JPS61176258U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS61176258U JPS61176258U JP5918185U JP5918185U JPS61176258U JP S61176258 U JPS61176258 U JP S61176258U JP 5918185 U JP5918185 U JP 5918185U JP 5918185 U JP5918185 U JP 5918185U JP S61176258 U JPS61176258 U JP S61176258U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- wafers
- evacuated
- vacuum
- aerodynamic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
第１図は、この考案のイオン加工装置の一実施
例であるイオン注入装置の概略断面図である。第
２図は、従来のイオン加工装置としてのイオン注
入装置の概略断面図である。 １…ウエハ、２…ターゲツト室、３，４…エア
ロツク室、１５，１６…真空弁、１７，１８…フ
イルタ、１９，２０…気体源。
例であるイオン注入装置の概略断面図である。第
２図は、従来のイオン加工装置としてのイオン注
入装置の概略断面図である。 １…ウエハ、２…ターゲツト室、３，４…エア
ロツク室、１５，１６…真空弁、１７，１８…フ
イルタ、１９，２０…気体源。
Claims (1)
- ウエハにイオンビームを照射して加工を施す部
屋であつて相対的に高真空に排気されるターゲツ
ト室と大気中との間のウエハの出入れを、相対的
に底真空に排気されるエアロツク室を介して行う
イオン加工装置において、エアロツク室に清浄気
体を供給してそこを正圧にする気体源を、真空弁
を介して当該エアロツク室に接続していることを
特徴とするイオン加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5918185U JPS61176258U (ja) | 1985-04-20 | 1985-04-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5918185U JPS61176258U (ja) | 1985-04-20 | 1985-04-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61176258U true JPS61176258U (ja) | 1986-11-04 |
Family
ID=30585368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5918185U Pending JPS61176258U (ja) | 1985-04-20 | 1985-04-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61176258U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006103868A1 (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Kitagawa Seiki Kabushiki Kaisha | プレス装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5385742A (en) * | 1977-01-07 | 1978-07-28 | Nippon Steel Corp | Continuous vacuum evaporation plating method of steel band |
-
1985
- 1985-04-20 JP JP5918185U patent/JPS61176258U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5385742A (en) * | 1977-01-07 | 1978-07-28 | Nippon Steel Corp | Continuous vacuum evaporation plating method of steel band |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006103868A1 (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Kitagawa Seiki Kabushiki Kaisha | プレス装置 |