JPS61190133U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS61190133U JPS61190133U JP7435085U JP7435085U JPS61190133U JP S61190133 U JPS61190133 U JP S61190133U JP 7435085 U JP7435085 U JP 7435085U JP 7435085 U JP7435085 U JP 7435085U JP S61190133 U JPS61190133 U JP S61190133U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- etching
- preparatory
- etching chamber
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 10
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 2
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
図は本考案になるリアクテイブイオンエツチン
グ装置の一実施例を示す図である。 １…エツチング室、２，３…電極、４…被ツチ
ング材、５…予備室、６…バルブ。
グ装置の一実施例を示す図である。 １…エツチング室、２，３…電極、４…被ツチ
ング材、５…予備室、６…バルブ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 エツチングガスが満たされるエツチング室と、 このエツチング室に設置されるエツチング用の
電極と、 このエツチング室に隣接して設置された予備室
と、 このエツチング室と予備室との間を連絡し、エ
ツチング室の雰囲気と予備室の雰囲気とを隔離あ
るいは流通させると共に、上記電極をエツチング
室より予備室へ移動を可能にするバルブとからな
るリアクテイブイオンエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7435085U JPS61190133U (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7435085U JPS61190133U (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61190133U true JPS61190133U (ja) | 1986-11-27 |
Family
ID=30614566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7435085U Pending JPS61190133U (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61190133U (ja) |
-
1985
- 1985-05-20 JP JP7435085U patent/JPS61190133U/ja active Pending