回路１５１，１５２，１５３に入力する。
【００９５】
遅延回路１４は、信号継続時間：ｔ１の出力信号Ｖｓが立ち下がると、その立ち下がりから遅延時間：ｔｄ１後にトリガ信号ＴＲ１を発生し、さらに遅延時間：Ｔｄ２だけ遅れてクリア信号ＣＲを発生する。トリガ信号ＴＲ１は、その立ち上がりでラッチ回路１５１をラッチする。これにより上記受光時間：ｔ１に応じたカウント値：Ｎｃ１がラッチ回路１５１にラッチされる。クリア信号ＣＲはデジタルカウンタ１３０をクリアする。
【００９６】
続いて、光スポットＳＰ２の受光信号に応じて信号継続時間：ｔ２を持つ出力信号Ｖｓ（光スポットによる書込みの同期検知信号として用いられる）に対して上記と同様の処理が行なわれるが、このときデジタルカウンタ１３０のカウント信号ＣＴはトリガ信号ＴＲ２の立ち上がりによりラッチ回路１５２にラッチされる。その後、デジタルカウンタ１３０はクリアされ、光スポットＳＰ３の受光時間に応じた信号継続時間：Ｔ３を持つ出力信号Ｖｓ（光スポットＳＰ３による書込みの同期検知信号として用いられる）のカウントとラッチが同様に行なわれる。このときカウント信号ＣＴは、トリガ信号ＴＲ３の立ち上がりによりラッチ回路１５３にラッチされる。デジタルカウンタ１３０はその後クリア信号ＣＲによりクリアされる。
【００９７】
かくて、ラッチ回路１５１，１５２，１５３には受光時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３をクロック信号ＣＫによりカウントしたカウント値：Ｎｃ１，Ｎｃ２，Ｎｃ３がラッチされ、各ラッチ回路はラッチしたカウント値に応じたラッチ出力信号：Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３を出力する。
ラッチ回路１５１〜１５３は「カウンタ手段が計数した各光スポットの通過時間をラッチするラッチ手段」を構成する。
【００９８】
ラッチ出力：Ｄ１，Ｄ２はビットコンパレータ１６１に入力し、ラッチ出力：Ｄ２，Ｄ３はビットコンパレータ１６２に入力する。
ビットコンパレータ１６１はラッチ出力：Ｄ１，Ｄ２の差：Ｄ１−Ｄ２を出力し、ビットコンパレータ１６２はラッチ出力：Ｄ２，Ｄ３の差：Ｄ２−Ｄ３を出力する。「Ｄ１−Ｄ２」は光スポットＳＰ１，ＳＰ２が受光手段６Ａの受光面を横切った通過時間：ｔ１，ｔ２の差に相当し、「Ｄ２−Ｄ３」は光スポットＳＰ２，ＳＰ３が受光手段６Ａの受光面を横切った通過時間：ｔ２，ｔ３の差に当るから、ビットコンパレータ手段の出力を用い、前述の（６Ａ）〜（６Ｃ）式による演算（図示されない演算機構：コンピュータ等により行なう）により走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２を算出することにより走査線ピッチの検出が可能である。
【００９９】
図１３は、請求項６記載のマルチビーム走査装置の実施に用いる「受光部」を説明するための図である。受光手段６Ｃは、矩形形状の受光面を有する受光素子６Ｂ１と、その受光面を覆うように設けられ「非平行に主走査方向に併設された第１，第２のスリットＳＬ１，ＳＬ２」を有する遮光部材６４とにより構成され、被走査面近傍（例えば、図７における受光手段６Ａの位置）に配備される。
【０１００】
スリットＳＬ１，ＳＬ２が副走査方向となす角：θ１，θ２、距離：ｘ１〜ｘ３，ｙ１〜ｙ３を図８に倣って図１３のように定めれば、走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２は前記と同様、次のように表される。
ＰＶ１＝ｙ１−ｙ２＝（ｘ１−ｘ２）／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
ＰＶ２＝ｙ２−ｙ３＝（ｘ２−ｘ３）／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） 。
【０１０１】
一括して走査される光ビームに共通の走査速度：ｖｂ（前述の（６Ｃ）式で与えられる）を用いれば、ＰＶ１，ＰＶ２は以下の式で与えられる。
【０１０２】
ＰＶ１＝（ｔ１−ｔ２）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） （６Ａ’）
ＰＶ２＝（ｔ１−ｔ２）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） （６Ｂ’）。
【０１０３】
ここに、時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３はそれぞれ、光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３がスリットＳＬ１，ＳＬ２間を通過する通過時間である。即ち、光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が、受光手段６Ｃ上を通過すると、各光スポットがスリットＳＬ１，ＳＬ２を通過するとき、受光素子６Ｂ１は図１４に示すごときパルス（適宜の方法で２値化されている）を出力する。これらパルスの図に示す時間間隔が上記通過時間：ｔ１〜ｔ３である。
【０１０４】
演算式（６Ａ’），（６Ｂ’）の演算に必要な通過時間の時間差：ｔ１−ｔ２，ｔ２−ｔ３を得るには演算手段として図１５に示す如き回路を用いて行なう。図１６は図１５の回路の動作に対応するタイミングチャートである。
【０１０５】
図１３に示す如き受光手段６Ｃを光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が順次に走査するとき、受光手段６Ｃからの出力は図１５に示す増幅器１１０により増幅されたのち、微分回路２１０により微分され、さらに０交叉検出回路２２０で０交叉点が検出されてデジタル化された信号になる。
【０１０６】
即ち、図１６に示すように、増幅回路１１０により増幅された信号ＳＧ１は微分回路２１０により微分されて信号ＳＧ２になる。信号ＳＧ２の０交叉（各光スポットがスリットの中央部分に位置する時刻）検出により、３連のデジタル信号Ｖｓ（出力信号）が得られる。３つの出力信号Ｖｓは順次に時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３を信号継続時間（各光スポットがスリットＳＬ１，ＳＬ２間を通過する通過時間）として有する。図１５に示す増幅回路１１０、微分回路２１０、０交叉検出回路２２０は「前処理回路」を構成する。
【０１０７】
前処理回路により処理された出力信号Ｖｓを処理する部分、即ち、デジタルカウンタ１３０および図示されないクロック発生器（カウンタ手段を構成）、遅延回路１４０、ラッチ回路１５１，１５２，１５３（ラッチ手段を構成）、ビットコンパレータ１６１，１６２（ビットコンパレータ手段を構成）により要部を構成される部分は、先に図１１に即して説明した例と全く同様であり、その働きも図１１の場合と全く同様である（図１６参照）。出力信号Ｖｓは、図１１におけると同様にして書込クロック信号となる。
【０１０８】
即ち、０交叉検出回路２２０から順次得られる「信号継続時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３」を持つ信号Ｖｓは、デジタルカウンタ１３０によりクロック信号でカウントされ、ラッチ回路１５１，１５２，１５３にラッチされ、ラッチ出力Ｄ１〜Ｄ３に基づき、ビットコンパレータ手段により時間差：ｔ１−ｔ２，ｔ２−ｔ３に対応する出力：Ｄ１−Ｄ２，Ｄ２−Ｄ３が得られる。
【０１０９】
従って、ビットコンパレータ手段の出力を用いて（６Ａ’），（６Ｂ’）式および（６Ｃ）式による演算（図示されない演算機構：コンピュータ等）により走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２を算出することにより走査線ピッチの検出が可能である。
【０１１０】
なお、図１３に示す受光手段６Ｃに代えて、スリットＳＬ１，ＳＬ２と等価なライン状の受光部を持つ図３に示した如き光センサを用いる受光手段を用いても上記と同様の結果が得られることは自明であろう。
【０１１１】
図１７は請求項８記載のマルチビーム走査装置の走査線ピッチ検出手段に用いる受光手段を説明するための図である。
受光手段６Ｄは、第１の２分割光センサ９１と第２の２分割光センサ９２とを有する。 ２分割光センサ９１，９２は同一構造のもので「細帯状の受光面が分割ラインにより長手方向に縦割り」されて２分割され、２分割された各受光部から受光信号が発生するようになっており、各分割ラインが「互いに非平行」になるように主走査方向に併設されて被走査面の近傍に配備される。
【０１１２】
２分割光センサ９１，９２の各分割線が副走査方向（図の上下方向）となす角：θ１，θ２、距離：ｘ１〜ｘ３，ｙ１〜ｙ３を、図８に倣って図１７のように定めれば、走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２は前記と同様、次のように表される。
ＰＶ１＝ｙ１−ｙ２＝（ｘ１−ｘ２）／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
ＰＶ２＝ｙ２−ｙ３＝（ｘ２−ｘ３）／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） 。
【０１１３】
一括して走査される光ビームに共通の走査速度：ｖｂ（前述の（６Ｃ）式で与えられる）を用いれば、ＰＶ１，ＰＶ２は以下の式で与えられる。
【０１１４】
ＰＶ１＝（ｔ１−ｔ２）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） （６Ａ’’）
ＰＶ２＝（ｔ１−ｔ２）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） （６Ｂ’’）。
【０１１５】
ここに、時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３はそれぞれ、光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が２分割光センサ９１，９２間を通過する通過時間、換言すれば、光スポットＳＰ１が距離：ｘ１を、光スポットＳＰ２が距離：ｘ２を、光スポットＳＰ３が距離：ｘ３を通過する通過時間である。
光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が受光手段６Ｄの領域を通過すると、２分割光センサ９１，９２は図１８に示すごときパルス（適宜の方法で２値化されている）を出力する。これらのパルスの図に示す時間間隔が上記通過時間：ｔ１〜ｔ３である。
【０１１６】
演算式（６Ａ’’），（６Ｂ’’）の演算に必要な通過時間の時間差：ｔ１−ｔ２，ｔ２−ｔ３を得るには、演算手段として図１９に示す如き回路を用いて行なう。図２０は図１９の回路の動作に対応するタイミングチャートである。
【０１１７】
図１７に示す如き受光手段６Ｄを光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が順次に走査するとき、２分割光センサ９１，９２の各受光部からの出力は差動増幅器３１１，３１２により出力差が増幅されて信号ＳＧ３，ＳＧ４となる。
【０１１８】
増幅された出力差である信号ＳＧ３，ＳＧ４は、０交叉検出回路３２１，３２２によりそれぞれ０交叉点を検出されて信号ＳＧ５，ＳＧ６となる。上記０交叉が起きるとき、光スポットは２分割光センサの分割線上にその中心がある。信号ＳＧ５，ＳＧ６は、信号ＳＧ３，ＳＧ４に従ってレベルが順次切り替わる２値信号である。
【０１１９】
２値化されたデジタルの信号ＳＧ５，ＳＧ６は、イクスクルーシブオア回路３３０により「イクスクルーシブオア論理処理」されて出力信号Ｖｓとなる。図２０に見られるように、出力信号Ｖｓは３連で、それぞれ信号継続時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３を有する。差動増幅器３１１，３１２、０交叉検出回路３２１，３２２、イクスクルーシブオア回路３３０は「前処理回路」を構成する。
【０１２０】
前処理回路により処理された信号Ｖｓを処理する部分、即ち、要部をデジタルカウンタ１３０および図示されないクロック発生器（カウンタ手段を構成）、遅延回路１４０、ラッチ回路１５１，１５２，１５３（ラッチ手段を構成）、ビットコンパレータ１６１，１６２（ビットコンパレータ手段を構成）により構成される部分は、先に図１１に即して説明した例と全く同様であり、その働きも図１１の場合と同様である（図２０参照）。出力信号Ｖｓは、図１１におけると同様にして書込クロック信号となる。
【０１２１】
即ち、信号継続時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３を持つ信号Ｖｓは、デジタルカウンタ１３によりクロック信号でカウントされ、ラッチ回路１５１，１５２，１５３にラッチされ、そのラッチ出力Ｄ１〜Ｄ３に基づき、ビットコンパレータ手段により、時間差：ｔ１−ｔ２，ｔ２−ｔ３に対応する出力：Ｄ１−Ｄ２，Ｄ２−Ｄ３が得られる。従ってビットコンパレータ手段の出力を用い、（６Ａ’’），（６Ｂ’’）式および（６Ｃ）式による演算（図示されない演算機構：コンピュータ等）により走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２を算出することにより、走査線ピッチの検出が可能である。
【０１２２】
上に説明した２分割光センサを用いる実施の形態では、２分割光センサの使用により、光スポットの大きさや光強度のばらつき・変動による受光信号への影響を軽減させて、精度の良い走査線ピッチ検出が可能である。
【０１２３】
これまで説明してきた実施の各形態において「検出された走査線ピッチ」は、走査線ピッチの初期調整に利用でき、走査線ピッチ調整手段と共に用いることにより、走査線ピッチの自動切り換え設定や自動調整に供することができる。
【０１２４】
これまで説明してきた実施の形態においては、受光手段を走査する複数の光スポットＳＰ１，ＳＰ２等は互いに主走査方向に十分に分離しており、従って、受光手段により各光スポットを独立して検出することができた。
【０１２５】
複数の光スポットの主走査方向における分離が小さい場合（複数の光スポットを連ねた線が副走査方向となす角が小さい場合）には、受光手段を同時に２以上の光スポットが走査するようになると、上に説明した実施の各形態においては各光スポットが受光手段を通過する通過時間を精度良く得ることが難しくなる。
【０１２６】
このような場合、上記の実施の形態を利用して精度の良い走査線ピッチ検出を行なうには、光ビーム検出部や受光手段を複数の光スポットで同時に走査せず、一度に一つの光スポットによる走査を行なって当該光スポットの位置を検出するプロセスを繰返し、各光スポットの位置から走査線ピッチを得るようにすれば良い。この場合、偏向手段がポリゴンミラーを用いるものである場合には、各光スポットを形成する異なる光ビームが同一の偏向反射面で偏向されるように偏向のタイミングを調整すれば、ポリゴンミラーの面倒れが走査線ピッチ検出に影響するのを防ぐことができる。
【０１２７】
請求項１０記載のマルチビーム走査装置は、光源装置から放射される光ビームが２本である場合に、上記のような場合にも、各光スポットを同時且つ独立に検出して走査線ピッチを検出することができる。以下請求項１０記載の発明の実施の形態を説明する。
【０１２８】
マルチビーム走査装置における光学的な配置は図７におけるのと同様である。
図２１は光源装置の光源部１Ａ１を略示している。発光源である２つの半導体レーザ１１，１２からの光束は、それぞれコリメートレンズ１３，１４により実質的な平行光束にされ、偏光ビームスプリッタ１６に向かう。半導体レーザ１１，１２から放射された光束は偏光ビームスプリッタ１６に対してＳ偏光であり、半導体レーザ１１から放射された光束は１／２波長板１５により偏光面を９０度旋回されて偏向ビームスプリッタ１６に対してＰ偏光になる。
【０１２９】
従って、半導体レーザ１１からの光は偏光ビームスプリッタ１６を略１００％透過し、半導体レーザ１２からの光は偏光ビームスプリッタ１６により略１００％反射されて互いに合流し、さらに１／４波長板１７を透過することにより、互いに旋回方向が逆向きの異なる円偏光とされる。半導体レーザ１１，１２から放射された各光ビームＢＭ１，ＢＭ２は円偏光となることにより、同一の偏向手段や同一の走査結像光学系における反射率・透過率に差がなくなり、光スポットに光量差が生じにくくなる。
【０１３０】
図２２は受光部６Ｅの形態を示している。同一の偏向手段により偏向された複数の光ビームＢＭ１，ＢＭ２は上記の如く「円偏光の旋回方向が互いに逆」であるから、偏光状態が互いに異なる２本の光ビームであり、１／４波長板２１により偏光方向が互いに直交する２光束に戻され、偏光ビームスプリッタ２２に入射する。光ビームＢＭ１は偏光ビームスプリッタ２２を透過すると受光手段２３に入射し、光ビームＢＭ２は偏光ビームスプリッタ２２に反射されて受光手段２４に入射する。即ち、１／４波長板２１と偏光ビームスプリッタ２２とは「２本の光ビームＢＭ１，ＢＭ２を偏光状態に従って互いに分離する光ビーム分離手段」を構成する。
図２３（ａ），（ｂ）に、光源部１Ａ１と受光部６Ｅにおける光ビームＢＭ１，ＢＭ２の偏光状態を説明図として示している。光源部１Ａ１における１／４波長板１５（図２１）と、受光部６Ｅにおける１／４波長板２１（図２２）とは省略することもできる。また、偏光ビームスプリッタ１６，２２に代えて、ウォラストンプリズム、トムソンプリズム等の偏光素子の使用が可能である。
【０１３１】
２つの受光手段２３，２４は、図１８に示すように三角形状の受光面を有し、頂点Ａ１，Ａ２に対する辺を主走査方向に平行にして配備される。頂点Ａ１，Ａ２に対する頂角は一般的にθ１＋θ２とするが図２４においてはθ１＝０である。
【０１３２】
距離：ｙ１，ｙ２，ｘ１，ｘ２を図の如くに定め、頂点Ａ１，Ａ２の副走査方向のずれをΔｙとする。ｖｂは光スポットＳＰ１，ＳＰ２に共通の走査速度である。
【０１３３】
頂点Ａ１，Ａ２に副走査方向のずれが無く、Δｙ＝０の場合であると、受光素子２３，２４の出力：Ｖｓ１，Ｖｓ２の信号継続時間：ｔ１，ｔ２を用いて、走査線ピッチ：ＰＶは一般に、
ＰＶ＝（ｔ２−ｔ１）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
で算出される。但し、説明中の例では前述のようにθ１＝０である。
【０１３４】
上記ずれ：Δｙが０でない場合には、走査線ピッチ：ＰＶは、演算：
ＰＶ＝（ｔ２−ｔ１）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）＋Δｙ
で算出しなければならない。Δｙは以下のように特定できる。即ち、光源装置および受光部に配備されている１／４波長板の一方を仮に取りはすすと光スポットＳＰ１，ＳＰ２は、２つの受光手段２３，２４をいずれも走査するようになるから、発光源の半導レーザの一方のみを点灯して、光スポットＳＰ１のみにより受光手段２４を走査して、その時の受光信号Ｖｓ１’の信号継続時間：ｔ１’を測定する。
すると、このとき、Δｙは、Δｔ＝ｔ１’−ｔ１として、
Δｙ＝Δｔ・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
となる。従って、このΔｙを用いて走査線ピッチ：ＰＶを知ることができる。
【０１３５】
受光手段２３，２４の出力信号Ｖｓ１，Ｖｓ２の立上り部は、光スポットＳＰ１，ＳＰ２よる書込み用の同期検知信号として利用できるが、受光手段３２，２４は別体であるので、これらは光スポットＳＰ１，ＳＰ２との関係で主走査方向に互いに等価な位置になければならない。即ち、仮に光スポットＳＰ１が受光手段２３，２４を共に走査すると考えた場合、光スポットＳＰ１は、受光手段２３，２４を同時に走査しなければならない。この走査にずれがあると光スポットＳＰ１，ＳＰ２による書込み開始位置にずれを生じてしまう。
【０１３６】
これを避けるには、前記一方の１／４波長板を外した状態で光スポットＳＰ１により受光手段２３，２４を同時走査し、受光手段２３，２４の出力信号Ｖｓ１，Ｖｓ２の立ち上がりの時間差：δｔを測定し、この時間差を補正するような回路を同期検知回路に組み込んでおけば良い。このようにして、主走査方向のスポット間隔が小さい場合にも、走査線ピッチ：ＰＶを正確に検出可能であり、光ビーム毎に独立に正確な同期検知信号を得ることができる。
【０１３７】
また、上記の如くして検出された「走査線ピッチ」は走査線ピッチの初期調整に利用でき、またピッチ調整手段と共に用いることにより走査線ピッチの「自動切り換え設定や自動調整」に供することができる。
図７〜図２４に即して説明した上記発明の形態は、図１に示す如き光学系配置の場合にも勿論、適用可能である。
【０１３８】
図２５は請求項１２〜１８記載のマルチビーム走査装置の実施の形態を説明するための図である。繁雑を避けるため、混同の虞れがないと思われるものに就いては図１，２１におけると同じ符号を用いた。
【０１３９】
