JPH0444366U - - Google Patents
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- JPH0444366U JPH0444366U JP8470790U JP8470790U JPH0444366U JP H0444366 U JPH0444366 U JP H0444366U JP 8470790 U JP8470790 U JP 8470790U JP 8470790 U JP8470790 U JP 8470790U JP H0444366 U JPH0444366 U JP H0444366U
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- JP
- Japan
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- support stand
- milling device
- sample
- sample support
- ion milling
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- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 2
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は、本考案のイオンミリング装置の概要
を示す正面部分断面図。第２図は、第１図の試料
支持台２の部分を詳しく説明する正面図。 １……試料、２……試料支持台、３……イオン
ガン、４……ガス吹き出し口、５……真空排気口
、６……モリブデンＭｏ板。
を示す正面部分断面図。第２図は、第１図の試料
支持台２の部分を詳しく説明する正面図。 １……試料、２……試料支持台、３……イオン
ガン、４……ガス吹き出し口、５……真空排気口
、６……モリブデンＭｏ板。
Claims (1)
- 電子顕微鏡用薄膜試料等を作成する際に用いる
、真空排気系、イオンガン、試料支持台等を備え
たイオンミリング装置において、加工される試料
を保持する試料保持台の周辺にアルゴンＡｒガス
等の不活性ガスの吹き出し口を備えたことを特徴
とするイオンミリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8470790U JPH0444366U (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8470790U JPH0444366U (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0444366U true JPH0444366U (ja) | 1992-04-15 |
Family
ID=31815857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8470790U Pending JPH0444366U (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0444366U (ja) |
-
1990
- 1990-08-10 JP JP8470790U patent/JPH0444366U/ja active Pending