JPH0211159U - - Google Patents

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JPH0211159U
JPH0211159U JP9019288U JP9019288U JPH0211159U JP H0211159 U JPH0211159 U JP H0211159U JP 9019288 U JP9019288 U JP 9019288U JP 9019288 U JP9019288 U JP 9019288U JP H0211159 U JPH0211159 U JP H0211159U
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vacuum chamber
ion source
exhaust system
ion
dry etching
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JP9019288U
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  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案のドライエツチング装置の一実
施例の縦断面図、第2図は本考案の一実施例のエ
ツチング装置の排気系を示す図、第3図は従来例
の断面図である。 10…真空チヤンバ、11…基板ホルダ、12
…回転ステージ、13…イオン源、14…ゲート
バルブ、V1…チヤンバ排気系バルブ、V2…イ
オン源排気系バルブ、LV1…チヤンバリークバ
ルブ、LV2…イオン源リークバルブ、GV…ゲ
ートバルブ。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 真空チヤンバと、イオン源と、排気系とを有し
    、該排気系により真空チヤンバ内を高真空にした
    後、該真空チヤンバ内に載置されている被エツチ
    ン対象に対し、イオン源からイオンビームを照射
    し、エツチング処理を行なうドライエツチング装
    置において、 前記真空チヤンバとイオン源との間にこれらを
    仕切るためのゲートバルブが設けられ、前記排気
    系は、真空チヤンバとイオン源のそれぞれの内部
    を独立に排気可能となつていることを特徴とする
    ドライエツチング装置。
JP9019288U 1988-07-06 1988-07-06 Pending JPH0211159U (ja)

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JPH0211159U true JPH0211159U (ja) 1990-01-24

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