図２５において、個別に発光制御される複数の発光源を有する光源装置１Ｂからの複数の光ビームはシリンダレンズ２により副走査方向に収束され、「同一の偏向手段」を構成する正６角柱形状のポリゴンミラー３の偏向反射面３Ａの近傍に主走査方向に長い潜像として結像する。偏向反射面３Ａによる反射ビームは、図示されないモータにより駆動されるポリゴンミラー３により偏向される。
【０１４０】
ポリゴンミラー３により一括して偏向された複数の光ビームは「同一の走査結像光学系」をなすアナモフィックなｆθレンズ４Ａと（補正用の）長尺トロイダルレンズ４Ｃとにより、光導電性の感光体５の感光面上に複数の光スポットとして集光され、実体的な被走査面をなす感光体周面を同時走査する。符号８は図１に於けると同様、光路屈曲用のミラーを示す。
【０１４１】
走査結像光学系はポリゴンミラー３の偏向反射面３Ａによる偏向の起点と被走査面位置とを副走査方向に関して共役な関係としており、従って図２５のマルチビーム走査装置はポリゴンミラー３の面倒れを補正する機能を持つ。
【０１４２】
ポリゴンミラー３により一括偏向された複数の光ビームは、走査領域の走査に先立ち、ミラー８により反射され同期検知センサ１０に入射して同期検知信号を発生させる。光源装置１Ｂから放射される複数の光ビームは、それぞれ平行光束としてもよいし、弱い発散性もしくは弱い収束性の光束としてもよいが、説明中の実施の形態において、光源装置１Ｂからは２本の光ビームがそれぞれ平行ビームとして放射される。
【０１４３】
即ち、図２５において光源装置１Ｂは発光源として２個の半導体レーザ１１，１２を有する。半導体レーザ１１，１２を半導体レーザ制御部３７で点灯させると、光源装置１Ｂからは、進行方向が互いに微小角異なる２つの光ビームＢＭ１，ＢＭ２が放射される。
【０１４４】
以下、光源装置１Ｂを詳細に説明する。
図２６に示すように、光源装置１Ｂは、第１，第２の半導体レーザ１１，１２と、第１，第２のコリメートレンズ１３，１４と、第１，第２のアパーチュアＡＰ１，ＡＰ２と、半導体レーザ１２からの光ビームの偏光面を９０度旋回させる１／２波長板１５と、第１，第２の半導体レーザ１１，１２からの光ビームを、射出方向が互いに微小角：αだけ異なる２つの近接した光ビームに合成するビーム合成プリズム１７０とを有する（請求項２４）。
【０１４５】
半導体レーザ１１，１２は、そのｐ−ｎ接合面を図２６における軸Ｘ０，Ｘ１に直交するように配備される。図２６に示す形態においては軸Ｘ１，Ｘ０は同一面内にあり、従って、半導体レーザ１１，１２の発光部は共に同一面内にある。
【０１４６】
半導体レーザ１１から放射された光ビームはコリメートレンズ１４で平行ビーム化されたのち、光スポット形状成形用のアパーチュアＡＰ１により光束周辺部を遮断され、合成プリズム１７０における偏光ビームスプリッタ膜１７１を透過して光ビームＢＭ１となって合成プリズム１７０から射出する。
【０１４７】
半導体レーザ１２から放射された光ビームは、コリメートレンズ１３で平行ビーム化されたのちアパーチュアＡＰ２により光束周辺部を遮断され、１／２波長板１５により偏光面を９０度旋回されてビーム合成プリズム１７０に入射し、同プリズム１７０の斜面１７２で内部反射し、偏光ビームスプリッタ膜１７１により反射され、光ビームＢＭ２となって合成プリズム１７０から射出する。
【０１４８】
図２６の形態において、半導体レーザ１１の発光部はコリメートレンズ１３の光軸上にあり、従って、光ビームＢＭ１は主光線をコリメートレンズ１３の光軸に合致させて射出される。これに対し、半導体レーザ１２は、コリメートレンズ１４の光軸に対し、図２６における軸Ｘ１の方向へ微少距離「ずらされ」ており、このためビーム合成プリズム１７０から射出する光ビームＢＭ２は、上記軸Ｘ１とコリメートレンズ１２の光軸とで形成される平面内において、光ビームＢＭ１に対して微小角：α（半導体レーザ１２の、コリメートレンズ１４の光軸からのずれ量により調整可能である）だけ傾いている（請求項２４）。
【０１４９】
従って、図２６におけるＸ０軸，Ｘ１軸を主走査方向に設定すれば、図２５に即して説明した光学系により、被走査面上に「互いに主走査方向にずれた２つの光スポット」を得ることができ、この状態から光源装置１をシリンダレンズ１３の光軸の回りに回転させると、図２７に示すように、光スポットＳＰ１（光ビームＢＭ１による光スポット）と光スポットＳＰ２（光ビームＢＭ２による光スポット）とを互いに副走査方向（図の上下方向）に分離することができ、上記回転の角を調整することにより走査線ピッチ：ＰＶを可変調整できる。即ち、図２６の光源装置１Ｂでは、コリメートレンズ１３の光軸が「光源装置の光軸」であり、光源装置１Ｂの光軸まわりの回転により走査線ピッチの調整が可能な訳である。
【０１５０】
勿論、半導体レーザ１２をコリメートレンズ１４の光軸に合致させ、半導体レーザ１１のコリメートレンズ１３の光軸からずらすことにより、光ビームＢＭ２の主光線が光源装置１Ｂの光軸に合致するようにしてもよい。
【０１５１】
図２８は「光源装置１Ｂの具体的な構造」と、光源装置１Ｂを光軸まわりに回転調整する「光源装置回転機構」と、これを回転駆動する「駆動手段」とを説明するための図である。符号２３Ａで示す基板は嵌合孔２３ａ，２３ｂを有し、嵌合孔２３ａには鏡筒に保持されたコリメートレンズ１３が、嵌合孔２３ｂには鏡筒に保持されたコリメートレンズ１４がそれぞれ嵌合保持される。
アパーチュアＡＰ１，ＡＰ２の開口部は同一の遮光板２４０に穿設され、遮光板２４０のアパーチュアＡＰ２側の位置に形成された凹みには１／２波長板１５が嵌め込まれる。
【０１５２】
フランジ部材２５は合成プリズム１７０を光ビーム入射側で固定的に保持し、合成プリズム１７０により合成された２つの光ビームは、フランジ部材２５の中空シリンダ状の射出口２５ｂから射出するようになっている。
フランジ部材２５と基板２３Ａとで遮光板２４０と１／２波長板１５とを挾み、半導体レーザ１１を保持した保持体２１Ａをコリメートレンズ１３に光軸合わせし、半導体レーザ１２を保持した保持体２２Ａをコリメートレンズ１４に光軸合わせして、フランジ部材２５と基板２３Ａと保持体２１Ａ，２２Ａを螺子２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄで接合一体化し、これらを半導体レーザ１１，１２を点滅制御する半導体レーザ制御部３７に組付け固定している。
【０１５３】
フランジ部材２５は、射出口２５ｂの中心軸（コリメートレンズ１３の光軸に合致し、光源装置の光軸となっている）の回りに正逆回転可能となっている。フランジ部材２５に一体化されたレバー２５ａには、下方から中空円筒状のアクチュエータ２８の上端部が当接している。アクチュエータ２８は、図示されない保持手段により保持されて軸心の回りに回転可能で且つ軸心方向に移動自在であり、内周に形成された螺子溝には、ステッピングモータ２６の回転軸に圧入された円筒部材２７の外周に形成された螺子が螺合している。
【０１５４】
レバー２５ａにはバネ等の弾性力手段（図示されず）が、図の上方から押圧力を作用させており、ステッピングモータ２６の回転によりアクチュエータ２８を上下させることによりフランジ部材２５を前記射出口２５ｂの中心軸の回り、即ち光源装置１Ｂの光軸まわりに正逆方向に回転させることができる。
【０１５５】
即ち、レバー２５ａ、図示されない弾性力手段、アクチュエータ２８および円筒部材２７は光源装置１Ｂを光軸まわりに回転させる「光源装置回転機構」を構成し、ステッピングモータ２６は光源装置回転機構を回転駆動する「駆動手段」を構成する。そしてこれらはピッチ調整手段２９を構成する。
【０１５６】
図２５に戻ると、感光体５の周面近傍にリニアセンサ３１が設けられている。
リニアセンサ３１はＣＣＤリニアセンサであり、受光エレメントの配列方向、即ちライン方向を副走査方向に向けている。光源装置１Ｂからの２本の光ビームは、同期検知センサ１０に入射した直後にリニアセンサ３１を走査するようになっている。リニアセンサ３１には「重心位置演算手段」である重心位置演算部３２が接続され、リニアセンサ３１と重心位置演算部３２とにより位置検出手段３３が構成されている。
【０１５７】
即ち、図２５の実施の形態において「走査線ピッチ検出手段」は、長手方向を副走査方向に対応させて検出領域に設けられたリニアセンサ３１と、リニアセンサ３１の出力に基づき光スポットの重心位置を演算する重心位置演算手段３２とを有し、リニアセンサ３１の出力に基づき重心位置演算手段３２で演算された重心位置のデータを「光スポット位置データ」とする（請求項１２）。
【０１５８】
重心位置演算部３２から出力される各光スポットＳＰ１，ＳＰ２の「光スポット位置データ」はピッチ算出部３４に入力される。ピッチ算出部３４は、入力する光スポット位置データに基づき走査線ピッチを算出し、その結果をピッチ・回転角度変換部３５に向けて出力する。ピッチ・回転角度変換部３５は入力された情報に基づき所望の走査線ピッチを得るために、光源装置１Ｂを回転させるべき「回転角度」を算出し、その結果に基づきモータ制御部３６を介してステッピングモータ２６を駆動制御する。
【０１５９】
即ち、図２６のマルチビーム走査装置は、個別に発光制御される複数の発光源を有する光源装置１Ｂからの複数の光ビームを同一の偏向手段３により偏向させ、同一の走査結像光学系４Ｂ，４Ｃにより被走査面に複数の光スポットとして集光させ、複数の光スポットにより被走査面を同時走査するマルチビーム走査装置であって、被走査面上において隣接する光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして検出する走査線ピッチ検出手段３３，３４と、走査線ピッチを「光源装置１Ｂの光軸まわりの回転」により調整するピッチ調整手段２９と、走査線ピッチ検出手段３３，３４による検出結果に基づき、ピッチ調整手段２９を制御して所望の走査線ピッチを実現するピッチ調整制御手段３５，３６を有し（請求項１３）、走査線ピッチ検出手段は請求項１２記載のものである。
【０１６０】
図２５に示された半導体レーザ制御部３７は、画像情報を書き込むときには、２ライン分の画像情報に応じて半導体レーザ１１，１２の発光を「同時且つ個別的」に制御するが、走査線ピッチ検出およびピッチ調整を行なうときは、半導体レーザ１１，１２を同時に発光させず、時系列に順次に発光させるように制御する（請求項１４）。
【０１６１】
図２５の実施の形態においては、単一のリニアセンサ３１で２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２を検出するので、走査線ピッチ検出時に半導体レーザ１１，１２を同時に発光させた場合、２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２の主走査方向の間隔（図２７の間隔：Ｌ）が小さくなり、リニアセンサ３１が２つの光スポットを同時に受光するようになると、リニアセンサ３１の出力は図３３（ａ）のように、光スポットＳＰ１，ＳＰ２に対しての出力波形Ａ１，Ａ２が合成されたもの（破線で示す）になり、合成出力の極大部分の間隔は実際の走査線ピッチＰＶに対して若干小さくなるので、検出される走査線ピッチの誤差になる。また走査線ピッチが小さくなって、図３３（ｂ）のΔの程度になると、２つの光スポットの同時検出では走査線ピッチを検出できない。
【０１６２】
そこで図１５のマルチビーム走査装置では、走査線ピッチ検出およびピッチ調整を行なうときは、半導体レーザ１１，１２を同時に発光させず、時系列に順次に発光させるのである。このようにして、光スポットＳＰ１，ＳＰ２が互いに近接しているような場合にも、各光スポットを個別に検出できるので精度の良い走査線ピッチ検出が可能になる。
【０１６３】
上記マルチビーム走査装置は、前述の如く、ポリゴンミラー３の面倒れを補正するようになっているが、リニアセンサ３１の受光エレメントの配列ピッチ（数μｍオーダー）で見ると、面倒れの影響を完全に除くことは難しく、光ビームがどの偏向反射面により偏向されるかに応じて、リニアセンサ３１が検出する光スポット位置データは変動し、正確な走査線ピッチ検出を面倒にする。
【０１６４】
説明中の実施の形態においては、光源装置１Ｂの各発光源１１，１２を時系列に順次発光させて得られる各光ビームの偏向を、同一の偏向反射面で行なわせるタイミング制御手段を有する（請求項１６）。例えば、６面ある偏向反射面のうちで第１番目のものでのみ光ビーム偏向を行なう用にするのであれば、図２９に示すように、第１の偏向反射面が偏向態位にあるときにのみ半導体レーザの点灯をオンにするのである。図示されない「タイミング制御手段」は「ピッチ調整制御手段」の一部を構成し、半導体レーザ制御部３７に向けてタイミング信号を出力する。
【０１６５】
従って、例えば、各光スポットの光スポット位置データとしてｎ個のデータをサンプリングする場合であれば、常に同一の偏向反射面が使用されるように半導体レーザ１１，１２の発光を制御して、ポリゴンミラー３の１〜ｎ回転で光スポットＳＰ１に対する光スポット位置データを得、ポリゴンミラー３のｎ＋１〜２ｎ回転で光スポットＳＰ２に関する光スポット位置データを得る。このようにして、走査線ピッチ検出におけるポリゴンミラー３の面倒れの影響を除去することができる。
【０１６６】
「光スポット位置データ」は以下のようにして得られる。
リニアセンサ３１から出力が重心位置演算部３２に入力すると、同演算部３２は「リニアセンサ３１の全長：Ｄ（ビット数：Ｎ×受光エレメント幅：７μｍ）にわたる出力」を図３０（ａ）に示すように「積分」し、積分値の１／２となる「０ビットからの距離」であるビット位置：ｄ（ビット位置：ｄの両側における光強度の和が等しい）を「光スポットの重心位置」として演算する（図３０（ｂ）参照）。
【０１６７】
演算されたデータは、受光した光スポットがＳＰ１，ＳＰ２であるかに応じて、ＳＰ１もしくはＳＰ２の「光スポット位置データ」としてピッチ算出部３４に入力する。ピッチ算出部３４は、ＳＰ１位置データ：ｄ１およびＳＰ２位置データ：ｄ２に基づき、演算：｜ｄ１−ｄ２｜を行なって走査線ピッチ：ＰＶを算出する。
【０１６８】
このように光スポットＳＰ１，ＳＰ２の光スポット位置データとして重心位置を用いるので、光スポット形状が崩れていてピーク位置がスポット中央部に無いような場合であっても確実に光スポットの重心位置により適正な光スポット位置データを得ることができる。この重心位置検出はリニアセンサ３１における分解能（説明中の例では７μｍ）以上の精度で可能であり検出精度が高い。
【０１６９】
再び図２５に戻ると、上記の如くピッチ算出部３４において算出された走査線ピッチ：ＰＶはピッチ・回転角度変換部３５に入力し、ピッチ・回転角度変換部３５は、入力された走査線ピッチ：ＰＶに基づき所望の走査線ピッチを実現するために光源装置１Ｂを光軸まわりに回転させるべき「回転角度量」を決定する。即ち、入力される走査線ピッチ：ＰＶを光源装置１Ｂの光軸まわりの回転角度量に変換する。
【０１７０】
図２５に示す実施の形態においては、検出された走査線ピッチ：ＰＶと、回転角度量：ΔΘとの関係（１例を図３１に示す）が「換算式」としてピッチ・回転角度変換部３５内のメモリに、マルチビーム走査装置の工場出荷時に予め記憶されており、ピッチ・回転角度変換部３５は、入力される走査線ピッチ：ＰＶと所望の走査線ピッチとの差：ΔＰＶを求め、ΔＰＶに対応する回転角度量：ΔΘを上記換算式に基づき決定する。即ちピッチ・回転角度変換部３５は「検出される走査線ピッチ：ＰＶと光源装置１Ｂの回転角度との換算式に基づき光源装置の回転角度量：ΔΘを決定するピッチ・回転角度変換手段」である（請求項１５）。
【０１７１】
このように決定された回転角度量：ΔΘはモータ制御部３６に送られ、同制御部３６はステッピングモータ２６を駆動して、光源装置１ＢをΔΘだけ回転させる。このようにして所望の走査線ピッチが実現される。
【０１７２】
上記の換算式で回転角度量を決定するようにすると、一度の回転動作で所望の走査線ピッチを実現でき、所望の走査線ピッチを実現するまでフィードバックループによる調整を何度も繰り返す必要がなく、短時間内に所望の走査線ピッチを実現できる。
【０１７３】
上記の走査線ピッチ調整においては、被走査面上の２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２の間隔（ξとする）が一義的に定まっていることを前提としている。このとき、光スポットＳＰ１，ＳＰ２の重心を結ぶ直線が主走査方向となす角をγとすれば、走査線ピッチは「ξ・ｓｉｎγ」で与えられるので、回転角度量：ΔΘによる回転で上記角：γを設定することにより走査線ピッチを所望の値に設定するのである。
【０１７４】
先に説明したように「ξ」は、半導体レーザ１２のコリメートレンズ１４の光軸からの「ずらし量」により決定されるほか、光源装置から被走査面に至る光学系の特性にも依存する。従って上記「ずらし量」に誤差があったり、光学系に加工誤差や組付け誤差による狂いがあったりすると「ξ」に誤差が含まれ、調整される走査線ピッチにも誤差が生じることになる。
【０１７５】
このような誤差を除去するには、走査線ピッチ：ＰＶの検出に加えて、距離：ξの検出をも行なえば良い。
【０１７６】
図２５に示した実施の形態の場合、走査線ピッチ：ＰＶは上に説明した方法によりピッチ算出部３４で算出することができる。
一方、図３２に示す、光スポットＳＰ１，ＳＰ２の主走査方向の間隔：Ｌは、半導体レーザ１１，１２を同時に発光させておいて、リニアセンサ３１を走査速度：ｖｂで走査したときのリニアセンサ３１において生じる光スポットＳＰ１の受光信号と光スポットＳＰ２の受光信号の時間差：τを検出すれば、演算：Ｌ＝ｖｂ×τで求めることができる。なお、時間差：τを検出するのにリニアセンサ３１の出力を用いず、同期検知センサ１０の出力を用いてもよい。
【０１７７】
すると、光スポットＳＰ１，ＳＰ２の間隔：ξは演算：√｛Ｌ２＋（ＰＶ）２｝で得ることができ、図３３に示すように、走査線ピッチの検出値をＰＶ、実現すべき所望の走査線ピッチをＰＶ０、これらの差：ＰＶ０−ＰＶ＝ΔＰＶとすれば、光源装置１Ｂの回転角度量：ΔΘは、演算：ΔΘ＝ｓｉｎ~ １｛ΔＰＶ／ξ｝により得ることができる。
【０１７８】
上記：Ｌ，ξ，ΔＰＶの算出に必要な演算は、図示されない演算手段を付加して行なっても良いし、ピッチ算出部３４にこの演算機能を付加しても良い。ΔΘの算出演算は、算出された「ξとΔＰＶ」をピッチ・回転角度変換部３５に与えて行なうことができる。
【０１７９】
このようにすると、検出された走査線ピッチと回転角度量との換算式を工場出荷時に各ロットごとに予め入力する煩わしさがなく、適正に光源装置１Ｂの回転角度量：ΔΘを決定できる。
【０１８０】
図１〜図２４に即して説明した実施の形態において、光源装置１，１Ａに就いては「その具体的な構成」を説明しなかったが、図２５，２６に即して説明した光源装置１Ｂは、図１に示す光源装置１として、あるいは図７に示す光源装置１Ａとして利用できる。また、図１〜図２４に即して説明した実施の形態において、図２５〜図３２に即して説明した「光源装置回転機構」と、これを回転駆動する「駆動手段」を、図１，図７のマルチビーム走査装置に利用できること勿論であり、図１〜図６に即して説明した実施の形態あるいは図７〜図２４に即して説明した実施の形態により検出された走査線ピッチに基づき、上記光源装置回転機構と駆動手段とを用いて走査線ピッチ調整を行なうことができる。
【０１８１】
また、図２５に示すマルチビーム走査装置では、複数の光ビームの書き出しの同期は、同期貢献値センサ１０の出力を用いて行なうが、専用の同期光検知センサ１０を用いること無く、リニアセンサ３１の出力を利用して同期検知信号を得ることもできる（請求項１８）。
【０１８２】
図３４は、請求項１９，２０，２３〜２５記載のマルチビーム走査装置の実施の形態を示している。繁雑を避けるため、混同の虞れがないものに就いては図２５におけると同一の符号を用いた。
光源装置１Ｂ、シリンダレンズ２、ポリゴンミラー３を用いる偏向手段、光路屈曲用ミラー８、被走査面に主面を合致させて配備された光導電性の感光体５、光源装置１Ｂを光軸まわりに回転させるためのステッピングモータ２６、ステッピングモータ２６を制御するモータ制御部３６、モータ制御部３６に光源装置１Ｂを回転させるための回転角度量を得るピッチ・回転角度変換部３７、光源装置１Ｂの半導体レーザ１１，１２の点滅を制御する半導体レーザ制御部３７は図２５に示されたものと同様のものである。
【０１８３】
従って図３４に示す実施の形態においても、光源装置１Ｂは図２６に示すごとき光学構成、具体的には図２８に示すごとき構成であって、図２８に示すごときピッチ可変手段２９により光軸まわりに回転されてピッチ調整を行なう。
【０１８４】
図３４（ａ）において、光源装置１Ｂは発光源である半導体レーザ１１，１２が半導体レーザ制御部３７により点灯されると、進行方向が互いに微小角異なる２つの光ビームＢＭ１，ＢＭ２（共に平行ビームである）を放射する。光ビームＢＭ１，ＢＭ２は、副走査方向にのみ正のパワーを持つシリンダレンズ２を介して同一の偏向手段のポリゴンミラー３の偏向反射面に入射する。このときシリンダレンズ２の作用により、光ビームＢＭ１，ＢＭ２とも偏向反射面近傍に「主走査方向に長い線像」として結像する。
【０１８５】
