JPS61167934U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS61167934U JPS61167934U JP3333685U JP3333685U JPS61167934U JP S61167934 U JPS61167934 U JP S61167934U JP 3333685 U JP3333685 U JP 3333685U JP 3333685 U JP3333685 U JP 3333685U JP S61167934 U JPS61167934 U JP S61167934U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing chamber
- sample
- gas
- vacuum
- switching valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第1図と第2図とは本考案の一実施例である真
空処理装置を示す断面図である。 10……処理室、13……排気装置、14……
電極、21……ガス供給装置、22……弁体、2
7……シリンダ。
空処理装置を示す断面図である。 10……処理室、13……排気装置、14……
電極、21……ガス供給装置、22……弁体、2
7……シリンダ。
Claims (1)
- 内部が真空に保たれる処理室と、前記処理室を
真空排気する排気手段と、前記処理室内にあつて
試料を載置する試料受台と、該試料受台と前記試
料との隙間に熱伝導媒体であるガスを供給するガ
ス供給手段と、前記ガスの通路を変更し前記排気
装置につなげる切換弁と、前記切換弁を切換え移
動させる移動手段とから成ることを特徴とする真
空処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3333685U JPS61167934U (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3333685U JPS61167934U (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61167934U true JPS61167934U (ja) | 1986-10-18 |
Family
ID=30535692
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3333685U Pending JPS61167934U (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61167934U (ja) |
-
1985
- 1985-03-11 JP JP3333685U patent/JPS61167934U/ja active Pending