JPH04346452A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
- Publication number
- JPH04346452A JPH04346452A JP3119776A JP11977691A JPH04346452A JP H04346452 A JPH04346452 A JP H04346452A JP 3119776 A JP3119776 A JP 3119776A JP 11977691 A JP11977691 A JP 11977691A JP H04346452 A JPH04346452 A JP H04346452A
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- JP
- Japan
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- burn
- transistor
- chips
- chip
- wafer
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- Pending
Links
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- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 15
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
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- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハ状態において各
チップのバーンインを実施することができるようにした
半導体集積回路に関するものである。
チップのバーンインを実施することができるようにした
半導体集積回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路のバーンインは、従来は
アセンブリ完了品について実施されており、ウエハ状態
でのバーンインは適当な手段がないため、一般には実施
されていない。
アセンブリ完了品について実施されており、ウエハ状態
でのバーンインは適当な手段がないため、一般には実施
されていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来の半
導体集積回路においては、ウエハ状態での各チップのバ
ーンインを行うために必要な回路上の構成が形成されて
いないため、ウエハ状態での各チップのバーンインは実
施できなかった。
導体集積回路においては、ウエハ状態での各チップのバ
ーンインを行うために必要な回路上の構成が形成されて
いないため、ウエハ状態での各チップのバーンインは実
施できなかった。
【0004】本発明は、上記のような従来の問題点を解
消するためになされたもので、ウエハ状態での各チップ
のバーンインンが実施できるとともに、バーンイン後の
ウエハテストもできる半導体集積回路を得ることを目的
とする。
消するためになされたもので、ウエハ状態での各チップ
のバーンインンが実施できるとともに、バーンイン後の
ウエハテストもできる半導体集積回路を得ることを目的
とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体集積
回路は、ウエハ状態の各チップに形成されたボンディン
グパッドに接続されたMOSトランジスタと、このMO
Sトランジスタのゲートに一端が接続され、他端をGN
Dに接続した抵抗体と、ゲートと抵抗体との接続部に接
続したバーンイン用の信号ラインとを備え、バーンイン
用の信号ラインを各チップ間のダイシングラインに形成
したものである。
回路は、ウエハ状態の各チップに形成されたボンディン
グパッドに接続されたMOSトランジスタと、このMO
Sトランジスタのゲートに一端が接続され、他端をGN
Dに接続した抵抗体と、ゲートと抵抗体との接続部に接
続したバーンイン用の信号ラインとを備え、バーンイン
用の信号ラインを各チップ間のダイシングラインに形成
したものである。
【0006】
【作用】本発明においては、バーンイン用の信号ライン
をウエハから各チップに分離するダイシングラインに形
成したので、各チップのバーンインがウエハ状態で行え
るとともに、バーンイン終了後は、バーンイン用の信号
ラインはダイシング工程にて切除される。
をウエハから各チップに分離するダイシングラインに形
成したので、各チップのバーンインがウエハ状態で行え
るとともに、バーンイン終了後は、バーンイン用の信号
ラインはダイシング工程にて切除される。
【0007】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図について説明す
る。図1は本発明の一実施例を示すバーンイン用回路が
付加された半導体集積回路のウエハ状態の平面図で、1
チップ部分とその周辺を拡大して示したものであり、図
2は、図1の主要部分Wを拡大した平面図であり、図3
はバーンイン用回路の構成を示す回路図である。これら
の図において、1はチップで、ダイシングライン2から
分離される。3は前記チップ1に形成されたボンディン
グパッドである。ボンディングパッド3はN−MOSト
ランジスタ(以下、単にトランジスタという)14のソ
ース4に接続されており、トランジスタ14のゲート5
は、抵抗体7を介してGND8へ接続されている。また
、ゲート5にはバーンイン用の信号ラインである、トラ
ンジスタコントロール信号ライン11,13が接続され
ている。トランジスタ14のドレイン6には、バーンイ
ン用の信号ラインである電源ラインまたは入力信号ライ
ン10,12が接続されている。なお、図2において、
3,8,12,13のそれぞれはアルミ配線からなり、
5,10,11のそれぞれは前記アルミ配線より下を通
るポリシリコンまたはアルミ配線からなり、7はポリシ
リコンまたは拡散層による抵抗体、9はガラスコート、
その他の破線はコンタクトを表す。
る。図1は本発明の一実施例を示すバーンイン用回路が
付加された半導体集積回路のウエハ状態の平面図で、1
チップ部分とその周辺を拡大して示したものであり、図
2は、図1の主要部分Wを拡大した平面図であり、図3
はバーンイン用回路の構成を示す回路図である。これら
の図において、1はチップで、ダイシングライン2から
分離される。3は前記チップ1に形成されたボンディン
グパッドである。ボンディングパッド3はN−MOSト
ランジスタ(以下、単にトランジスタという)14のソ
ース4に接続されており、トランジスタ14のゲート5
は、抵抗体7を介してGND8へ接続されている。また
、ゲート5にはバーンイン用の信号ラインである、トラ
ンジスタコントロール信号ライン11,13が接続され
ている。トランジスタ14のドレイン6には、バーンイ
ン用の信号ラインである電源ラインまたは入力信号ライ