ポリゴンミラー３の回転に依り、一括して等角速度的に偏向された両光ビームは共通の「走査結像光学系」に入射する。走査結像光学系は、この実施の形態においてｆθレンズ４Ｂと「補正用の長尺レンズ」である長尺トロイダルレンズ４Ｃとにより構成されている。走査結像光学系を透過した光ビームＢＭ１，ＢＭ２は、光路屈曲用のミラー８により光路を折り曲げられ、被走査面（実体的には感光体５の周面）上に副走査方向に走査線ピッチ：ＰＶだけ分離した２つの光スポットとして集光し、２つの隣接する走査線を同時に走査する。
【０１８６】
走査結像光学系をなすｆθレンズ４Ｂと長尺トロイダルレンズ４Ｃとは、副走査方向に関して「偏向反射面位置近傍（前記線像の結像位置）と被走査面位置とを幾何光学的に略共役な関係としており（共軸レンズであるｆθレンズ４Ｂと長尺トロイダルレンズ４Ｃとを組み合わせることにより、このようなアナモフィックな性質を実現している）、従って図３４のマルチビーム走査装置はポリゴンミラー３における「面倒れ」を補正する機能を有している。
【０１８７】
「ビーム位置検出手段」であるリニアセンサ３１Ａは、受光エレメントの配列方向を副走査方向に向けて走査開始側における走査領域外に配備されている。走査結像光学系における「主走査方向の走査開始側端部」を通った光ビームＢＭ１，ＢＭ２は、光路屈曲用のミラー８に反射されることなくリニアセンサ３１Ａに入射する。
【０１８８】
走査結像光学系を構成するｆθレンズ４Ｂと長尺トロイダルレンズ４Ｃのうち、ｆθレンズ４Ｂをなす２枚のレンズ４１，４２の中で，ポリゴンミラー３から離れた側にあるレンズ４２の主走査方向の光走査開始側の端部（図３４（ａ）に符号ｂで示す部分）には、長尺トロイダルレンズ４Ｃ側の面に、図３４（ｂ）示すように「副走査方向に負のパワー」を持つ樹脂成形レンズ７００を貼付けてある。
【０１８９】
樹脂成形レンズ７００の貼着により、この部分におけるレンズ４２の屈折面の正のパワーが減少し、結果的に樹脂成形レンズ７００を通る光ビームに対する走査結像光学系の副走査方向の結像倍率は他の部分よりも相対的に大きくなる（請求項２１）。その結果「ビーム位置検出手段」である１次元のリニアセンサ３１Ａが検出する光ビームＢＭ１，ＢＭ２の副走査方向の間隔：ＰＶ’は、被走査面上の走査線ピッチ：ＰＶより大きくなる。なお、図では明確でないが「位置検出用結像光学系（前記走査結像光学系と樹脂成形レンズ７００で構成される）」の副走査対応方向の結像倍率が、走査光学系の結像倍率より大きいことから、リニアセンサ３１Ａの配備位置は「走査結像レンズから被走査面に到る距離よりも遠方」に設定されている。
【０１９０】
このように、間隔：ＰＶ’は大きいので精度良く検出できる。
リニアセンサ３１Ａの出力が「演算手段」であるピッチ算出部３４Ａに入力すると、ピッチ算出部３４Ａは入力情報に基づき（例えば、図２５の実施の形態の場合と同様にして）間隔：ＰＶ’を決定し、さらに間隔：ＰＶ’と走査線ピッチ：ＰＶとの比（走査結像光学系と位置検出用結像光学系の、副走査対応方向における結像倍率の比）：ｋ（マルチビーム走査装置における設計条件により定まる定数）により演算：ＰＶ’／ｋを行なって走査線ピッチ：ＰＶを求める。
【０１９１】
得られた走査線ピッチ：ＰＶはピッチ・回転角度変換部３５に入力し、ピッチ回転角変換部３５は、達成するべき走査線ピッチの目標値：ＰＶ０（走査線ピッチを切り換える場合であれば切り換えに依って新たに設定された走査線ピッチ、走査線ピッチの補正の場合であれば予め定められた走査線ピッチ）を実現するために光源装置１を回転させるべき回転角度量：ΔΘを図２５の実施の形態緒場合と同様にして決定する。
【０１９２】
そして、決定された回転角度量：ΔΘを実現するようにモータ制御部３６を介してステッピングモータ２６を制御する。従って、ピッチ・回転角度変換部３２とモータ制御部３４とは「駆動手段を制御する回転制御手段」を構成する。このようにして目標とする走査線ピッチ：ＰＶ０を確実に実現できる。
【０１９３】
図３５は請求項１９，２１，２２〜２５記載のマルチビーム走査装置の実施の形態を示している。混同の虞れが無いと思われるものに就いては図３４（ａ）におけると同一の符号を用いた。
図３４に示す実施の形態との差異は以下の点にある。即ち、図３５の実施の形態では、ｆθレンズ４Ｂの、主走査方向における光走査開始側端部を通った光ビームは長尺トロイダルレンズ４Ｃに入射することなくミラーｍ１により反射されて「ビーム位置検出手段」であるリニアセンサ３１Ａに入射する。
走査結像光学系を構成するｆθレンズ４Ｂと長尺トロイダルレンズ４Ｃは、いずれも副走査方向に正のパワーを持つのでｆθレンズ４Ｂのみによる副走査方向の正のパワーは、走査結像光学系における副走査方向の「合成の正のパワー」よりも小さい。
【０１９４】
このようにｆθレンズ４Ｂを「位置検出用結像光学系」として用いることにより（請求項２１，２２）、リニアセンサ３１Ａ上には光ビームＢＭ１，ＢＭ２を、被走査面上におけるよりも副走査方向に大きい結像倍率で結像させることができる。換言すれば、リニアセンサ３１Ａが検出する光ビームＢＭ１，ＢＭ２の副走査方向の間隔：ＰＶ’は、被走査面上における走査線ピッチ：ＰＶよりも大きくなり、間隔：ＰＶ’を精度良く検出できる。検出された間隔：ＰＶ’に応じて目標とする走査線ピッチ：ＰＶ０を実現する方法は、図３４の実施の形態の場合
と全く同様である。
【０１９５】
図３５の実施の形態においては、変形例としてミラーｍ１に代えて「副走査方向にのみ正のパワーを持つ凹シリンダミラー」を用い、ｆθレンズ４Ｂと、この凹シリンダミラーとで「位置検出用結像光学系」を構成することもできる。このようにすると、位置検出用結像光学系の副走査方向における結像倍率を図３５の実施の形態における場合よりも更に大きくすることができる。
【０１９６】
上の説明では、間隔：ＰＶ’の検出から走査線ピッチ：Ｐの目標値：ＰＶ０の実現までを自動的に行なったが、間隔：ＰＶ’の検出に基づき、走査線ピッチ：ＰＶの設定や補正は手動で行なうようにしてもよい。
【０１９７】
また、光源装置１Ｂから被走査面に到る光路上に配備される光学素子は、上に説明した実施の形態におけるものに限らず、従来から知られた種々のものを適宜利用できる。また、リニアセンサ３１Ａの出力信号により同期検知信号を得るようにすることができる（請求項２５）。
【０１９８】
以上説明した全ての実施の形態において、光源装置として特開昭５６−４２２４８号公報に記載されたような半導体レーザアレイを用いることができることも言うまでもない。
【０１９９】
【発明の効果】
この発明によれば新規なマルチビーム走査装置を実現できる。
請求項１記載の発明のマルチビーム走査装置は、走査線ピッチを検出する機能を有するので走査線ピッチを視度良く検出でき、走査線ピッチの調整に供することにより走査線ピッチの精度良い調整が可能である。
【０２００】
請求項１，２記載の発明では２つの光センサを用い、複数光ビームを同時に走査して走査線ピッチ検出を行なうので、偏向手段に「面倒れ」があっても、その影響を受けずに走査線ピッチを短時間で精度良く検出できる。
【０２０１】
請求項３，４〜１０，１８，２５記載の発明では、走査線ピッチ検出手段の光センサの出力に基づき書込み用の同期検知信号を得るので各光ビームの書込み開始位置を正確に調整でき、専用の同期光検知手段を必要としないのでマルチビーム走査装置のコンパクト化が可能である。
【０２０２】
請求項１，１１，２３記載の発明のマルチビーム走査装置はピッチ調整手段を有するので、検出された走査線ピッチに応じて走査線ピッチを良好に調整できる。
請求項１０記載の発明のマルチビーム走査装置は２つの受光手段により２本の光ビームを別個に検出するので、２つの光スポットが主・副走査方向に近接する場合でも、良好な走査線ピッチの検出が可能である。
【０２０３】
請求項１２記載の発明のマルチビーム走査装置は光スポットの重心位置を検出して走査線ピッチ検出を行なうので光スポットの形状が崩れているような場合にも、適正な走査線ピッチ検出が可能である。
【０２０４】
請求項１３〜１７記載の発明のマルチビーム走査装置は単一のリニアセンサにより走査線ピッチを検出し、検出された走査線ピッチに基づきピッチ調整を行なって所望の走査線ピッチを実現できる。
【０２０５】
請求項１６記載の発明のマルチビーム走査装置は、ポリゴンミラーの面倒れの影響を除去して単一のリニアセンサにより走査線ピッチを検出できる。
【０２０６】
請求項１９〜２３記載の発明のマルチビーム走査装置では、位置検出用結像光学系における副走査方向における結像倍率が被走査面に対する走査結像光学系の副走査方向の結像倍率よりも大きく設定されているので、走査線ピッチが細かい場合にも精度の良い走査戦費値検出が可能である。
【０２０７】
請求項２４記載の発明によれば請求項１〜２３記載の発明のマルチビーム走査装置に適した２ビーム用の光源装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 請求項１記載の発明の実施の１形態を示す図である。
【図２】 図１における制御部７の構成を示すブロック図である。
【図３】 図１における受光部６の構成を説明するための図である。
【図４】 図３における受光部６と、これを走査する光スポットＳＰ１，ＳＰ２の関係を示す図である。
【図５】 図２の制御部７における信号処理を説明するタイミング図である。
【図６】 光スポットＳＰ１，ＳＰ２と走査線ピッチの関係を説明するための図である。
【図７】 請求項４記載の発明の実施の１形態を示す図である。
【図８】 図７における受光手段６Ａを説明するための図である。
【図９】 図７における受光手段の別例を示す図である。
【図１０】 図７における受光手段６Ａから得られる受光信号を示す図である。
【図１１】 図７の制御部７Ａの要部を説明するための図である。
【図１２】 図７の制御部７Ａにおける信号処理を説明するためのタイミング図である。
【図１３】 請求項６の受光手段を説明するための図である。
【図１４】 図１３の受光手段から得られる受光信号を示す図である。
【図１５】 図１３の受光手段から得られる受光信号の処理を行なう制御部を説明するための図である。
【図１６】 図１５の制御部における信号処理を説明するためのタイミング図である。
【図１７】 請求項８の受光手段を説明するための図である。
【図１８】 図１７の受光手段から得られる受光信号を示す図である。
【図１９】 図１７の受光手段から得られる受光信号の処理を行なう制御部を説明するための図である。
【図２０】 図１９の制御部における信号処理を説明するためのタイミング図である。
【図２１】 請求項１０における光源部の構成を説明するための図である。
【図２２】 請求項１０における受光部の構成を説明するための図である。
【図２３】 図２２，２３の光源部、受光部における光ビームＢＭ１，ＢＭ２の偏光状態を示す図である。
【図２４】 請求項１０における走査線ピッチ検出を説明するための図である。
【図２５】 請求項１３記載のマルチビーム走査装置の実施の１形態を説明するための図である。
【図２６】 図２５における光源装置１Ｂを説明するための図である。
【図２７】 図２５の光源装置１Ｂによる被走査面上の光スポットの状態を説明するための図である。
【図２８】 図２５の光源装置１Ｂの機械的構成と、光源装置１Ｂを回転させる光源装置回転機構を説明するための図である。
【図２９】 請求項１６記載の発明を説明する図である。
【図３０】 請求項１２，１４記載の発明における重心検出を説明するための図である。
【図３１】 走査線ピッチと光源装置の光軸まわりの回転角度との関係を説明するための図である。
【図３２】 請求項１７記載の発明を説明するための図である。
【図３３】 図２５のリニアセンサ３１からの受光信号が重なる場合を説明する図である。
【図３４】 請求項１９，２０記載の発明のマルチビーム走査装置の実施の１形態を説明するための図である。
【図３５】 請求項１９，２１，２２記載の発明のマルチビーム走査装置の実施の１形態を説明するための図である。
【符号の説明】
１ 光源装置
２ シリンダレンズ
３ ポリゴンミラー
４ 走査結像光学系
５ 感光体
６ 受光手段
【発明の属する技術分野】
この発明はマルチビーム走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
個別に発光制御される複数の発光源を有する光源装置からの複数の光ビームを同一の偏向手段により偏向させ、同一の走査結像光学系により被走査面に複数の光スポットとして集光させ、上記複数の光スポットにより被走査面を同時走査するマルチビーム走査装置が提案されている（特開昭５６−４２２４８号公報）。
【０００３】
マルチビーム走査装置において良好な走査を実現するには、同時走査される隣接走査線間の距離、即ち走査線ピッチが精度良く設定される必要がある。走査ピッチに狂いがあると、走査により書き込まれる画像の濃度が副走査方向に周期的に変動する濃度むらを生じ、記録画像の像質を劣化させる。
【０００４】
走査線ピッチは、例えば、マルチビーム走査装置を組み込んだ画像形成装置の出荷時に適正なピッチに調整する必要があるし、出荷された後においても、画像形成装置の機械的振動等により経時的に変化する可能性があり、そのように走査線ピッチに狂いを生じた場合には、随時の設定調整が必要となる。
【０００５】
また、近来、走査線ピッチを変更することにより、記録密度の切り換えを行なうことも意図されており、このような場合には、記録密度の切り換えに応じて走査線ピッチを精度良く設定しなおす必要がある。
【０００６】
走査線ピッチを調整するにせよ設定するにせよ、これを正確に行なうには、走査線ピッチの正確な検出が必要である。走査線ピッチを検出する方法は、例えば、特開平７−７２３９９号公報に記載された方法等、種々の方法が知られているが、精度や能率の面で問題なしとしない。
【０００７】
また、走査線ピッチの調整・制御に関しては、特開昭６１−２４５１７４号公報や、Ｔｈｅ ９ｔｈ ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ｃｏｎｇｒｅｓｓ ｏｎ ａｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ ｎｏｎ−ｉｎｐａｃｔ ｐｒｉｎｔｉｎｎｇ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ／Ｊａｐａｎ ｈａｒｄｃｏｐｙ ７９３ Ｐ２２２に掲載の論文：Ｄｕａｌ ｂｅａｍ ｄｉｏｄｅ ｌａｓｅｒ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｓｙｓｔｅｍ ｆｏｒ ｈｉｇｈ ｓｐｅｅｄ ｌａｓｅｒ ｂｅａｍ ｐｒｉｎｔｅｒ等に記載された方法が知られているが、精度等に関して種々の問題がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
この発明は、走査線ピッチ検出手段を持つ新規なマルチビーム走査装置の実現を課題とする。
【０００９】
この発明はまた、走査線ピッチ検出手段とピッチ調整手段とを有するマルチビーム走査装置の実現を課題とする。
【００１０】
この発明はさらに、走査線ピッチ検出手段とピッチ調整手段とピッチ調整制御手段とを有するマルチビーム走査装置の実現を課題とする。
【００１１】
また、この発明は、専用の同期光検出手段を用いること無く同期検知信号を得られるようにすることによりマルチビーム走査装置のコンパクト化を実現することを課題とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明のマルチビーム走査装置は「個別に発光制御される複数の発光源を有する光源装置からの複数の光ビームを同一の偏向手段により偏向させ、同一の走査結像光学系により被走査面に複数の光スポットとして集光させ、上記複数の光スポットにより被走査面を同時走査するマルチビーム走査装置であって、上記光源装置から射出される上記光ビームは、進行方向に互いに角度が異なり、上記複数の発光源の一つから射出される光ビームを上記光源装置の光軸とし、上記光ビームの少なくとも一つを上記光軸から主走査方向にずらすことにより、被走査面を同時走査する上記複数の光スポットのうち少なくとも二つの光スポットを主走査方向に互いに離隔させるとともに、上記互いに離隔された光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして、上記偏向手段における同一の偏向反射面で走査された同一走査内で検出する走査線ピッチ検出手段を有し、上記走査線ピッチ検出手段 が、被走査面と等価な検出領域に、長手方向を副走査方向に対応させて設けられた細帯状の第１の光センサと、上記検出領域における走査方向下流側に、上記第１の光センサに対して長手方向を所定角傾けて設けられた細帯状の第２の光センサとを有する、光ビーム検出部と、これら第１および第２の光センサから出力される光ビーム検出信号に基づき、各光スポットが第１および第２の光センサ間の距離を通過する通過時間を検出し、上記第２の光センサの第１の光センサに対する傾き角と、上記検出された通過時間とに基づき、隣合った２つの光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして演算する制御部とを有し、上記光源装置を、上記光軸のまわりに回転させることにより、走査線ピッチを調整するピッチ調整手段を有することを特徴とするマルチビーム走査装置」である。
【００１３】
「光源装置」としては、複数の半導体レーザ発光源をモノリシックにアレイ配列させた半導体レーザアレイや、後述する２個の半導体レーザを組み合わせたものを有効に利用できる。
【００１４】
「同一の偏向手段」は、光源装置から放射される複数の光ビームを一括して偏向させる。この偏向手段としては、ポリゴンミラーや、回転単面鏡、回転２面鏡を用いるもの等を利用できる。
【００１５】
「同一の走査結像光学系」は、一括して偏向された複数の光ビームを被走査面上に複数の光スポットとして集光させる。このような走査結像光学系としては、ｆθレンズを始め、ｆθレンズと像面湾曲補正用あるいは面倒れ補正用の長尺レンズ（シリンダレンズやトロイダルレンズあるいは特殊な面形状の特殊トロイダルレンズ等）の組合せとして実現できる。また、光源装置から偏向手段に向かう複数の光ビームを偏向手段の偏向反射面位置に「線像」として結像させ、走査結像光学系をアナモフィックに構成して、偏向反射面位置と被走査面位置とを副走査方向において共役な関係としてもよい。
【００１６】
マルチビーム走査装置の光学系には、光学系のレイアウトに応じて、光ビームの光路を屈曲させる「光路屈曲用のミラー」を適宜に配備することができる。
要するに光源装置を除く光学系の構成としては、従来から知られたシングルビーム走査装置の光学系に類似のものを適宜利用できる。なお、被走査面位置には通常、光導電性の感光体の感光面が配備されるので、光スポットは実態的には感光体の感光面を走査することになる。
【００１７】
ここで、以下の説明のために「主走査方向」および「副走査方向」の意味に就き説明する。
周知の如く、「主走査方向」は、被走査面上において光スポットが走査を行なう方向であり、副走査方向は光スポットの走査に相対的に感光体の感光面が移動する方向である。この明細書においては、これらの方向をさらに一般化する。
即ち、偏向手段により理想的に偏向された光ビームを考え、この光ビームに直交する任意の平面内で光ビームの移動により走査される方向を、一般的に主走査方向とよび、上記面内で、被走査面上の副走査方向と平行的に対応する方向を一般的に副走査方向と称する。
【００１８】
また、光源装置の発光源から偏向手段に至る光路上においても上記主走査方向に対応する方向を「主走査方向」と呼び、上記副走査方向と対応する方向を「副走査方向」と称する。上述の「線像」は主走査方向に長く結像する。
【００１９】
請求項１記載のマルチビーム走査装置は「被走査面上において隣接する光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして検出する走査線ピッチ検出手段」を有する。
「走査線ピッチ検出手段」は、光ビーム検出部と、制御部とによって構成することができる。
「光ビーム検出部」は、被走査面と等価な検出領域（走査結像光学系の作用により、被走査面上に於けると同様に複数の光スポットが集光形成される）に、長手方向を副走査方向に対応させて設けられた「細帯状の第１の光センサ」と、検出領域における走査方向下流側に、第１の光センサに対して長手方向を所定角傾けて設けられた「細帯状の第２の光センサ」とを有する。
【００２０】
「細帯状の光センサ」は、細幅の長い受光部を有する光センサで、第１の光センサはその長手方向を副走査方向に平行させて配備され、第２の光センサは、その長さ方向を副走査方向から傾けることにより、第１の光センサと所定の角をなすようにする。光センサとしては、他にＣＣＤリニアセンサを用いることも可能である。
【００２１】
「制御部」は、第１および第２の光センサから出力される光ビーム検出信号に基づき、各光スポットが第１および第２の光センサ間の距離を通過する通過時間を検出し、第２の光センサの第１の光センサに対する傾き角と、上記検出された通過時間とに基づき、隣合った２つの光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして演算する。
