JPS63124443A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS63124443A JPS63124443A JP27070086A JP27070086A JPS63124443A JP S63124443 A JPS63124443 A JP S63124443A JP 27070086 A JP27070086 A JP 27070086A JP 27070086 A JP27070086 A JP 27070086A JP S63124443 A JPS63124443 A JP S63124443A
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- Pending
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 43
- 230000032683 aging Effects 0.000 abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 230000002431 foraging effect Effects 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229910020968 MoSi2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008814 WSi2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、ウェハ状態でエージングを可能とした半導
体装置に関するものである。
体装置に関するものである。
半導体装置、特にMOS型半導体集積回路においては、
短時間で発生する初期不良が無視し得す、これらの不良
品を除去するためスクリーニングが必要となる。
短時間で発生する初期不良が無視し得す、これらの不良
品を除去するためスクリーニングが必要となる。
しかしながら、従来のスクリーニングは樹脂封止後の半
導体装置について行うことからエージングは各チップご
とに行う必要があった。以下第3図によって従来の半導
体装置のエージング方法を説明する。
導体装置について行うことからエージングは各チップご
とに行う必要があった。以下第3図によって従来の半導
体装置のエージング方法を説明する。
第3図において、1はエージング基板、2はこのエージ
ング基板1上に取り付けられたソケットであり、各種の
信号が入力されるようになっている。3は前記ソケット
2上にセットされる樹脂封止された半導体装置である。
ング基板1上に取り付けられたソケットであり、各種の
信号が入力されるようになっている。3は前記ソケット
2上にセットされる樹脂封止された半導体装置である。
次に動作について説明する。エージング基板1に取り付
けられたソケット2に樹脂封止された半導体装置3を挿
入する。エージング基板1には所要の配線(図示せず)
が施され、その配線には各種のクロックや電圧(Voo
、 Vss)が印加されている。その信号はソケット
2を通じて半導体装置3に入力され、エージングが行わ
れる。良く知られているように高温、高バイアスでのエ
ージングがスクリーニング方法として最も効果が犬きい
。
けられたソケット2に樹脂封止された半導体装置3を挿
入する。エージング基板1には所要の配線(図示せず)
が施され、その配線には各種のクロックや電圧(Voo
、 Vss)が印加されている。その信号はソケット
2を通じて半導体装置3に入力され、エージングが行わ
れる。良く知られているように高温、高バイアスでのエ
ージングがスクリーニング方法として最も効果が犬きい
。
上記のように、従来の半導体装置のスクリーニングは、
樹脂封止後に実施しているので、各チップごとにエージ
ングしなければならず、作業性の低下とともに、コスト
が高くなる等の問題点があった・ この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、ウェハの段階でエージングを可能とした半
導体装置を得ることを目的とする。
樹脂封止後に実施しているので、各チップごとにエージ
ングしなければならず、作業性の低下とともに、コスト
が高くなる等の問題点があった・ この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、ウェハの段階でエージングを可能とした半
導体装置を得ることを目的とする。
この発明に係る半導体装置は、ウェハ状態での各半導体
チップの所定の入力端子を所定の共通配線に接続し、こ
れらの共通配線をウェハ端に設けた所定の共通入力端子
に接続したものである。
チップの所定の入力端子を所定の共通配線に接続し、こ
れらの共通配線をウェハ端に設けた所定の共通入力端子
に接続したものである。
この発明においては、各半導体チップの入力端子が共通
配線に接続され、この共通配線を共通入力端子に接続し
たことから、共通入力端子にエージングに必要な信号を
与えることで半導体ウェハ上の全ての半導体チップが同
時にエージングされる。
配線に接続され、この共通配線を共通入力端子に接続し
たことから、共通入力端子にエージングに必要な信号を
与えることで半導体ウェハ上の全ての半導体チップが同
時にエージングされる。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図面について説明する。
第1図はこの発明の半導体装置の一実施例を示す平面図
であり、第2図は、第1図の要部の詳細を拡大して示し
た平面図である。これらの図において、11は半導体ウ
ェハ、12は前記半導体ウェハ11をスクライブして得
られる半導体チップ、13a、13bは前記半導体ウェ
ハ11の端部に設けられた共通入力端子である。また、
14a、14bは前記半導体チップ12内の入力端子1
2a、12bと半導体ウェハ11上の共通入力端子13
a、13b間を結んだ共通配線で、例えばポリシリコン
等により形成される。
であり、第2図は、第1図の要部の詳細を拡大して示し
た平面図である。これらの図において、11は半導体ウ
ェハ、12は前記半導体ウェハ11をスクライブして得
られる半導体チップ、13a、13bは前記半導体ウェ
ハ11の端部に設けられた共通入力端子である。また、
14a、14bは前記半導体チップ12内の入力端子1
2a、12bと半導体ウェハ11上の共通入力端子13
a、13b間を結んだ共通配線で、例えばポリシリコン
等により形成される。
次に動作について説明する。
樹脂封止前のウェハ状態において、半導体ウェハ11内
の各半導体チップ12の同一入力端子12aと12bを