ン10,12が接続されている。なお、図2において、
3,8,12,13のそれぞれはアルミ配線からなり、
5,10,11のそれぞれは前記アルミ配線より下を通
るポリシリコンまたはアルミ配線からなり、7はポリシ
リコンまたは拡散層による抵抗体、9はガラスコート、
その他の破線はコンタクトを表す。
【0008】次に、動作について説明する。ウエハ状態
で各チップ1のバーンインを行う場合には、トランジス
タコントロール信号ライン13に正のゲート電圧を印加
し、トランジスタ14をONさせる。そして、電源ライ
ンまたは入力信号ライン12に電圧を印加して、各チッ
プ1のバーンインを行う。ウエハテストを行う場合は、
トランジスタコントロール信号ライン13をGNDレベ
ルにすることにより、トランジスタ14をOFFにして
、通常のウエハテストを行う。バーンイン用の電源ライ
ンや信号ラインは、ダイシングライン2の中に作り込ん
であるため、ダイシング工程において切除される。切除
されればトランジスタ14のゲート5は常に抵抗体7を
介してGND8に落されることになり、トランジスタ1
4は常にOFFとなる。こうして各端子は電気的に完全
に独立した端子となる。
で各チップ1のバーンインを行う場合には、トランジス
タコントロール信号ライン13に正のゲート電圧を印加
し、トランジスタ14をONさせる。そして、電源ライ
ンまたは入力信号ライン12に電圧を印加して、各チッ
プ1のバーンインを行う。ウエハテストを行う場合は、
トランジスタコントロール信号ライン13をGNDレベ
ルにすることにより、トランジスタ14をOFFにして
、通常のウエハテストを行う。バーンイン用の電源ライ
ンや信号ラインは、ダイシングライン2の中に作り込ん
であるため、ダイシング工程において切除される。切除
されればトランジスタ14のゲート5は常に抵抗体7を
介してGND8に落されることになり、トランジスタ1
4は常にOFFとなる。こうして各端子は電気的に完全
に独立した端子となる。
【0009】なお、上記実施例では、トランジスタ14
の接続方法として、トランジスタ14のドレイン6を電
源ラインまたは入力信号ライン10,12に接続してい
るが、ドレイン6は電源ラインに接続し、ゲート5を電
源ラインまたは入力信号ライン12に接続してもよい。 この場合、入力信号のHレベルは電源電圧となる。
の接続方法として、トランジスタ14のドレイン6を電
源ラインまたは入力信号ライン10,12に接続してい
るが、ドレイン6は電源ラインに接続し、ゲート5を電
源ラインまたは入力信号ライン12に接続してもよい。 この場合、入力信号のHレベルは電源電圧となる。
【0010】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
各チップ間のダイシングライン中に前記各チップをバー
ンインする信号ラインを設けたので、ウエハ状態で各チ
ップのバーンインを行うことができ、最終製品段階での
バーンインが省略または簡略化できるため、スクリーニ
ングコストの低減と後工程の工期短縮を図ることができ
る。
各チップ間のダイシングライン中に前記各チップをバー
ンインする信号ラインを設けたので、ウエハ状態で各チ
ップのバーンインを行うことができ、最終製品段階での
バーンインが省略または簡略化できるため、スクリーニ
ングコストの低減と後工程の工期短縮を図ることができ
る。
【図1】1チップを拡大したウエハの平面図である。
【図2】本発明のバーンイン用回路を形成した図1の拡
大パターン図である。
大パターン図である。
【図3】本発明のバーンイン用の回路図である。
1 チップ
2 ダイシングライン
3 ボンディングパッド
4 MOSトランジスタのソース5 MO
Sトランジスタのゲート6 MOSトランジスタ
のドレイン7 抵抗体 8 GND配線 9 ガラスコート
Sトランジスタのゲート6 MOSトランジスタ
のドレイン7 抵抗体 8 GND配線 9 ガラスコート
Claims (1)
- 【請求項1】ウエハ状態の各チップに形成されたボンデ
ィングパッドに接続されたMOSトランジスタと、この
MOSトランジスタのゲートに一端が接続され、他端を
GNDに接続した抵抗体と、前記ゲートと抵抗体との接
続部に接続したバーンイン用の信号ラインとを備え、前
記バーンイン用の信号ラインを前記各チップ間のダイシ
ングライン中に形成したことを特徴とする半導体集積回
路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3119776A JPH04346452A (ja) | 1991-05-24 | 1991-05-24 | 半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3119776A JPH04346452A (ja) | 1991-05-24 | 1991-05-24 | 半導体集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04346452A true JPH04346452A (ja) | 1992-12-02 |
Family
ID=14769938
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3119776A Pending JPH04346452A (ja) | 1991-05-24 | 1991-05-24 | 半導体集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04346452A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6037794A (en) * | 1998-03-19 | 2000-03-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device testing apparatus and testing method thereof |
CN104576738A (zh) * | 2013-10-17 | 2015-04-29 | 英飞凌科技股份有限公司 | 半导体器件和处理方法 |
-
1991
- 1991-05-24 JP JP3119776A patent/JPH04346452A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6037794A (en) * | 1998-03-19 | 2000-03-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device testing apparatus and testing method thereof |
CN104576738A (zh) * | 2013-10-17 | 2015-04-29 | 英飞凌科技股份有限公司 | 半导体器件和处理方法 |
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