【００２２】
上記制御部は、より具体的には、基準クロック発生回路と、遅延クロック発生回路と、ビーム間隔計測回路と、信号位相検出回路と、副走査ピッチ演算回路とを有することができる（請求項２）。
【００２３】
「基準クロック発生回路」は、基準クロックを発生する。基準クロックは計時の基準となるクロックである。
「遅延クロック発生回路」は、基準クロックに対して所定の微少時間ずつ遅延した１連の遅延クロック（基準クロックと同周波数である）を発生させる。
「ビーム間隔計測回路」は、各光スポットが光ビーム検出部の第１および第２の光センサにより発生する光ビーム検出信号に基づき、各光スポットが第１および第２の光センサ間の距離を通過する通過時間間隔を上記基準クロックを基準として計測する。
【００２４】
「位置信号位相検出回路」は、各光スポットによる光ビーム検出信号と同位相の遅延クロックを検出する。
「副走査ピッチ演算回路」は、光ビーム検出信号と同位相の遅延クロックと基準クロックとの位相のずれを時間差として演算し、演算された各時間差により光スポットごとの通過時間間隔を補正して、各光スポットごとの通過時間を得、この通過時間と、第２の光センサの第１の光センサに対する傾き角とにより、隣合った２つの光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして演算する。
【００２５】
請求項２記載のマルチビーム走査装置において、複数の遅延クロック中で「第１の光センサからの光ビーム検出信号と同位相の遅延クロック」を選択して、各光スポットに対する書込みクロック信号とすることができる（請求項３）。この書込みクロック信号を用いることにより、各光ビームによる書き出し位置を正確に調整することができる。
【００２６】
上記請求項１または２または３に記載されたマルチビーム走査装置は、光源装置を光軸に平行な軸のまわりに回転させることにより、走査線ピッチを調整する「ピッチ調整手段」を有することができる。
【００２７】
請求項４記載のマルチビーム走査装置は、上記請求項１記載のマルチビーム走査装置において、走査線ピッチ検出手段が、受光手段と、演算手段を有する。
「受光手段」は、被走査面の近傍（走査を妨げない程度の近傍）に配備されるが、「主走査方向の受光面幅が副走査方向にリニアに変化」する。
「演算手段」は、各光ビームが受光手段の受光面を主走査方向に通過する通過時間を検出し、光スポットの走査速度と、検出された通過時間と、受光面の形状とに応じて走査線ピッチを演算する。
【００２８】
請求項４記載のマルチビーム走査装置における演算手段は、より具体的には、前処理回路と、カウンタ手段と、ラッチ手段と、遅延回路と、ビットコンパレータ手段とを有することができる（請求項５）。
「前処理回路」は、受光手段の出力を増幅し、２値化する。
「カウンタ手段」は、前処理回路により前処理されたデジタル信号を、所定のクロック信号により計数する。
「ラッチ手段」は、カウンタ手段が計数した各光スポットの通過時間をラッチする。
「遅延回路」は、前処理回路の出力を入力され、その立ち下がり時間を基準とした所定の遅延時間で、ラッチ手段へのカウンタ手段の出力をラッチするトリガ信号とカウンタ手段をクリアするクリア信号とを発する。
「ビットコンパレータ手段」は、ラッチ手段の出力に基づき、隣接する光スポットの通過時間の差を演算する。
【００２９】
請求項６記載のマルチビーム走査装置は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、走査線ピッチ検出手段が、以下の如き遮光部材と、受光手段と、演算手段を有することを特徴とする。
「受光手段」は遮光部材と受光素子とを有し、被走査面の近傍に配備される。
【００３０】
「遮光部材」は、互いに非平行に主走査方向に併設された第１および第２のスリットを有する。
【００３１】
「受光素子」は、遮光部材の第１および第２のスリットを通過した光ビームを受光する。
「演算手段」は、各光ビームが第１および第２のスリットの間を主走査方向に通過する通過時間を検出し、光スポットの走査速度と、検出された通過時間と、遮光部材における第１および第２のスリットの態位とに応じて、走査線ピッチを演算する。
【００３２】
請求項６記載のマルチビーム走査装置における演算手段は、前処理回路と、カウンタ手段と、ラッチ手段と、遅延回路と、ビットコンパレータ手段とを有することができる。
「前処理手段」は、受光手段の出力を増幅したのち微分し、微分信号の０交叉点を検出する。
【００３３】
上記カウンタ手段、ラッチ手段、遅延回路、ビットコンパレータ手段は請求項５記載のマルチビーム走査装置におけると同様のものであり、前処理回路により前処理されたデジタル信号に対し、請求項５記載のものと同様の処理を行なう。
請求項８記載のマルチビーム走査装置は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、走査線ピッチ検出手段が、以下の如き受光手段と演算手段とを有する点を特徴とする。
【００３４】
「受光手段」は、被走査面の近傍に配備され、分割ラインが互いに非平行になるように主走査方向に併設された第１および第２の２分割光センサにより構成される。「２分割光センサ」は、細帯状の受光面が長手方向の分割線により縦割りに２分割されたものであり、分割された各受光部（細長い形状である）から独立して出力信号が発せられる。
【００３５】
「演算手段」は、各光ビームが第１および第２の２分割光センサの間を主走査方向に通過する通過時間を検出し、光スポットの走査速度と、検出された通過時間と、第１および第２の２分割光センサの分割ラインの態位とに応じて、走査線ピッチを演算する。
【００３６】
この場合の「演算手段」は、以下の如き前処理回路と、カウンタ手段と、ラッチ手段と、遅延回路と、ビットコンパレータ手段とを有することができる（請求項９）。
「前処理回路」は、受光手段における各２分割光センサの各受光部からの出力の差を増幅し、増幅された出力差の０交叉点を検出し、各２分割光センサに対応する０交差点の信号に対しイクスクルーシブオア論理処理を行なう。
【００３７】
カウンタ手段、ラッチ手段、遅延回路、ビットコンパレータ手段は請求項５記載のマルチビーム走査装置におけると同様のものであり、前処理回路により前処理されたデジタル信号に対し請求項５記載のものと同様の処理を行なう。
【００３８】
請求項１０記載のマルチビーム走査装置は以下の如き特徴を有する。即ち、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、光源装置からは「偏光状態が互いに異なる２本の光ビーム」が放射される。そして、走査線ピッチ検出手段は、光ビーム分離手段と、２つの受光手段と、演算手段とを有する。
「光ビーム分離手段」は、上記２本の光ビームを、偏光状態に従って互いに分離する。
「２つの受光手段」は、分離された各ビームを受光する。
「演算手段」は、各受光手段の出力に基づき走査線ピッチを演算する。
【００３９】
上記２つの受光手段は、請求項４または６または８記載の受光手段であり、演算手段は、請求項４または６または８記載の演算手段に、上記２つの受光手段の出力を時間的に前後して入力するように構成されたものである。
【００４０】
上記請求項４〜１０の任意の１に記載のマルチビーム走査装置において、受光手段の受光信号により同期検知信号を得るようにでき（請求項１１）、請求項４〜１１の任意の１に記載のマルチビーム走査装置は「光源装置を光軸に平行な軸のまわりに回転させることにより、走査線ピッチを調整するピッチ調整手段」を有することができる。
【００４１】
請求項１２記載のマルチビーム走査装置は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、走査線ピッチ検出手段が、以下の如き、リニアセンサと重心位置演算手段とを有する。
「リニアセンサ」は、長手方向を副走査方向に対応させて検出領域に設けられる。
「重心位置演算手段」は、リニアセンサの出力に基づき、リニアセンサが受光した光スポットの重心位置を演算する。
【００４２】
そして、重心位置演算手段で演算された重心位置のデータが、走査線ピッチ検出のための「光スポット位置データ」とされる。
請求項１２記載のマルチビーム走査装置は、走査線ピッチ調整のために光源装置を光軸の周りに回転調整可能とし、光スポット位置データに基づき走査線ピッチを算出するピッチ算出部を有することが出来る（請求項２６）。
【００４３】
請求項１３記載のマルチビーム走査装置は、走査線ピッチ検出手段と、ピッチ調整手段と、ピッチ調整制御手段とを有する。
「走査線ピッチ検出手段」は、被走査面上において隣接する光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして検出する。
「ピッチ調整手段」は、走査線ピッチを、光源装置の光軸まわりの回転により調整する。
「ピッチ調整制御手段」は、走査線ピッチ検出手段による検出結果に基づきピッチ調整手段を制御して所望の走査線ピッチを実現する。
走査線ピッチ検出手段としては、上に説明した種々のものを用いることができる。
【００４４】
請求項１３記載のマルチビーム走査装置における「走査線ピッチ検出手段」として、請求項１２記載のものを用い、ピッチ調整制御手段が「光源装置の各発光源を時系列に順次発光させて、各ビームごとに光スポット位置検出を走査線ピッチ検出手段により検出し、検出された位置データに基づき、走査線ピッチを算出する機能」を有するように構成することができる（請求項１４）。
【００４５】
上記請求項１３または１４記載のマルチビーム走査装置において、ピッチ調整制御手段は「検出される走査線ピッチと光源装置の回転角度との換算式に基づき、光源装置の回転角度量を決定するピッチ・回転角度変換手段」を有することができる（請求項１５）。
【００４６】
請求項１３または１４または１５記載のマルチビーム走査装置において、偏向手段として「ポリゴンミラーを用いるもの」を用いる場合には、ピッチ調整制御手段が「光源装置の各発光源を時系列に順次発光させて得られる各光ビームの偏向を、同一の偏向反射面で行なわせるタイミング制御手段」を有するようにすることができる（請求項１６）。
【００４７】
上記請求項１４記載のマルチビーム走査装置においては、ピッチ調整制御手段が、主走査ピッチ算出手段と、回転角度量算出手段を有することができる（請求項１７）。
「主走査ピッチ算出手段」は、ピッチ検出手段のリニアセンサを各光スポットが通過するときの出力間隔から「主走査ピッチ」を算出する。
「回転角度量算出手段」は、算出された主走査ピッチと、ピッチ検出手段により検出された走査線ピッチとに基づき、光源装置の回転角度量を算出する。
【００４８】
上記請求項１２または１４または１５または１６または１７記載のマルチビーム走査装置において、走査線ピッチ検出手段のリニアセンサの出力信号により同期検知信号を得るようにできる（請求項１８）。
【００４９】
請求項１９記載のマルチビーム走査装置は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、走査線ピッチ検出手段が、ビーム位置検出手段と、位置検出用結像光学素子とを有する。
「ビーム位置検出手段」は、走査領域外に配備され、偏向された各光ビームの副走査方向の位置を検出する手段であり、リニアセンサや位置センサを利用できる。
「位置検出用結像光学素子」は、複数の光ビームをビーム位置検出手段に結像させる光学素子であり、その副走査方向における結像倍率が、被走査面に対する走査結像光学系の副走査方向の結像倍率よりも大きく設定されている。
【００５０】
この場合、偏向された複数の光ビームを被走査面上に集光させる同一の走査結像光学系の主走査方向の所定の側の端部近傍に、他の部分に比して正のパワーの小さい部分を設け、この部分を通過した各光ビームがビーム位置検出手段に結像するように「位置検出用結像光学系を上記走査結像光学系の一部として構成」することができる（請求項２０）。
【００５１】
あるいはまた、請求項１９記載のマルチビーム走査装置において、偏向された複数の光ビームを被走査面上に集光させる同一の走査結像光学系を、複数枚のレンズを有するように構成し、これら複数枚のレンズの一部のレンズであって「偏向手段側にあるもの」の副走査方向のパワーが、走査結像光学系全体としての副走査方向の正のパワーよりも弱くなるようにすることにより、上記一部のレンズを位置検出用結像光学系となし、この位置検出用結像光学系を通過した各光ビームを、走査結像光学系における残りのレンズを透過させることなくビーム位置検出手段に導いて結像させるようにしても良い（請求項２１）。
この場合において、走査結像光学系がｆθレンズと、面倒れ補正用の長尺レンズとを有するようにし、「ｆθレンズを位置検出用結像光学系とする」ことができる（請求項２２）。
【００５２】
請求項１９〜２２の任意の１に記載のマルチビーム走査装置は、光源装置回転機構と、駆動手段と、演算手段と、回転制御手段とを有することができる（請求項２３）。
「光源装置回転機構」は、光源装置を光軸のまわりに回転させる。
「駆動手段」は、光源装置回転機構を回転駆動する。
「演算手段」は、ビーム位置検出手段の出力に基づき、走査線ピッチを算出する。
「回転制御手段」は、演算手段の算出結果に基づき駆動手段を制御する。
【００５３】
これら請求項１〜２３の任意の１に記載のマルチビーム走査装置において、光源装置が「第１および第２の半導体レーザと、第１および第２のコリメートレンズと、第１および第２のアパーチュアと、一方の半導体レーザからの光ビームの偏光面を９０度旋回させる１／２波長板と、上記第１および第２の半導体レーザからの光ビームを、両光ビームの偏光状態を利用して合成するビーム合成プリズムとを有し、第１または第２の半導体レーザを、対応するコリメートレンズの光軸から微少距離ずらすことにより、２つの光ビームの射出方向を互いに微小角異ならせる」ように構成することができる（請求項２４）。
【００５４】
また、上記請求項１９〜２４記載のマルチビーム走査装置において、ビーム位置検出手段の出力信号により同期検知信号を得るようにすることができる（請求項２５）。
【００５５】
請求項３、請求項１１、請求項１８、請求項２５記載の発明のように、走査線ピッチ検出手段を利用して光スポットによる書き出し位置を揃える場合には、光ビーム検出部や受光手段、ビーム位置検出手段等を、走査領域の書き出し側に配備して、走査領域へ向かう光ビームを検出する必要があるが、走査線ピッチ検出のみを目的とするのであれば、走査終了後のビームを検出して走査線ピッチ検出を行なってもよい。
【００５６】
【発明の実施の形態】
図１において、個別に発光制御される複数の発光源を有する光源装置１からの複数の光ビームは、「同一の偏向手段」を構成するポリゴンミラー３（ポリゴンミラー３を駆動するモータは図示を省略されている。以下の図においても同様である）により偏向され、「同一の走査結像光学系」をなすアナモフィックなｆθレンズ４により光導電性の感光体５の感光面上に複数の光スポットとして集光され、実体的な被走査面をなす感光体周面を同時走査する。
【００５７】
図１において、符号２は副走査方向にのみ正のパワーを持つシリンダレンズを示す。光源装置１からの複数の光ビームはシリンダレンズ２により、それぞれ副走査方向へのみ集光され、偏向手段３の偏向反射面の近傍に主走査方向に長い線像として結像される。
ｆθレンズ４は上記偏向反射面と被走査面との間を副走査方向に関して共役な関係とする（それ故アナモフィックである）。従って、図１のマルチビーム走査装置はポリゴンミラー３における「面倒れ」を補正する機能を持つ。
【００５８】
光源装置１から放射される複数の光ビームはそれぞれ平行ビームとしてもよく、弱い発散性もしくは弱い収束性の光ビームとしてもよい。以下では説明の具体性のため、光源装置１から放射される光ビームは平行光束であるとし、放射される光ビーム数は２本であるとする。光源装置１の具体的な構成の例は後述するが、さしあたっては２個の半導体レーザを発光源として有し、これら発光源からの光をコリメートして合成する機能を持ち、光源装置の光軸まわりの回転により走査線ピッチを調整・変更できるものであるとする。
【００５９】
図１において、符号８は偏向された光ビームの光路を被走査面側へ屈曲させる光路屈曲用のミラーを示し、符号９は、マルチビーム走査光学系を収納するハウジング（図示されず）から、光ビームを感光体５側へ射出させるための窓を密閉するカバーガラスを示している。
【００６０】
ポリゴンミラー３により一括偏向された２本の光ビームは、ｆθレンズ４に入射し、走査領域の走査に先立ち、ミラー６１に反射され、「光ビーム検出部」をなす光ビーム検出装置６に入射する。
光ビーム検出装置６は図３に示すように、２つの光センサＰＤ１，ＰＤ２および増幅器ＡＭＰ１，ＡＭＰ２を有する。光センサＰＤ１，ＰＤ２は、図に示されたように「細帯状の受光部」を持つ。
第１の光センサＰＤ１は、受光部の長手方向を副走査方向（図の上下方向）に対応させて配備され、第２の光センサＰＤ２は受光部の長手方向を第１の光センサＰＤ１に対して所定角傾けて設けられる。
第１の光センサＰＤ１と第２の光センサＰＤ２とは「被走査面と等価な検出領域」に受光面が位置するように配備され、光センサＰＤ２の配備位置は光センサＰＤ１の「走査方向下流側（図３の右方）」である。検出領域は被走査面と等価であるので、２本の光ビームは被走査面に集光するのと同様に検出領域に集光してそれぞれ光スポットを形成する。
【００６１】
図４に示すように、２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２は主走査方向へ移動しつつ第１および第２の光センサＰＤ１，ＰＤ２を横切る。これに伴い、図３に示すように、光センサＰＤ１，ＰＤ２からの出力は増幅器ＡＭＰ１，ＡＭＰ２でそれぞれ増幅されて「光ビーム検出信号」となる。
【００６２】
図１において、光ビーム検出装置６から発せられる各光ビーム検出信号は制御部７に入力される。制御部７は、図２に示すように、基準クロック発生回路７１と、遅延クロック発生回路７２と、ビーム間隔計測回路７４，７５と、位置信号位相検出回路７３と、副走査ピッチ演算回路７６とを有する。
【００６３】
基準クロック発生回路７１は、書き込むべき記録データの送出タイミングの基準となる基準クロックを発生する。この基準クロックの周期は走査線ピッチ検出における計時の時間単位となる。
遅延クロック発生回路７２は、基準クロック発生回路７１で発生された基準クロックの入力を受け、基準クロックに対して所定の微少時間（基準クロックの周期の１／ｎ）ずつ遅延した１連の遅延クロックを発生させる。
【００６４】
図５に、上記基準クロックと遅延クロックＣＫｄ０，．．．ＣＫｄ４，．．ＣＫｄ７，ＣＫｄ８，ＣＫｄ９，ＣＫｄｎ−１を示す。これら遅延クロックは、位置信号位相検出回路７３に向けて出力される。各遅延クロックは基準クロックと同周期である。
位置信号位相検出回路７３には光ビーム検出装置６の各光センサからの光ビーム検出信号が入力され、位置信号位相検出回路７３は入力される２系列の光ビーム検出信号（光センサＰＤ１，ＰＤ２からの出力）と同位相の遅延クロックを検出し、検出された遅延クロックを副走査ピッチ演算回路７６に向けて出力する。
因みに図５に示す例では、光センサＰＤ１からの光ビーム検出信号の立ち上がりタイミングと同位相の遅延クロックとして遅延クロックＣＫｄ４が検出され、光センサＰＤ２からの光ビーム検出信号の立ち上がりタイミングと同位相の遅延クロックとして遅延クロックＣＫｄ９が検出されている。以下の説明は図５に示す場合に準拠して行なう。
【００６５】
光ビーム検出装置６からの各光ビーム検出信号はそれぞれビーム間隔計測回路７４，７５に入力される。ビーム間隔計測回路７４，７５には基準クロック発生回路７１からの基準クロックが入力される。
ビーム間隔計測回路７４は光センサＰＤ１からの光ビーム検出信号に基づき、２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２が順次に光センサＰＤ１を通過するのに要する「通過時間間隔（図５：ＴＣ１）」を基準クロックに基づいて計測する。同様に、ビーム間隔計測回路７５は光センサＰＤ２からの光ビーム検出信号に基づき、２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２が順次に光センサＰＤ２を通過する「通過時間間隔（図５：ＴＣ２）」を基準クロックに基づいて計測する。これら計測された通過時間間隔：ＴＣ１，ＴＣ２は副走査ピッチ演算回路７６に入力される。
【００６６】
副走査ピッチ演算回路７６は位置信号位相検出回路７３から入力される２種の遅延クロックＣＫｄ４，ＣＫｄ９と基準クロックとの位相のずれによる時間差：Ｔｄ１１，Ｔｄ１２，Ｔｄ２１，Ｔｄ２２を演算し、演算された各時間差：Ｔｄ１１等により、光スポットごとの通過時間間隔：ＴＣ１，ＴＣ２を補正し、各光スポットごとの通過時間：ＴＰＤ１，ＴＰＤ２を演算により得、通過時間：ＴＰＤ１，ＴＰＤ２と、第２の光センサＰＤ２の第１の光センサＰＤ１に対する傾き角：θ（図４）と、光スポットＳＰ１，ＳＰ２の走査速度：Ｖとにより、２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２の副走査方向の間隔を走査線ピッチとして演算する。