共通配線14a、14bにそれぞれ接続し、これらの共
通配線14a、14bを半導体ウェハ11の端部、すな
わち外周部分の一箇所に設けた共通入力端子13a、1
3bに接続し、この共通入力端子13a、13bを通じ
て信号(クロックや電源)を入力し、それぞれの半導体
チップ12を同時にエージングする。
の各半導体チップ12の同一入力端子12aと12bを
共通配線14a、14bにそれぞれ接続し、これらの共
通配線14a、14bを半導体ウェハ11の端部、すな
わち外周部分の一箇所に設けた共通入力端子13a、1
3bに接続し、この共通入力端子13a、13bを通じ
て信号(クロックや電源)を入力し、それぞれの半導体
チップ12を同時にエージングする。
エージング後はウェハテストを実施し良品をスクライブ
して樹脂封止する。さらに、各半導体チップ12と共通
入力端子13a、13b間を接続した共通配線14a、
14bは、この共通配線14a、14bがリークしたり
、特性異常を示したりしないように、例えばレーザで完
全に切断する。
して樹脂封止する。さらに、各半導体チップ12と共通
入力端子13a、13b間を接続した共通配線14a、
14bは、この共通配線14a、14bがリークしたり
、特性異常を示したりしないように、例えばレーザで完
全に切断する。
なお、上記実施例では共通配線14a、14bをポリシ
リコンを用いて形成したが、その他A見、MoSi2.
WSi2などを用いてもよい。また、その共通配&11
4a、14bの切断方法もレーザ以外の方法でもよく、
切断後の配線がリークしたり、他の特性上の影響を与え
たりしないようになっていればよい。
リコンを用いて形成したが、その他A見、MoSi2.
WSi2などを用いてもよい。また、その共通配&11
4a、14bの切断方法もレーザ以外の方法でもよく、
切断後の配線がリークしたり、他の特性上の影響を与え
たりしないようになっていればよい。
また、上記実施例における半導体チップの数は、第2r
I!Jに示した4個に限られるものでなく、ウェハ状態
の半導体チップ全てを対象とするものである。
I!Jに示した4個に限られるものでなく、ウェハ状態
の半導体チップ全てを対象とするものである。
以上説明したようにこの発明は、ウェハ状態の各半導体
チップの所定の入力端子を所定の共通配線に接続し、こ
れらの共通配線をウェハ端に設けた所定の共通入力端子
に接続したので、モールド封止前のウェハ状態において
各半導体チップをエージングすることができる。そして
、エージング不良をウェハ段階でリジェクトできるため
、コスト低減につながるとともに、最終製品でのエージ
ングという煩雑さが省略できるため、安価で精度の高い
半導体装置が得られる効果がある。
チップの所定の入力端子を所定の共通配線に接続し、こ
れらの共通配線をウェハ端に設けた所定の共通入力端子
に接続したので、モールド封止前のウェハ状態において
各半導体チップをエージングすることができる。そして
、エージング不良をウェハ段階でリジェクトできるため
、コスト低減につながるとともに、最終製品でのエージ
ングという煩雑さが省略できるため、安価で精度の高い
半導体装置が得られる効果がある。
第1図はこの発明の一実施例を示す半導体ウェハの平面
図、第2図は、第1図の要部の詳細を拡大して示した平
面図、第3図は従来の半導体装置のエージング方法を説
明する斜視図である。 図において、11は半導体ウェハ、12a。 T2bは入力端子、13a、13bは共通入力端子、1
4a、14bは共通配線である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。
図、第2図は、第1図の要部の詳細を拡大して示した平
面図、第3図は従来の半導体装置のエージング方法を説
明する斜視図である。 図において、11は半導体ウェハ、12a。 T2bは入力端子、13a、13bは共通入力端子、1
4a、14bは共通配線である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- ウェハ状態での各半導体チップの所定の入力端子を所
定の共通配線に接続し、これらの共通配線をウェハ端に
設けた所定の共通入力端子に接続したことを特徴とする
半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27070086A JPS63124443A (ja) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27070086A JPS63124443A (ja) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63124443A true JPS63124443A (ja) | 1988-05-27 |
Family
ID=17489741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27070086A Pending JPS63124443A (ja) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63124443A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5489538A (en) * | 1992-08-21 | 1996-02-06 | Lsi Logic Corporation | Method of die burn-in |
US6459285B1 (en) | 1999-03-15 | 2002-10-01 | Nec Corporation | Burn-in apparatus for screening plurality of semiconductor devices |
-
1986
- 1986-11-13 JP JP27070086A patent/JPS63124443A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5489538A (en) * | 1992-08-21 | 1996-02-06 | Lsi Logic Corporation | Method of die burn-in |
US6459285B1 (en) | 1999-03-15 | 2002-10-01 | Nec Corporation | Burn-in apparatus for screening plurality of semiconductor devices |
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