JPS6382935U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6382935U JPS6382935U JP17898186U JP17898186U JPS6382935U JP S6382935 U JPS6382935 U JP S6382935U JP 17898186 U JP17898186 U JP 17898186U JP 17898186 U JP17898186 U JP 17898186U JP S6382935 U JPS6382935 U JP S6382935U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum chamber
- contact
- atmosphere
- holding
- wafer
- Prior art date
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- Granted
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
第1図は本考案による一実施例のウエーハホル
ダの概要図、第2図は本考案による一実施例のダ
ツシユポツトの側断面図、第3図は本考案による
他の実施例のダツシユポツトの側断面図、第4図
は従来のウエーハホルダの概要図、である。 図において、1は接触子、2はベローズ、3は
ダツシユポツト、3aはシリンダ、3bはピスト
ン、3cはピストンロツド、3dは支持部、3e
はピストン、4はウエーハ、5はホルダ本体、6
は上部ストツパ、7はウエーハ支持板、8は板ば
ね、9はストツパ、を示す。
ダの概要図、第2図は本考案による一実施例のダ
ツシユポツトの側断面図、第3図は本考案による
他の実施例のダツシユポツトの側断面図、第4図
は従来のウエーハホルダの概要図、である。 図において、1は接触子、2はベローズ、3は
ダツシユポツト、3aはシリンダ、3bはピスト
ン、3cはピストンロツド、3dは支持部、3e
はピストン、4はウエーハ、5はホルダ本体、6
は上部ストツパ、7はウエーハ支持板、8は板ば
ね、9はストツパ、を示す。
Claims (1)
- 真空室内で大気を保持する手段2及びダツシユ
ポツト3により、上記真空室内で大気を保持する
手段2内に封じ込められた大気圧と真空室の真空
との差圧を利用して、接触子1をウエーハ4の側
面に接触させる導電機構を有するウエーハホルダ
を備えたことを特徴とする電子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986178981U JPH0749789Y2 (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | 電子ビ−ム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986178981U JPH0749789Y2 (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | 電子ビ−ム露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6382935U true JPS6382935U (ja) | 1988-05-31 |
JPH0749789Y2 JPH0749789Y2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=31121623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1986178981U Expired - Lifetime JPH0749789Y2 (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | 電子ビ−ム露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0749789Y2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007266361A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Nuflare Technology Inc | 基板のアース機構及び荷電粒子ビーム描画装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60167245A (ja) * | 1984-02-10 | 1985-08-30 | Hitachi Ltd | 試料保持装置 |
-
1986
- 1986-11-19 JP JP1986178981U patent/JPH0749789Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60167245A (ja) * | 1984-02-10 | 1985-08-30 | Hitachi Ltd | 試料保持装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007266361A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Nuflare Technology Inc | 基板のアース機構及び荷電粒子ビーム描画装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0749789Y2 (ja) | 1995-11-13 |