【００６７】
図４を参照すると、第２の光センサＰＤ２の第１の光センサＰＤ１に対する傾き角：θは、光センサＰＤ１，ＰＤ２の中心線が互いに交叉する交叉角である。
上記各中心線と光スポットＳＰ１，ＳＰ２の中心軌跡との交点を図の如くＡ１，Ａ２，Ｂ１，Ｂ２とすると、時間差：ＴＰＤ２−ＴＰＤ１（＝ＴＨとする）に走査速度：Ｖ（２本の光ビームは一括偏向されるから、光ビームＳＰ１，ＳＰ２に共通である）を乗じたものは「Ａ２〜Ｂ２の距離−Ａ１〜Ｂ１の距離」に等しい。
【００６８】
光スポットＳＰ１の受光面の長さ方向は副走査方向に設定されているから、走査線ピッチをＰＶとすると関係「ＰＶ＝ＴＨ・Ｖ・ｔａｎθ」が成立つ。
また、図５から明らかなように、
ＴＰＤ２＝ＴＣ２＋Ｔｄ２１−Ｔｄ２２、ＴＰＤ１＝ＴＣ１＋Ｔｄ１１−Ｔｄ１２
であるから、上記関係は
ＰＶ＝{(ＴＣ２＋Ｔｄ２１−Ｔｄ２２)−(ＴＣ１＋Ｔｄ１１−Ｔｄ１２)}・Ｖ・ｔａｎθ
と書くことができる。ここで、上記走査線ピッチ：ＰＶをＰＶ＝ＴＶ・Ｖと書くと、ＴＶは、走査線ピッチ：ＰＶを走査速度：Ｖを単位として時間に換算したものであり、このＴＶを用いると、上記関係は、
ＴＶ＝{(ＴＣ２＋Ｔｄ２１−Ｔｄ２２)−(ＴＣ１＋Ｔｄ１１−Ｔｄ１２)}・ｔａｎθ
と書くことができる。
【００６９】
そこで時間：ＴＶを上記式の右辺により演算すると、走査線ピッチ：ＰＶは上記の如く演算された時間：ＴＶと、基準クロックの周波数：ｆ（Ｈｚ）、記録密度：Ｄ（ｄｐｉ）を用いて、演算：ＰＶ＝（２４．５）・ｆ・ＴＶ／Ｄにより算出することができる（上記演算における因子：（２４．５）・ｆ／Ｄは走査速度：Ｖを与える）。この演算は、前述の如く副走査ピッチ演算回路７６により行なわれる。
【００７０】
さて、説明中の実施の形態においては、図２に示すように、制御部７は書込クロック選択回路７８を有する。書込クロック選択回路７８は、複数の遅延クロックから「第１の光センサＰＤ１からの光ビーム検出信号と同位相の遅延クロック（図５における遅延クロックＣＫｄ４，ＣＫｄ９）」を選択して各光スポットに対する書込みクロック信号とする（請求項３）。このようにして、各光スポットの書込み開始のタイミングを互いに揃えることが可能になる。
【００７１】
制御部７はまた、ピッチ間隔制御部７７を有する。即ち、光源装置１は、これを光軸を中心として回転させることができるようになっている。被走査面上における２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２間の距離が所定の大きさとなるように光源装置１が設定されている。
そこで、光スポットＳＰ１を形成するための光源（半導体レーザ）が光軸上にあるものとすると、光源装置１を光軸のまわりに回転させることにより、図６に示すように、被走査面上の光スポットＳＰ２の位置を「光スポットＳＰ１を中心として回転」させることができる。従って、光スポットＳＰ１，ＳＰ２を結ぶ方向が主走査方向となす角：η１，η２を調整することにより、走査線ピッチ：ＰＶを調整することができる。図６に示されたのは、上記角：η１，η２に応じて走査線ピッチ：ＰＶがピッチ１，ピッチ２に設定される状態を示している。
【００７２】
光源装置１の上記回転は「図示されない光源装置回転機構」で行なわれ、この光源装置回転機構と、図２のピッチ間隔制御部７７とが「光源装置を、光軸に平行な軸のまわりに回転させることにより、走査線ピッチを調整するピッチ調整手段」を構成している（請求項１）。
【００７３】
ピッチ調整に当っては、先ず、前述の如くして走査線ピッチ：ＰＶを検出し、調整すべき走査線ピッチと検出されたピッチ：ＰＶとの差に応じて、光源装置１の回転角を定めて光源装置１の回転を行なえば良い。光源装置を回転させる光源装置回転機構の具体的な例に就いては後述する。
【００７４】
上には、光源装置として発光源が２つの場合を説明したが、光源装置はこれに限らず、半導体レーザアレイ等のように３以上の発光源を持つものでもこの発明を実施できる。例えば、発光源が３つ以上ある場合、それら発光部の内で隣合う２つの発光部による２つの光スポットに就いて、上記の如くして走査線ピッチを検出すれば、他の発光源も同じピッチで設けられているから、全ての光スポットに就き、走査線ピッチを調整することが可能である。
【００７５】
上に説明した実施の形態では、位相のずれ：Ｔｄ１１，Ｔｄ１２，Ｔｄ２１，Ｔｄ２２を副走査ピッチ演算回路７６で演算したが、位置信号位相検出回路７３で演算するようにしてもよい。
【００７６】
図７は、請求項４記載のマルチビーム走査装置の実施の形態を要部のみ示している。
光源装置１Ａから放射される複数の光ビームは、同一の偏向手段であるポリゴンミラー３により一括して偏向され、同一の走査結像光学系であるｆθレンズ４Ａを透過して、光路屈曲用のミラー８を介して被走査面５Ａ上に入射し、ｆθレンズ４Ａの作用により複数の光スポットとして被走査面５Ａ上に集光される。
【００７７】
被走査面５Ａの位置には図示されない感光体が配備され、光スポットが実体的には感光体を走査することは図１の実施の形態と同様である。複数の光ビームは画像信号に応じて変調され、画像信号に従う静電潜像を書き込む。
【００７８】
被走査面５Ａの近傍に受光手段６Ａが配備されている。
受光手段６Ａはフォトダイオード等の受光素子で、図８に示すように三角形状の受光面６１を有する。受光面６１は、その底辺を主走査方向（図の左右方向）と平行にし、上記底辺から頂点Ａに向かう方向が副走査方向となるように「被走査面と等価な位置（光スポットが集光する位置）」に配備されている。このような受光面形状により、受光面６Ａの「主走査方向の受光面幅」は副走査方向にリニアに変化することになる。
【００７９】
受光面形状としては上記三角形状の他「底辺と上辺とが主走査方向に平行な台形形状」としてもよい。受光手段における「主走査方向の受光面幅を副走査方向にリニアに変化させる」ためには、図８に示す例のように、受光素子の受光面自体を三角形もしくは台形形状に形成しても良いが、図９に示す例のように、例えば長方形形状の受光面６１Ａを有する受光素子６Ｂの受光面に、台形形状（三角形状でもよい）の開口部６３Ａを有する遮光部材６３を設けることによって実現してもよい。
【００８０】
実施の形態として、一括して偏向される光ビームが３本であり、これら光ビームが、図８に示すように、主・副走査方向に分離した３つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３のように集光して同時の走査を行なう場合を説明する。
【００８１】
三角形状の受光面６１の頂点Ａで交わる２辺が副走査方向（図の上下方向）となす角を図の如くθ１，θ２とし、頂点Ａから計って光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が受光面６１を横切る高さを、それぞれｙ１，ｙ２，ｙ３、光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が受光面６１を横切る距離をそれぞれ、ｘ１，ｘ２，ｘ３とすると、これらの間に以下の関係が成り立つ。
【００８２】
ｙ１＝ｘ１／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
ｙ２＝ｘ２／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
ｙ３＝ｘ３／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） 。
【００８３】
図８に示すように、光スポットＳＰ１とＳＰ２の副走査方向の間隔（走査線ピッチ）をＰＶ１、光スポットＳＰ２，ＳＰ３の副走査方向の間隔をＰＶ２とすると、これらは以下のように与えられる。
ＰＶ１＝ｙ１−ｙ２＝（ｘ１−ｘ２）／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
ＰＶ２＝ｙ２−ｙ３＝（ｘ２−ｘ３）／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） 。
【００８４】
一括して偏向される複数の光ビームの偏向速度は同一であり、これらは同一の走査光学系であるｆθレンズ４Ａにより集光されるから、光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３は同一の走査速度：ｖｂを有する。
光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が受光手段６Ａの受光面を走査すると、受光手段６Ａから、図１０に示すように、互いに異なる時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３の受光パルス（周知の処理で２値化されている）が発せられる。時間：ｔ１は光スポットＳＰ１が受光面６１を横切る「通過時間」であり、時間：ｔ２，ｔ３はそれぞれ光スポットＳＰ２，ＳＰ３が受光面６１を横切る「通過時間」である。
【００８５】
走査速度：ｖｂを用いると、図８の受光面幅：ｘ１，ｘ２，ｘ３は、ｘ１＝ｔ１・ｖｂ，ｘ２＝ｔ２・ｖｂ，ｘ３＝ｔ３・ｖｂであるから、走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２は上記通過時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３を用いて以下のように表される。
ＰＶ１＝（ｔ１−ｔ２）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） （６Ａ）
ＰＶ２＝（ｔ２−ｔ３）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） （６Ｂ）。
【００８６】
走査速度：ｖｂは、走査結像光学系(ｆθレンズ４Ａ)の焦点距離（走査結像光学系がアナモフィックであるときは主走査方向の焦点距離）：Ｆ(ｍｍ)、ポリゴンミラー３による偏向光ビームの最大ふれ角(４π／偏向反射面数)：θＰＬ、被走査面５Ａに位置する感光体の感光面の移動速度（副走査方向）：ｖ(ｍ／ｓ)、記録密度：ＲＤ(ｄｐｉ)、一括偏向される光ビームの数：ｎｂを用いて、一般に、
ｖｂ（ｍ／ｓ）＝Ｆ・θＰＬ・ｖ・ＲＤ／ｎｂ／２４．５ （６Ｃ）
で与えられる。Ｆ，θＰＬ，ｖ，ＲＤ，ｎｂはマルチビーム走査装置の設計条件として定まるから、結局、上記通過時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３が検出されれば、走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２を上記式（６Ａ），（６Ｂ），（６Ｃ）によって演算算出できることになる。この演算は「演算手段」により行なわれる。図７に示す実施の形態においては演算部７Ａが演算手段である。
【００８７】
図１１は演算部７Ａの要部を示すブロック図である。
受光手段６Ａからの出力は増幅器１１０により増幅されたのち２値化回路１２０によりデジタル信号に変換されて出力信号Ｖｓとなる。増幅器１１０と２値化回路１２０は「前処理回路」を構成する（請求項５）。
【００８８】
デジタル化された出力信号Ｖｓはデジタルカウンタ１３０のイネーブル入力端子１３１に入力されるとともに遅延回路１４０に入力される一方、同期検知信号として用いられ（請求項１１）、位相同期回路１０００を経て「書込クロック信号」となる。
【００８９】
デジタルカウンタ１３０のクロック入力端子１３２にはクロック信号ＣＫが入力される。デジタルカウンタ１３０とクロック信号ＣＫを発生するクロック発生器（図示されず）は「カウンタ手段」を構成する。
【００９０】
出力信号Ｖｓはデジタルカウンタ１３０をイネーブルにし、デジタルカウンタ１３０はクロック信号ＣＫのパルスを計数してカウント信号ＣＴを出力する。遅延回路１４０はデジタルカウンタ１３０の出力をラッチするトリガ信号ＴＲ１，ＴＲ２，ＴＲ３と、デジタルカウンタ１３０をクリアするクリア信号ＣＲを発生する。トリガ信号ＴＲ１，ＴＲ２，ＴＲ３とクリア信号ＣＲは、信号Ｖｓの立ち下がりを基準に発生される。
【００９１】
カウント信号ＣＴは「カウンタ手段が計数した各光スポットの通過時間をラッチするラッチ手段」を構成するラッチ回路１５１，１５２，１５３に、それぞれトリガ信号ＴＲ１，ＴＲ２，ＴＲ３の各立ち上がりによりラッチされ、ラッチ出力：Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３は「ビットコンパレータ手段」を構成するビットコンパレータ１６１，１６２に入力される。
【００９２】
以下、図１２に示すタイミングチャートに基づいて説明する。受光手段６Ａは光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３を順次に受光して受光信号を発し、これが前述の前処理回路（増幅器１１０と２値化回路１２０）により前処理されると、図１２の一番上に示す出力信号Ｖｓとなる。出力信号Ｖｓは「光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が受光手段６Ａの受光部を通過する通過時間」である受光時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３を「信号持続時間」として有する。
【００９３】
２値化回路１２０から最初に出力される出力信号Ｖｓ（信号継続時間：ｔ１）は、光スポットＳＰ１の受光信号を前処理した信号で、光スポットＳＰ１による書込みの同期検知信号として用いられる。
【００９４】
デジタルカウンタ１３０は、受光信号の信号継続時間：ｔ１をクロック信号を単位としてカウントする（図１２のカウント数：Ｎｃ１）。デジタルカウンタ１３０の出力であるカウント信号ＣＴは、ラッチ回路１５１，１５２，１５３に入力する。
【００９５】
遅延回路１４は、信号継続時間：ｔ１の出力信号Ｖｓが立ち下がると、その立ち下がりから遅延時間：ｔｄ１後にトリガ信号ＴＲ１を発生し、さらに遅延時間：Ｔｄ２だけ遅れてクリア信号ＣＲを発生する。トリガ信号ＴＲ１は、その立ち上がりでラッチ回路１５１をラッチする。これにより上記受光時間：ｔ１に応じたカウント値：Ｎｃ１がラッチ回路１５１にラッチされる。クリア信号ＣＲはデジタルカウンタ１３０をクリアする。
【００９６】
続いて、光スポットＳＰ２の受光信号に応じて信号継続時間：ｔ２を持つ出力信号Ｖｓ（光スポットによる書込みの同期検知信号として用いられる）に対して上記と同様の処理が行なわれるが、このときデジタルカウンタ１３０のカウント信号ＣＴはトリガ信号ＴＲ２の立ち上がりによりラッチ回路１５２にラッチされる。その後、デジタルカウンタ１３０はクリアされ、光スポットＳＰ３の受光時間に応じた信号継続時間：Ｔ３を持つ出力信号Ｖｓ（光スポットＳＰ３による書込みの同期検知信号として用いられる）のカウントとラッチが同様に行なわれる。このときカウント信号ＣＴは、トリガ信号ＴＲ３の立ち上がりによりラッチ回路１５３にラッチされる。デジタルカウンタ１３０はその後クリア信号ＣＲによりクリアされる。
【００９７】
かくて、ラッチ回路１５１，１５２，１５３には受光時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３をクロック信号ＣＫによりカウントしたカウント値：Ｎｃ１，Ｎｃ２，Ｎｃ３がラッチされ、各ラッチ回路はラッチしたカウント値に応じたラッチ出力信号：Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３を出力する。
ラッチ回路１５１〜１５３は「カウンタ手段が計数した各光スポットの通過時間をラッチするラッチ手段」を構成する。
【００９８】
ラッチ出力：Ｄ１，Ｄ２はビットコンパレータ１６１に入力し、ラッチ出力：Ｄ２，Ｄ３はビットコンパレータ１６２に入力する。
ビットコンパレータ１６１はラッチ出力：Ｄ１，Ｄ２の差：Ｄ１−Ｄ２を出力し、ビットコンパレータ１６２はラッチ出力：Ｄ２，Ｄ３の差：Ｄ２−Ｄ３を出力する。「Ｄ１−Ｄ２」は光スポットＳＰ１，ＳＰ２が受光手段６Ａの受光面を横切った通過時間：ｔ１，ｔ２の差に相当し、「Ｄ２−Ｄ３」は光スポットＳＰ２，ＳＰ３が受光手段６Ａの受光面を横切った通過時間：ｔ２，ｔ３の差に当るから、ビットコンパレータ手段の出力を用い、前述の（６Ａ）〜（６Ｃ）式による演算（図示されない演算機構：コンピュータ等により行なう）により走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２を算出することにより走査線ピッチの検出が可能である。
【００９９】
図１３は、請求項６記載のマルチビーム走査装置の実施に用いる「受光部」を説明するための図である。受光手段６Ｃは、矩形形状の受光面を有する受光素子６Ｂ１と、その受光面を覆うように設けられ「非平行に主走査方向に併設された第１，第２のスリットＳＬ１，ＳＬ２」を有する遮光部材６４とにより構成され、被走査面近傍（例えば、図７における受光手段６Ａの位置）に配備される。
【０１００】
スリットＳＬ１，ＳＬ２が副走査方向となす角：θ１，θ２、距離：ｘ１〜ｘ３，ｙ１〜ｙ３を図８に倣って図１３のように定めれば、走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２は前記と同様、次のように表される。
ＰＶ１＝ｙ１−ｙ２＝（ｘ１−ｘ２）／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
ＰＶ２＝ｙ２−ｙ３＝（ｘ２−ｘ３）／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） 。
【０１０１】
一括して走査される光ビームに共通の走査速度：ｖｂ（前述の（６Ｃ）式で与えられる）を用いれば、ＰＶ１，ＰＶ２は以下の式で与えられる。
【０１０２】
ＰＶ１＝（ｔ１−ｔ２）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） （６Ａ’）
ＰＶ２＝（ｔ１−ｔ２）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） （６Ｂ’）。
【０１０３】
ここに、時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３はそれぞれ、光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３がスリットＳＬ１，ＳＬ２間を通過する通過時間である。即ち、光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が、受光手段６Ｃ上を通過すると、各光スポットがスリットＳＬ１，ＳＬ２を通過するとき、受光素子６Ｂ１は図１４に示すごときパルス（適宜の方法で２値化されている）を出力する。これらパルスの図に示す時間間隔が上記通過時間：ｔ１〜ｔ３である。
【０１０４】
演算式（６Ａ’），（６Ｂ’）の演算に必要な通過時間の時間差：ｔ１−ｔ２，ｔ２−ｔ３を得るには演算手段として図１５に示す如き回路を用いて行なう。図１６は図１５の回路の動作に対応するタイミングチャートである。
【０１０５】
図１３に示す如き受光手段６Ｃを光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が順次に走査するとき、受光手段６Ｃからの出力は図１５に示す増幅器１１０により増幅されたのち、微分回路２１０により微分され、さらに０交叉検出回路２２０で０交叉点が検出されてデジタル化された信号になる。
【０１０６】
即ち、図１６に示すように、増幅回路１１０により増幅された信号ＳＧ１は微分回路２１０により微分されて信号ＳＧ２になる。信号ＳＧ２の０交叉（各光スポットがスリットの中央部分に位置する時刻）検出により、３連のデジタル信号Ｖｓ（出力信号）が得られる。３つの出力信号Ｖｓは順次に時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３を信号継続時間（各光スポットがスリットＳＬ１，ＳＬ２間を通過する通過時間）として有する。図１５に示す増幅回路１１０、微分回路２１０、０交叉検出回路２２０は「前処理回路」を構成する。
【０１０７】
前処理回路により処理された出力信号Ｖｓを処理する部分、即ち、デジタルカウンタ１３０および図示されないクロック発生器（カウンタ手段を構成）、遅延回路１４０、ラッチ回路１５１，１５２，１５３（ラッチ手段を構成）、ビットコンパレータ１６１，１６２（ビットコンパレータ手段を構成）により要部を構成される部分は、先に図１１に即して説明した例と全く同様であり、その働きも図１１の場合と全く同様である（図１６参照）。出力信号Ｖｓは、図１１におけると同様にして書込クロック信号となる。
【０１０８】
即ち、０交叉検出回路２２０から順次得られる「信号継続時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３」を持つ信号Ｖｓは、デジタルカウンタ１３０によりクロック信号でカウントされ、ラッチ回路１５１，１５２，１５３にラッチされ、ラッチ出力Ｄ１〜Ｄ３に基づき、ビットコンパレータ手段により時間差：ｔ１−ｔ２，ｔ２−ｔ３に対応する出力：Ｄ１−Ｄ２，Ｄ２−Ｄ３が得られる。
【０１０９】
従って、ビットコンパレータ手段の出力を用いて（６Ａ’），（６Ｂ’）式および（６Ｃ）式による演算（図示されない演算機構：コンピュータ等）により走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２を算出することにより走査線ピッチの検出が可能である。
【０１１０】
なお、図１３に示す受光手段６Ｃに代えて、スリットＳＬ１，ＳＬ２と等価なライン状の受光部を持つ図３に示した如き光センサを用いる受光手段を用いても上記と同様の結果が得られることは自明であろう。
【０１１１】
図１７は請求項８記載のマルチビーム走査装置の走査線ピッチ検出手段に用いる受光手段を説明するための図である。
受光手段６Ｄは、第１の２分割光センサ９１と第２の２分割光センサ９２とを有する。 ２分割光センサ９１，９２は同一構造のもので「細帯状の受光面が分割ラインにより長手方向に縦割り」されて２分割され、２分割された各受光部から受光信号が発生するようになっており、各分割ラインが「互いに非平行」になるように主走査方向に併設されて被走査面の近傍に配備される。
【０１１２】
２分割光センサ９１，９２の各分割線が副走査方向（図の上下方向）となす角：θ１，θ２、距離：ｘ１〜ｘ３，ｙ１〜ｙ３を、図８に倣って図１７のように定めれば、走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２は前記と同様、次のように表される。
ＰＶ１＝ｙ１−ｙ２＝（ｘ１−ｘ２）／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
ＰＶ２＝ｙ２−ｙ３＝（ｘ２−ｘ３）／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） 。
【０１１３】
一括して走査される光ビームに共通の走査速度：ｖｂ（前述の（６Ｃ）式で与えられる）を用いれば、ＰＶ１，ＰＶ２は以下の式で与えられる。
【０１１４】
ＰＶ１＝（ｔ１−ｔ２）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） （６Ａ’’）
ＰＶ２＝（ｔ１−ｔ２）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２） （６Ｂ’’）。
【０１１５】
ここに、時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３はそれぞれ、光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が２分割光センサ９１，９２間を通過する通過時間、換言すれば、光スポットＳＰ１が距離：ｘ１を、光スポットＳＰ２が距離：ｘ２を、光スポットＳＰ３が距離：ｘ３を通過する通過時間である。
光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が受光手段６Ｄの領域を通過すると、２分割光センサ９１，９２は図１８に示すごときパルス（適宜の方法で２値化されている）を出力する。これらのパルスの図に示す時間間隔が上記通過時間：ｔ１〜ｔ３である。
【０１１６】
演算式（６Ａ’’），（６Ｂ’’）の演算に必要な通過時間の時間差：ｔ１−ｔ２，ｔ２−ｔ３を得るには、演算手段として図１９に示す如き回路を用いて行なう。図２０は図１９の回路の動作に対応するタイミングチャートである。
【０１１７】
図１７に示す如き受光手段６Ｄを光スポットＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３が順次に走査するとき、２分割光センサ９１，９２の各受光部からの出力は差動増幅器３１１，３１２により出力差が増幅されて信号ＳＧ３，ＳＧ４となる。
【０１１８】
増幅された出力差である信号ＳＧ３，ＳＧ４は、０交叉検出回路３２１，３２２によりそれぞれ０交叉点を検出されて信号ＳＧ５，ＳＧ６となる。上記０交叉が起きるとき、光スポットは２分割光センサの分割線上にその中心がある。信号ＳＧ５，ＳＧ６は、信号ＳＧ３，ＳＧ４に従ってレベルが順次切り替わる２値信号である。
【０１１９】
２値化されたデジタルの信号ＳＧ５，ＳＧ６は、イクスクルーシブオア回路３３０により「イクスクルーシブオア論理処理」されて出力信号Ｖｓとなる。図２０に見られるように、出力信号Ｖｓは３連で、それぞれ信号継続時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３を有する。差動増幅器３１１，３１２、０交叉検出回路３２１，３２２、イクスクルーシブオア回路３３０は「前処理回路」を構成する。
【０１２０】
前処理回路により処理された信号Ｖｓを処理する部分、即ち、要部をデジタルカウンタ１３０および図示されないクロック発生器（カウンタ手段を構成）、遅延回路１４０、ラッチ回路１５１，１５２，１５３（ラッチ手段を構成）、ビットコンパレータ１６１，１６２（ビットコンパレータ手段を構成）により構成される部分は、先に図１１に即して説明した例と全く同様であり、その働きも図１１の場合と同様である（図２０参照）。出力信号Ｖｓは、図１１におけると同様にして書込クロック信号となる。
【０１２１】
即ち、信号継続時間：ｔ１，ｔ２，ｔ３を持つ信号Ｖｓは、デジタルカウンタ１３によりクロック信号でカウントされ、ラッチ回路１５１，１５２，１５３にラッチされ、そのラッチ出力Ｄ１〜Ｄ３に基づき、ビットコンパレータ手段により、時間差：ｔ１−ｔ２，ｔ２−ｔ３に対応する出力：Ｄ１−Ｄ２，Ｄ２−Ｄ３が得られる。従ってビットコンパレータ手段の出力を用い、（６Ａ’’），（６Ｂ’’）式および（６Ｃ）式による演算（図示されない演算機構：コンピュータ等）により走査線ピッチ：ＰＶ１，ＰＶ２を算出することにより、走査線ピッチの検出が可能である。
【０１２２】
上に説明した２分割光センサを用いる実施の形態では、２分割光センサの使用により、光スポットの大きさや光強度のばらつき・変動による受光信号への影響を軽減させて、精度の良い走査線ピッチ検出が可能である。
【０１２３】
これまで説明してきた実施の各形態において「検出された走査線ピッチ」は、走査線ピッチの初期調整に利用でき、走査線ピッチ調整手段と共に用いることにより、走査線ピッチの自動切り換え設定や自動調整に供することができる。
【０１２４】
これまで説明してきた実施の形態においては、受光手段を走査する複数の光スポットＳＰ１，ＳＰ２等は互いに主走査方向に十分に分離しており、従って、受光手段により各光スポットを独立して検出することができた。
【０１２５】
複数の光スポットの主走査方向における分離が小さい場合（複数の光スポットを連ねた線が副走査方向となす角が小さい場合）には、受光手段を同時に２以上の光スポットが走査するようになると、上に説明した実施の各形態においては各光スポットが受光手段を通過する通過時間を精度良く得ることが難しくなる。
【０１２６】
このような場合、上記の実施の形態を利用して精度の良い走査線ピッチ検出を行なうには、光ビーム検出部や受光手段を複数の光スポットで同時に走査せず、一度に一つの光スポットによる走査を行なって当該光スポットの位置を検出するプロセスを繰返し、各光スポットの位置から走査線ピッチを得るようにすれば良い。この場合、偏向手段がポリゴンミラーを用いるものである場合には、各光スポットを形成する異なる光ビームが同一の偏向反射面で偏向されるように偏向のタイミングを調整すれば、ポリゴンミラーの面倒れが走査線ピッチ検出に影響するのを防ぐことができる。
【０１２７】
請求項１０記載のマルチビーム走査装置は、光源装置から放射される光ビームが２本である場合に、上記のような場合にも、各光スポットを同時且つ独立に検出して走査線ピッチを検出することができる。以下請求項１０記載の発明の実施の形態を説明する。
【０１２８】
マルチビーム走査装置における光学的な配置は図７におけるのと同様である。
図２１は光源装置の光源部１Ａ１を略示している。発光源である２つの半導体レーザ１１，１２からの光束は、それぞれコリメートレンズ１３，１４により実質的な平行光束にされ、偏光ビームスプリッタ１６に向かう。半導体レーザ１１，１２から放射された光束は偏光ビームスプリッタ１６に対してＳ偏光であり、半導体レーザ１１から放射された光束は１／２波長板１５により偏光面を９０度旋回されて偏向ビームスプリッタ１６に対してＰ偏光になる。
【０１２９】
従って、半導体レーザ１１からの光は偏光ビームスプリッタ１６を略１００％透過し、半導体レーザ１２からの光は偏光ビームスプリッタ１６により略１００％反射されて互いに合流し、さらに１／４波長板１７を透過することにより、互いに旋回方向が逆向きの異なる円偏光とされる。半導体レーザ１１，１２から放射された各光ビームＢＭ１，ＢＭ２は円偏光となることにより、同一の偏向手段や同一の走査結像光学系における反射率・透過率に差がなくなり、光スポットに光量差が生じにくくなる。
【０１３０】
図２２は受光部６Ｅの形態を示している。同一の偏向手段により偏向された複数の光ビームＢＭ１，ＢＭ２は上記の如く「円偏光の旋回方向が互いに逆」であるから、偏光状態が互いに異なる２本の光ビームであり、１／４波長板２１により偏光方向が互いに直交する２光束に戻され、偏光ビームスプリッタ２２に入射する。光ビームＢＭ１は偏光ビームスプリッタ２２を透過すると受光手段２３に入射し、光ビームＢＭ２は偏光ビームスプリッタ２２に反射されて受光手段２４に入射する。即ち、１／４波長板２１と偏光ビームスプリッタ２２とは「２本の光ビームＢＭ１，ＢＭ２を偏光状態に従って互いに分離する光ビーム分離手段」を構成する。
図２３（ａ），（ｂ）に、光源部１Ａ１と受光部６Ｅにおける光ビームＢＭ１，ＢＭ２の偏光状態を説明図として示している。光源部１Ａ１における１／４波長板１５（図２１）と、受光部６Ｅにおける１／４波長板２１（図２２）とは省略することもできる。また、偏光ビームスプリッタ１６，２２に代えて、ウォラストンプリズム、トムソンプリズム等の偏光素子の使用が可能である。
【０１３１】
２つの受光手段２３，２４は、図１８に示すように三角形状の受光面を有し、頂点Ａ１，Ａ２に対する辺を主走査方向に平行にして配備される。頂点Ａ１，Ａ２に対する頂角は一般的にθ１＋θ２とするが図２４においてはθ１＝０である。
【０１３２】
距離：ｙ１，ｙ２，ｘ１，ｘ２を図の如くに定め、頂点Ａ１，Ａ２の副走査方向のずれをΔｙとする。ｖｂは光スポットＳＰ１，ＳＰ２に共通の走査速度である。
【０１３３】
頂点Ａ１，Ａ２に副走査方向のずれが無く、Δｙ＝０の場合であると、受光素子２３，２４の出力：Ｖｓ１，Ｖｓ２の信号継続時間：ｔ１，ｔ２を用いて、走査線ピッチ：ＰＶは一般に、
ＰＶ＝（ｔ２−ｔ１）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
で算出される。但し、説明中の例では前述のようにθ１＝０である。
【０１３４】
上記ずれ：Δｙが０でない場合には、走査線ピッチ：ＰＶは、演算：
ＰＶ＝（ｔ２−ｔ１）・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）＋Δｙ
で算出しなければならない。Δｙは以下のように特定できる。即ち、光源装置および受光部に配備されている１／４波長板の一方を仮に取りはすすと光スポットＳＰ１，ＳＰ２は、２つの受光手段２３，２４をいずれも走査するようになるから、発光源の半導レーザの一方のみを点灯して、光スポットＳＰ１のみにより受光手段２４を走査して、その時の受光信号Ｖｓ１’の信号継続時間：ｔ１’を測定する。
すると、このとき、Δｙは、Δｔ＝ｔ１’−ｔ１として、
Δｙ＝Δｔ・ｖｂ／（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）
となる。従って、このΔｙを用いて走査線ピッチ：ＰＶを知ることができる。
【０１３５】
受光手段２３，２４の出力信号Ｖｓ１，Ｖｓ２の立上り部は、光スポットＳＰ１，ＳＰ２よる書込み用の同期検知信号として利用できるが、受光手段３２，２４は別体であるので、これらは光スポットＳＰ１，ＳＰ２との関係で主走査方向に互いに等価な位置になければならない。即ち、仮に光スポットＳＰ１が受光手段２３，２４を共に走査すると考えた場合、光スポットＳＰ１は、受光手段２３，２４を同時に走査しなければならない。この走査にずれがあると光スポットＳＰ１，ＳＰ２による書込み開始位置にずれを生じてしまう。
【０１３６】
これを避けるには、前記一方の１／４波長板を外した状態で光スポットＳＰ１により受光手段２３，２４を同時走査し、受光手段２３，２４の出力信号Ｖｓ１，Ｖｓ２の立ち上がりの時間差：δｔを測定し、この時間差を補正するような回路を同期検知回路に組み込んでおけば良い。このようにして、主走査方向のスポット間隔が小さい場合にも、走査線ピッチ：ＰＶを正確に検出可能であり、光ビーム毎に独立に正確な同期検知信号を得ることができる。
【０１３７】
また、上記の如くして検出された「走査線ピッチ」は走査線ピッチの初期調整に利用でき、またピッチ調整手段と共に用いることにより走査線ピッチの「自動切り換え設定や自動調整」に供することができる。
図７〜図２４に即して説明した上記発明の形態は、図１に示す如き光学系配置の場合にも勿論、適用可能である。
【０１３８】
図２５は請求項１２〜１８記載のマルチビーム走査装置の実施の形態を説明するための図である。繁雑を避けるため、混同の虞れがないと思われるものに就いては図１，２１におけると同じ符号を用いた。
【０１３９】
図２５において、個別に発光制御される複数の発光源を有する光源装置１Ｂからの複数の光ビームはシリンダレンズ２により副走査方向に収束され、「同一の偏向手段」を構成する正６角柱形状のポリゴンミラー３の偏向反射面３Ａの近傍に主走査方向に長い潜像として結像する。偏向反射面３Ａによる反射ビームは、図示されないモータにより駆動されるポリゴンミラー３により偏向される。
【０１４０】
ポリゴンミラー３により一括して偏向された複数の光ビームは「同一の走査結像光学系」をなすアナモフィックなｆθレンズ４Ａと（補正用の）長尺トロイダルレンズ４Ｃとにより、光導電性の感光体５の感光面上に複数の光スポットとして集光され、実体的な被走査面をなす感光体周面を同時走査する。符号８は図１に於けると同様、光路屈曲用のミラーを示す。
【０１４１】
走査結像光学系はポリゴンミラー３の偏向反射面３Ａによる偏向の起点と被走査面位置とを副走査方向に関して共役な関係としており、従って図２５のマルチビーム走査装置はポリゴンミラー３の面倒れを補正する機能を持つ。
【０１４２】
ポリゴンミラー３により一括偏向された複数の光ビームは、走査領域の走査に先立ち、ミラー８により反射され同期検知センサ１０に入射して同期検知信号を発生させる。光源装置１Ｂから放射される複数の光ビームは、それぞれ平行光束としてもよいし、弱い発散性もしくは弱い収束性の光束としてもよいが、説明中の実施の形態において、光源装置１Ｂからは２本の光ビームがそれぞれ平行ビームとして放射される。
【０１４３】
即ち、図２５において光源装置１Ｂは発光源として２個の半導体レーザ１１，１２を有する。半導体レーザ１１，１２を半導体レーザ制御部３７で点灯させると、光源装置１Ｂからは、進行方向が互いに微小角異なる２つの光ビームＢＭ１，ＢＭ２が放射される。
【０１４４】
以下、光源装置１Ｂを詳細に説明する。
図２６に示すように、光源装置１Ｂは、第１，第２の半導体レーザ１１，１２と、第１，第２のコリメートレンズ１３，１４と、第１，第２のアパーチュアＡＰ１，ＡＰ２と、半導体レーザ１２からの光ビームの偏光面を９０度旋回させる１／２波長板１５と、第１，第２の半導体レーザ１１，１２からの光ビームを、射出方向が互いに微小角：αだけ異なる２つの近接した光ビームに合成するビーム合成プリズム１７０とを有する（請求項２４）。
【０１４５】
半導体レーザ１１，１２は、そのｐ−ｎ接合面を図２６における軸Ｘ０，Ｘ１に直交するように配備される。図２６に示す形態においては軸Ｘ１，Ｘ０は同一面内にあり、従って、半導体レーザ１１，１２の発光部は共に同一面内にある。
【０１４６】
半導体レーザ１１から放射された光ビームはコリメートレンズ１４で平行ビーム化されたのち、光スポット形状成形用のアパーチュアＡＰ１により光束周辺部を遮断され、合成プリズム１７０における偏光ビームスプリッタ膜１７１を透過して光ビームＢＭ１となって合成プリズム１７０から射出する。
【０１４７】
半導体レーザ１２から放射された光ビームは、コリメートレンズ１３で平行ビーム化されたのちアパーチュアＡＰ２により光束周辺部を遮断され、１／２波長板１５により偏光面を９０度旋回されてビーム合成プリズム１７０に入射し、同プリズム１７０の斜面１７２で内部反射し、偏光ビームスプリッタ膜１７１により反射され、光ビームＢＭ２となって合成プリズム１７０から射出する。
【０１４８】
図２６の形態において、半導体レーザ１１の発光部はコリメートレンズ１３の光軸上にあり、従って、光ビームＢＭ１は主光線をコリメートレンズ１３の光軸に合致させて射出される。これに対し、半導体レーザ１２は、コリメートレンズ１４の光軸に対し、図２６における軸Ｘ１の方向へ微少距離「ずらされ」ており、このためビーム合成プリズム１７０から射出する光ビームＢＭ２は、上記軸Ｘ１とコリメートレンズ１２の光軸とで形成される平面内において、光ビームＢＭ１に対して微小角：α（半導体レーザ１２の、コリメートレンズ１４の光軸からのずれ量により調整可能である）だけ傾いている（請求項２４）。
【０１４９】
従って、図２６におけるＸ０軸，Ｘ１軸を主走査方向に設定すれば、図２５に即して説明した光学系により、被走査面上に「互いに主走査方向にずれた２つの光スポット」を得ることができ、この状態から光源装置１をシリンダレンズ１３の光軸の回りに回転させると、図２７に示すように、光スポットＳＰ１（光ビームＢＭ１による光スポット）と光スポットＳＰ２（光ビームＢＭ２による光スポット）とを互いに副走査方向（図の上下方向）に分離することができ、上記回転の角を調整することにより走査線ピッチ：ＰＶを可変調整できる。即ち、図２６の光源装置１Ｂでは、コリメートレンズ１３の光軸が「光源装置の光軸」であり、光源装置１Ｂの光軸まわりの回転により走査線ピッチの調整が可能な訳である。
【０１５０】
勿論、半導体レーザ１２をコリメートレンズ１４の光軸に合致させ、半導体レーザ１１のコリメートレンズ１３の光軸からずらすことにより、光ビームＢＭ２の主光線が光源装置１Ｂの光軸に合致するようにしてもよい。
【０１５１】
図２８は「光源装置１Ｂの具体的な構造」と、光源装置１Ｂを光軸まわりに回転調整する「光源装置回転機構」と、これを回転駆動する「駆動手段」とを説明するための図である。符号２３Ａで示す基板は嵌合孔２３ａ，２３ｂを有し、嵌合孔２３ａには鏡筒に保持されたコリメートレンズ１３が、嵌合孔２３ｂには鏡筒に保持されたコリメートレンズ１４がそれぞれ嵌合保持される。
アパーチュアＡＰ１，ＡＰ２の開口部は同一の遮光板２４０に穿設され、遮光板２４０のアパーチュアＡＰ２側の位置に形成された凹みには１／２波長板１５が嵌め込まれる。
【０１５２】
フランジ部材２５は合成プリズム１７０を光ビーム入射側で固定的に保持し、合成プリズム１７０により合成された２つの光ビームは、フランジ部材２５の中空シリンダ状の射出口２５ｂから射出するようになっている。
フランジ部材２５と基板２３Ａとで遮光板２４０と１／２波長板１５とを挾み、半導体レーザ１１を保持した保持体２１Ａをコリメートレンズ１３に光軸合わせし、半導体レーザ１２を保持した保持体２２Ａをコリメートレンズ１４に光軸合わせして、フランジ部材２５と基板２３Ａと保持体２１Ａ，２２Ａを螺子２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄで接合一体化し、これらを半導体レーザ１１，１２を点滅制御する半導体レーザ制御部３７に組付け固定している。
【０１５３】
フランジ部材２５は、射出口２５ｂの中心軸（コリメートレンズ１３の光軸に合致し、光源装置の光軸となっている）の回りに正逆回転可能となっている。フランジ部材２５に一体化されたレバー２５ａには、下方から中空円筒状のアクチュエータ２８の上端部が当接している。アクチュエータ２８は、図示されない保持手段により保持されて軸心の回りに回転可能で且つ軸心方向に移動自在であり、内周に形成された螺子溝には、ステッピングモータ２６の回転軸に圧入された円筒部材２７の外周に形成された螺子が螺合している。
【０１５４】
レバー２５ａにはバネ等の弾性力手段（図示されず）が、図の上方から押圧力を作用させており、ステッピングモータ２６の回転によりアクチュエータ２８を上下させることによりフランジ部材２５を前記射出口２５ｂの中心軸の回り、即ち光源装置１Ｂの光軸まわりに正逆方向に回転させることができる。
【０１５５】
即ち、レバー２５ａ、図示されない弾性力手段、アクチュエータ２８および円筒部材２７は光源装置１Ｂを光軸まわりに回転させる「光源装置回転機構」を構成し、ステッピングモータ２６は光源装置回転機構を回転駆動する「駆動手段」を構成する。そしてこれらはピッチ調整手段２９を構成する。
【０１５６】
図２５に戻ると、感光体５の周面近傍にリニアセンサ３１が設けられている。
リニアセンサ３１はＣＣＤリニアセンサであり、受光エレメントの配列方向、即ちライン方向を副走査方向に向けている。光源装置１Ｂからの２本の光ビームは、同期検知センサ１０に入射した直後にリニアセンサ３１を走査するようになっている。リニアセンサ３１には「重心位置演算手段」である重心位置演算部３２が接続され、リニアセンサ３１と重心位置演算部３２とにより位置検出手段３３が構成されている。
【０１５７】
即ち、図２５の実施の形態において「走査線ピッチ検出手段」は、長手方向を副走査方向に対応させて検出領域に設けられたリニアセンサ３１と、リニアセンサ３１の出力に基づき光スポットの重心位置を演算する重心位置演算手段３２とを有し、リニアセンサ３１の出力に基づき重心位置演算手段３２で演算された重心位置のデータを「光スポット位置データ」とする（請求項１２）。
【０１５８】
重心位置演算部３２から出力される各光スポットＳＰ１，ＳＰ２の「光スポット位置データ」はピッチ算出部３４に入力される。ピッチ算出部３４は、入力する光スポット位置データに基づき走査線ピッチを算出し、その結果をピッチ・回転角度変換部３５に向けて出力する。ピッチ・回転角度変換部３５は入力された情報に基づき所望の走査線ピッチを得るために、光源装置１Ｂを回転させるべき「回転角度」を算出し、その結果に基づきモータ制御部３６を介してステッピングモータ２６を駆動制御する。
【０１５９】
即ち、図２６のマルチビーム走査装置は、個別に発光制御される複数の発光源を有する光源装置１Ｂからの複数の光ビームを同一の偏向手段３により偏向させ、同一の走査結像光学系４Ｂ，４Ｃにより被走査面に複数の光スポットとして集光させ、複数の光スポットにより被走査面を同時走査するマルチビーム走査装置であって、被走査面上において隣接する光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして検出する走査線ピッチ検出手段３３，３４と、走査線ピッチを「光源装置１Ｂの光軸まわりの回転」により調整するピッチ調整手段２９と、走査線ピッチ検出手段３３，３４による検出結果に基づき、ピッチ調整手段２９を制御して所望の走査線ピッチを実現するピッチ調整制御手段３５，３６を有し（請求項１３）、走査線ピッチ検出手段は請求項１２記載のものである。
【０１６０】
図２５に示された半導体レーザ制御部３７は、画像情報を書き込むときには、２ライン分の画像情報に応じて半導体レーザ１１，１２の発光を「同時且つ個別的」に制御するが、走査線ピッチ検出およびピッチ調整を行なうときは、半導体レーザ１１，１２を同時に発光させず、時系列に順次に発光させるように制御する（請求項１４）。
【０１６１】
図２５の実施の形態においては、単一のリニアセンサ３１で２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２を検出するので、走査線ピッチ検出時に半導体レーザ１１，１２を同時に発光させた場合、２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２の主走査方向の間隔（図２７の間隔：Ｌ）が小さくなり、リニアセンサ３１が２つの光スポットを同時に受光するようになると、リニアセンサ３１の出力は図３３（ａ）のように、光スポットＳＰ１，ＳＰ２に対しての出力波形Ａ１，Ａ２が合成されたもの（破線で示す）になり、合成出力の極大部分の間隔は実際の走査線ピッチＰＶに対して若干小さくなるので、検出される走査線ピッチの誤差になる。また走査線ピッチが小さくなって、図３３（ｂ）のΔの程度になると、２つの光スポットの同時検出では走査線ピッチを検出できない。
【０１６２】
そこで図１５のマルチビーム走査装置では、走査線ピッチ検出およびピッチ調整を行なうときは、半導体レーザ１１，１２を同時に発光させず、時系列に順次に発光させるのである。このようにして、光スポットＳＰ１，ＳＰ２が互いに近接しているような場合にも、各光スポットを個別に検出できるので精度の良い走査線ピッチ検出が可能になる。
【０１６３】
上記マルチビーム走査装置は、前述の如く、ポリゴンミラー３の面倒れを補正するようになっているが、リニアセンサ３１の受光エレメントの配列ピッチ（数μｍオーダー）で見ると、面倒れの影響を完全に除くことは難しく、光ビームがどの偏向反射面により偏向されるかに応じて、リニアセンサ３１が検出する光スポット位置データは変動し、正確な走査線ピッチ検出を面倒にする。
【０１６４】
説明中の実施の形態においては、光源装置１Ｂの各発光源１１，１２を時系列に順次発光させて得られる各光ビームの偏向を、同一の偏向反射面で行なわせるタイミング制御手段を有する（請求項１６）。例えば、６面ある偏向反射面のうちで第１番目のものでのみ光ビーム偏向を行なう用にするのであれば、図２９に示すように、第１の偏向反射面が偏向態位にあるときにのみ半導体レーザの点灯をオンにするのである。図示されない「タイミング制御手段」は「ピッチ調整制御手段」の一部を構成し、半導体レーザ制御部３７に向けてタイミング信号を出力する。
【０１６５】
従って、例えば、各光スポットの光スポット位置データとしてｎ個のデータをサンプリングする場合であれば、常に同一の偏向反射面が使用されるように半導体レーザ１１，１２の発光を制御して、ポリゴンミラー３の１〜ｎ回転で光スポットＳＰ１に対する光スポット位置データを得、ポリゴンミラー３のｎ＋１〜２ｎ回転で光スポットＳＰ２に関する光スポット位置データを得る。このようにして、走査線ピッチ検出におけるポリゴンミラー３の面倒れの影響を除去することができる。
【０１６６】
「光スポット位置データ」は以下のようにして得られる。
リニアセンサ３１から出力が重心位置演算部３２に入力すると、同演算部３２は「リニアセンサ３１の全長：Ｄ（ビット数：Ｎ×受光エレメント幅：７μｍ）にわたる出力」を図３０（ａ）に示すように「積分」し、積分値の１／２となる「０ビットからの距離」であるビット位置：ｄ（ビット位置：ｄの両側における光強度の和が等しい）を「光スポットの重心位置」として演算する（図３０（ｂ）参照）。
【０１６７】
演算されたデータは、受光した光スポットがＳＰ１，ＳＰ２であるかに応じて、ＳＰ１もしくはＳＰ２の「光スポット位置データ」としてピッチ算出部３４に入力する。ピッチ算出部３４は、ＳＰ１位置データ：ｄ１およびＳＰ２位置データ：ｄ２に基づき、演算：｜ｄ１−ｄ２｜を行なって走査線ピッチ：ＰＶを算出する。
【０１６８】
このように光スポットＳＰ１，ＳＰ２の光スポット位置データとして重心位置を用いるので、光スポット形状が崩れていてピーク位置がスポット中央部に無いような場合であっても確実に光スポットの重心位置により適正な光スポット位置データを得ることができる。この重心位置検出はリニアセンサ３１における分解能（説明中の例では７μｍ）以上の精度で可能であり検出精度が高い。
【０１６９】
再び図２５に戻ると、上記の如くピッチ算出部３４において算出された走査線ピッチ：ＰＶはピッチ・回転角度変換部３５に入力し、ピッチ・回転角度変換部３５は、入力された走査線ピッチ：ＰＶに基づき所望の走査線ピッチを実現するために光源装置１Ｂを光軸まわりに回転させるべき「回転角度量」を決定する。即ち、入力される走査線ピッチ：ＰＶを光源装置１Ｂの光軸まわりの回転角度量に変換する。
【０１７０】
図２５に示す実施の形態においては、検出された走査線ピッチ：ＰＶと、回転角度量：ΔΘとの関係（１例を図３１に示す）が「換算式」としてピッチ・回転角度変換部３５内のメモリに、マルチビーム走査装置の工場出荷時に予め記憶されており、ピッチ・回転角度変換部３５は、入力される走査線ピッチ：ＰＶと所望の走査線ピッチとの差：ΔＰＶを求め、ΔＰＶに対応する回転角度量：ΔΘを上記換算式に基づき決定する。即ちピッチ・回転角度変換部３５は「検出される走査線ピッチ：ＰＶと光源装置１Ｂの回転角度との換算式に基づき光源装置の回転角度量：ΔΘを決定するピッチ・回転角度変換手段」である（請求項１５）。
【０１７１】
このように決定された回転角度量：ΔΘはモータ制御部３６に送られ、同制御部３６はステッピングモータ２６を駆動して、光源装置１ＢをΔΘだけ回転させる。このようにして所望の走査線ピッチが実現される。
【０１７２】
上記の換算式で回転角度量を決定するようにすると、一度の回転動作で所望の走査線ピッチを実現でき、所望の走査線ピッチを実現するまでフィードバックループによる調整を何度も繰り返す必要がなく、短時間内に所望の走査線ピッチを実現できる。
【０１７３】
上記の走査線ピッチ調整においては、被走査面上の２つの光スポットＳＰ１，ＳＰ２の間隔（ξとする）が一義的に定まっていることを前提としている。このとき、光スポットＳＰ１，ＳＰ２の重心を結ぶ直線が主走査方向となす角をγとすれば、走査線ピッチは「ξ・ｓｉｎγ」で与えられるので、回転角度量：ΔΘによる回転で上記角：γを設定することにより走査線ピッチを所望の値に設定するのである。
【０１７４】
先に説明したように「ξ」は、半導体レーザ１２のコリメートレンズ１４の光軸からの「ずらし量」により決定されるほか、光源装置から被走査面に至る光学系の特性にも依存する。従って上記「ずらし量」に誤差があったり、光学系に加工誤差や組付け誤差による狂いがあったりすると「ξ」に誤差が含まれ、調整される走査線ピッチにも誤差が生じることになる。
【０１７５】
このような誤差を除去するには、走査線ピッチ：ＰＶの検出に加えて、距離：ξの検出をも行なえば良い。
【０１７６】
図２５に示した実施の形態の場合、走査線ピッチ：ＰＶは上に説明した方法によりピッチ算出部３４で算出することができる。
一方、図３２に示す、光スポットＳＰ１，ＳＰ２の主走査方向の間隔：Ｌは、半導体レーザ１１，１２を同時に発光させておいて、リニアセンサ３１を走査速度：ｖｂで走査したときのリニアセンサ３１において生じる光スポットＳＰ１の受光信号と光スポットＳＰ２の受光信号の時間差：τを検出すれば、演算：Ｌ＝ｖｂ×τで求めることができる。なお、時間差：τを検出するのにリニアセンサ３１の出力を用いず、同期検知センサ１０の出力を用いてもよい。
【０１７７】
すると、光スポットＳＰ１，ＳＰ２の間隔：ξは演算：√｛Ｌ２＋（ＰＶ）２｝で得ることができ、図３３に示すように、走査線ピッチの検出値をＰＶ、実現すべき所望の走査線ピッチをＰＶ０、これらの差：ＰＶ０−ＰＶ＝ΔＰＶとすれば、光源装置１Ｂの回転角度量：ΔΘは、演算：ΔΘ＝ｓｉｎ~ １｛ΔＰＶ／ξ｝により得ることができる。
【０１７８】
上記：Ｌ，ξ，ΔＰＶの算出に必要な演算は、図示されない演算手段を付加して行なっても良いし、ピッチ算出部３４にこの演算機能を付加しても良い。ΔΘの算出演算は、算出された「ξとΔＰＶ」をピッチ・回転角度変換部３５に与えて行なうことができる。
【０１７９】
このようにすると、検出された走査線ピッチと回転角度量との換算式を工場出荷時に各ロットごとに予め入力する煩わしさがなく、適正に光源装置１Ｂの回転角度量：ΔΘを決定できる。
【０１８０】
図１〜図２４に即して説明した実施の形態において、光源装置１，１Ａに就いては「その具体的な構成」を説明しなかったが、図２５，２６に即して説明した光源装置１Ｂは、図１に示す光源装置１として、あるいは図７に示す光源装置１Ａとして利用できる。また、図１〜図２４に即して説明した実施の形態において、図２５〜図３２に即して説明した「光源装置回転機構」と、これを回転駆動する「駆動手段」を、図１，図７のマルチビーム走査装置に利用できること勿論であり、図１〜図６に即して説明した実施の形態あるいは図７〜図２４に即して説明した実施の形態により検出された走査線ピッチに基づき、上記光源装置回転機構と駆動手段とを用いて走査線ピッチ調整を行なうことができる。
【０１８１】
また、図２５に示すマルチビーム走査装置では、複数の光ビームの書き出しの同期は、同期貢献値センサ１０の出力を用いて行なうが、専用の同期光検知センサ１０を用いること無く、リニアセンサ３１の出力を利用して同期検知信号を得ることもできる（請求項１８）。
【０１８２】
図３４は、請求項１９，２０，２３〜２５記載のマルチビーム走査装置の実施の形態を示している。繁雑を避けるため、混同の虞れがないものに就いては図２５におけると同一の符号を用いた。
光源装置１Ｂ、シリンダレンズ２、ポリゴンミラー３を用いる偏向手段、光路屈曲用ミラー８、被走査面に主面を合致させて配備された光導電性の感光体５、光源装置１Ｂを光軸まわりに回転させるためのステッピングモータ２６、ステッピングモータ２６を制御するモータ制御部３６、モータ制御部３６に光源装置１Ｂを回転させるための回転角度量を得るピッチ・回転角度変換部３７、光源装置１Ｂの半導体レーザ１１，１２の点滅を制御する半導体レーザ制御部３７は図２５に示されたものと同様のものである。
【０１８３】
従って図３４に示す実施の形態においても、光源装置１Ｂは図２６に示すごとき光学構成、具体的には図２８に示すごとき構成であって、図２８に示すごときピッチ可変手段２９により光軸まわりに回転されてピッチ調整を行なう。
【０１８４】
図３４（ａ）において、光源装置１Ｂは発光源である半導体レーザ１１，１２が半導体レーザ制御部３７により点灯されると、進行方向が互いに微小角異なる２つの光ビームＢＭ１，ＢＭ２（共に平行ビームである）を放射する。光ビームＢＭ１，ＢＭ２は、副走査方向にのみ正のパワーを持つシリンダレンズ２を介して同一の偏向手段のポリゴンミラー３の偏向反射面に入射する。このときシリンダレンズ２の作用により、光ビームＢＭ１，ＢＭ２とも偏向反射面近傍に「主走査方向に長い線像」として結像する。
【０１８５】
ポリゴンミラー３の回転に依り、一括して等角速度的に偏向された両光ビームは共通の「走査結像光学系」に入射する。走査結像光学系は、この実施の形態においてｆθレンズ４Ｂと「補正用の長尺レンズ」である長尺トロイダルレンズ４Ｃとにより構成されている。走査結像光学系を透過した光ビームＢＭ１，ＢＭ２は、光路屈曲用のミラー８により光路を折り曲げられ、被走査面（実体的には感光体５の周面）上に副走査方向に走査線ピッチ：ＰＶだけ分離した２つの光スポットとして集光し、２つの隣接する走査線を同時に走査する。
【０１８６】
走査結像光学系をなすｆθレンズ４Ｂと長尺トロイダルレンズ４Ｃとは、副走査方向に関して「偏向反射面位置近傍（前記線像の結像位置）と被走査面位置とを幾何光学的に略共役な関係としており（共軸レンズであるｆθレンズ４Ｂと長尺トロイダルレンズ４Ｃとを組み合わせることにより、このようなアナモフィックな性質を実現している）、従って図３４のマルチビーム走査装置はポリゴンミラー３における「面倒れ」を補正する機能を有している。
【０１８７】
「ビーム位置検出手段」であるリニアセンサ３１Ａは、受光エレメントの配列方向を副走査方向に向けて走査開始側における走査領域外に配備されている。走査結像光学系における「主走査方向の走査開始側端部」を通った光ビームＢＭ１，ＢＭ２は、光路屈曲用のミラー８に反射されることなくリニアセンサ３１Ａに入射する。
【０１８８】
走査結像光学系を構成するｆθレンズ４Ｂと長尺トロイダルレンズ４Ｃのうち、ｆθレンズ４Ｂをなす２枚のレンズ４１，４２の中で，ポリゴンミラー３から離れた側にあるレンズ４２の主走査方向の光走査開始側の端部（図３４（ａ）に符号ｂで示す部分）には、長尺トロイダルレンズ４Ｃ側の面に、図３４（ｂ）示すように「副走査方向に負のパワー」を持つ樹脂成形レンズ７００を貼付けてある。
【０１８９】
樹脂成形レンズ７００の貼着により、この部分におけるレンズ４２の屈折面の正のパワーが減少し、結果的に樹脂成形レンズ７００を通る光ビームに対する走査結像光学系の副走査方向の結像倍率は他の部分よりも相対的に大きくなる（請求項２１）。その結果「ビーム位置検出手段」である１次元のリニアセンサ３１Ａが検出する光ビームＢＭ１，ＢＭ２の副走査方向の間隔：ＰＶ’は、被走査面上の走査線ピッチ：ＰＶより大きくなる。なお、図では明確でないが「位置検出用結像光学系（前記走査結像光学系と樹脂成形レンズ７００で構成される）」の副走査対応方向の結像倍率が、走査光学系の結像倍率より大きいことから、リニアセンサ３１Ａの配備位置は「走査結像レンズから被走査面に到る距離よりも遠方」に設定されている。
【０１９０】
このように、間隔：ＰＶ’は大きいので精度良く検出できる。
リニアセンサ３１Ａの出力が「演算手段」であるピッチ算出部３４Ａに入力すると、ピッチ算出部３４Ａは入力情報に基づき（例えば、図２５の実施の形態の場合と同様にして）間隔：ＰＶ’を決定し、さらに間隔：ＰＶ’と走査線ピッチ：ＰＶとの比（走査結像光学系と位置検出用結像光学系の、副走査対応方向における結像倍率の比）：ｋ（マルチビーム走査装置における設計条件により定まる定数）により演算：ＰＶ’／ｋを行なって走査線ピッチ：ＰＶを求める。
【０１９１】
得られた走査線ピッチ：ＰＶはピッチ・回転角度変換部３５に入力し、ピッチ回転角変換部３５は、達成するべき走査線ピッチの目標値：ＰＶ０（走査線ピッチを切り換える場合であれば切り換えに依って新たに設定された走査線ピッチ、走査線ピッチの補正の場合であれば予め定められた走査線ピッチ）を実現するために光源装置１を回転させるべき回転角度量：ΔΘを図２５の実施の形態緒場合と同様にして決定する。
【０１９２】
そして、決定された回転角度量：ΔΘを実現するようにモータ制御部３６を介してステッピングモータ２６を制御する。従って、ピッチ・回転角度変換部３２とモータ制御部３４とは「駆動手段を制御する回転制御手段」を構成する。このようにして目標とする走査線ピッチ：ＰＶ０を確実に実現できる。
【０１９３】
図３５は請求項１９，２１，２２〜２５記載のマルチビーム走査装置の実施の形態を示している。混同の虞れが無いと思われるものに就いては図３４（ａ）におけると同一の符号を用いた。
図３４に示す実施の形態との差異は以下の点にある。即ち、図３５の実施の形態では、ｆθレンズ４Ｂの、主走査方向における光走査開始側端部を通った光ビームは長尺トロイダルレンズ４Ｃに入射することなくミラーｍ１により反射されて「ビーム位置検出手段」であるリニアセンサ３１Ａに入射する。
走査結像光学系を構成するｆθレンズ４Ｂと長尺トロイダルレンズ４Ｃは、いずれも副走査方向に正のパワーを持つのでｆθレンズ４Ｂのみによる副走査方向の正のパワーは、走査結像光学系における副走査方向の「合成の正のパワー」よりも小さい。
【０１９４】
このようにｆθレンズ４Ｂを「位置検出用結像光学系」として用いることにより（請求項２１，２２）、リニアセンサ３１Ａ上には光ビームＢＭ１，ＢＭ２を、被走査面上におけるよりも副走査方向に大きい結像倍率で結像させることができる。換言すれば、リニアセンサ３１Ａが検出する光ビームＢＭ１，ＢＭ２の副走査方向の間隔：ＰＶ’は、被走査面上における走査線ピッチ：ＰＶよりも大きくなり、間隔：ＰＶ’を精度良く検出できる。検出された間隔：ＰＶ’に応じて目標とする走査線ピッチ：ＰＶ０を実現する方法は、図３４の実施の形態の場合
と全く同様である。
【０１９５】
図３５の実施の形態においては、変形例としてミラーｍ１に代えて「副走査方向にのみ正のパワーを持つ凹シリンダミラー」を用い、ｆθレンズ４Ｂと、この凹シリンダミラーとで「位置検出用結像光学系」を構成することもできる。このようにすると、位置検出用結像光学系の副走査方向における結像倍率を図３５の実施の形態における場合よりも更に大きくすることができる。
【０１９６】
上の説明では、間隔：ＰＶ’の検出から走査線ピッチ：Ｐの目標値：ＰＶ０の実現までを自動的に行なったが、間隔：ＰＶ’の検出に基づき、走査線ピッチ：ＰＶの設定や補正は手動で行なうようにしてもよい。
【０１９７】
また、光源装置１Ｂから被走査面に到る光路上に配備される光学素子は、上に説明した実施の形態におけるものに限らず、従来から知られた種々のものを適宜利用できる。また、リニアセンサ３１Ａの出力信号により同期検知信号を得るようにすることができる（請求項２５）。
【０１９８】
以上説明した全ての実施の形態において、光源装置として特開昭５６−４２２４８号公報に記載されたような半導体レーザアレイを用いることができることも言うまでもない。
【０１９９】
【発明の効果】
この発明によれば新規なマルチビーム走査装置を実現できる。
請求項１記載の発明のマルチビーム走査装置は、走査線ピッチを検出する機能を有するので走査線ピッチを視度良く検出でき、走査線ピッチの調整に供することにより走査線ピッチの精度良い調整が可能である。
【０２００】
請求項１，２記載の発明では２つの光センサを用い、複数光ビームを同時に走査して走査線ピッチ検出を行なうので、偏向手段に「面倒れ」があっても、その影響を受けずに走査線ピッチを短時間で精度良く検出できる。
【０２０１】
請求項３，４〜１０，１８，２５記載の発明では、走査線ピッチ検出手段の光センサの出力に基づき書込み用の同期検知信号を得るので各光ビームの書込み開始位置を正確に調整でき、専用の同期光検知手段を必要としないのでマルチビーム走査装置のコンパクト化が可能である。
【０２０２】
請求項１，１１，２３記載の発明のマルチビーム走査装置はピッチ調整手段を有するので、検出された走査線ピッチに応じて走査線ピッチを良好に調整できる。
請求項１０記載の発明のマルチビーム走査装置は２つの受光手段により２本の光ビームを別個に検出するので、２つの光スポットが主・副走査方向に近接する場合でも、良好な走査線ピッチの検出が可能である。
【０２０３】
請求項１２記載の発明のマルチビーム走査装置は光スポットの重心位置を検出して走査線ピッチ検出を行なうので光スポットの形状が崩れているような場合にも、適正な走査線ピッチ検出が可能である。
【０２０４】
請求項１３〜１７記載の発明のマルチビーム走査装置は単一のリニアセンサにより走査線ピッチを検出し、検出された走査線ピッチに基づきピッチ調整を行なって所望の走査線ピッチを実現できる。
【０２０５】
請求項１６記載の発明のマルチビーム走査装置は、ポリゴンミラーの面倒れの影響を除去して単一のリニアセンサにより走査線ピッチを検出できる。
【０２０６】
請求項１９〜２３記載の発明のマルチビーム走査装置では、位置検出用結像光学系における副走査方向における結像倍率が被走査面に対する走査結像光学系の副走査方向の結像倍率よりも大きく設定されているので、走査線ピッチが細かい場合にも精度の良い走査戦費値検出が可能である。
【０２０７】
請求項２４記載の発明によれば請求項１〜２３記載の発明のマルチビーム走査装置に適した２ビーム用の光源装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 請求項１記載の発明の実施の１形態を示す図である。
【図２】 図１における制御部７の構成を示すブロック図である。
【図３】 図１における受光部６の構成を説明するための図である。
【図４】 図３における受光部６と、これを走査する光スポットＳＰ１，ＳＰ２の関係を示す図である。
【図５】 図２の制御部７における信号処理を説明するタイミング図である。
【図６】 光スポットＳＰ１，ＳＰ２と走査線ピッチの関係を説明するための図である。
【図７】 請求項４記載の発明の実施の１形態を示す図である。
【図８】 図７における受光手段６Ａを説明するための図である。
【図９】 図７における受光手段の別例を示す図である。
【図１０】 図７における受光手段６Ａから得られる受光信号を示す図である。
【図１１】 図７の制御部７Ａの要部を説明するための図である。
【図１２】 図７の制御部７Ａにおける信号処理を説明するためのタイミング図である。
【図１３】 請求項６の受光手段を説明するための図である。
【図１４】 図１３の受光手段から得られる受光信号を示す図である。
【図１５】 図１３の受光手段から得られる受光信号の処理を行なう制御部を説明するための図である。
【図１６】 図１５の制御部における信号処理を説明するためのタイミング図である。
【図１７】 請求項８の受光手段を説明するための図である。
【図１８】 図１７の受光手段から得られる受光信号を示す図である。
【図１９】 図１７の受光手段から得られる受光信号の処理を行なう制御部を説明するための図である。
【図２０】 図１９の制御部における信号処理を説明するためのタイミング図である。
【図２１】 請求項１０における光源部の構成を説明するための図である。
【図２２】 請求項１０における受光部の構成を説明するための図である。
【図２３】 図２２，２３の光源部、受光部における光ビームＢＭ１，ＢＭ２の偏光状態を示す図である。
【図２４】 請求項１０における走査線ピッチ検出を説明するための図である。
【図２５】 請求項１３記載のマルチビーム走査装置の実施の１形態を説明するための図である。
【図２６】 図２５における光源装置１Ｂを説明するための図である。
【図２７】 図２５の光源装置１Ｂによる被走査面上の光スポットの状態を説明するための図である。
【図２８】 図２５の光源装置１Ｂの機械的構成と、光源装置１Ｂを回転させる光源装置回転機構を説明するための図である。
【図２９】 請求項１６記載の発明を説明する図である。
【図３０】 請求項１２，１４記載の発明における重心検出を説明するための図である。
【図３１】 走査線ピッチと光源装置の光軸まわりの回転角度との関係を説明するための図である。
【図３２】 請求項１７記載の発明を説明するための図である。
【図３３】 図２５のリニアセンサ３１からの受光信号が重なる場合を説明する図である。
【図３４】 請求項１９，２０記載の発明のマルチビーム走査装置の実施の１形態を説明するための図である。
【図３５】 請求項１９，２１，２２記載の発明のマルチビーム走査装置の実施の１形態を説明するための図である。
【符号の説明】
１ 光源装置
２ シリンダレンズ
３ ポリゴンミラー
４ 走査結像光学系
５ 感光体
６ 受光手段
Claims (26)
- 個別に発光制御される複数の発光源を有する光源装置からの複数の光ビームを同一の偏向手段により偏向させ、同一の走査結像光学系により被走査面に複数の光スポットとして集光させ、上記複数の光スポットにより被走査面を同時走査するマルチビーム走査装置であって、
上記光源装置から射出される上記光ビームは、進行方向に互いに角度が異なり、上記複数の発光源の一つから射出される光ビームを上記光源装置の光軸とし、上記光ビームの少なくとも一つを上記光軸から主走査方向にずらすことにより、被走査面を同時走査する上記複数の光スポットのうち少なくとも二つの光スポットを主走査方向に互いに離隔させるとともに、上記互いに離隔された光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして、上記偏向手段における同一の偏向反射面で走査された同一走査内で検出する走査線ピッチ検出手段を有し、
上記走査線ピッチ検出手段が、
被走査面と等価な検出領域に、長手方向を副走査方向に対応させて設けられた細帯状の第１の光センサと、上記検出領域における走査方向下流側に、上記第１の光センサに対して長手方向を所定角傾けて設けられた細帯状の第２の光センサとを有する、光ビーム検出部と、
これら第１および第２の光センサから出力される光ビーム検出信号に基づき、各光スポットが第１および第２の光センサ間の距離を通過する通過時間を検出し、上記第２の光センサの第１の光センサに対する傾き角と、上記検出された通過時間とに基づき、隣合った２つの光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして演算する制御部とを有し、
上記光源装置を、上記光軸のまわりに回転させることにより、走査線ピッチを調整するピッチ調整手段を有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１記載のマルチビーム走査装置において、
走査線ピッチ検出手段における制御部が、
基準クロック発生回路と、
基準クロックに対して所定の微少時間ずつ遅延した１連の遅延クロックを発生させる遅延クロック発生回路と、
各光スポットが光ビーム検出部の第１および第２の光センサにより発生する光ビーム検出信号に基づき、各光スポットが第１および第２の光センサ間の距離を通過する通過時間間隔を上記基準クロックを基準として計測するビーム間隔計測回路と、
各光スポットによる光ビーム検出信号と同位相の遅延クロックを検出する位置信号位相検出回路と、
上記同位相の遅延クロックと上記基準クロックとの位相のずれを時間差として演算し、演算された各時間差により上記光スポットごとの通過時間間隔を補正して、各光スポットごとの通過時間を得、この通過時間と、上記第２の光センサの第１の光センサに対する傾き角とにより、隣合った２つの光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして演算する副走査ピッチ演算回路とを有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項２記載のマルチビーム走査装置において、
複数の遅延クロック中で、第１の光センサからの光ビーム検出信号と同位相の遅延クロックを選択して各光スポットに対する書込みクロック信号とすることを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１記載のマルチビーム走査装置において、
走査線ピッチ検出手段が、
被走査面の近傍に配備され、主走査方向の受光面幅が副走査方向にリニアに変化する受光手段と、
各光ビームが上記受光手段の受光面を主走査方向に通過する通過時間を検出し、光スポットの走査速度と、上記検出された通過時間と、上記受光面の形状とに応じて、走査線ピッチを演算する演算手段とを有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項４記載のマルチビーム走査装置において、
演算手段が、
受光手段の出力を増幅し２値化する前処理回路と、
この前処理回路により前処理されたデジタル信号を、所定のクロック信号により計数するカウンタ手段と、
このカウンタ手段が計数した各光スポットの通過時間をラッチするラッチ手段と、
上記前処理回路の出力を入力され、その立ち下がり時間を基準とした所定の遅延時間で、上記ラッチ手段への上記カウンタ手段の出力をラッチするトリガ信号と上記カウンタ手段をクリアするクリア信号とを発する遅延回路と、
上記ラッチ手段の出力に基づき、隣接する光スポットの通過時間の差を演算するビットコンパレータ手段とを有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１記載のマルチビーム走査装置において、
走査線ピッチ検出手段が、
被走査面の近傍に配備され、互いに非平行に主走査方向に併設された第１および第２のスリットを有する遮光部材と、この遮光部材の上記第１および第２のスリットを通過した光ビームを受光する受光素子とにより構成される受光手段と、
各光ビームが上記第１および第２のスリットの間を主走査方向に通過する通過時間を検出し、光スポットの走査速度と、上記検出された通過時間と、上記第１および第２のスリットの態位とに応じて、走査線ピッチを演算する演算手段とを有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項６記載のマルチビーム走査装置において、
演算手段が、
受光手段の出力を増幅したのち微分し、微分信号の０交叉点を検出する前処理回路と、
この前処理回路により前処理されたデジタル信号を、所定のクロック信号により計数するカウンタ手段と、
このカウンタ手段が計数した各光スポットの通過時間をラッチするラッチ手段と、
上記前処理回路の出力を入力され、その立ち下がり時間を基準とした所定の遅延時間で、上記ラッチ手段への上記カウンタ手段の出力をラッチするトリガ信号と上記カウンタ手段をクリアするクリア信号とを発する遅延回路と、
上記ラッチ手段の出力に基づき、隣接する光スポットの通過時間の差を演算するビットコンパレータ手段とを有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１記載のマルチビーム走査装置において、
走査線ピッチ検出手段が、
被走査面の近傍に配備され、細帯状の受光面を長手方向に縦割りする分割ラインが互いに非平行になるように、主走査方向に併設された第１および第２の２分割光センサによる受光手段と、
各光ビームが上記第１および第２の２分割光センサの間を主走査方向に通過する通過時間を検出し、光スポットの走査速度と、上記検出された通過時間と、上記遮光部材における第１および第２の２分割光センサの分割ラインの態位とに応じて、走査線ピッチを演算する演算手段とを有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項８記載のマルチビーム走査装置において、
演算手段が、
受光手段における各２分割光センサの各受光部からの出力の差を増幅し、増幅された出力差の０交叉点を検出し、各２分割光センサに対応する０交差点の信号に対しイクスクルーシブオア論理処理する前処理回路と、
この前処理回路により前処理されたデジタル信号を、所定のクロック信号により計数するカウンタ手段と、
このカウンタ手段が計数した各光スポットの通過時間をラッチするラッチ手段と、
上記前処理回路の出力を入力され、その立ち下がり時間を基準とした所定の遅延時間で、上記ラッチ手段への上記カウンタ手段の出力をラッチするトリガ信号と上記カウンタ手段をクリアするクリア信号とを発する遅延回路と、
上記ラッチ手段の出力に基づき、隣接する光スポットの通過時間の差を演算するビットコンパレータ手段とを有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１記載のマルチビーム走査装置において、
同一の偏向手段により偏向される複数の光ビームは、偏光状態が互いに異なる２本の光ビームであり、
走査線ピッチ検出手段が、
上記２本の光ビームを偏光状態に従って互いに分離する光ビーム分離手段と、
分離された各ビームを受光する２つの受光手段と、
各受光手段の出力に基づき、走査線ピッチを演算する演算手段とを有し、
上記２つの受光手段は、請求項４または６または８記載の受光手段であり、
演算手段が、請求項４または６または８記載の演算手段に上記２つの受光手段の出力を時間的に前後して入力するように構成されたものであることを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項４ないし１０の何れか１に記載のマルチビーム走査装置において、
受光手段の受光信号により同期検知信号を得ることを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１記載のマルチビーム走査装置において、
走査線ピッチ検出手段が、長手方向を副走査方向に対応させて検出領域に設けられたリニアセンサと、
このリニアセンサの出力に基づき、光スポットの重心位置を演算する重心位置演算手段とを有し、
上記リニアセンサの出力に基づき重心位置演算手段で演算された重心位置のデータを、光スポット位置データとすることを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 個別に発光制御される複数の発光源を有する光源装置からの複数の光ビームを同一の偏向手段により偏向させ、同一の走査結像光学系により被走査面に複数の光スポットとして集光させ、上記複数の光スポットにより被走査面を同時走査するマルチビーム走査装置であって、
上記光源装置から射出される上記光ビームは、進行方向に互いに角度が異なり、上記複数の発光源の一つから射出される光ビームを上記光源装置の光軸とし、上記光ビームの少なくとも一つを上記光軸から主走査方向にずらすことにより、被走査面を同時走査する上記複数の光スポットのうち少なくとも二つの光スポットを主走査方向に互いに離隔させるとともに、上記互いに離隔された光スポットの副走査方向の間隔を走査線ピッチとして、上記偏向手段における同一の偏向反射面で走査された同一走査内で検出する走査線ピッチ検出手段と、
走査線ピッチを、上記光源装置を上記光軸のまわりに回転させることにより調整するピッチ調整手段と、
上記走査線ピッチ検出手段による検出結果に基づき、上記ピッチ調整手段を制御して所望の走査線ピッチを実現するピッチ調整制御手段とを有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１３記載のマルチビーム走査装置において、
走査線ピッチ検出手段が、請求項１２記載のものであり、
ピッチ調整制御手段は、光源装置の各発光源を時系列に順次発光させて、各ビームごとに光スポット位置を上記走査線ピッチ検出手段により検出し、検出された位置データに基づき、走査線ピッチを算出する機能を有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１３または１４記載のマルチビーム走査装置において、
ピッチ調整制御手段は、検出される走査線ピッチと光源装置の回転角度との換算式に基づき、上記光源装置の回転角度量を決定するピッチ・回転角度変換手段を有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１３ないし１５の何れか１に記載のマルチビーム走査装置において、
偏向手段が、ポリゴンミラーを用いるものであり、
ピッチ調整制御手段が、光源装置の各発光源を時系列に順次発光させて得られる各光ビームの偏向を、同一の偏向反射面で行なわせるタイミング制御手段を有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１４記載のマルチビーム走査装置において、
ピッチ調整制御手段が、
ピッチ検出手段のリニアセンサを各光スポットが通過するときの出力間隔から主走査ピッチを算出する主走査ピッチ算出手段と、
この主走査ピッチ算出手段により算出された主走査ピッチと、ピッチ検出手段により検出された走査線ピッチとに基づき、光源装置の回転角度量を算出する回転角度量算出手段とを有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１２または１４または１５または１６または１７記載のマルチビーム走査装置において、
走査線ピッチ検出手段のリニアセンサの出力信号により同期検知信号を得ることを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１記載のマルチビーム走査装置において、
走査線ピッチ検出手段が、
走査領域外に配備され、偏向された各光ビームの副走査方向の位置を検出するビーム位置検出手段と、
上記複数の光ビームを上記ビーム位置検出手段に結像させる位置検出用結像光学素子とを有し、
上記位置検出用結像光学系における副走査方向における結像倍率が、被走査面に対する走査結像光学系の副走査方向の結像倍率よりも大きく設定されていることを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１９記載のマルチビーム走査装置において、
偏向された複数の光ビームを被走査面上に集光させる同一の走査結像光学系の主走査方向の所定の側の端部近傍に、他の部分に比して正のパワーの小さい部分を設け、この部分を通過した各光ビームが、ビーム位置検出手段に結像するように、位置検出用結像光学系を上記走査結像光学系の一部として構成したことを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１９記載のマルチビーム走査装置において、
偏向された複数の光ビームを被走査面上に集光させる同一の走査結像光学系が複数枚のレンズを有して構成され、
これら複数枚のレンズの一部のレンズであって、偏向手段側にあるものの副走査方向のパワーが、走査結像光学系全体としての副走査方向の正のパワーよりも弱くなるようにすることにより、上記一部のレンズを位置検出用結像光学系となし、この位置検出用結像光学系を通過した各光ビームを、走査結像光学系における残りのレンズを透過させることなしにビーム位置検出手段に導いて結像させることを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項２１記載のマルチビーム走査装置において、
走査結像光学系が、ｆθレンズと、面倒れ補正用の長尺レンズとを有し、上記ｆθレンズを位置検出用結像光学系としたことを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１９ないし２２の何れか１に記載のマルチビーム走査装置において、光源装置を光軸のまわりに回転させる光源装置回転機構と、
この光源装置回転機構を回転駆動する駆動手段と、
ビーム位置検出手段の出力に基づき、走査線ピッチを算出する演算手段と、
この演算手段の算出結果に基づき、上記駆動手段を制御する回転制御手段とを有することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１ないし２３の何れか１に記載のマルチビーム走査装置において、
光源装置が、第１および第２の半導体レーザと、第１および第２のコリメートレンズと、第１および第２のアパーチュアと、一方の半導体レーザからの光ビームの偏光面を９０度旋回させる１／２波長板と、上記第１および第２の半導体レーザからの光ビームを、両光ビームの偏光状態を利用して合成するビーム合成プリズムとを有し、
第１または第２の半導体レーザを、対応するコリメートレンズの光軸から微少距離ずらすことにより、２つの光ビームの射出方向を互いに微小角異ならせるように構成されていることを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１９ないし２４の何れか１に記載のマルチビーム走査装置において、
ビーム位置検出手段の出力信号により同期検知信号を得ることを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 請求項１２記載のマルチビーム走査装置において、
走査線ピッチ調整のために光源装置が光軸の回りに回転調整可能であり、
光スポット位置データに基づき走査線ピッチを算出するピッチ算出部を有することを特徴とするマルチビーム走査装置。
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